KR20190021878A - 약액 토출 어셈블리 및 이를 포함하는 기판 처리 장치 - Google Patents

약액 토출 어셈블리 및 이를 포함하는 기판 처리 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR20190021878A
KR20190021878A KR1020170107249A KR20170107249A KR20190021878A KR 20190021878 A KR20190021878 A KR 20190021878A KR 1020170107249 A KR1020170107249 A KR 1020170107249A KR 20170107249 A KR20170107249 A KR 20170107249A KR 20190021878 A KR20190021878 A KR 20190021878A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
chemical liquid
discharge
lower block
substrate
block
Prior art date
Application number
KR1020170107249A
Other languages
English (en)
Inventor
이석영
Original Assignee
세메스 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 세메스 주식회사 filed Critical 세메스 주식회사
Priority to KR1020170107249A priority Critical patent/KR20190021878A/ko
Publication of KR20190021878A publication Critical patent/KR20190021878A/ko

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017Apparatus for fluid treatment
    • H01L21/67028Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
    • H01L21/6704Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
    • H01L21/67051Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing using mainly spraying means, e.g. nozzles
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05BSPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
    • B05B1/00Nozzles, spray heads or other outlets, with or without auxiliary devices such as valves, heating means
    • B05B1/02Nozzles, spray heads or other outlets, with or without auxiliary devices such as valves, heating means designed to produce a jet, spray, or other discharge of particular shape or nature, e.g. in single drops, or having an outlet of particular shape
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05CAPPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C5/00Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
    • B05C5/02Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work
    • B05C5/0208Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work for applying liquid or other fluent material to separate articles
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/6715Apparatus for applying a liquid, a resin, an ink or the like

Abstract

예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 어셈블리는 상부 블록 및 하부 블록의 결합에 의해 약액이 토출되도록 형성됨과 아울러 상기 기판과는 소정 각도를 이루는 방향을 갖도록 형성되는 토출부, 및 상기 토출부로부터 토출되는 상기 약액이 상기 하부 블록의 표면을 따라 흐르도록 형성되는 토출면으로 이루어질 수 있다. 특히, 상기 하부 블록의 단부와 상기 상부 블록의 단부는 배치 위치 및/또는 모양을 달리할 수 있다. 그리고 예시적인 실시예들에 따른 기판 처리 장치는 이송부 및 상기 약액 토출 어셈블리인 약액 토출부를 포함할 수 있다.

