JPH076991A - 被洗浄基板の洗浄方法およびその装置 - Google Patents
被洗浄基板の洗浄方法およびその装置Info
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- JPH076991A JPH076991A JP14340993A JP14340993A JPH076991A JP H076991 A JPH076991 A JP H076991A JP 14340993 A JP14340993 A JP 14340993A JP 14340993 A JP14340993 A JP 14340993A JP H076991 A JPH076991 A JP H076991A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】この発明は被洗浄基板に対する洗浄効果を高め
ることができるようにした洗浄方法および装置を提供す
ることにある。 【構成】 被洗浄基板５に付着した微粒子を洗浄液で洗
浄する洗浄方法において、上記被洗浄基板に超音波振動
が付与された洗浄液Ｌ1 を噴射する第１の洗浄工程と、
超音波洗浄された被洗浄基板に超音波洗浄時の洗浄液よ
りも圧力の高い洗浄液Ｌ2 を噴射する第２の洗浄工程と
を具備したことを特徴とする。
ることができるようにした洗浄方法および装置を提供す
ることにある。 【構成】 被洗浄基板５に付着した微粒子を洗浄液で洗
浄する洗浄方法において、上記被洗浄基板に超音波振動
が付与された洗浄液Ｌ1 を噴射する第１の洗浄工程と、
超音波洗浄された被洗浄基板に超音波洗浄時の洗浄液よ
りも圧力の高い洗浄液Ｌ2 を噴射する第２の洗浄工程と
を具備したことを特徴とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は被洗浄基板に付着した
微粒子を洗浄液によって洗浄する洗浄方法およびその装
置に関する。
微粒子を洗浄液によって洗浄する洗浄方法およびその装
置に関する。
【０００２】
【従来の技術】たとえば液晶表示装置や半導体装置の製
造工程においては、被洗浄基板としての液晶用ガラス基
板や半導体ウエハを高い清浄度で洗浄することが要求さ
れる工程がある。このような被洗浄基板を洗浄する方式
としては、洗浄液中に複数枚の被洗浄基板を浸漬するデ
イップ方式や被洗浄基板に向けて洗浄液を噴射して一枚
づつ洗浄する枚葉方式があり、最近では高い清浄度が得
られるとともに、コスト的に有利な枚葉方式が採用され
ることが多くなってきている。
造工程においては、被洗浄基板としての液晶用ガラス基
板や半導体ウエハを高い清浄度で洗浄することが要求さ
れる工程がある。このような被洗浄基板を洗浄する方式
としては、洗浄液中に複数枚の被洗浄基板を浸漬するデ
イップ方式や被洗浄基板に向けて洗浄液を噴射して一枚
づつ洗浄する枚葉方式があり、最近では高い清浄度が得
られるとともに、コスト的に有利な枚葉方式が採用され
ることが多くなってきている。
【０００３】枚葉方式の１つとして被洗浄基板に噴射さ
れる洗浄液に振動を付与し、その振動作用によって上記
被洗浄基板から微粒子を効率よく除去するようにした洗
浄方式が実用化されている。
れる洗浄液に振動を付与し、その振動作用によって上記
被洗浄基板から微粒子を効率よく除去するようにした洗
浄方式が実用化されている。
【０００４】洗浄液に振動を付与する洗浄方式におい
て、従来は20〜50ｋＨｚ程度の超音波が用いられていた
が、最近では600 〜1.5 ＭＨｚ程度の極超音波帯域の音
波を用いる超音波洗浄が開発されている。
て、従来は20〜50ｋＨｚ程度の超音波が用いられていた
が、最近では600 〜1.5 ＭＨｚ程度の極超音波帯域の音
波を用いる超音波洗浄が開発されている。
【０００５】振動が付与された洗浄液を被洗浄基板に噴
射すると、その振動の作用によって被洗浄基板に付着し
た微粒子の結合力が低下するため、振動を付与しない場
合に比べて洗浄効果を向上させることができる。
射すると、その振動の作用によって被洗浄基板に付着し
た微粒子の結合力が低下するため、振動を付与しない場
合に比べて洗浄効果を向上させることができる。
【０００６】しかしながら、超音波振動が付与された洗
