JP2012036115A - 酸化法によるエポキシ化合物の製造方法 - Google Patents
酸化法によるエポキシ化合物の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2012036115A JP2012036115A JP2010176377A JP2010176377A JP2012036115A JP 2012036115 A JP2012036115 A JP 2012036115A JP 2010176377 A JP2010176377 A JP 2010176377A JP 2010176377 A JP2010176377 A JP 2010176377A JP 2012036115 A JP2012036115 A JP 2012036115A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reaction
- hydrogen peroxide
- silicate
- epoxy compound
- compound
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title claims abstract description 29
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 title claims abstract description 26
- 238000000034 method Methods 0.000 title abstract description 30
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 title abstract description 10
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 title abstract description 10
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 97
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 70
- -1 olefin compound Chemical class 0.000 claims abstract description 36
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 19
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 19
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 36
- JFDZBHWFFUWGJE-UHFFFAOYSA-N benzonitrile Chemical compound N#CC1=CC=CC=C1 JFDZBHWFFUWGJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 15
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 claims description 10
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 claims description 10
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 6
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000004111 Potassium silicate Substances 0.000 claims description 4
- 229910052913 potassium silicate Inorganic materials 0.000 claims description 4
- NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N potassium silicate Chemical compound [K+].[K+].[O-][Si]([O-])=O NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 235000019353 potassium silicate Nutrition 0.000 claims description 4
- FVSKHRXBFJPNKK-UHFFFAOYSA-N propionitrile Chemical compound CCC#N FVSKHRXBFJPNKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 abstract description 12
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 7
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 abstract description 7
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 abstract description 7
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 abstract description 6
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 abstract 1
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 19
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 14
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 14
- PLDLPVSQYMQDBL-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-(oxiran-2-ylmethoxy)-2,2-bis(oxiran-2-ylmethoxymethyl)propoxy]methyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCC(COCC1OC1)(COCC1OC1)COCC1CO1 PLDLPVSQYMQDBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000006735 epoxidation reaction Methods 0.000 description 10
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 8
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 7
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 7
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 6
