JPH05129266A - 洗浄方法及びその装置 - Google Patents
洗浄方法及びその装置Info
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- JPH05129266A JPH05129266A JP3285295A JP28529591A JPH05129266A JP H05129266 A JPH05129266 A JP H05129266A JP 3285295 A JP3285295 A JP 3285295A JP 28529591 A JP28529591 A JP 28529591A JP H05129266 A JPH05129266 A JP H05129266A
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- cleaned
- cleaning
- unit
- liquid
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Abstract
(57)【要約】
【構成】本発明は、超音波が印加されラインノズル方式
により噴射された洗浄水が、被洗浄物に射突する直線状
位置が被洗浄物の搬送方向に対して直交する方向から所
定量傾斜するようにしたようにしたものである。 【効果】本発明は、洗浄液は、被洗浄物上にて、被洗浄
物の搬送方向に平行な方向に流れるとともに、横方向に
も流れる。したがって、この発明によれば、微細なパー
ティクルを、被洗浄物の表面に、例えばリソグラフィー
などによる電気回路パターンなどからなる無数の段差が
存在していても、微細なパーティクルをこれら段差部分
に滞留させることなく、確実かつ高能率に除去すること
ができる。
により噴射された洗浄水が、被洗浄物に射突する直線状
位置が被洗浄物の搬送方向に対して直交する方向から所
定量傾斜するようにしたようにしたものである。 【効果】本発明は、洗浄液は、被洗浄物上にて、被洗浄
物の搬送方向に平行な方向に流れるとともに、横方向に
も流れる。したがって、この発明によれば、微細なパー
ティクルを、被洗浄物の表面に、例えばリソグラフィー
などによる電気回路パターンなどからなる無数の段差が
存在していても、微細なパーティクルをこれら段差部分
に滞留させることなく、確実かつ高能率に除去すること
ができる。
Description
［発明の目的］
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体・電子デバイス
等の洗浄に利用されている洗浄方法及びその装置に関す
る。
等の洗浄に利用されている洗浄方法及びその装置に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】従来、精密洗浄の分野では、基板に対す
るダメージの大きい通常の超音波から極超音波を使用し
たメガソニック洗浄といわれる洗浄法が主流となってき
ている。通常、洗浄槽の下部に振動子、振動板を付け、
水を介して極超音波を発振するが、この方法では、洗浄
槽からのパーチクルの再付着がある。そこで、最近、ラ
インノズルで絞った流水に極超音波を乗せる面シャワー
メガソニック洗浄が注目を集めている。この方法は、パ
ーチクルの再付着がなく、かつ、振動子も少なくてすむ
ので、コスト的にも有利となっている。
るダメージの大きい通常の超音波から極超音波を使用し
たメガソニック洗浄といわれる洗浄法が主流となってき
ている。通常、洗浄槽の下部に振動子、振動板を付け、
水を介して極超音波を発振するが、この方法では、洗浄
槽からのパーチクルの再付着がある。そこで、最近、ラ
インノズルで絞った流水に極超音波を乗せる面シャワー
メガソニック洗浄が注目を集めている。この方法は、パ
ーチクルの再付着がなく、かつ、振動子も少なくてすむ
ので、コスト的にも有利となっている。
【０００３】ところで、この面シャワーメガソニック方
式の洗浄装置は、通常、搬送ユニットの上に取付けら
れ、基板は枚葉搬送されながら、極超音波を乗せた流れ
により洗浄される。この洗浄法は、十分に確立された方
法がなく、洗浄メーカは、試行錯誤的に開発を行ってき
た。現在の問題点の一つにパターン形成後の洗浄があ