Description

약액 토출 어셈블리 및 이를 포함하는 기판 처리 장치{Assembly for discharging chemical and Apparatus for processing substrate having the same}
본 발명은 약액 토출 어셈블리 및 이를 포함하는 기판 처리 장치에 관한 것이다. 보다 상세하게는 이송부에 의해 이송이 이루어지는 기판 상에 현상액 등과 같은 약액을 토출하기 위한 약액 토출 어셈블리 및 이를 포함하는 기판 처리 장치에 관한 것이다.
평판 디스플레이 소자의 제조시 대면적 기판에 현상액 등과 같은 약액이 균일하게 도포되지 않을 경우 불량이 발생할 수 있기 때문에 약액의 균일한 도포를 위해서는 기판 상에 약액이 곧바로 공급되게 하지 않고 토출부로부터 토출면을 따라 흐르도록 하여 기판 상에 약액이 공급되게 하고 있다. 즉, 토출면을 따라 흐르는 코안다(coanda) 효과를 유도하는 방식으로 기판 상에 약액이 공급되게 하고 있는 것이다.
언급한 토출부로부터 토출면을 따라 흐르도록 하는 코안다 효과를 유도하는 방식의 약액 토출 부재에 대한 일 예는 대한민국 등록특허 제10-1099589호(이하, '인용 발명'이라 함)에 개시되어 있다.
언급한 인용 발명에 개시된 약액 토출 부재를 사용한 약액의 토출, 특히 현상액의 토출에서는 관성에 의해 토출이 이루어지는 현상액이 앞으로 나가려는 힘이 강하기 때문에 토출부의 출구 부분에는 버블(bubble)이 매달릴 수 있다. 특히, 토출부의 출구 부분은 유속이 느린 반면에 표면 에너지가 크기 때문에 버블이 부착되기 좋은 위치일 수 있다.
따라서 기판이 토출부의 출구 부분을 지나갈 때 출구 부분에 압력이 걸리므로 출구 부분에 부착되어 있는 버블이 기판 상에 떨어질 수 있고, 그 결과 기판 선단부에 버블이 잔류하는 문제점이 있다.
본 발명의 일 과제는 토출면을 따라 흐르도록 하여 기판 상에 약액을 공급할 때 토출부의 출구 부분에 버블이 매달리는 것을 방지할 수 있는 약액 토출 어셈블리를 제공하는데 있다.
본 발명의 다른 과제는 토출면을 따라 흐르도록 하여 기판 상에 약액을 공급할 때 토출부의 출구 부분에 버블이 매달리는 것을 방지할 수 있는 약액 토출 어셈블리를 포함하는 기판 처리 장치를 제공하는데 있다.
상기 본 발명의 일 과제를 달성하기 위한 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 어셈블리는 기판 상에 약액을 토출하기 위한 것으로서, 상부 블록 및 하부 블록의 결합에 의해 상기 약액이 토출되도록 형성됨과 아울러 상기 기판과는 소정 각도를 이루는 방향을 갖도록 형성되는 토출부, 및 상기 토출부로부터 토출되는 상기 약액이 상기 하부 블록의 표면을 따라 흐르도록 형성되는 토출면으로 이루어질 수 있다. 특히, 상기 하부 블록의 단부와 상기 상부 블록의 단부는 배치 위치 및/또는 모양을 달리할 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 하부 블록의 단부는 상기 상부 블록의 단부보다 안쪽에 배치되도록 결합될 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 하부 블록의 단부는 라운딩되는 구조를 갖도록 형성될 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 하부 블록의 토출면은 상기 기판과 평행한 방향을 갖도록 형성될 수 있다.
상기 본 발명의 다른 과제를 달성하기 위한 예시적인 실시예들에 따른 기판 처리 장치는 이송부 및 약액 토출부를 포함할 수 있다. 상기 이송부는 기판을 이송하도록 구비될 수 있고, 상기 약액 토출부는 상기 이송부 상에 위치함과 아울러 상기 이송부에 의해 이송이 이루어지는 상기 기판 상에 약액을 토출하도록 구비될 수 있다. 상기 약액 토출부는 상부 블록 및 하부 블록의 결합에 의해 상기 약액이 토출되도록 형성됨과 아울러 상기 기판과는 소정 각도를 이루는 방향을 갖도록 형성되는 토출부, 및 상기 토출부로부터 토출되는 상기 약액이 상기 하부 블록의 표면을 따라 흐르도록 형성되는 토출면으로 이루어질 수 있다. 특히, 상기 하부 블록의 단부와 상기 상부 블록의 단부는 배치 위치 및/또는 모양을 달리할 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 하부 블록의 단부는 상기 상부 블록의 단부보다 안쪽에 배치되도록 결합될 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 하부 블록의 단부는 라운딩되는 구조를 갖도록 형성될 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 하부 블록의 토출면은 상기 기판과 평행한 방향을 갖도록 형성될 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 이송부는 상기 하부 블록의 후단부 쪽으로부터 상기 하부 블록의 전단부 쪽으로 상기 기판을 이송하도록 구비될 수 있다.
