JP2011180586A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011180586A5 JP2011180586A5 JP2011021767A JP2011021767A JP2011180586A5 JP 2011180586 A5 JP2011180586 A5 JP 2011180586A5 JP 2011021767 A JP2011021767 A JP 2011021767A JP 2011021767 A JP2011021767 A JP 2011021767A JP 2011180586 A5 JP2011180586 A5 JP 2011180586A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photosensitive resin
- resin composition
- atom
- compound
- composition according
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 claims description 15
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 10
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 7
- -1 biphenyl compound Chemical class 0.000 claims description 6
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 5
- MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N anthracene Natural products C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C21 MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 150000001768 cations Chemical group 0.000 claims description 4
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N naphthalene-acid Natural products C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N phenylbenzene Natural products C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 4
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 claims description 3
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 claims description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 3
- 150000001450 anions Chemical group 0.000 claims description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims 4
- 125000004437 phosphorous atom Chemical group 0.000 claims 3
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims 3
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical group [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 claims 2
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical group [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 claims 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims 2
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims 2
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 claims 2
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical group C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- RZVHIXYEVGDQDX-UHFFFAOYSA-N 9,10-anthraquinone Chemical group C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3C(=O)C2=C1 RZVHIXYEVGDQDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 claims 1
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 claims 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 claims 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N propylene carbonate Chemical compound CC1COC(=O)O1 RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2011021767A JP5822477B2 (ja) | 2010-02-05 | 2011-02-03 | 液体吐出装置、及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2010024681 | 2010-02-05 | ||
| JP2010024681 | 2010-02-05 | ||
| JP2011021767A JP5822477B2 (ja) | 2010-02-05 | 2011-02-03 | 液体吐出装置、及びその製造方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2011180586A JP2011180586A (ja) | 2011-09-15 |
| JP2011180586A5 true JP2011180586A5 (enExample) | 2014-03-20 |
| JP5822477B2 JP5822477B2 (ja) | 2015-11-24 |
Family
ID=44355213
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2011021767A Active JP5822477B2 (ja) | 2010-02-05 | 2011-02-03 | 液体吐出装置、及びその製造方法 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US8980968B2 (enExample) |
| EP (2) | EP3064996B1 (enExample) |