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 5
- XWJBRBSPAODJER-UHFFFAOYSA-N 1,7-octadiene Chemical compound C=CCCCCC=C XWJBRBSPAODJER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 4
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 4
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 4
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 4
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 3
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 3
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 3
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- LFKLPJRVSHJZPL-UHFFFAOYSA-N 1,2:7,8-diepoxyoctane Chemical compound C1OC1CCCCC1CO1 LFKLPJRVSHJZPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TYMYJUHDFROXOO-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis(prop-2-enoxy)-2,2-bis(prop-2-enoxymethyl)propane Chemical compound C=CCOCC(COCC=C)(COCC=C)COCC=C TYMYJUHDFROXOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 1-Butene Chemical compound CCC=C VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YQMXOIAIYXXXEE-UHFFFAOYSA-N 1-benzylpyrrolidin-3-ol Chemical compound C1C(O)CCN1CC1=CC=CC=C1 YQMXOIAIYXXXEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MECNWXGGNCJFQJ-UHFFFAOYSA-N 3-piperidin-1-ylpropane-1,2-diol Chemical compound OCC(O)CN1CCCCC1 MECNWXGGNCJFQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATVJXMYDOSMEPO-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-enoxyprop-1-ene Chemical compound C=CCOCC=C ATVJXMYDOSMEPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KXDAEFPNCMNJSK-UHFFFAOYSA-N Benzamide Chemical compound NC(=O)C1=CC=CC=C1 KXDAEFPNCMNJSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YIMQCDZDWXUDCA-UHFFFAOYSA-N [4-(hydroxymethyl)cyclohexyl]methanol Chemical compound OCC1CCC(CO)CC1 YIMQCDZDWXUDCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005456 alcohol based solvent Substances 0.000 description 2
- 229910052910 alkali metal silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- HGCIXCUEYOPUTN-UHFFFAOYSA-N cyclohexene Chemical compound C1CCC=CC1 HGCIXCUEYOPUTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012776 electronic material Substances 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 2
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 150000004967 organic peroxy acids Chemical class 0.000 description 2
- YWAKXRMUMFPDSH-UHFFFAOYSA-N pentene Chemical compound CCCC=C YWAKXRMUMFPDSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L sodium sulfite Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])=O GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 238000004448 titration Methods 0.000 description 2
- CMPGARWFYBADJI-UHFFFAOYSA-L tungstic acid Chemical compound O[W](O)(=O)=O CMPGARWFYBADJI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- WMYINDVYGQKYMI-UHFFFAOYSA-N 2-[2,2-bis(hydroxymethyl)butoxymethyl]-2-ethylpropane-1,3-diol Chemical compound CCC(CO)(CO)COCC(CC)(CO)CO WMYINDVYGQKYMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHWQMJMIYICNBP-UHFFFAOYSA-N 2-chlorobenzonitrile Chemical compound ClC1=CC=CC=C1C#N NHWQMJMIYICNBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GDHXJNRAJRCGMX-UHFFFAOYSA-N 2-fluorobenzonitrile Chemical compound FC1=CC=CC=C1C#N GDHXJNRAJRCGMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NWPNXBQSRGKSJB-UHFFFAOYSA-N 2-methylbenzonitrile Chemical compound CC1=CC=CC=C1C#N NWPNXBQSRGKSJB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- RENMDAKOXSCIGH-UHFFFAOYSA-N Chloroacetonitrile Chemical compound ClCC#N RENMDAKOXSCIGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STZZWJCGRKXEFF-UHFFFAOYSA-N Dichloroacetonitrile Chemical compound ClC(Cl)C#N STZZWJCGRKXEFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004386 Erythritol Substances 0.000 description 1