る。通常、この面シャワーメガソニック方式の洗浄装置
は、被洗浄物である基板に平行に取付けられているの
で、パターンの凹部などは、水の流れが滞り、パーチク
ルが十分に除去できないという問題がある。このパーチ
クルの残留は、製品歩留を左右するので、この問題の解
決が要望されていた。
式の洗浄装置は、通常、搬送ユニットの上に取付けら
れ、基板は枚葉搬送されながら、極超音波を乗せた流れ
により洗浄される。この洗浄法は、十分に確立された方
法がなく、洗浄メーカは、試行錯誤的に開発を行ってき
た。現在の問題点の一つにパターン形成後の洗浄があ
る。通常、この面シャワーメガソニック方式の洗浄装置
は、被洗浄物である基板に平行に取付けられているの
で、パターンの凹部などは、水の流れが滞り、パーチク
ルが十分に除去できないという問題がある。このパーチ
クルの残留は、製品歩留を左右するので、この問題の解
決が要望されていた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上述したように、従来
の面シャワーメガソニック方式の洗浄装置は、被洗浄物
である基板に平行に取付けられているので、パターンの
凹部などは、水の流れが滞り、パーチクルが十分に除去
できないという問題がある。
の面シャワーメガソニック方式の洗浄装置は、被洗浄物
である基板に平行に取付けられているので、パターンの
凹部などは、水の流れが滞り、パーチクルが十分に除去
できないという問題がある。
【０００５】本発明は、上記事情を参酌してなされたも
ので、パターン形成後の基板表面から面シャワーメガソ
ニック洗浄により効果的にパーチクルを除去することが
できる洗浄方法及びその装置を提供することを目的とす
る。 ［発明の構成］
ので、パターン形成後の基板表面から面シャワーメガソ
ニック洗浄により効果的にパーチクルを除去することが
できる洗浄方法及びその装置を提供することを目的とす
る。 ［発明の構成］
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、超音波が印加
されラインノズル方式により噴射された洗浄水が、被洗
浄物に射突する直線状位置が被洗浄物の搬送方向に対し
て直交する方向から所定量傾斜するようにしたようにし
たものである。
されラインノズル方式により噴射された洗浄水が、被洗
浄物に射突する直線状位置が被洗浄物の搬送方向に対し
て直交する方向から所定量傾斜するようにしたようにし
たものである。
【０００７】
【作用】本発明は、洗浄液は、被洗浄物上にて、被洗浄
物の搬送方向に平行な方向に流れるとともに、横方向に
も流れる。したがって、この発明によれば、微細なパー
ティクルを、被洗浄物の表面に、例えばリソグラフィー
などによる電気回路パターンなどからなる無数の段差が
存在していても、微細なパーティクルをこれら段差部分
に滞留させることなく、確実かつ高能率に除去すること
ができる。
物の搬送方向に平行な方向に流れるとともに、横方向に
も流れる。したがって、この発明によれば、微細なパー
ティクルを、被洗浄物の表面に、例えばリソグラフィー
などによる電気回路パターンなどからなる無数の段差が
存在していても、微細なパーティクルをこれら段差部分
に滞留させることなく、確実かつ高能率に除去すること
ができる。
【０００８】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図面を参照して詳
述する。
述する。
【０００９】図１は、この実施例の洗浄装置１を示して
いる。この洗浄装置１は、面シャワーメガソニック方式
で超音波が印加された洗浄液２をラインノズル方式にて
噴射する洗浄液噴射部３と、この洗浄液噴射部３の下部
に一定距離離間して設けられ被洗浄物Ｗを着脱自在に保
持して矢印Ｘ方向に搬送する被洗浄物搬送部４と、洗浄
液噴射部３に洗浄液２を供給する洗浄液供給部５と、洗
浄液２が供給されている洗浄液噴射部３に超音波を印加
する超音波印加部６と、洗浄液噴射部３を支持して所定
の位置にて洗浄液２を被洗浄物Ｗに噴射させる噴射位置
調整部７とからなっている。上記被洗浄物Ｗの表面に
は、リソグラフィーにより、電気回路パターンが形成さ