예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 어셈블리 및 기판 처리 장치는 하부 블록의 단부와 상부 블록의 단부에 대한 배치 위치 및/또는 모양을 달리함으로서, 하부 블록의 토출면을 따라 흐르도록 하여 기판 상에 약액을 공급할 때 토출부의 출구 부분에 버블이 매달리는 것을 방지할 수 있다.
따라서 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 어셈블리 및 기판 처리 장치는 코안다 효과를 유도하여 기판 상에 약액을 공급할 때 토출부의 출구 부분에 버블이 매달리는 것을 방지할 수 있기 때문에 기판 선단부에 버블이 잔류하는 것을 방지할 수 있을 것이다.
이에, 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 어셈블리 및 기판 처리 장치는 기판에 버블이 잔류하는 것을 차단함으로서 기판 상에 약액을 균일하게 도포할 수 있기 때문에 약액 도포 공정의 수행에 따른 공정 신뢰도를 향상시킬 수 있을 것이다.
다만, 본 발명의 효과는 상기 언급한 효과에 한정되는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위에서 다양하게 확장될 수 있을 것이다.
도 1은 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 어셈블리를 나타내는 개략적인 구성도이다.
도 2는 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 어셈블리를 나타내는 개략적인 구성도이다.
도 3은 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 어셈블리를 나타내는 개략적인 구성도이다.
도 4는 예시적인 실시예들에 따른 기판 처리 장치를 나타내는 개략적인 구성도이다.
본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 실시예를 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 각 도면을 설명하면서 유사한 참조 부호를 유사한 구성 요소에 대해 사용하였다. 제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성 요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성 요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성 요소를 다른 구성 요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "이루어진다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야한다.
다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.
이하, 첨부한 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 보다 상세하게 설명하고자 한다. 도면상의 동일한 구성 요소에 대해서는 동일한 참조 부호를 사용하고 동일한 구성 요소에 대해서 중복된 설명은 생략한다.
도 1 내지 도 3은 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 어셈블리를 나타내는 개략적인 구성도들이다.
이하에서는, 하부 블록의 단부와 상부 블록의 단부가 배치되는 위치가 달리하는 것, 하부 블록의 단부 모양과 상부 블록의 단부의 모양이 달리하는 것, 그리고 언급한 위치 및 모양 모두를 달리하는 것을 제외하고는 약액 토출 어셈블리가 동일한 구조를 가질 수 있다. 따라서 이하 예시적인 실시예들에 있어서, 동일 부품에 대해서는 동일 부호를 사용하고, 상세한 설명은 생략하기로 한다.
도 1을 참조하면, 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 어셈블리(100)는 기판 상에 약액을 토출하기 위한 것으로서, 특히 기판 상에 현상액을 토출하기 위한 것이다.
약액 토출 어셈블리(100)는 상부 블록(11) 및 하부 블록(13)을 포함할 수 있고, 토출부(15) 및 토출면(17)으로 이루어질 수 있다.
토출부(15)는 기판 상에 공급하기 위한 약액을 플로우(flow)시키는 유로(uro)로서, 상부 블록(11) 및 하부 블록(13)을 결합시킴에 의해 형성될 수 있다. 즉, 토출부(15)는 유로를 갖도록 상부 블록(11) 및 하부 블록(13)을 결합시킴에 의해 형성될 수 있는 것이다. 또한, 토출부(15)는 약액 토출 어셈블리(100)로 약액을 공급하는 공급 부재와 연결되는 입구 및 언급한 입구를 통하여 유로로 플로우되는 약액을 기판 상에 토출하는 부분인 출구(19)를 가질 수 있다. 그리고 토출부(15)는 소정 각도(θ)를 갖도록 형성될 수 있다. 즉, 토출부(15)는 기판과 소정 각도(θ)를 갖도록 형성될 수 있다. 특히, 토출부(15)는 코안다 효과를 유도하기 위해서 기판과 약 20 내지 70˚의 각도를 갖도록 형성될 수 있다.