浄液によって微粒子の結合力を低下させることができて
も、その微粒子を被洗浄基板上から確実に流出させるこ
とができず、残留してしまうことがあるため、洗浄効果
を十分に向上させることができないということがあっ
た。
浄液によって微粒子の結合力を低下させることができて
も、その微粒子を被洗浄基板上から確実に流出させるこ
とができず、残留してしまうことがあるため、洗浄効果
を十分に向上させることができないということがあっ
た。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】このように、洗浄液に
超音波振動を付与して被洗浄基板を洗浄する、いわゆる
超音波洗浄においては、振動作用によって微粒子の結合
力を低下させることができても、その微粒子が被洗浄基
板上に残留し、確実に除去できないということがあっ
た。
超音波振動を付与して被洗浄基板を洗浄する、いわゆる
超音波洗浄においては、振動作用によって微粒子の結合
力を低下させることができても、その微粒子が被洗浄基
板上に残留し、確実に除去できないということがあっ
た。
【０００８】この発明は上記事情に基づきなされたもの
で、その目的とするところは、超音波振動によって被洗
浄基板との結合力が低下した微粒子を確実に除去できる
ようにした被洗浄基板の洗浄方法およびその装置を提供
することにある。
で、その目的とするところは、超音波振動によって被洗
浄基板との結合力が低下した微粒子を確実に除去できる
ようにした被洗浄基板の洗浄方法およびその装置を提供
することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
にこの発明の第１の手段は、被洗浄基板に付着した微粒
子を洗浄液で洗浄する洗浄方法において、上記被洗浄基
板に超音波振動が付与された洗浄液を噴射する第１の洗
浄工程と、超音波洗浄された被洗浄基板に超音波洗浄時
の洗浄液よりも圧力の高い洗浄液を噴射する第２の洗浄
工程とを具備したことを特徴とする被洗浄基板の洗浄方
法にある。
にこの発明の第１の手段は、被洗浄基板に付着した微粒
子を洗浄液で洗浄する洗浄方法において、上記被洗浄基
板に超音波振動が付与された洗浄液を噴射する第１の洗
浄工程と、超音波洗浄された被洗浄基板に超音波洗浄時
の洗浄液よりも圧力の高い洗浄液を噴射する第２の洗浄
工程とを具備したことを特徴とする被洗浄基板の洗浄方
法にある。
【００１０】この発明の第２の手段は、被洗浄基板に付
着した微粒子を洗浄液で洗浄する洗浄装置において、上
記被洗浄基板を洗浄する洗浄液に超音波振動を付与する
振動子を有しこの振動子によって超音波振動が付与され
た洗浄液を被洗浄基板に噴射する第１のノズル体と、超
音波洗浄された被洗浄基板に超音波振動時よりも圧力の
高い洗浄液を噴射する第２のノズル体とを具備したこと
を特徴とする被洗浄基板の洗浄装置にある。
着した微粒子を洗浄液で洗浄する洗浄装置において、上
記被洗浄基板を洗浄する洗浄液に超音波振動を付与する
振動子を有しこの振動子によって超音波振動が付与され
た洗浄液を被洗浄基板に噴射する第１のノズル体と、超
音波洗浄された被洗浄基板に超音波振動時よりも圧力の
高い洗浄液を噴射する第２のノズル体とを具備したこと
を特徴とする被洗浄基板の洗浄装置にある。
【００１１】
【作用】上記第１、第２の手段によれば、超音波振動が
付与された洗浄液によって被洗浄基板との結合力が低下
した微粒子は、ついで被洗浄基板に噴射される圧力の高
い洗浄液によって除去される。
付与された洗浄液によって被洗浄基板との結合力が低下
した微粒子は、ついで被洗浄基板に噴射される圧力の高
い洗浄液によって除去される。
【００１２】
【実施例】以下、この発明の一実施例を図面を参照して
説明する。図１に示す洗浄装置は洗浄室１を備えてい
る。この洗浄室１の内部は仕切板２によって第１の洗浄
部３と第２の洗浄部４に区画されている。
説明する。図１に示す洗浄装置は洗浄室１を備えてい
る。この洗浄室１の内部は仕切板２によって第１の洗浄
部３と第２の洗浄部４に区画されている。
【００１３】上記洗浄室１の第１の洗浄部３側の端面に
は搬入口１ａが形成され、仕切板２には導通口２ａ、上