れていて、無数の段差が存在している。しかして、洗浄
液噴射部３は、図２に示すように、ポリプロピレン、フ
ッ素樹脂、アルミナなどからなる直方体状の本体部８
と、この本体部８の下面側に形成されたノズル部９と、
本体部８のノズル部９に対して反対側に凹設された凹部
１０と、ノズル部９と凹部１０との間に設けられノズル
部９に供給する洗浄液２をいったん滞留させる貯液部１
１と、本体部８の一側部に設けられ洗浄液供給部５から
供給された洗浄液２を貯液部１１に案内する洗浄液案内
部１２と、凹部１０の底部に貯液部１１を閉塞するよう
に設けられた振動部１３とからなっている。そして、本
体部８は、直方体状の上部材１４と、この上部材１４の
下面側に連結された下部材１５とからなっている。一
方、下部材１５中央部には、図２に示すように、その長
手方向に沿ってノズル部９がスリット状に形成されてい
る。そして、このノズル部９は、図３及び図４に示すよ
うに、下部材１５の外面に開口する第１テーパ部１６
と、この第１テーパ部１６に同軸に連設され下部材１５
の内面に開口する第２テーパ部１７とからなっている。
これら第１テーパ部１６は、第２テーパ部１７よりも勾
配がより急峻となっており、かつ、軸線を含む断面形状
が、全体としてほぼ指数関数形状に近似するように設定
されている。さらに、凹部１０は、上部材１４の長手方
向に沿うように形成され、その底部は、薄肉部１８とな
っている。この薄肉部１８には、貯液部１１が長穴状に
形成されている。そして、この貯液部１１下端部は、第
２テーパ部１７に対して面一に連設するように、テーパ
部１１ａとなっている。一方、洗浄液案内部１２は、本
体部８の一側部にほぼ中央部にその長手方向に沿って複
数個並設された洗浄液導入口１９…と、この洗浄液導入
口１９…に直結し本体部８の一側部内部の長手方向に沿
って配設された円柱状の空間からなる洗浄液整流部２０
と、この洗浄液整流部２０からの洗浄液２を貯液部１１
にクランク状に屈折して案内する洗浄液流入部２１と、
この洗浄液流入部２１を流れてきた洗浄液２を貯液部１
１に対して上向きとなる傾斜角φで流出させる洗浄液傾
斜流出部２２とからなっている。しかして、ノズル部９
の開口部の長さＬ１は、図４に示すように、貯液部１１
の長さＬ２よりも、片側につき、（Ｌ２−Ｌ１）／２内
方に位置していて、第１テーパ部１６から噴出される洗
浄液２の流速が、長手方向にわたつてどの位置でも一定
になるよう調節されている。なお、ノズル部９の長さ
は、その開口部から貯液部１１にいくに従って、長さＬ
１から長さＬ２まで、単調に増加している。つまり、ノ
ズル部９の長手方向の長さは、開口部にいくにつれて、
徐々に幅狭となっている。また、洗浄液流入部２１から
洗浄液２が傾斜角φで貯液部１１に対して供給されるよ
うになっていること、洗浄液整流部２０が設けられてい
ること、洗浄液流入部２１がクランク状に屈折している
ことも洗浄液２の長手方向に沿う流速を一定になるよう
奏効する。さらに、振動部１３は、貯液部１１を閉塞す
るように凹部１０の底面に固定された短冊状の振動板２
３と、この振動板２３の上面に接合固定された圧電素子
からなる帯状の振動子２４とからなっている。前記振動
子２４は、その長手方向をノズル部９の長手方向に対し
て平行になるように配設されている。そして、振動子２
４には、前記超音波印加部６が同軸ケーブル２５を介し
て電気的に接続されている。この超音波印加部６は、６
００ｋＨｚ以上の高周波信号を発生し、発生した高周波
信号を振動子２４に印加するように設けられている。ま
た、洗浄液供給部５は、純水である洗浄液２を純水源２
６と、この純水源２６から洗浄液２を洗浄液導入口１９
…に案内する給水管２７…とからなっている。さらに、
被洗浄物搬送部４は、被洗浄物Ｗ下面側を着脱自在に把
持するチャック部２８と、このチャック部２８を矢印Ｘ
方向に搬送するコンベア部２９とからなっている。最後
に、噴射位置調整部７は、洗浄液噴射部３を支持して上
下方向の位置決めを行うＺテーブル部３０と、このＺテ
ーブル部３０に支持され洗浄液噴射部３のθ方向（Ｚ軸
を回動軸とする。）の位置決めを行うθテーブル部３１
とからなっている。そして、洗浄液噴射部３は、図４に
示すように、ノズル部９と被洗浄物Ｗとの距離が、約１