토출면(17)은 토출부(15)의 출구(19) 부분과 연결되는 하부 블록(13)의 표면인 것으로서, 토출부(15)로부터 토출되는 약액이 하부 블록(13)의 표면을 따라 흐르도록 형성될 수 있다. 그리고 토출면(17)은 코안다 효과를 유도하기 위해서 기판과 평행한 방향을 갖도록 형성될 수 있다.
이에, 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 어셈블리(100)는 토출부(15)로부터 토출면(17)을 따라 흐르도록 하는 코안다 효과를 유도하는 방식으로 기판 상에 약액을 토출할 수 있는 것이다.
그리고 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 어셈블리(100)는 하부 블록(13)의 단부와 상부 블록(11)의 단부가 배치되는 위치를 달리할 수 있다. 즉, 하부 블록(13)의 단부가 상부 블록(11)의 단부보다 안쪽에 배치되게 위치할 수 있는 것이다. 따라서 약액 토출 어셈블리(100)는 약액의 토출되는 토출부(15)의 출구(19) 부분이 하부 블록(13)의 단부에만 위치할 수 있다.
이에, 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 어셈블리(100)를 사용한 약액의 토출에서는 약액이 상부 블록(11)의 단부까지 흐르지 않고 토출부(15)의 출구(19) 부분인 하부 블록(13)의 단부로부터 토출면(17)인 하부 블록(13)의 표면을 따라 흐를 수 있을 것이다.
이와 같이, 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 어셈블리(100)는 하부 블록(13) 쪽으로만 약액이 흐르도록 유도함으로서 토출부(15)의 출구(19) 부분에 버블이 매달리는 것을 방지할 수 있다.
따라서 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 어셈블리(100)를 사용하여 기판 상에 약액, 특히 현상액을 토출할 경우에는 토출부(15)의 출구(19) 부분에 버블이 매달리는 것을 방지할 수 있기 때문에 기판 상에 약액을 균일하게 도포할 수 있을 것이다.
도 2를 참조하면, 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 어셈블리(100)는 하부 블록(13)의 단부 모양과 상부 블록(11)의 단부의 모양이 달리하는 것을 제외하고는 언급한 바와 같이 도 1의 약액 토출 어셈블리와 동일한 구조를 가질 수 있다.
예시적인 실시예에 따른 약액 토출 어셈블리(100)는 하부 블록(13)의 단부와 상부 블록(11)의 단부가 동일한 부분에 배치되게 위치하지만, 하부 블록(13)의 단부 모양이 라운딩 구조를 갖도록 형성될 수 있다. 즉, 토출부(15)의 출구(21)인 하부 블록(13)의 단부를 라운딩 구조를 갖도록 형성할 수 있는 것이다.
이에, 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 어셈블리(100)를 사용한 약액의 토출에서는 약액이 토출부(15)의 출구(21) 부분인 하부 블록(13)의 라인딩 구조를 갖는 단부로부터 토출면(17)인 하부 블록(13)의 표면을 따라 보다 부드럽게 흐를 수 있을 것이다.
이와 같이, 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 어셈블리(100)는 하부 블록(13) 쪽으로만 약액이 흐르도록 유도함으로서 토출부(15)의 출구(21) 부분에 버블이 매달리는 것을 방지할 수 있다.
따라서 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 어셈블리(100)를 사용하여 기판 상에 약액, 특히 현상액을 토출할 경우에는 토출부(15)의 출구(21) 부분에 버블이 매달리는 것을 방지할 수 있기 때문에 기판 상에 약액을 균일하게 도포할 수 있을 것이다.
도 3을 참조하면, 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 어셈블리(100)는 하부 블록(13)의 단부와 상부 블록(11)의 단부가 배치되는 위치 및 하부 블록(13)의 단부 모양과 상부 블록(11)의 단부의 모양을 달리하는 것을 제외하고는 언급한 바와 같이 도 1의 약액 토출 어셈블리와 동일한 구조를 가질 수 있다.
예시적인 실시예에 따른 약액 토출 어셈블리(100)는 토출부(15)의 출구(31) 부분인 하부 블록(13)의 단부가 상부 블록(11)의 단부보다 안쪽에 배치되게 위치함과 아울러 하부 블록(13)의 단부 모양이 라운딩 구조를 갖도록 형성될 수 있다.