| JP (1) | JP5822477B2 (enExample) |
| CN (1) | CN102754028B (enExample) |
| RU (1) | RU2526258C2 (enExample) |
| WO (1) | WO2011096195A1 (enExample) |
Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5787720B2 (ja) * | 2010-12-16 | 2015-09-30 | キヤノン株式会社 | 感光性ネガ型樹脂組成物 |
| JP6120574B2 (ja) * | 2012-01-31 | 2017-04-26 | キヤノン株式会社 | 感光性ネガ型樹脂組成物、微細構造体、微細構造体の製造方法及び液体吐出ヘッド |
| TWI545118B (zh) * | 2012-09-15 | 2016-08-11 | 羅門哈斯電子材料有限公司 | 酸產生劑化合物及包含該化合物之光阻劑 |
| JP6071718B2 (ja) | 2013-04-10 | 2017-02-01 | キヤノン株式会社 | 感光性ネガ型樹脂組成物 |
| US20170075219A1 (en) * | 2014-05-13 | 2017-03-16 | Toyo Gosei Co., Ltd. | Onium salt, photoacid generator, photosensitive resin composition, and method for producing device |
| WO2017212963A1 (ja) * | 2016-06-09 | 2017-12-14 | サンアプロ株式会社 | スルホニウム塩、光酸発生剤、硬化性組成物およびレジスト組成物 |
| US9938136B2 (en) * | 2016-08-18 | 2018-04-10 | Stmicroelectronics Asia Pacific Pte Ltd | Fluid ejection device |
| US20190056659A1 (en) * | 2017-08-21 | 2019-02-21 | Funai Electric Co., Ltd. | Method for manufacturing mems devices using multiple photoacid generators in a composite photoimageable dry film |
| JP7413039B2 (ja) * | 2020-01-22 | 2024-01-15 | キヤノン株式会社 | 液体吐出ヘッド及び液体吐出ヘッドの製造方法 |
| JP2021151992A (ja) * | 2020-03-23 | 2021-09-30 | 住友化学株式会社 | カルボン酸塩、カルボン酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
| JP7795866B2 (ja) * | 2020-04-22 | 2026-01-08 | 住友化学株式会社 | カルボン酸塩、カルボン酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
| JP2023069242A (ja) * | 2021-11-05 | 2023-05-18 | 東京応化工業株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 |
| JP7777969B2 (ja) * | 2021-12-02 | 2025-12-01 | 東京応化工業株式会社 | 感光性組成物、積層体の製造方法、硬化パターン形成方法及び積層体 |
Family Cites Families (34)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| IE42085B1 (en) | 1974-09-18 | 1980-06-04 | Ici Ltd | Photopolymerisable compositions |
| GB1526923A (en) | 1974-09-18 | 1978-10-04 | Ici Ltd | Photopolymerisable compositions |
| DE69110958T2 (de) | 1990-04-27 | 1995-11-30 | Canon Kk | Aufzeichnungsverfahren und Vorrichtung. |
| JPH0412859A (ja) | 1990-04-28 | 1992-01-17 | Canon Inc | 液体噴射方法、該方法を用いた記録ヘッド及び該方法を用いた記録装置 |
| US5639802A (en) * | 1991-05-20 | 1997-06-17 | Spectra Group Limited, Inc. | Cationic polymerization |
| JPH07145346A (ja) | 1993-11-22 | 1995-06-06 | Dainippon Ink & Chem Inc | ソルダーレジストインキ用樹脂組成物 |
| JPH08157510A (ja) * | 1994-12-09 | 1996-06-18 | Nippon Kayaku Co Ltd | 光重合開始剤、これを含有するエネルギー線硬化性組成物及びその硬化物 |
| JPH0925393A (ja) | 1995-05-09 | 1997-01-28 | Toray Ind Inc | 繊維強化複合材料用エポキシ樹脂組成物、プリプレグおよび繊維強化複合材料 |
| JPH0912615A (ja) | 1995-06-29 | 1997-01-14 | Nippon Kayaku Co Ltd | エネルギー線硬化性組成物及びその硬化物 |
| JPH107680A (ja) | 1996-06-18 | 1998-01-13 | Nippon Kayaku Co Ltd | 光重合開始剤、これを含有するエネルギー線硬化性組成物及びその硬化物 |
| CN1195356A (zh) | 1996-06-12 | 1998-10-07 | 日本化药株式会社 | 光聚合引发剂和包含它的可能量射线固化的组合物 |
| JPH10152554A (ja) * | 1996-11-21 | 1998-06-09 | Nippon Kayaku Co Ltd | エネルギー線硬化性組成物及びその硬化物 |
| JPH10212286A (ja) | 1997-01-30 | 1998-08-11 | Nippon Kayaku Co Ltd | 光重合開始剤、これを含有するエネルギー線硬化性組成物及びその硬化物 |
| JPH11322900A (ja) | 1998-03-19 | 1999-11-26 | Nippon Soda Co Ltd | 光硬化性組成物および硬化方法 |
| JP4385437B2 (ja) | 1999-05-10 | 2009-12-16 | Ｊｓｒ株式会社 | カラーフィルタ用感放射線性組成物およびそれを用いたカラーフィルタ |
| KR100795759B1 (ko) | 2000-06-15 | 2008-01-21 | 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 캄파니 | 미세유체 물품의 제조 방법 |
| JP3978601B2 (ja) * | 2001-09-27 | 2007-09-19 | 信越化学工業株式会社 | 化学増幅レジスト材料及びパターン形成方法 |
| JP3880912B2 (ja) | 2002-10-10 | 2007-02-14 | ジャパンエポキシレジン株式会社 | 半導体封止用エポキシ樹脂組成物 |