ｃｍとなるようにＺテーブル部３０により調節されてい
る。なお、ノズル部９のスリット状の開口部は、被洗浄
物搬送部４により搬送されてきた被洗浄物Ｗに平行に対
峙するように配設されている。また、θテーブル部３１
の調整により、図５に示すように、ノズル部９の長手方
向が、被洗浄物Ｗの搬送方向である矢印Ｘ方向に直交す
る矢印Ｙ方向に対して角度θだけ傾斜している。この傾
斜角度θは、被洗浄物の種類に応じて５°〜２０°の範
囲で適宜変化させることができる。たとえば、被洗浄物
が、液晶基板の場合には、傾斜角度は、７°〜１０°に
設定するのが好ましい。つぎに、上記構成の洗浄装置１
を用いた洗浄方法について述べる。
いる。この洗浄装置１は、面シャワーメガソニック方式
で超音波が印加された洗浄液２をラインノズル方式にて
噴射する洗浄液噴射部３と、この洗浄液噴射部３の下部
に一定距離離間して設けられ被洗浄物Ｗを着脱自在に保
持して矢印Ｘ方向に搬送する被洗浄物搬送部４と、洗浄
液噴射部３に洗浄液２を供給する洗浄液供給部５と、洗
浄液２が供給されている洗浄液噴射部３に超音波を印加
する超音波印加部６と、洗浄液噴射部３を支持して所定
の位置にて洗浄液２を被洗浄物Ｗに噴射させる噴射位置
調整部７とからなっている。上記被洗浄物Ｗの表面に
は、リソグラフィーにより、電気回路パターンが形成さ
れていて、無数の段差が存在している。しかして、洗浄
液噴射部３は、図２に示すように、ポリプロピレン、フ
ッ素樹脂、アルミナなどからなる直方体状の本体部８
と、この本体部８の下面側に形成されたノズル部９と、
本体部８のノズル部９に対して反対側に凹設された凹部
１０と、ノズル部９と凹部１０との間に設けられノズル
部９に供給する洗浄液２をいったん滞留させる貯液部１
１と、本体部８の一側部に設けられ洗浄液供給部５から
供給された洗浄液２を貯液部１１に案内する洗浄液案内
部１２と、凹部１０の底部に貯液部１１を閉塞するよう
に設けられた振動部１３とからなっている。そして、本
体部８は、直方体状の上部材１４と、この上部材１４の
下面側に連結された下部材１５とからなっている。一
方、下部材１５中央部には、図２に示すように、その長
手方向に沿ってノズル部９がスリット状に形成されてい
る。そして、このノズル部９は、図３及び図４に示すよ
うに、下部材１５の外面に開口する第１テーパ部１６
と、この第１テーパ部１６に同軸に連設され下部材１５
の内面に開口する第２テーパ部１７とからなっている。
これら第１テーパ部１６は、第２テーパ部１７よりも勾
配がより急峻となっており、かつ、軸線を含む断面形状
が、全体としてほぼ指数関数形状に近似するように設定
されている。さらに、凹部１０は、上部材１４の長手方
向に沿うように形成され、その底部は、薄肉部１８とな
っている。この薄肉部１８には、貯液部１１が長穴状に
形成されている。そして、この貯液部１１下端部は、第
２テーパ部１７に対して面一に連設するように、テーパ
部１１ａとなっている。一方、洗浄液案内部１２は、本
体部８の一側部にほぼ中央部にその長手方向に沿って複
数個並設された洗浄液導入口１９…と、この洗浄液導入
口１９…に直結し本体部８の一側部内部の長手方向に沿
って配設された円柱状の空間からなる洗浄液整流部２０
と、この洗浄液整流部２０からの洗浄液２を貯液部１１
にクランク状に屈折して案内する洗浄液流入部２１と、
この洗浄液流入部２１を流れてきた洗浄液２を貯液部１
１に対して上向きとなる傾斜角φで流出させる洗浄液傾
斜流出部２２とからなっている。しかして、ノズル部９
の開口部の長さＬ１は、図４に示すように、貯液部１１
の長さＬ２よりも、片側につき、（Ｌ２−Ｌ１）／２内
方に位置していて、第１テーパ部１６から噴出される洗
浄液２の流速が、長手方向にわたつてどの位置でも一定
になるよう調節されている。なお、ノズル部９の長さ
は、その開口部から貯液部１１にいくに従って、長さＬ
１から長さＬ２まで、単調に増加している。つまり、ノ
ズル部９の長手方向の長さは、開口部にいくにつれて、
徐々に幅狭となっている。また、洗浄液流入部２１から
洗浄液２が傾斜角φで貯液部１１に対して供給されるよ
うになっていること、洗浄液整流部２０が設けられてい
ること、洗浄液流入部２１がクランク状に屈折している