記洗浄室１の第２の洗浄部４側の端面には導出口４ａが
形成されている。
は搬入口１ａが形成され、仕切板２には導通口２ａ、上
記洗浄室１の第２の洗浄部４側の端面には導出口４ａが
形成されている。
【００１４】上記洗浄装置によって洗浄される液晶ガラ
ス基板や半導体ウエハなどの被洗浄基板５は、搬送機構
６によって上記搬入口１ａから洗浄室１の内部に搬入さ
れて第１の洗浄部３と第２の洗浄部４とで洗浄されたの
ち、導出口４ａから導出される。
ス基板や半導体ウエハなどの被洗浄基板５は、搬送機構
６によって上記搬入口１ａから洗浄室１の内部に搬入さ
れて第１の洗浄部３と第２の洗浄部４とで洗浄されたの
ち、導出口４ａから導出される。
【００１５】上記搬送機構６は、上記被洗浄基板５の下
面の、幅方向両端部に接触する一対のロ−ラ７が設けら
れたロ−ラ軸７ａからなる。各ロ−ラ軸７ａは回転自在
に支持され、図示しない駆動源によって回転駆動される
ようになっている。それによって上記被洗浄基板５は図
１に矢印で示す方向に搬送されるようになっている。な
お、上記ロ−ラ軸７ａは上記洗浄室１に対応する部分お
よびその前後方向に設けられ、上記洗浄室１の部分にお
いては両端部が上記洗浄室１の側壁に回転自在に支持さ
れている。
面の、幅方向両端部に接触する一対のロ−ラ７が設けら
れたロ−ラ軸７ａからなる。各ロ−ラ軸７ａは回転自在
に支持され、図示しない駆動源によって回転駆動される
ようになっている。それによって上記被洗浄基板５は図
１に矢印で示す方向に搬送されるようになっている。な
お、上記ロ−ラ軸７ａは上記洗浄室１に対応する部分お
よびその前後方向に設けられ、上記洗浄室１の部分にお
いては両端部が上記洗浄室１の側壁に回転自在に支持さ
れている。
【００１６】上記第１の洗浄部３には、上記搬送機構６
の上方に第１のノズル体１０が配設されている。この第
１のノズル体１０は、図３に示すように中空状に形成さ
れていて、その内部空間１１には金属製の振動板１２が
設けられ、この振動板１２によって上記内部空間１１が
上部１１ａと下部１１ｂとに隔別されている。
の上方に第１のノズル体１０が配設されている。この第
１のノズル体１０は、図３に示すように中空状に形成さ
れていて、その内部空間１１には金属製の振動板１２が
設けられ、この振動板１２によって上記内部空間１１が
上部１１ａと下部１１ｂとに隔別されている。
【００１７】上記振動板１２の上面には圧電素子からな
る振動子１３が接合固定されている。この振動子１３は
図示しない電源に接続されていて、電力が供給されるこ
とで、上記振動板１２を600 〜1.5 ＭＨｚ程度の超音波
帯域での周波数で振動せるようになっている。
る振動子１３が接合固定されている。この振動子１３は
図示しない電源に接続されていて、電力が供給されるこ
とで、上記振動板１２を600 〜1.5 ＭＨｚ程度の超音波
帯域での周波数で振動せるようになっている。
【００１８】上記ノズル体１０の内部空間１１の下部１
１ｂには図示しない供給源から第１の洗浄液Ｌ1 を供給
する第１の供給管１４が接続されている。上記内部空間
１１の下部１１ｂに供給された第１の洗浄液Ｌ1 は、超
音波振動する振動板１２によって超音波振動が付与され
る。そして、上記ノズル体１１の下部１１ｂに連通して
形成されたスリット状のノズル口１５から上記搬送機構
６によって搬送されてくる被洗浄基板５に向けて上記第
１の洗浄液Ｌ1 が噴射されるようになっている。
１ｂには図示しない供給源から第１の洗浄液Ｌ1 を供給
する第１の供給管１４が接続されている。上記内部空間
１１の下部１１ｂに供給された第１の洗浄液Ｌ1 は、超
音波振動する振動板１２によって超音波振動が付与され
る。そして、上記ノズル体１１の下部１１ｂに連通して
形成されたスリット状のノズル口１５から上記搬送機構
６によって搬送されてくる被洗浄基板５に向けて上記第
１の洗浄液Ｌ1 が噴射されるようになっている。
【００１９】上記ノズル口１５はノズル体１０の幅方向
ほぼ全長にわたって形成されている。それによって、ノ
ズル口１５から噴射される第１の洗浄液Ｌ1 は被洗浄基
板５の幅方向全長にわたって噴射される。
ほぼ全長にわたって形成されている。それによって、ノ
ズル口１５から噴射される第１の洗浄液Ｌ1 は被洗浄基