- UNXHWFMMPAWVPI-UHFFFAOYSA-N Erythritol Natural products OCC(O)C(O)CO UNXHWFMMPAWVPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DRUIESSIVFYOMK-UHFFFAOYSA-N Trichloroacetonitrile Chemical compound ClC(Cl)(Cl)C#N DRUIESSIVFYOMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000607479 Yersinia pestis Species 0.000 description 1
- 229910021536 Zeolite Inorganic materials 0.000 description 1
- DGEZNRSVGBDHLK-UHFFFAOYSA-N [1,10]phenanthroline Chemical compound C1=CN=C2C3=NC=CC=C3C=CC2=C1 DGEZNRSVGBDHLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- BTGRAWJCKBQKAO-UHFFFAOYSA-N adiponitrile Chemical compound N#CCCCCC#N BTGRAWJCKBQKAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052915 alkaline earth metal silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- KVNRLNFWIYMESJ-UHFFFAOYSA-N butyronitrile Chemical compound CCCC#N KVNRLNFWIYMESJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce] GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZECDDHOAMNMQI-UHFFFAOYSA-H cerium(3+);trisulfate Chemical compound [Ce+3].[Ce+3].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O OZECDDHOAMNMQI-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- XENVCRGQTABGKY-ZHACJKMWSA-N chlorohydrin Chemical compound CC#CC#CC#CC#C\C=C\C(Cl)CO XENVCRGQTABGKY-ZHACJKMWSA-N 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002118 epoxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- UNXHWFMMPAWVPI-ZXZARUISSA-N erythritol Chemical compound OC[C@H](O)[C@H](O)CO UNXHWFMMPAWVPI-ZXZARUISSA-N 0.000 description 1
- 229940009714 erythritol Drugs 0.000 description 1
- 235000019414 erythritol Nutrition 0.000 description 1
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 238000007429 general method Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- LRDFRRGEGBBSRN-UHFFFAOYSA-N isobutyronitrile Chemical compound CC(C)C#N LRDFRRGEGBBSRN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- CUONGYYJJVDODC-UHFFFAOYSA-N malononitrile Chemical compound N#CCC#N CUONGYYJJVDODC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000005502 peroxidation Methods 0.000 description 1
- 230000002250 progressing effect Effects 0.000 description 1
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 230000002940 repellent Effects 0.000 description 1
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 description 1
- 235000010265 sodium sulphite Nutrition 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D301/00—Preparation of oxiranes
- C07D301/02—Synthesis of the oxirane ring
- C07D301/03—Synthesis of the oxirane ring by oxidation of unsaturated compounds, or of mixtures of unsaturated and saturated compounds
- C07D301/12—Synthesis of the oxirane ring by oxidation of unsaturated compounds, or of mixtures of unsaturated and saturated compounds with hydrogen peroxide or inorganic peroxides or peracids