ことも洗浄液２の長手方向に沿う流速を一定になるよう
奏効する。さらに、振動部１３は、貯液部１１を閉塞す
るように凹部１０の底面に固定された短冊状の振動板２
３と、この振動板２３の上面に接合固定された圧電素子
からなる帯状の振動子２４とからなっている。前記振動
子２４は、その長手方向をノズル部９の長手方向に対し
て平行になるように配設されている。そして、振動子２
４には、前記超音波印加部６が同軸ケーブル２５を介し
て電気的に接続されている。この超音波印加部６は、６
００ｋＨｚ以上の高周波信号を発生し、発生した高周波
信号を振動子２４に印加するように設けられている。ま
た、洗浄液供給部５は、純水である洗浄液２を純水源２
６と、この純水源２６から洗浄液２を洗浄液導入口１９
…に案内する給水管２７…とからなっている。さらに、
被洗浄物搬送部４は、被洗浄物Ｗ下面側を着脱自在に把
持するチャック部２８と、このチャック部２８を矢印Ｘ
方向に搬送するコンベア部２９とからなっている。最後
に、噴射位置調整部７は、洗浄液噴射部３を支持して上
下方向の位置決めを行うＺテーブル部３０と、このＺテ
ーブル部３０に支持され洗浄液噴射部３のθ方向（Ｚ軸
を回動軸とする。）の位置決めを行うθテーブル部３１
とからなっている。そして、洗浄液噴射部３は、図４に
示すように、ノズル部９と被洗浄物Ｗとの距離が、約１
ｃｍとなるようにＺテーブル部３０により調節されてい
る。なお、ノズル部９のスリット状の開口部は、被洗浄
物搬送部４により搬送されてきた被洗浄物Ｗに平行に対
峙するように配設されている。また、θテーブル部３１
の調整により、図５に示すように、ノズル部９の長手方
向が、被洗浄物Ｗの搬送方向である矢印Ｘ方向に直交す
る矢印Ｙ方向に対して角度θだけ傾斜している。この傾
斜角度θは、被洗浄物の種類に応じて５°〜２０°の範
囲で適宜変化させることができる。たとえば、被洗浄物
が、液晶基板の場合には、傾斜角度は、７°〜１０°に
設定するのが好ましい。つぎに、上記構成の洗浄装置１
を用いた洗浄方法について述べる。
【００１０】まず、純水源２６から洗浄液２を給水管２
７…を経由して洗浄液噴射部３の洗浄液導入口１９…に
供給する。すると、洗浄液２は、洗浄液導入口１９…か
ら洗浄液整流部２０に案内され、洗浄液２の長手方向に
沿う流速をほぼ一定に調整された後、クランク状に屈折
してなる洗浄液流入部２１を経由して、洗浄液傾斜流出
部２２に達すると、洗浄液２は、上向き方向（矢印Ｈ方
向）に向きを変え、振動板２３に向かって貯液部１１中
に流出する。このとき、洗浄液流入部２１はスリット状
であり、かつ、クランク状に屈折しているから、洗浄液
２の長手方向に沿う流速が平均化される。しかして、貯
液部１１中に流入した洗浄液２は、ノズル部９を経由し
て、外部に噴射される。このとき、洗浄液２は、貯液部
１１を周回後、ノズル部９に排出されるので、貯液部１
１内壁に付着している気泡も洗浄液２と一緒に排出され
る。また、ノズル部９の長手方向の長さは、開口部にい
くにつれて、徐々に幅狭となっていることにより、洗浄
液２の流速が、長手方向にわたつてどの位置でも一定に
なるよう調節される。一方、超音波印加部６からは、同
軸ケーブル２５を介して振動子２４に６００ｋＨｚ以上
の高周波信号が印加され、この結果、貯液部１１を通過
する洗浄液２には、振動板２３を介して、６００ｋＨｚ
以上の超音波が印加される。その結果、ノズル部９から
は、強力な超音波が印加された洗浄液２が噴射される。
さらに、被洗浄物搬送部４により、被洗浄物Ｗを矢印Ｘ
方向に搬送させる。その結果、図６に示すように、被洗
浄物Ｗが、ノズル部９の直下にくると、カーテン状をな
す洗浄液２が被洗浄物Ｗに射突し、被洗浄物Ｗの微細な
パーティクルが、効率よく、かつ、ノズル部９の長手方
向全長にわたって均一に除去される。とくに、この実施
例においては、ノズル部９の長手方向が、被洗浄物Ｗの
搬送方向である矢印Ｘ方向に直交する（矢印Ｙ方向）に
対して角度θだけ傾斜しているので、噴射された洗浄水
２が被洗浄物Ｗに射突する射突ラインＭが矢印Ｙ方向に
対して角度θだけ傾く。その結果、いったん被洗浄物Ｗ
に射突した洗浄液２の流れは、矢印Ｘ方向に平行になら
ず傾斜角度θに応じて、傾いた矢印Ｎ方向に流れる（図