이에, 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 어셈블리(100)를 사용한 약액의 토출에서는 약액이 상부 블록(11)의 단부까지 흐르지 않고 토출부(15)의 출구(31) 부분인 하부 블록(13)의 단부로부터 토출면(17)인 하부 블록(13)의 표면을 따라 흐를 수 있을 뿐만 아니라 하부 블록(13)의 라인딩 구조를 갖는 단부로부터 토출면(17)인 하부 블록(13)의 표면을 따라 보다 부드럽게 흐를 수 있을 것이다.
이와 같이, 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 어셈블리(100)는 하부 블록(13) 쪽으로만 약액이 흐르도록 유도함으로서 토출부(15)의 출구(31) 부분에 버블이 매달리는 것을 방지할 수 있다.
따라서 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 어셈블리(100)를 사용하여 기판 상에 약액, 특히 현상액을 토출할 경우에는 토출부(15)의 출구(31) 부분에 버블이 매달리는 것을 방지할 수 있기 때문에 기판 상에 약액을 균일하게 도포할 수 있을 것이다.
이하, 언급한 약액 토출 어셈블리를 포함하는 기판 처리 장치에 대하여 설명하기로 한다.
먼저 예시적인 실시예들에 따른 기판 처리 장치에서의 약액 토출 어셈블리는 약액 토출부로 표현하기로 하고, 그리고 약액 토출 어셈블리와 약액 토출부는 동일한 구성을 갖기 때문에 동일 부품에 대해서는 동일 부호를 사용하고 그 상세한 설명은 생략하기로 한다.
또한, 예시적인 실시예들에 따른 기판 처리 장치는 도 1의 약액 토출 어셈블리가 약액 토출부로 적용되는 것을 도시하고 있지만, 도 2 및 도 3의 약액 토출 어셈블리들도 예시적인 실시예들에 따른 기판 처리 장치에 적용될 수 있다.
도 4는 예시적인 실시예들에 따른 기판 처리 장치를 나타내는 개략적인 구성도이다.
도 4를 참조하면, 예시적인 실시예들에 따른 기판 처리 장치(300)는 이송부(200) 및 약액 토출부(100)를 포함할 수 있다.
이송부(200)는 기판(40)을 이송하기 위한 것이다. 이송부(200)의 일 예로서는 롤러 이송을 들 수 있다. 이와 달리, 이송부(200)의 다른 예들로서는 에어 플로팅에 의한 이송, 초음파 플로팅에 의해 이송 등을 들 수 있다.
또한, 이송부(200)는 약액 토출부(100)의 하부 블록(13)의 후단부 쪽으로부터 하부 블록(13)의 전단부 쪽으로 기판(40)을 이송하도록 구비될 수 있다.
이에, 예시적인 실시예들에 따른 기판 처리 장치(300)는 이송부(200)를 사용하여 하부 블록(13)의 후단부 쪽으로부터 하부 블록(13)의 전단부 쪽으로 이송시켜면서 약액 토출부(100)를 사용하여 기판(40) 상에 약액을 토출할 수 있다.
약액 토출부(100)는 상부 블록(11) 및 하부 블록(13)을 포함할 수 있고, 그리고 토출부(15) 및 토출면(17)이 형성될 수 있다.
특히, 약액 토출부(100)는 하부 블록(13)의 단부와 상부 블록(11)의 단부가 배치되는 위치를 달리할 수 있다. 즉, 하부 블록(13)의 단부가 상부 블록(11)의 단부보다 안쪽에 배치되게 위치할 수 있는 것이다. 따라서 약액 토출 어셈블리(100)는 약액의 토출되는 토출부(15)의 출구(19) 부분이 하부 블록(13)의 단부에만 위치할 수 있다.
이와 달리, 약액 토출부(100)는 하부 블록(13)의 단부와 상부 블록(11)의 단부가 동일한 부분에 배치되게 위치하지만, 토출부(15)의 출구인 하부 블록(13)의 단부를 라운딩 구조를 갖도록 형성할 수 있는 것이다. 또한, 약액 토출부(100)는 토출부(15)의 출구 부분인 하부 블록(13)의 단부가 상부 블록(11)의 단부보다 안쪽에 배치되게 위치함과 아울러 하부 블록(13)의 단부 모양이 라운딩 구조를 갖도록 형성될 수 있다.
이에, 예시적인 실시예들에 따른 기판 처리 장치(300)를 사용할 경우에는 토출부(15)의 출구 부분인 하부 블록(13)의 단부로부터 토출면(17)인 하부 블록(13)의 표면을 따라 흐르는 약액을 이송부(200)에 의해 이송이 이루어지는 기판(40) 상에 균일하게 도포할 수 있을 것이다.
이와 같이, 예시적인 실시예들에 따른 기판 처리 장치(300)는 하부 블록(13) 쪽으로만 약액이 흐르도록 유도함으로서 토출부(15)의 출구 부분에 버블이 매달리는 것을 방지할 수 있기 때문에 기판(40) 상에 약액을 균일하게 도포할 수 있을 것이다.
예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 어셈블리 및 기판 처리 장치는 대면적 기판에 약액, 특히 현상액을 도포하기 위한 것으로서, 평판 디스플레이 장치의 제조 공정에 적용할 수 있을 것이다.
상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.
11 : 상부 블록 13 : 하부 블록
15 : 토출부 17 : 토출면
19, 21, 31 : 출구 40 : 기판
100 : 약액 토출 어셈블리(약액 토출부)
200 : 이송부 300 : 기판 처리 장치