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D303/00—Compounds containing three-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
- C07D303/02—Compounds containing oxirane rings
- C07D303/04—Compounds containing oxirane rings containing only hydrogen and carbon atoms in addition to the ring oxygen atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D303/00—Compounds containing three-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
- C07D303/02—Compounds containing oxirane rings
- C07D303/12—Compounds containing oxirane rings with hydrocarbon radicals, substituted by singly or doubly bound oxygen atoms
- C07D303/18—Compounds containing oxirane rings with hydrocarbon radicals, substituted by singly or doubly bound oxygen atoms by etherified hydroxyl radicals
- C07D303/20—Ethers with hydroxy compounds containing no oxirane rings
- C07D303/24—Ethers with hydroxy compounds containing no oxirane rings with polyhydroxy compounds
- C07D303/27—Ethers with hydroxy compounds containing no oxirane rings with polyhydroxy compounds having all hydroxyl radicals etherified with oxirane containing compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D303/00—Compounds containing three-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
- C07D303/02—Compounds containing oxirane rings
- C07D303/12—Compounds containing oxirane rings with hydrocarbon radicals, substituted by singly or doubly bound oxygen atoms
- C07D303/18—Compounds containing oxirane rings with hydrocarbon radicals, substituted by singly or doubly bound oxygen atoms by etherified hydroxyl radicals
- C07D303/28—Ethers with hydroxy compounds containing oxirane rings
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Epoxy Compounds (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
【解決手段】 オレフィン化合物と過酸化水素を、ニトリル化合物とケイ酸塩の存在下で反応させることを特徴とするエポキシ化合物の製造方法。
【選択図】 なし
Description
本発明のエポキシ化合物の製造方法は、オレフィン化合物と過酸化水素を、ニトリル化合物とケイ酸塩の存在下で反応させることを特徴とする。
本発明で用いるオレフィン化合物は、分子内に炭素−炭素二重結合を有するものであれば特に限定されず、炭素−炭素二重結合を複数有するオレフィン化合物も使用できる。オレフィン化合物は、低分子化合物でも高分子化合物でもよく、シスまたはトランスのいずれの構造でもよく、また両者が混在していてもよい。これらのオレフィン化合物は、その分子鎖内または分子末端に、不飽和結合、水酸基、アルコキシル基、カルボニル基、カルボキシル基、アミド基、エステル基、ハロゲン原子などの官能基や環状構造をさらに有していてもよい。例えば、1−ブテン、1−ペンテン、シクロヘキセン、1,7−オクタジエン、1,4−シクロヘキサンジメタノールジアリルエーテル、トリメチロールプロパントリアリルエーテル、ペンタエリスリトールテトラアリルエーテル、ジトリメチロールプロパンテトラアリルエーテル、ジペンタエリスリトールヘキサアリルエーテル等を挙げることができる。
本発明では、反応溶媒を使用することもできる。反応溶媒は特に制限はないが、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール等のアルコール溶媒;アセトン、メチルエチルケトンのようなケトン;N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミドのようなアミド;1,2−ジメトキエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルなどが挙げられる。これらの溶媒は、1種を単独で、又は、2種以上を組み合わせて使用することができる。中でも、水との混和性と安価に入手できるという点で、アルコール溶媒が好ましい。反応溶媒の使用量は特に限定されないが、オレフィン化合物100重量部に対して、10重量部〜1000重量部が好ましい。10重量部より少ないと、基質が上手く系内で混和せず反応性が低下する傾向がある。また、1000重量部より多いと、系内の反応基質の濃度が低下し、反応速度が低下する傾向がある。
島津製作所社製GC−2010を用いた。
(反応の終了)
島津製作所社製のGC−2010により、反応率(エポキシ化率)が95%以上となった時点を反応の終点とした。
(過酸化物濃度)
反応混合物中の過酸化物濃度は、以下の方法で求めた。o−フェナントロリンを指示薬とし、第二硫酸セリウム溶液で滴定を行った。赤色が青色となる点を滴定の終点とした(第二セリウム法)。
(全塩素含量)
生成物の全塩素含量は、JIS K 7243−3に準拠して測定した。
(反応率)
島津製作所社製GC−2010を用いてGC測定を行い、原料(オレフィン化合物)と生成物(エポキシ化合物)の面積比率から反応率を算出した。