板５の幅方向全長にわたって噴射される。
【００２０】上記第２の洗浄部４には、搬送されてくる
被洗浄基板５に対して噴射角度が所定の角度θ、この実
施例では６０度の角度で傾斜して第２のノズル体１６が
配設されている。上記第２のノズル体１６には、たとえ
ば図４に示すようにスリット状のノズル口１７が幅方向
全長にわたって形成されている。このノズル口１７は一
端をノズル体１６に形成された内部空間１８に連通さ
せ、他端を上記ノズル体１６の下端面に開口させてい
る。つまり、第２のノズル体１６には、いわゆる急速フ
ラットノズルが用いられている。
被洗浄基板５に対して噴射角度が所定の角度θ、この実
施例では６０度の角度で傾斜して第２のノズル体１６が
配設されている。上記第２のノズル体１６には、たとえ
ば図４に示すようにスリット状のノズル口１７が幅方向
全長にわたって形成されている。このノズル口１７は一
端をノズル体１６に形成された内部空間１８に連通さ
せ、他端を上記ノズル体１６の下端面に開口させてい
る。つまり、第２のノズル体１６には、いわゆる急速フ
ラットノズルが用いられている。
【００２１】上記第２のノズル体１６の上部には、図示
しない供給源から第２の洗浄液Ｌ2を供給する第２の供
給管１９が接続されている。第２の供給管１９から内部
空間１８に供給された第２の洗浄液Ｌ2 は上記ノズル口
１７から第２の洗浄部４に搬送されてきた被洗浄基板５
の幅方向全長にわたって噴射されるようになっている。
しない供給源から第２の洗浄液Ｌ2を供給する第２の供
給管１９が接続されている。第２の供給管１９から内部
空間１８に供給された第２の洗浄液Ｌ2 は上記ノズル口
１７から第２の洗浄部４に搬送されてきた被洗浄基板５
の幅方向全長にわたって噴射されるようになっている。
【００２２】上記ノズル口１７から噴出される第２の洗
浄液Ｌ2 の吐出圧力は、その圧力が第１のノズル体１０
のノズル口１５から噴出される第１の洗浄液Ｌ1 の吐出
圧力よりも高くなるよう、各ノズル体１１、１６への洗
浄液の供給圧力やノズル１５、１７の断面積などを変え
ることで設定されている。たとえば、各ノズル体１０、
１６のノズル口１５、１７の断面積を変えれば、同じ圧
力の洗浄液を各ノズル体１０、１６へ供給しても、吐出
圧力を変えることができる。
浄液Ｌ2 の吐出圧力は、その圧力が第１のノズル体１０
のノズル口１５から噴出される第１の洗浄液Ｌ1 の吐出
圧力よりも高くなるよう、各ノズル体１１、１６への洗
浄液の供給圧力やノズル１５、１７の断面積などを変え
ることで設定されている。たとえば、各ノズル体１０、
１６のノズル口１５、１７の断面積を変えれば、同じ圧
力の洗浄液を各ノズル体１０、１６へ供給しても、吐出
圧力を変えることができる。
【００２３】なお、第２のノズル体１６´としては、図
６に示すような、いわゆるシャワ−ノズルを用いるよう
にしてもよい。つまり、シャワ−ノズルは第２の供給管
１９によって第２の洗浄液Ｌ2 が供給される、たとえば
コ字状に曲成されたノズル用パイプ２１に多数のノズル
２２が均等な間隔で取付けられてなるもので、この場合
も各ノズル２２から噴出される第１の洗浄液Ｌ1 の吐出
圧力は第１のノズル体１０のノズル口１５から噴出され
る第１の洗浄液Ｌ1 の吐出圧力よりも高くなるよう設定
されている。
６に示すような、いわゆるシャワ−ノズルを用いるよう
にしてもよい。つまり、シャワ−ノズルは第２の供給管
１９によって第２の洗浄液Ｌ2 が供給される、たとえば
コ字状に曲成されたノズル用パイプ２１に多数のノズル
２２が均等な間隔で取付けられてなるもので、この場合
も各ノズル２２から噴出される第１の洗浄液Ｌ1 の吐出
圧力は第１のノズル体１０のノズル口１５から噴出され
る第１の洗浄液Ｌ1 の吐出圧力よりも高くなるよう設定
されている。
【００２４】つぎに、上記構成の洗浄装置によって被洗
浄基板５を洗浄する作用について説明する。搬送機構６
によって被洗浄基板５が洗浄室１の搬入口１ａから第１
の洗浄部３に搬入されてくると、この被洗浄基板５はそ
の上面が第１のノズル体１０から噴射される第１の洗浄
液Ｌ1 によって洗浄される。第１のノズル体１０から噴
射される第１の洗浄液Ｌ1 は超音波振動が付与されてい
る。