Claims (9)

  1. 기판 상에 약액을 토출하기 위한 약액 토출 어셈블리에 있어서,
    상기 약액 토출 어셈블리는 상부 블록 및 하부 블록의 결합에 의해 상기 약액이 토출되도록 형성됨과 아울러 상기 기판과는 소정 각도를 이루는 방향을 갖도록 형성되는 토출부, 및 상기 토출부로부터 토출되는 상기 약액이 상기 하부 블록의 표면을 따라 흐르도록 형성되는 토출면으로 이루어지고,
    상기 하부 블록의 단부와 상기 상부 블록의 단부는 배치 위치 및/또는 모양을 달리하는 것을 특징으로 하는 약액 토출 어셈블리.
  2. 제1 항에 있어서,
    상기 하부 블록의 단부는 상기 상부 블록의 단부보다 안쪽에 배치되도록 결합되는 것을 특징으로 하는 약액 토출 어셈블리.
  3. 제1 항에 있어서,
    상기 하부 블록의 단부는 라운딩되는 구조를 갖도록 형성되는 것을 특징으로 하는 약액 토출 어셈블리.
  4. 제1 항에 있어서,
    상기 하부 블록의 토출면은 상기 기판과 평행한 방향을 갖도록 형성되는 것을 특징으로 하는 약액 토출 어셈블리.
  5. 기판을 이송하도록 구비되는 이송부; 및
    상기 이송부 상에 위치하고, 상기 이송부에 의해 이송이 이루어지는 상기 기판 상에 약액을 토출하도록 구비되는 약액 토출부를 포함하고,
    상기 약액 토출부는 상부 블록 및 하부 블록의 결합에 의해 상기 약액이 토출되도록 형성됨과 아울러 상기 기판과는 소정 각도를 이루는 방향을 갖도록 형성되는 토출부, 및 상기 토출부로부터 토출되는 상기 약액이 상기 하부 블록의 표면을 따라 흐르도록 형성되는 토출면으로 이루어지고, 상기 하부 블록의 단부와 상기 상부 블록의 단부는 배치 위치 및/또는 모양을 달리하는 것을 특징하는 기판 처리 장치.
  6. 제5 항에 있어서,
    상기 하부 블록의 단부는 상기 상부 블록의 단부보다 안쪽에 배치되도록 결합되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  7. 제5 항에 있어서,
    상기 하부 블록의 단부는 라운딩되는 구조를 갖도록 형성되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  8. 제5 항에 있어서,
    상기 하부 블록의 토출면은 상기 기판과 평행한 방향을 갖도록 형성되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  9. 제5 항에 있어서,
    상기 이송부는 상기 하부 블록의 후단부 쪽으로부터 상기 하부 블록의 전단부 쪽으로 상기 기판을 이송하도록 구비되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
KR1020170107249A 2017-08-24 2017-08-24 약액 토출 어셈블리 및 이를 포함하는 기판 처리 장치 KR20190021878A (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020170107249A KR20190021878A (ko) 2017-08-24 2017-08-24 약액 토출 어셈블리 및 이를 포함하는 기판 처리 장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020170107249A KR20190021878A (ko) 2017-08-24 2017-08-24 약액 토출 어셈블리 및 이를 포함하는 기판 처리 장치