還流冷却器、窒素吹き込み管、温度計を備えた1LのSUS製4つ口フラスコにペンタエリスリトールテトラアリルエーテル148g(0.5mol)、メタノール200g(6.25mol)、アセトニトリル164.2g(4mol)、及び、ケイ酸ナトリウム(キシダ化学製)61g(0.5mol)を仕込み、内温を40℃に調整しながら、35%過酸化水素水388.6g(4mol)を撹拌しながら滴下ロートにて5時間かけてゆっくりと滴下し、その後、4時間撹拌し反応させた。反応終了時の系内の過酸化物濃度は0.27%であった。その後トルエンで抽出を行った後、水洗で過酸化物を除去後濃縮することで、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテルを収率62%、GC純度98.2%で得た。また、得られたペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテルの全塩素含量は120ppmであった。
還流冷却器、窒素吹き込み管、温度計を備えた1LのSUS製4つ口フラスコにトリメチロールプロパントリアリルエーテル127.2g(0.5mol)、メタノール200g(6.25mol)、アセトニトリル123.1g(3mol)、及び、ケイ酸ナトリウム(キシダ化学社製)45.8g(0.38mol)を仕込み、内温を40℃に調整しながら、35%過酸化水素水291.4g(3mol)を撹拌しながら滴下ロートにて5時間かけてゆっくりと滴下し、その後、8時間撹拌し反応させた。反応終了時の系内の過酸化物濃度は0.21%であった。その後トルエンで抽出を行った後、水洗で過酸化物を除去後濃縮することで、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテルを収率80%、GC純度95.4%で得た。また、得られたトリメチロールプロパントリグリシジルエーテルの全塩素含量は200ppmであった。
還流冷却器、窒素吹き込み管、温度計を備えた1LのSUS製4つ口フラスコに1,4−シクロヘキサンジメタノールジアリルエーテル112.2g(0.5mol)、メタノール176g(5.5mol)、アセトニトリル102.6g(2.5mol)、及び、ケイ酸ナトリウム(キシダ化学社製)61g(0.5mol)を仕込み、内温を40℃に調整しながら、35%過酸化水素水194.3g(2mol)を撹拌しながら滴下ロートにて5時間かけてゆっくりと滴下し、その後、6時間撹拌し反応させた。反応終了時の系内の過酸化物濃度は0.18%であった。その後トルエンで抽出を行った後、水洗で過酸化物を除去後濃縮することで、1,4−シクロヘキサンジメタノールジグリシジルエーテルを収率85.5%、GC純度99.4%で得た。また、得られた1,4−シクロヘキサンジメタノールジグリシジルエーテルの全塩素含量は210ppmであった。
還流冷却器、窒素吹き込み管、温度計を備えた1LのSUS製4つ口フラスコに1,7−オクタジエン121.2g(1.1mol)、メタノール160g(5mol)、アセトニトリル185g(4.5mol)、及び、ケイ酸ナトリウム(キシダ化学社製)61g(0.5mol)仕込み、内温を40℃に調整しながら、35%過酸化水素水408g(4.2mol)を撹拌しながら滴下ロートにて5時間かけてゆっくりと滴下し、その後、8時間撹拌し反応させた。反応終了時の系内の過酸化物濃度は0.09%であった。その後トルエンで抽出を行った後、水洗で過酸化物を除去後濃縮することで、1,7−オクタジエンジエポキサイドを収率55%、GC純度97.0%で得た。また、得られた1,7−オクタジエンジエポキサイドの全塩素含量は140ppmであった。
実施例1におけるアセトニトリル164.2g(4mol)をベンゾニトリル417.5g(4mol)に変更した以外は同様の条件で実施した。反応終了時の系内の過酸化物濃度は0.26%であった。ベンゾニトリルに変更したことにより、副生成物として結晶性のベンズアミドが析出したが、分離精製することで、目的とするペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテルを収率50.2%、GC純度96.9%で得た。また、得られたペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテルの全塩素含量は420ppmであった。
実施例1におけるケイ酸ナトリウム(キシダ化学社製)61g(0.5mol)を27%ケイ酸カリウム水溶液(キシダ化学社製)285.7g(0.5mol)に変更した以外は同様の条件で実施した。反応終了時の系内の過酸化物濃度は0.12%であった。その後トルエンで抽出を行った後、水洗で過酸化物を除去後濃縮することでペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテルを収率59.8%、GC純度98.5%で得た。また、得られたペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテルの全塩素含量は190ppmであった。
実施例1における反応温度を25℃に変更した以外は同様の条件で実施したところ、追加で8時間反応させることで反応は完結した。反応終了時の系内の過酸化物濃度は0.17%であった。その後トルエンで抽出を行った後、水洗で過酸化物を除去後濃縮することでペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテルを収率57.4%、GC純度97.9%で得た。また、得られたペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテルの全塩素含量は130ppmであった。
実施例1におけるケイ酸ナトリウムを炭酸ナトリウム(キシダ化学社製)42g(0.5mol)に、加える過酸化水素量を485.8g(5mol)に変更し、それ以外は同様の条件で実施したところ、過酸化水素の滴下終了後9時間反応させることで反応は完結した。反応終了時の系内の過酸化物濃度は2.54%であった。その後トルエンで抽出を行った後、10%亜硫酸ナトリウム水溶液50gで残留過酸化物の分解を行った後、水洗することでペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテルを収率55.0%、GC純度98.2%で得た。また、得られたペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテルの全塩素含量は210ppmであった。
実施例7におけるケイ酸ナトリウムを炭酸ナトリウム(キシダ化学社製)42g(0.5mol)に変更し同様の条件で実施したところ、過酸化水素の滴下終了後14時間反応させた時点でそれ以上の反応が進行しなくなってしまった。反応が停止した時点での反応率は45.6%であった。
Claims (4)
- オレフィン化合物と過酸化水素を、ニトリル化合物とケイ酸塩の存在下で反応させることを特徴とするエポキシ化合物の製造方法。
- 前記ケイ酸塩が、ケイ酸ナトリウム及びケイ酸カリウムから選択される少なくとも1つである請求項1に記載のエポキシ化合物の製造方法。
- 前記ニトリル化合物が、アセトニトリル、プロピオニトリル及びベンゾニトリルから選択される少なくとも1つである請求項1又は2に記載のエポキシ化合物の製造方法。
- アルコール溶媒存在下で反応させる請求項1から3のいずれか1項に記載のエポキシ化合物の製造方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010176377A JP5655420B2 (ja) | 2010-08-05 | 2010-08-05 | 酸化法によるエポキシ化合物の製造方法 |
EP11814739.6A EP2602251B1 (en) | 2010-08-05 | 2011-08-05 | Method for producing epoxy compound by oxidation |