| KR101197539B1 (ko) | 2003-11-04 | 2012-11-12 | 헨켈 아게 운트 코. 카게아아 | 술포늄염 광개시제 및 그의 용도 |
| JP4593309B2 (ja) | 2005-01-21 | 2010-12-08 | 東京応化工業株式会社 | 精密微細空間の天板部形成方法 |
| JP2006241384A (ja) | 2005-03-07 | 2006-09-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版及びその製造方法 |
| JP2007034153A (ja) | 2005-07-29 | 2007-02-08 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 感エネルギー線重合性組成物およびそれを用いたネガ型レジストおよびそれを用いた画像パターン形成方法。 |
| US20080292993A1 (en) | 2006-12-22 | 2008-11-27 | Canon Kabushiki Kaisha | Photo-cationic polymerizable epoxy resin composition, liquid discharge head, and manufacturing method thereof |
| JP4355725B2 (ja) | 2006-12-25 | 2009-11-04 | 信越化学工業株式会社 | ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法 |
| JP4564977B2 (ja) | 2007-04-05 | 2010-10-20 | 東京応化工業株式会社 | 感光性樹脂組成物、レジストパターンの製造方法、積層体、及びデバイス |
| JP2008292993A (ja) | 2007-04-24 | 2008-12-04 | Ricoh Co Ltd | 画像形成装置 |
| JP5039442B2 (ja) | 2007-06-15 | 2012-10-03 | 東京応化工業株式会社 | 感光性樹脂組成物、感光性樹脂積層体、及びパターン形成方法 |
| JP4998112B2 (ja) | 2007-06-27 | 2012-08-15 | 住友化学株式会社 | 化学増幅型ポジ型レジスト組成物 |
| JP2010276623A (ja) | 2008-03-26 | 2010-12-09 | Panasonic Electric Works Co Ltd | 立体基板上に透明樹脂構造体を形成させる方法 |
| JP2009244779A (ja) | 2008-03-31 | 2009-10-22 | Fujifilm Corp | ネガ型レジスト組成物及びパターン形成方法 |
| JP2009258506A (ja) | 2008-04-18 | 2009-11-05 | Fujifilm Corp | ネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 |
| JP5208573B2 (ja) | 2008-05-06 | 2013-06-12 | サンアプロ株式会社 | スルホニウム塩、光酸発生剤、光硬化性組成物及びこの硬化体 |
| JP5247396B2 (ja) | 2008-07-02 | 2013-07-24 | 日本化薬株式会社 | Ｍｅｍｓ用感光性樹脂組成物及びその硬化物 |
| US8853290B2 (en) * | 2009-06-08 | 2014-10-07 | Sanyo Chemical Industries, Ltd. | Photosensitive composition |
-
2011
- 2011-02-01 RU RU2012137721/04A patent/RU2526258C2/ru not_active IP Right Cessation
- 2011-02-01 WO PCT/JP2011/000549 patent/WO2011096195A1/en not_active Ceased
- 2011-02-01 EP EP16000494.1A patent/EP3064996B1/en not_active Not-in-force
- 2011-02-01 US US13/576,895 patent/US8980968B2/en active Active
- 2011-02-01 EP EP11739545.9A patent/EP2531890B1/en active Active
- 2011-02-01 CN CN201180008124.9A patent/CN102754028B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2011-02-03 JP JP2011021767A patent/JP5822477B2/ja active Active
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2011180586A5 (enExample) | ||
| JP2008268931A5 (enExample) | ||
| TWI435864B (zh) | 鹽起始劑 | |
| TWI404699B (zh) | 鹽起始劑 | |
| JP5422872B2 (ja) | 光硬化性組成物の硬化方法 | |
| TWI691479B (zh) | 化合物、有機膜形成用組成物、半導體裝置製造用基板、有機膜之形成方法及圖案形成方法 | |
| DE10063066B4 (de) | Iodoniumsalze als latente Säurespender | |
| KR20190143410A (ko) | 화합물, 화합물의 제조 방법 및 유기막 형성용 조성물 | |
| TWI777429B (zh) | 有機膜形成材料、有機膜形成方法、圖案形成方法、以及化合物 | |
| WO2010010667A1 (ja) | 硬化性共重合体及び硬化性樹脂組成物 | |
| RU2012137721A (ru) | Светочувствительная полимерная композиция, способы получения структуры и головка для подачи жидкости | |
| JP2015062072A5 (enExample) | ||
| WO2016140057A1 (ja) | 感放射線性組成物及びパターン形成方法 | |
| KR20150138220A (ko) | 광염기 발생제 | |
| TWI643898B (zh) | Photocurable composition for nanoimprinting, and method for forming fine pattern using the same | |
| JP2011164216A5 (enExample) | ||
| JP6920838B2 (ja) | 層間絶縁膜形成用組成物、層間絶縁膜及び層間絶縁膜パターンの形成方法、並びにデバイス | |
| TW201609999A (zh) | 單體組成物及含有該單體組成物之硬化性組成物 | |
| CN112119133B (zh) | 硬掩模组合物 | |
| WO2016194644A1 (ja) | ナノインプリント用光硬化性組成物 | |
| CN105467755B (zh) | 感光性树脂组合物 | |
| JP2014510798A5 (enExample) | ||
| TW201723070A (zh) | 光硬化性組成物、使用其之硬化物及光學零件 | |
| JP5967345B2 (ja) | ９，９’−ビアントラセン−１０，１０’−ジエーテル化合物、その製造法及びその用途。 | |
| JP2016038468A5 (enExample) |