浄基板５を洗浄する作用について説明する。搬送機構６
によって被洗浄基板５が洗浄室１の搬入口１ａから第１
の洗浄部３に搬入されてくると、この被洗浄基板５はそ
の上面が第１のノズル体１０から噴射される第１の洗浄
液Ｌ1 によって洗浄される。第１のノズル体１０から噴
射される第１の洗浄液Ｌ1 は超音波振動が付与されてい
る。
【００２５】そのため、振動が付与された第１の洗浄液
Ｌ1 によって被洗浄基板５に対する微粒子ｐの結合力が
低下し、図５に示すように被洗浄基板５の上面の第１の
洗浄液Ｌ1 中に上記微粒子ｐが浮遊した状態となる。
Ｌ1 によって被洗浄基板５に対する微粒子ｐの結合力が
低下し、図５に示すように被洗浄基板５の上面の第１の
洗浄液Ｌ1 中に上記微粒子ｐが浮遊した状態となる。
【００２６】このような状態で上記被洗浄基板５が第２
の洗浄部４へ搬入されてくると、その上面が第２のノズ
ル体１６から噴射される洗浄液Ｌ2 によって洗浄され
る。第２のノズル体１６からの第２の洗浄液Ｌ2 は、第
１のノズル体１０から噴射される第１の洗浄液Ｌ1 より
も吐出圧力が高く設定されている。そのため、被洗浄基
板５の上面において、結合力が低下した微粒子ｐは、第
２の洗浄液Ｌ2 によってその上面に溜まった第１の洗浄
液Ｌ1 とともに排除されることになるから、洗浄効果を
十分に高めることができる。
の洗浄部４へ搬入されてくると、その上面が第２のノズ
ル体１６から噴射される洗浄液Ｌ2 によって洗浄され
る。第２のノズル体１６からの第２の洗浄液Ｌ2 は、第
１のノズル体１０から噴射される第１の洗浄液Ｌ1 より
も吐出圧力が高く設定されている。そのため、被洗浄基
板５の上面において、結合力が低下した微粒子ｐは、第
２の洗浄液Ｌ2 によってその上面に溜まった第１の洗浄
液Ｌ1 とともに排除されることになるから、洗浄効果を
十分に高めることができる。
【００２７】被洗浄基板５を、つぎの３通りの方法で洗
浄し、その洗浄結果、つまり洗浄基板５の上面に残留す
る微粒子ｐを計数した。すなわち、第１の方法は第１の
ノズル体１０による超音波洗浄だけの場合で、第１の洗
浄液Ｌ1 の吐出圧力を0.1 Kg／cm2 程度に設定し、流量
を30リットル／分、第１のノズル体１０の幅方向に沿う
ノズル口１５の長さを400mm 、被洗浄基板５の大きさは
300 × 400mmであり、その上面に残留する１μｍ以上の
微粒子ｐを計数した。その結果、洗浄後の微粒子ｐの残
留数は550 個であった。
浄し、その洗浄結果、つまり洗浄基板５の上面に残留す
る微粒子ｐを計数した。すなわち、第１の方法は第１の
ノズル体１０による超音波洗浄だけの場合で、第１の洗
浄液Ｌ1 の吐出圧力を0.1 Kg／cm2 程度に設定し、流量
を30リットル／分、第１のノズル体１０の幅方向に沿う
ノズル口１５の長さを400mm 、被洗浄基板５の大きさは
300 × 400mmであり、その上面に残留する１μｍ以上の
微粒子ｐを計数した。その結果、洗浄後の微粒子ｐの残
留数は550 個であった。
【００２８】第２の方法は第１の方法のあとで、急速フ
ラットノズルからなる第２のノズル体１６によって被洗
浄基板５を洗浄するようにしたもので、第２のノズル体
１６の被洗浄基板５に対する傾斜角度θを６０度に設定
し、その幅方向に沿うノズル口１７長さを400mm 、第２
の洗浄液Ｌ2 の流量を10〜15リットル／分、吐出圧力を
0.5 〜0.7 Kg／cm2 に設定した。その結果、微粒子ｐの
残留数は550 個から430 個に減少した。
ラットノズルからなる第２のノズル体１６によって被洗
浄基板５を洗浄するようにしたもので、第２のノズル体
１６の被洗浄基板５に対する傾斜角度θを６０度に設定
し、その幅方向に沿うノズル口１７長さを400mm 、第２
の洗浄液Ｌ2 の流量を10〜15リットル／分、吐出圧力を
0.5 〜0.7 Kg／cm2 に設定した。その結果、微粒子ｐの
残留数は550 個から430 個に減少した。
【００２９】第３の方法は第１の方法のあとに、図６に
示すシャワ−ノズルからなる第２のノズル体１６´によ
って洗浄するようにした。この第２のノズル体１６´と
しては口径が0.5mm ×2mm のノズル２２が30〜40個用い
られ、噴出される第２の洗浄液Ｌ2 の合計の流量は15〜