５参照）。つまり、洗浄液２は、被洗浄物Ｗ上にて、被
洗浄物Ｗ前進側に流れるとともに、横方向にも流れる。
したがって、被洗浄物Ｗの表面に、リソグラフィーによ
り、電気回路パターンが形成されていて、無数の段差Ｓ
が存在していても、洗浄液２の横方向の流れにより、微
細なパーティクルＤ…を、被洗浄物Ｗの段差部分に滞留
させることなく、効果的に除去することができる（図７
参照）。
７…を経由して洗浄液噴射部３の洗浄液導入口１９…に
供給する。すると、洗浄液２は、洗浄液導入口１９…か
ら洗浄液整流部２０に案内され、洗浄液２の長手方向に
沿う流速をほぼ一定に調整された後、クランク状に屈折
してなる洗浄液流入部２１を経由して、洗浄液傾斜流出
部２２に達すると、洗浄液２は、上向き方向（矢印Ｈ方
向）に向きを変え、振動板２３に向かって貯液部１１中
に流出する。このとき、洗浄液流入部２１はスリット状
であり、かつ、クランク状に屈折しているから、洗浄液
２の長手方向に沿う流速が平均化される。しかして、貯
液部１１中に流入した洗浄液２は、ノズル部９を経由し
て、外部に噴射される。このとき、洗浄液２は、貯液部
１１を周回後、ノズル部９に排出されるので、貯液部１
１内壁に付着している気泡も洗浄液２と一緒に排出され
る。また、ノズル部９の長手方向の長さは、開口部にい
くにつれて、徐々に幅狭となっていることにより、洗浄
液２の流速が、長手方向にわたつてどの位置でも一定に
なるよう調節される。一方、超音波印加部６からは、同
軸ケーブル２５を介して振動子２４に６００ｋＨｚ以上
の高周波信号が印加され、この結果、貯液部１１を通過
する洗浄液２には、振動板２３を介して、６００ｋＨｚ
以上の超音波が印加される。その結果、ノズル部９から
は、強力な超音波が印加された洗浄液２が噴射される。
さらに、被洗浄物搬送部４により、被洗浄物Ｗを矢印Ｘ
方向に搬送させる。その結果、図６に示すように、被洗
浄物Ｗが、ノズル部９の直下にくると、カーテン状をな
す洗浄液２が被洗浄物Ｗに射突し、被洗浄物Ｗの微細な
パーティクルが、効率よく、かつ、ノズル部９の長手方
向全長にわたって均一に除去される。とくに、この実施
例においては、ノズル部９の長手方向が、被洗浄物Ｗの
搬送方向である矢印Ｘ方向に直交する（矢印Ｙ方向）に
対して角度θだけ傾斜しているので、噴射された洗浄水
２が被洗浄物Ｗに射突する射突ラインＭが矢印Ｙ方向に
対して角度θだけ傾く。その結果、いったん被洗浄物Ｗ
に射突した洗浄液２の流れは、矢印Ｘ方向に平行になら
ず傾斜角度θに応じて、傾いた矢印Ｎ方向に流れる（図
５参照）。つまり、洗浄液２は、被洗浄物Ｗ上にて、被
洗浄物Ｗ前進側に流れるとともに、横方向にも流れる。
したがって、被洗浄物Ｗの表面に、リソグラフィーによ
り、電気回路パターンが形成されていて、無数の段差Ｓ
が存在していても、洗浄液２の横方向の流れにより、微
細なパーティクルＤ…を、被洗浄物Ｗの段差部分に滞留
させることなく、効果的に除去することができる（図７
参照）。
【００１１】以上のように、この実施例においては、ノ
ズル部９の長手方向が、被洗浄物Ｗの搬送方向である矢
印Ｘ方向に直交する（矢印Ｙ方向）に対して角度θだけ
傾斜するように設定しているので、洗浄液２は、被洗浄
物Ｗ上にて、被洗浄物Ｗ前進側に流れるとともに、横方
向にも流れる結果、微細なパーティクルを、被洗浄物Ｗ
の段差部分に滞留させることなく、効果的に除去するこ
とができる。
ズル部９の長手方向が、被洗浄物Ｗの搬送方向である矢
印Ｘ方向に直交する（矢印Ｙ方向）に対して角度θだけ
傾斜するように設定しているので、洗浄液２は、被洗浄
物Ｗ上にて、被洗浄物Ｗ前進側に流れるとともに、横方
向にも流れる結果、微細なパーティクルを、被洗浄物Ｗ
の段差部分に滞留させることなく、効果的に除去するこ
とができる。
【００１２】なお、上記実施例において、洗浄液噴射部
３の構造は、ラインノズル方式である限り、細部に制約
されることはない。また、上記実施例においては、洗浄
液２は、洗浄液噴射部３から被洗浄物Ｗに垂直方向に射
突するように設定されているが、図８に示すように、被
洗浄物Ｗに対し、角度β（例えば１〜５°）傾斜させ
て、洗浄液２を噴射させるようにしてもよい。この場