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20190021878A true KR20190021878A (ko) 2019-03-06

Family

ID=65761140

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020170107249A KR20190021878A (ko) 2017-08-24 2017-08-24 약액 토출 어셈블리 및 이를 포함하는 기판 처리 장치

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20190021878A (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102187448B1 (ko) * 2020-10-20 2020-12-08 세메스 주식회사 슬릿 노즐 및 이를 포함하는 현상 장치

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102187448B1 (ko) * 2020-10-20 2020-12-08 세메스 주식회사 슬릿 노즐 및 이를 포함하는 현상 장치

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100782539B1 (ko) 슬릿 노즐 및 이를 포함하는 약액 도포 장치
TWI589356B (zh) 塗布裝置以及塗布方法
US20120061345A1 (en) Method of drying substrate, and method of manufacturing image display apparatus using the same
KR20190021878A (ko) 약액 토출 어셈블리 및 이를 포함하는 기판 처리 장치
US20040173148A1 (en) Discharging unit for discharging a photosensitive material, coater having the discharging unit, and apparatus for coating a photosensitive material having the coater
JP5368326B2 (ja) 基板処理装置および基板処理方法
JP4921184B2 (ja) ペリクルフレームへの膜接着剤の塗布方法
KR20160053791A (ko) 도포 장치 및 에어 고임 제거 방법
JP2003286958A (ja) 液体供給装置
JP6685791B2 (ja) 基板処理方法
TW202045342A (zh) 接合構件的製造裝置及製造方法
JP3722629B2 (ja) 現像液吐出ノズルおよび現像液供給装置
JP2007196094A (ja) 処理液供給ユニットおよびそれを備えた基板処理装置
JP2007047739A (ja) ディスペンサのノズル
JP3903742B2 (ja) 粘性を有する液体の塗布装置
JPH1133439A (ja) 処理液吐出ノズル、基板処理装置および処理液供給方法
JP2006102571A (ja) 薄膜形成装置
KR20090055993A (ko) 슬릿 노즐을 포함하는 약액 도포 장치
KR20180123787A (ko) 처리액 제공 노즐
JPH1187477A (ja) 基板の保持装置
JP6925058B2 (ja) ノズル機構、当該ノズル機構を用いるペースト塗布装置、及び、ペースト塗布方法
TW201906048A (zh) 噴嘴尖口配接器,噴嘴組件及噴嘴
JP5884537B2 (ja) ホットメルト塗工装置
KR101394391B1 (ko) 기판 처리 장치
TWI583565B (zh) 印刷裝置

Legal Events

Date Code Title Description
E902 Notification of reason for refusal
E601 Decision to refuse application