20リットル／分、吐出圧力は1 〜1.5 Kg／cm2 に設定し
た。その結果、550 個の微粒子ｐは380 個に減少した。
示すシャワ−ノズルからなる第２のノズル体１６´によ
って洗浄するようにした。この第２のノズル体１６´と
しては口径が0.5mm ×2mm のノズル２２が30〜40個用い
られ、噴出される第２の洗浄液Ｌ2 の合計の流量は15〜
20リットル／分、吐出圧力は1 〜1.5 Kg／cm2 に設定し
た。その結果、550 個の微粒子ｐは380 個に減少した。
【００３０】このように、超音波が付与された第１の洗
浄液Ｌ1 による超音波洗浄のあとに、その第１の洗浄液
Ｌ1 よりも圧力の高い第２の洗浄液Ｌ2 によってさらに
洗浄することで、被洗浄基板５の洗浄効果が十分に向上
することが確認された。しかも、第２の方法と第３の方
法とを比較して分かるように、第２の洗浄液Ｌ2 の吐出
圧が第１の洗浄液Ｌ1 の吐出圧力に比べて高ければ高い
程、洗浄効果が向上する。
浄液Ｌ1 による超音波洗浄のあとに、その第１の洗浄液
Ｌ1 よりも圧力の高い第２の洗浄液Ｌ2 によってさらに
洗浄することで、被洗浄基板５の洗浄効果が十分に向上
することが確認された。しかも、第２の方法と第３の方
法とを比較して分かるように、第２の洗浄液Ｌ2 の吐出
圧が第１の洗浄液Ｌ1 の吐出圧力に比べて高ければ高い
程、洗浄効果が向上する。
【００３１】なお、上記一実施例では洗浄室を仕切板に
よって区画したが、洗浄室を仕切板によって仕切らず
に、第１のノズル体の直後に第２のノズル体を配設して
もよく、要は第１のノズル体と第２のノズル体とが、互
いの洗浄作用が干渉し合わない程度に離間していればよ
い。
よって区画したが、洗浄室を仕切板によって仕切らず
に、第１のノズル体の直後に第２のノズル体を配設して
もよく、要は第１のノズル体と第２のノズル体とが、互
いの洗浄作用が干渉し合わない程度に離間していればよ
い。
【００３２】
【発明の効果】以上述べたようにこの発明は、被洗浄基
板に超音波振動が付与された洗浄液を噴射して超音波洗
浄したのち、超音波洗浄時の洗浄液よりも圧力の高い洗
浄液で上記被洗浄基板を洗浄するようにした。
板に超音波振動が付与された洗浄液を噴射して超音波洗
浄したのち、超音波洗浄時の洗浄液よりも圧力の高い洗
浄液で上記被洗浄基板を洗浄するようにした。
【００３３】そのため、超音波洗浄によって被洗浄基板
との結合力が低下した状態で上記被洗浄基板の上面に滞
留する微粒子を、超音波洗浄時よりも圧力の高い洗浄液
によって洗浄することで、その上面から良好に除去する
ことができるから、超音波洗浄だけによる洗浄時に比べ
て洗浄効果を高めることができる。
との結合力が低下した状態で上記被洗浄基板の上面に滞
留する微粒子を、超音波洗浄時よりも圧力の高い洗浄液
によって洗浄することで、その上面から良好に除去する
ことができるから、超音波洗浄だけによる洗浄時に比べ
て洗浄効果を高めることができる。
【図１】この発明の一実施例の全体構成を示す縦断面
図。
図。
【図２】同じく図１のＩ−Ｉ線に沿う横断面図。
【図３】同じく第１のノズル体の断面図。
【図４】同じく第２のノズル体の断面図。
【図５】同じく超音波洗浄により、被洗浄基板に対する
微粒子の結合力が低下する状態の説明図。
微粒子の結合力が低下する状態の説明図。
【図６】第２のノズル体の変形例を示す斜視図。
１…洗浄室、３…第１の洗浄部、４…第２の洗浄部、５
…被洗浄基板、１０…第１のノズル体、１２…振動子、
１６、１６´…第２のノズル体。
…被洗浄基板、１０…第１のノズル体、１２…振動子、
１６、１６´…第２のノズル体。
Claims (2)
- 【請求項１】 被洗浄基板に付着した微粒子を洗浄液で
洗浄する洗浄方法において、上記被洗浄基板に超音波振
動が付与された洗浄液を噴射する第１の洗浄工程と、超
音波洗浄された被洗浄基板に超音波洗浄時の洗浄液より
も圧力の高い洗浄液を噴射する第２の洗浄工程とを具備
したことを特徴とする被洗浄基板の洗浄方法。 - 【請求項２】 被洗浄基板に付着した微粒子を洗浄液で
洗浄する洗浄装置において、上記被洗浄基板を洗浄する
洗浄液に超音波振動を付与する振動子を有しこの振動子