PCT/JP2011/067950 WO2012018114A1 (ja) | 2010-08-05 | 2011-08-05 | 酸化法によるエポキシ化合物の製造方法 |
KR1020137003605A KR101807902B1 (ko) | 2010-08-05 | 2011-08-05 | 산화법에 의한 에폭시 화합물의 제조 방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010176377A JP5655420B2 (ja) | 2010-08-05 | 2010-08-05 | 酸化法によるエポキシ化合物の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012036115A true JP2012036115A (ja) | 2012-02-23 |
JP5655420B2 JP5655420B2 (ja) | 2015-01-21 |
Family
ID=45559609
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010176377A Active JP5655420B2 (ja) | 2010-08-05 | 2010-08-05 | 酸化法によるエポキシ化合物の製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP2602251B1 (ja) |
JP (1) | JP5655420B2 (ja) |
KR (1) | KR101807902B1 (ja) |
WO (1) | WO2012018114A1 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013189504A (ja) * | 2012-03-12 | 2013-09-26 | Showa Denko Kk | 液状組成物 |
WO2018083881A1 (ja) * | 2016-11-07 | 2018-05-11 | 昭和電工株式会社 | 多価グリシジル化合物の製造方法 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6248526B2 (ja) * | 2012-10-11 | 2017-12-20 | 三菱ケミカル株式会社 | 新規エポキシ化合物 |
Citations (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09183773A (ja) * | 1995-10-31 | 1997-07-15 | Nippon Shokubai Co Ltd | エポキシ化合物およびヒドロキシイミノジコハク酸の製造方法 |
JPH10212281A (ja) * | 1996-11-26 | 1998-08-11 | Sumitomo Chem Co Ltd | 3−カランエポキシドの製造法 |
JP2002102709A (ja) * | 2000-09-29 | 2002-04-09 | Showa Denko Kk | 酸化化合物製造用結晶性mww型チタノシリケート触媒、該触媒の製造方法、及び該触媒を用いた酸化化合物の製造方法 |
JP2003146977A (ja) * | 2001-11-08 | 2003-05-21 | Nippon Shokubai Co Ltd | エポキシ化合物の製造方法 |
JP2004269380A (ja) * | 2003-03-06 | 2004-09-30 | Sumitomo Chem Co Ltd | プロピレンオキサイドの製造方法 |
JP2004269379A (ja) * | 2003-03-06 | 2004-09-30 | Sumitomo Chem Co Ltd | プロピレンオキサイドの製造方法。 |
JP2004285056A (ja) * | 2003-03-06 | 2004-10-14 | Sumitomo Chem Co Ltd | プロピレンオキサイドの製造方法 |
JP2004285055A (ja) * | 2003-03-06 | 2004-10-14 | Sumitomo Chem Co Ltd | プロピレンオキサイドの製造方法 |
JP2006525283A (ja) * | 2003-05-08 | 2006-11-09 | ビーエーエスエフ アクチェンゲゼルシャフト | プロピレンオキシドの製造方法 |
JP2007230908A (ja) * | 2006-03-01 | 2007-09-13 | Arakawa Chem Ind Co Ltd | エポキシ化合物の製造方法 |
JP2009035541A (ja) * | 2007-07-10 | 2009-02-19 | Sumitomo Chemical Co Ltd | プロピレンオキサイドの製造方法 |
JP2010159245A (ja) * | 2008-09-19 | 2010-07-22 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 酸化化合物の製造方法 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4012423A (en) * | 1974-02-22 | 1977-03-15 | Chem Systems, Inc. | Process for the production of epoxides |
-
2010
- 2010-08-05 JP JP2010176377A patent/JP5655420B2/ja active Active
-
2011
- 2011-08-05 EP EP11814739.6A patent/EP2602251B1/en not_active Not-in-force
- 2011-08-05 WO PCT/JP2011/067950 patent/WO2012018114A1/ja active Application Filing
- 2011-08-05 KR KR1020137003605A patent/KR101807902B1/ko active IP Right Grant
Patent Citations (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09183773A (ja) * | 1995-10-31 | 1997-07-15 | Nippon Shokubai Co Ltd | エポキシ化合物およびヒドロキシイミノジコハク酸の製造方法 |
JPH10212281A (ja) * | 1996-11-26 | 1998-08-11 | Sumitomo Chem Co Ltd | 3−カランエポキシドの製造法 |
JP2002102709A (ja) * | 2000-09-29 | 2002-04-09 | Showa Denko Kk | 酸化化合物製造用結晶性mww型チタノシリケート触媒、該触媒の製造方法、及び該触媒を用いた酸化化合物の製造方法 |
JP2003146977A (ja) * | 2001-11-08 | 2003-05-21 | Nippon Shokubai Co Ltd | エポキシ化合物の製造方法 |
JP2004269380A (ja) * | 2003-03-06 | 2004-09-30 | Sumitomo Chem Co Ltd | プロピレンオキサイドの製造方法 |