合、ノズル部９の長手方向が、被洗浄物Ｗの搬送方向で
ある矢印Ｘ方向に直交する（矢印Ｙ方向）に対して角度
θだけ傾斜している効果と相俟ってより完璧な洗浄作用
を奏することができる。
３の構造は、ラインノズル方式である限り、細部に制約
されることはない。また、上記実施例においては、洗浄
液２は、洗浄液噴射部３から被洗浄物Ｗに垂直方向に射
突するように設定されているが、図８に示すように、被
洗浄物Ｗに対し、角度β（例えば１〜５°）傾斜させ
て、洗浄液２を噴射させるようにしてもよい。この場
合、ノズル部９の長手方向が、被洗浄物Ｗの搬送方向で
ある矢印Ｘ方向に直交する（矢印Ｙ方向）に対して角度
θだけ傾斜している効果と相俟ってより完璧な洗浄作用
を奏することができる。
【００１３】
【発明の効果】本発明は、超音波が印加されラインノズ
ル方式により噴射された洗浄水が、被洗浄物に射突する
直線状位置が被洗浄物の搬送方向に対して直交する方向
から所定量傾斜するようにしたので、洗浄液は、被洗浄
物上にて、被洗浄物の搬送方向に平行な方向に流れると
ともに、横方向にも流れる。したがって、この発明によ
れば、微細なパーティクルを、被洗浄物の表面に、例え
ばリソグラフィーなどによる電気回路パターンなどから
なる無数の段差が存在していても、微細なパーティクル
をこれら段差部分に滞留させることなく、確実かつ高能
率に除去することができる。
ル方式により噴射された洗浄水が、被洗浄物に射突する
直線状位置が被洗浄物の搬送方向に対して直交する方向
から所定量傾斜するようにしたので、洗浄液は、被洗浄
物上にて、被洗浄物の搬送方向に平行な方向に流れると
ともに、横方向にも流れる。したがって、この発明によ
れば、微細なパーティクルを、被洗浄物の表面に、例え
ばリソグラフィーなどによる電気回路パターンなどから
なる無数の段差が存在していても、微細なパーティクル
をこれら段差部分に滞留させることなく、確実かつ高能
率に除去することができる。
【図１】本発明の一実施例の洗浄装置の構成図である。
【図２】本発明の一実施例の洗浄装置の要部拡大断面図
である。
である。
【図３】本発明の一実施例の洗浄装置のノズル部を示す
断面図である。
断面図である。
【図４】本発明の一実施例の洗浄装置の洗浄液噴射部の
下面図である。
下面図である。
【図５】本発明の一実施例の洗浄装置のノズル部と被洗
浄物との配設関係を示す図である。
浄物との配設関係を示す図である。
【図６】本発明の一実施例の洗浄方法を説明するための
斜視図である。
斜視図である。
【図７】本発明の一実施例の洗浄方法の説明図である。
【図８】本発明の他の実施例の洗浄方法の説明図であ
る。
る。
１：洗浄装置，２：洗浄液，３：洗浄液噴射部，４：被
洗浄物搬送部，５：洗浄液供給部，６：超音波印加部，
７：噴射位置調整部，９：ノズル部。
洗浄物搬送部，５：洗浄液供給部，６：超音波印加部，
７：噴射位置調整部，９：ノズル部。
Claims (2)
- 【請求項１】スリット状の開口部から洗浄液を被洗浄物
に向って噴射する洗浄液噴射工程と、上記被洗浄物をそ
の被洗浄面に平行な直線方向に相対的に搬送する工程
と、この洗浄液噴射工程にて噴射された洗浄液に超音波
を印加する超音波印加工程とを具備し、上記洗浄液の上
記被洗浄物に射突する直線状位置を上記被洗浄物の搬送
方向に対して直交する方向から傾斜させて上記洗浄液を
噴射することを特徴とする洗浄方法。 - 【請求項２】スリット状の開口部から洗浄液を被洗浄物
に向って噴射する洗浄液噴射手段と、上記被洗浄物をそ
の被洗浄面に平行な直線方向に相対的に搬送する搬送手
段と、洗浄液噴射手段に連設され上記洗浄液噴射手段に
より噴射される洗浄液に超音波を印加する超音波印加手
段と、上記洗浄液の上記被洗浄物に対する射突位置調整
自在に上記洗浄液噴射手段を支持する噴射位置調整手段
とを具備し、上記上記洗浄液噴射手段は上記洗浄液の上
記被洗浄物に射突する直線状位置が上記被洗浄物の搬送
方向に対して直交する方向から傾斜するように設定され
ていることを特徴とする洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3285295A JPH05129266A (ja) | 1991-10-31 | 1991-10-31 | 洗浄方法及びその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3285295A JPH05129266A (ja) | 1991-10-31 | 1991-10-31 | 洗浄方法及びその装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05129266A true JPH05129266A (ja) | 1993-05-25 |
Family
ID=17689678
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3285295A Pending JPH05129266A (ja) | 1991-10-31 | 1991-10-31 | 洗浄方法及びその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05129266A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10163153A (ja) * | 1996-11-29 | 1998-06-19 | Tadahiro Omi | 洗浄やエッチング、現像、剥離等を含むウエット処理に用いる省液型の液体供給ノズル、ウエット処理装置及びウエット処理方法 |
| US5927306A (en) * | 1996-11-25 | 1999-07-27 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Ultrasonic vibrator, ultrasonic cleaning nozzle, ultrasonic cleaning device, substrate cleaning device, substrate cleaning treatment system and ultrasonic cleaning nozzle manufacturing method |
| JP2007266545A (ja) * | 2006-03-30 | 2007-10-11 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
| CN113458021A (zh) * | 2021-05-21 | 2021-10-01 | 德州市纤维检验所 | 一种棉花中农药残留和重金属的检测设备 |
-
1991
- 1991-10-31 JP JP3285295A patent/JPH05129266A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5927306A (en) * | 1996-11-25 | 1999-07-27 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Ultrasonic vibrator, ultrasonic cleaning nozzle, ultrasonic cleaning device, substrate cleaning device, substrate cleaning treatment system and ultrasonic cleaning nozzle manufacturing method |
| JPH10163153A (ja) * | 1996-11-29 | 1998-06-19 | Tadahiro Omi | 洗浄やエッチング、現像、剥離等を含むウエット処理に用いる省液型の液体供給ノズル、ウエット処理装置及びウエット処理方法 |
| JP2007266545A (ja) * | 2006-03-30 | 2007-10-11 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
| CN113458021A (zh) * | 2021-05-21 | 2021-10-01 | 德州市纤维检验所 | 一种棉花中农药残留和重金属的检测设备 |
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