によって超音波振動が付与された洗浄液を被洗浄基板に
噴射する第１のノズル体と、超音波洗浄された被洗浄基
板に超音波振動時よりも圧力の高い洗浄液を噴射する第
２のノズル体とを具備したことを特徴とする被洗浄基板
の洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14340993A JP2862458B2 (ja) | 1993-06-15 | 1993-06-15 | 被洗浄基板の洗浄方法およびその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14340993A JP2862458B2 (ja) | 1993-06-15 | 1993-06-15 | 被洗浄基板の洗浄方法およびその装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH076991A true JPH076991A (ja) | 1995-01-10 |
| JP2862458B2 JP2862458B2 (ja) | 1999-03-03 |
Family
ID=15338105
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14340993A Expired - Lifetime JP2862458B2 (ja) | 1993-06-15 | 1993-06-15 | 被洗浄基板の洗浄方法およびその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2862458B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0919665A (ja) * | 1995-07-04 | 1997-01-21 | Shibaura Eng Works Co Ltd | 超音波洗浄装置 |
| US6619301B2 (en) * | 1999-12-17 | 2003-09-16 | Sharp Kabushiki Kaisha | Ultrasonic processing device and electronic parts fabrication method using the same |
| JP2006276348A (ja) * | 2005-03-29 | 2006-10-12 | Sharp Corp | 基板の洗浄装置 |
| CN100410753C (zh) * | 2004-07-01 | 2008-08-13 | 三星电子株式会社 | 基板处理设备 |
| CN102463237A (zh) * | 2010-11-17 | 2012-05-23 | 三星移动显示器株式会社 | 基底清洁系统和方法 |
-
1993
- 1993-06-15 JP JP14340993A patent/JP2862458B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (7)
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|---|---|---|---|---|
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| JP4621051B2 (ja) * | 2005-03-29 | 2011-01-26 | シャープ株式会社 | 基板の洗浄装置 |
| CN102463237A (zh) * | 2010-11-17 | 2012-05-23 | 三星移动显示器株式会社 | 基底清洁系统和方法 |
| US9199285B2 (en) | 2010-11-17 | 2015-12-01 | Samsung Display Co., Ltd. | System and method for cleaning substrate |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2862458B2 (ja) | 1999-03-03 |
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