JP2004269379A (ja) * | 2003-03-06 | 2004-09-30 | Sumitomo Chem Co Ltd | プロピレンオキサイドの製造方法。 |
JP2004285056A (ja) * | 2003-03-06 | 2004-10-14 | Sumitomo Chem Co Ltd | プロピレンオキサイドの製造方法 |
JP2004285055A (ja) * | 2003-03-06 | 2004-10-14 | Sumitomo Chem Co Ltd | プロピレンオキサイドの製造方法 |
JP2006525283A (ja) * | 2003-05-08 | 2006-11-09 | ビーエーエスエフ アクチェンゲゼルシャフト | プロピレンオキシドの製造方法 |
JP2007230908A (ja) * | 2006-03-01 | 2007-09-13 | Arakawa Chem Ind Co Ltd | エポキシ化合物の製造方法 |
JP2009035541A (ja) * | 2007-07-10 | 2009-02-19 | Sumitomo Chemical Co Ltd | プロピレンオキサイドの製造方法 |
JP2010159245A (ja) * | 2008-09-19 | 2010-07-22 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 酸化化合物の製造方法 |
Non-Patent Citations (3)
Title |
---|
CATAL. COMMUN., vol. 8, JPN6014035192, 2007, pages 379 - 382, ISSN: 0002880084 * |
J. CATAL., vol. 228, JPN6014035194, 2004, pages 183 - 191, ISSN: 0002880086 * |
J. CATAL., vol. 256, JPN6014035193, 2008, pages 62 - 73, ISSN: 0002880085 * |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013189504A (ja) * | 2012-03-12 | 2013-09-26 | Showa Denko Kk | 液状組成物 |
WO2018083881A1 (ja) * | 2016-11-07 | 2018-05-11 | 昭和電工株式会社 | 多価グリシジル化合物の製造方法 |
KR20190034610A (ko) * | 2016-11-07 | 2019-04-02 | 쇼와 덴코 가부시키가이샤 | 다가 글리시딜 화합물의 제조 방법 |
JPWO2018083881A1 (ja) * | 2016-11-07 | 2019-09-19 | 昭和電工株式会社 | 多価グリシジル化合物の製造方法 |
KR102204653B1 (ko) | 2016-11-07 | 2021-01-19 | 쇼와 덴코 가부시키가이샤 | 다가 글리시딜 화합물의 제조 방법 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP2602251B1 (en) | 2016-01-13 |
JP5655420B2 (ja) | 2015-01-21 |
EP2602251A1 (en) | 2013-06-12 |
WO2012018114A1 (ja) | 2012-02-09 |
KR101807902B1 (ko) | 2017-12-11 |
KR20130100983A (ko) | 2013-09-12 |
EP2602251A4 (en) | 2013-12-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5800709B2 (ja) | エポキシ化合物の製造方法 | |
WO2012065879A1 (en) | Process for the preparation of 2-oxo-[1,3] dioxolane-4-carboxylic acid esters | |
JP5655420B2 (ja) | 酸化法によるエポキシ化合物の製造方法 | |
US20160016158A1 (en) | Catalyst Composition and Process for Preparing Olefin Oxides | |
JP2022087349A (ja) | 多価グリシジル化合物の製造方法 | |
JP5843584B2 (ja) | 多価グリシジル化合物の製造方法 | |
KR101451695B1 (ko) | 에폭시 화합물의 제조방법 | |
JP5787770B2 (ja) | エポキシ化合物の製造方法 | |
JPS63243124A (ja) | エポキシ樹脂の精製法 | |
CN111377951B (zh) | 稀土金属化合物、制备方法、组合物及催化烯烃环氧化的方法 | |
JP2013023479A (ja) | アルキルジオールモノグリシジルエーテルの製造方法 | |
JP5229908B2 (ja) | スチレンオキシドの製造方法 | |
JP6779057B2 (ja) | 多価グリシジル化合物の製造方法 | |
EP1656363B1 (en) | Process for the preparation of n-glycidylamines | |
JP2010155804A (ja) | エポキシ化合物の精製方法 | |
JP2010155805A (ja) | エポキシ化合物の製造方法 | |
JP2011241200A (ja) | スチレンオキシド化合物の製造方法 | |
CN116768842A (zh) | 一种合成环状碳酸酯的方法 | |
WO2023177590A1 (en) | Direct synthesis of cyclic carbonates using choline chloride as catalyst under mild conditions | |
JP4186482B2 (ja) | アリル化合物のエポキシ化触媒及びこれを使用するエポキシ化合物の製造方法 | |
JP2003261553A (ja) | エポキシ化合物の製造方法 | |
JP2003261554A (ja) | エポキシ化合物の製造方法 | |
JP2002114761A (ja) | エポキシ化剤用有機ハイドロパーオキサイド組成物及びエポキシ化合物の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20130619 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140819 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140924 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20141021 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20141110 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5655420 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |