JP6120574B2 - 感光性ネガ型樹脂組成物、微細構造体、微細構造体の製造方法及び液体吐出ヘッド - Google Patents
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Description
シクロヘキセンオキシド骨格を分子内に少なくとも3個有する樹脂(a)と、下記式b1で表わされるカチオン部構造および下記式b2で表されるアニオン部構造から成るオニウム塩(b)と、シラン化合物(c)と、有機溶剤(d)と、を含むことを特徴とする感光性ネガ型樹脂組成物である。
以下に、本発明の感光性ネガ型樹脂組成物に関して詳細に説明する。
本発明の感光性ネガ型樹脂組成物は、後述する第1のエポキシ樹脂(a)と、第1のオニウム塩(b)と、シラン化合物(c)と、有機溶剤(d)とを含む。また、この感光性ネガ型樹脂組成物は、後述する第2のエポキシ樹脂(e)、第2のオニウム塩(f)、第3のオニウム塩(g)、第3のエポキシ樹脂(h)およびその他の成分を含むことができる。以下に、本発明の感光性ネガ型樹脂組成物に含まれるこれらの成分について詳細に説明する。
本発明に用いる第1のエポキシ樹脂(a)は、シクロヘキセンオキシド骨格を分子内(分子構造中)に少なくとも3個有していれば良く、それ以外は特に限定されない。分子内にシクロヘキセンオキシド骨格を少なくとも3個有することによって、高解像力を得られる。また、塗布面状均一性の観点から、第1のエポキシ樹脂(a)は、分子内にシクロヘキセンオキシド骨格を10個以下有することが好ましい。
・樹脂(a1−1)
商品名:エポリード GT401[ダイセル化学工業株式会社製、式a1−1中のL1〜L4の合計が約1のもの、エポキシ当量210〜225]。
商品名:エポリード GT403[ダイセル化学工業株式会社製、式a1−1中のL1〜L4の合計が約3のもの、エポキシ当量270〜300]。
・樹脂(a1−3)
商品名:エポリード GT301[ダイセル化学工業株式会社製、式a1−3中のL1及びL2の合計が約1のもの、エポキシ当量185〜205]。
商品名:エポリード GT302[ダイセル化学工業株式会社製、式a1−3中のL1及びL2の合計が約2のもの、エポキシ当量225〜250]。
第1のオニウム塩は、下記式b1で表されるカチオン部構造(以下、カチオン部(b1)と称することもある)と、下記式b2で表されるアニオン部構造(以下、アニオン部(b2)と称することもある)とから成るオニウム塩である。第1のオニウム塩は、塩であるため、カチオン部(b1)とアニオン部(b2)との1対1の組み合わせからなることができる。
これらの有機基が有してもよい置換基としては、例えば、アルキル基、ヒドロキシ基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アリールチオカルボニル基、アシロキシ基、アリールチオ基、アルキルチオ基、アリール基、ヘテロ原子含有芳香族環基、アリールオキシ基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アルキレンオキシ基、アミノ基、シアノ基、ニトロ基の各基およびハロゲン原子を挙げることができる。上記有機基は、これらの各基およびハロゲン原子からなる群より選ばれる1種または複数種の置換基で置換されることができる。また、上記有機基は、これらの置換基を介して式b1中のS+に結合することができる。例えば、後述する式b1−17では、有機基である複素環基が、置換基であるアリールチオ基を介してS+に結合している。
連結基としては、例えば、−O−、−S−、−SO−、−SO2−、−NH−、−NR31−、−CO−、−C(=O)O−、−C(=O)NH−、炭素数1以上3以下のアルキレン基、および、フェニレン基を挙げることができる。ここでR31は炭素数1以上5以下のアルキル基または炭素数6以上10以下のアリール基を表す。なお、例えば、R1とR2とが環状構造を形成した場合、この環状構造における炭素数は、R1の炭素数(1以上30以下)と、R2の炭素数(1以上30以下)と、連結基の炭素数(連結基を介さない場合は0)との合計となる。また、R1とR3や、R2とR3が環状構造を形成した場合も同様に考えることができる。しかし、R1とR2、R2とR3、またはR1とR3が環状構造を形成した場合、保存安定性の観点から、これらの環状構造における炭素数は、いずれも4以上10以下とすることが好ましい。なお、R1とR2とR3とが連結して、複数の環状構造を形成した場合は、各環状構造における炭素数を4以上10以下とすることが好ましい。
Y1は、−S(=O)2−、フッ化アルキレン基、*1−O−CF2−、*1−C(=O)−CF2−、*1−O−C(=O)−CF2−、*1−C(=O)−O−CF2−、及び単結合から選ばれる基または結合を表す。なお、フッ化アルキレン基の炭素数は、解像力の観点から2以上、感度の観点から10以下とすることが好ましい。なお、Y1が*1−O−CF2−、*1−C(=O)−CF2−、*1−O−C(=O)−CF2−、または、*1−C(=O)−O−CF2−を表す場合、R4とは、これらの基中の*1が結合する。即ち、*1はR4と結合する末端を表す。
シラン化合物(c)は、ケイ素原子を含む化合物であれば特に限定されないが、感光性ネガ型樹脂組成物と基板との間の密着性を向上させる、もしくは補助する機能を有するオルガノシラン化合物であることが好ましい。このオルガノシラン化合物としては、例えば、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン等のエポキシ基を有するオルガノシラン化合物;N−β(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−β(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−β(アミノエチル)3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−フェニル−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−トリエトキシシリル−N−(1,3−ジメチル−ブチリデン)プロピルアミン、N−(ビニルベンジル)−β−アミノエチル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン等のアミノ基を有するオルガノシラン化合物;3−イソシアネートプロピルトリメトキシシラン、3−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン等のイソシアネート基を有するオルガノシラン化合物;γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン等のメルカプト基を有するオルガノシラン化合物;を挙げることができる。
有機溶剤(d)としては特に限定されないが、感光性ネガ型樹脂組成物の作製に用いる各成分(第1のエポキシ樹脂(a)や第1のオニウム塩(b)やシラン化合物(c)等)を溶解できる溶剤であることが望ましい。例えば、アルキレングリコールモノアルキルエーテルカルボキシレート、アルキレングリコールモノアルキルエーテル、乳酸アルキルエステル、アルコキシプロピオン酸アルキル、環状ラクトン(好ましくは炭素数4以上10以下)、環を含有してもよいモノケトン化合物(好ましくは炭素数4以上10以下)、アルキレンカーボネート、アルコキシ酢酸アルキル、ピルビン酸アルキル、ベンゼン環を有する化合物、等の有機溶剤を挙げることができる。
第2のエポキシ樹脂(e)は、シクロヘキセンオキシド骨格とは異なる脂環式基を含有する、軟化点70℃以上のエポキシ樹脂であれば良く、それ以外は特に限定されない。なお、シクロヘキセンオキシド骨格と異なる脂環式基としては、例えば、3-グリシジルシクロヘキシル基を挙げることができる。
第2のエポキシ樹脂(e)の含有量が0.02質量%以上、80質量%以下であれば、感光性ネガ型樹脂組成物を支持体に塗布した際に、高解像力で適度な硬度のレジスト層が容易に得られる。
第2のオニウム塩(f)は、それぞれ特定の構造である式f1で表わされるカチオン部構造(以下、カチオン部(f1)と称することがある)と、式f2で表されるアニオン部構造(以下、アニオン部(f2)と称することがある)とから成る。また、第2のオニウム塩(f)は、カチオン部(f1)とアニオン部(f2)との1対1の組み合わせからなることができる。
ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子を挙げることができる。
また、本発明では、この第1のオニウム塩(b)と第2のオニウム塩(f)とを併用することが好ましい。第2のオニウム塩(f)を用いることによって、感光後に第1のオニウム塩(b)から発生する酸が感光性ネガ型樹脂組成物に拡散して、未露光部分まで硬化させることをより確実に防ぐことができ、解像性が低下することをより確実に防ぐことができる。アニオン部(f2)にプロトンが付与した酸を仮定した場合、この酸は、エポキシ重合ができない、もしくは重合を引き起こす酸性度が非常に弱い弱酸の構造となっている。したがって、第1のオニウム塩(b)から発生するアニオン部(b2)起因の酸が、第2のオニウム塩(f)と出会うと塩交換がおこり、この酸が、エポキシ重合ができない又は重合を引き起こし難い弱酸に変換される。即ち、第2のオニウム塩(f)は、エポキシ重合において、エポキシ重合を促進する酸に対する良好なクエンチャーとして機能することができる。その結果、第2のオニウム塩(f)を使用した場合、現像コントラストを一層高めることができ、より高解像力のパターンを得ることができる。
なお、第2のオニウム塩(f)は、単独又は2つ以上の組み合わせで使用することができる。
第1のオニウム塩(b)のモル数 > 第2のオニウム塩(f)のモル数
この関係を満たす場合、クエンチャーとして機能する第2のオニウム塩(f)に対してエポキシ重合に有効な酸を発生させる第1のオニウム塩(b)が多い状態となり、高感度化を容易に図ることができる。
第3のオニウム塩(g)は、下記式g1で表わされるカチオン部構造(以下、カチオン部(g1)と称することがある)および下記式g2で表されるアニオン部構造(以下、アニオン部(g2)と称することがある)から成るオニウム塩である。このオニウム塩(g)は、カチオン部(g1)と、アニオン部(g2)との1対1の組み合わせからなることができる。
即ち、SbF6 -、Sb(OH)F5 -、Sb(OH)2F4 -、Sb(OH)3F3 -、Sb(OH)4F2 -、Sb(OH)5F-、およびSb(OH)6 -、を挙げることができる。
第3のエポキシ樹脂(h)は、芳香族基を含有するエポキシ樹脂であれば良く、それ以外は特に限定されない。しかし、解像力の向上の観点から、第3のエポキシ樹脂(h)として、エポキシ基を1分子中に2個以上有する多官能芳香族エポキシ樹脂化合物を用いることが好ましい。このような多官能芳香族エポキシ樹脂としては、多官能フェノール・ノボラック型エポキシ樹脂、多官能オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂、多官能トリフェニル型ノボラック型エポキシ樹脂、多官能ビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂、多官能ビスフェノールFノボラック型エポキシ樹脂、多官能ビスフェノールA型エポキシ樹脂、多官能ビスフェノールF型エポキシ樹脂等が挙げられる。例えば、商品名:エピコート157S70(ジャパンエポキシレジン社製)や、商品名:EP−4000S(ダイセル化学工業株式会社製)や、商品名:EP−4010S(ダイセル化学工業株式会社製)や、商品名:エピクロンN−865(大日本インキ化学工業社製)等が市販品として入手でき、特に好ましく用いられる。
感光性ネガ型樹脂組成物には、上記(a)〜(h)成分以外に、例えば以下の他の成分を含むことができる。即ち、その成分に特に制限はないが、用途に応じて、界面活性剤や増感剤、吸光剤、重合促進剤、難燃剤、難燃助剤などを使用することができる。
本発明の微細構造体は、基板上に形成され、本発明の感光性ネガ型樹脂組成物の硬化物からなる。なお、微細構造体とは、ミクロン単位以下で制御されたパターンを有する構造体を意味する。微細構造体としては、例えば、液体吐出ヘッド中の流路形成層(ノズル層)やディスプレイにおけるカラーフィルター、素子および配線形成部材などを挙げることができる。
本発明の微細構造体の製造方法は、以下の工程を含むことを特徴とする。
(1)上記感光性ネガ型樹脂組成物を基板上に配置する工程。
(2)この感光性ネガ型樹脂組成物を、i線光を用いたフォトリソグラフィーによりパターニング処理する工程。
図1にインクジェット記録ヘッドの構成例を説明するための模式的斜視図を示す。図1に示すインクジェット記録ヘッドは、エネルギー発生素子2を複数有する基板上に、インク吐出口(吐出口)5と、このインク吐出口5に連通するインク流路(液体流路)3cとを構成する流路形成層4を有する。また、基板1には、インク(液体)をインク流路3cに供給するためのインク供給口(液体供給口)6が設けられている。図2に示すように、基板1上にエネルギー発生素子2が所定のピッチで複数個配置されている。なお、エネルギー発生素子2には素子を動作させるための制御信号入力電極(不図示)が接続されている。
まず、図3(a)に示すように、エネルギー発生素子2を有する基板1を用意する。
まず、図4(a)に示すように、エネルギー発生素子2を有する基板1上に、溶解可能な樹脂組成物を塗布し、インク流路パターン3bを形成する(図4(a))。
(感光性ネガ型樹脂組成物の調製)
表1に記載の配合に従って、第1のエポキシ樹脂(a)、第1のオニウム塩(b)、シラン化合物(c)、および有機溶剤(d)、必要に応じて第2のエポキシ樹脂(e)、第2のオニウム塩(f)、第3のオニウム塩(g)、及び第3のエポキシ樹脂(h)およびその他の成分を混合し、感光性ネガ型樹脂組成物を得た。表1において、各成分の単位は質量部を表す。
通常、1つの基板を用いて複数のインクジェット記録ヘッドを作製するが、以下では1つのインクジェット記録ヘッドに着目して説明する。
まず、エネルギー発生素子2を有するシリコンウエハーからなる支持体(基板1)を用意した。続いて、この基板1上に、溶解可能な樹脂組成物を塗布し、インク流路パターン用の溶解可能な樹脂層3aを形成した。次に、溶解可能な樹脂層3aに放射線を照射し、現像することにより、インク流路パターン3bを形成した。
まず、製法1と同様に、エネルギー発生素子2が設けられた基板1(シリコンウエハー)上に、溶解可能な樹脂組成物を塗布し、インク流路パターン3bを形成した。次に、インク流路パターン3b及び基板1上に、得られた感光性ネガ型樹脂組成物をスピンコーターで塗布した後、60℃で、9分間プリベーク乾燥して、第1の感光性ネガ型樹脂組成物層4aを形成した。この第1の感光性ネガ型樹脂組成物層4aの基板1上の膜厚は40μmであり、この第1の感光性ネガ型樹脂組成物層4aのインク流路パターン3b上の厚みは27μmであった。
(感度及び解像力評価用のパターンが描写されたフォトマスク)
上記製法1及び製法2では、フォトマスク(製法2では、第二のフォトマスク11)として、図5に示すフォトマスクを用いた。このフォトマスクは、設計寸法が長軸20μm×短軸16μmの楕円形吐出口に、幅3μm(図5のc)のラインパターンが短軸に沿って橋渡しされたパターンが形成されている。そして、各製法において、この図5に示すフォトマスクを用いて、感光性ネガ樹脂組成物層(製法2では層4b)にネガ型レジストパターンを形成した。図5のマスク中、白抜き部分が遮光部を表し、このマスクを用いて中空パターンを形成した。
以下の方法で、各例の感光性ネガ樹脂組成物の感度評価を行った。具体的には、図5に示すフォトマスクを用いて、露光量を500〜30000J/m2の範囲で段階的に変更して、各例の製法1における感光性ネガ型樹脂組成物層に対してi線露光を行った。そして、得られたパターンのうち、橋渡しパターンの中心部分の幅が3μmに形成されるために必要な露光量(J/m2)を測定した。この露光量が小さければ小さい程、感光性ネガ型樹脂組成物は高感度であると言える。
図5に示すフォトマスクを用いて製法1及び2でそれぞれ感光性ネガ樹脂組成物層に形成したネガ型レジストパターンにおいて、楕円と橋渡しラインパターンが交差する部分を走査型電子顕微鏡(SEM)にて観察し、その解像性を測定した。マスクパターンに忠実にレジストパターンが形成できた場合の半月型の端部(図5のa)から、橋渡しラインパターンのエッジ上に沿った仮想直線を引いた時、この半月型の端部aから、この仮想直線と実際に解像したパターンとが交差する点dまでの距離(図5のb)を解像力とした(単位はμm)。これは、実際のパターンが、半月型の端部(図5のa)まで解像している場合、解像力が0μmとなることを意味し、設計寸法に一致していることを示す。しかし、解像力が低下すると、半月型の端部(図5のa)にネガ化物が残る。よって、このネガ化物の広がりの程度(図5のb)により解像力の値を決定することができる。なお、半月型の端部aと、交差する点dまでの距離は、各端部に対して計4か所存在するが、そのうち、最も解像力が悪いもの(距離bが長いもの)を本評価の解像力として表1に示した。
各例において製法1または製法2を用いて作製したインクジェット記録ヘッドを金属顕微鏡で観察し、基板1とインク流路形成層4が漏れなく接着していることを確認した(以下、初期と表記する)。次に、このインクジェット記録ヘッドを顔料分散型インク(商品名:PGI−39M、キヤノン社製)中に浸漬した。これをオーブン中で60℃、常圧(105Pa)の条件に保ち、7日間、顔料分散型インク中に浸漬し続けた。この浸漬試験後のインクジェット記録ヘッドを再度金属顕微鏡で観察し、以下の基準に従い評価した。なお、○と判定された場合、そのインクジェット記録ヘッドの作製に用いた感光性ネガ型樹脂組成物は、顔料インク耐性が良好であると言える。
○:基板1とインク流路形成層4が初期と同様に漏れなく接着しているもの。
×:一部分でも剥がれが観察されたもの。
表1に記載の配合に従って、感光性ネガ型樹脂組成物を作製した以外は、実施例1と同様にしてインクジェット記録ヘッドを作製した。各例の感光性ネガ型樹脂組成物及びインクジェット記録ヘッドを実施例1と同様に評価した。
*2)商品名:エポリード GT403(ダイセル化学工業製)、エポキシ当量270〜300
*3)商品名:エポリード GT301(ダイセル化学工業製)、エポキシ当量185〜205
*4)商品名:SILQUEST A−187 SILANE(モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン製)
*5)商品名:EHPE3150(ダイセル化学工業製)、エポキシ当量:180、軟化点:85℃
*6)商品名:EP−4000S(ダイセル化学工業製)、エポキシ当量:260
*7)商品名:JER157S70(ジャパンエポキシレジン製)、エポキシ当量:210、軟化点:70℃
*8)商品名:FX512(スリーM製)
*9)商品名:CELLOXIDE 2081(ダイセル化学工業製)、下記構造式
*11)商品名:SILQUEST A−1100 SILANE(モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン製)。
*12)30000(J/m2)においてもパターン形成できなかった(露光量不足)。よって、解像力、顔料インク耐性評価は未実施。
2 エネルギー発生素子
3a 溶解可能な樹脂層
3b インク流路パターン
3c インク流路
4 流路形成層(インク流路形成層)
4a 第1の感光性ネガ型樹脂組成物層
4b 第2の感光性ネガ型樹脂組成物層
5 吐出口
6 インク供給口
7 表面へこみ
8a 第一の吐出口パターン
8b 第二の吐出口パターン
10 第一のフォトマスク
11 第二のフォトマスク
Claims (13)
- シクロヘキセンオキシド骨格を分子内に少なくとも3個有する樹脂(a)と、
下記式b1で表わされるカチオン部構造および下記式b2で表されるアニオン部構造から成るオニウム塩(b)と、
シラン化合物(c)と、
有機溶剤(d)と、
を含むことを特徴とする感光性ネガ型樹脂組成物:
R4はフッ素原子で置換されてもよい炭素数1以上30以下の炭化水素基を表し、Xは、炭素原子、窒素原子、リン原子、またはホウ素原子を表し、
Y1は、−S(=O)2−、フッ化アルキレン基、*1−O−CF2−、*1−C(=O)−CF2−、*1−O−C(=O)−CF2−、*1−C(=O)−O−CF2−、または単結合を表し、ただし、*1はR4に結合する末端を表し、
Xが炭素原子を表す場合、nは0、1または2を表し、ただし、mとnとの合計は3であり、
Xが窒素原子を表す場合、nは0または1を表し、ただし、mとnとの合計は2であり、Xがリン原子を表す場合、nは0以上6以下の整数を表し、ただし、mとnとの合計は6であり、
Xがホウ素原子を表す場合、nは0以上3以下の整数を表し、ただし、mとnとの合計は4であり、
mが2以上の整数を表す場合、Xに結合する2つ以上のR4−Y1−基において、1つのR4−Y1−基中のいずれかの炭素原子と、他のR4−Y1−基中のいずれかの炭素原子とが単結合を介して結合することにより環状構造を形成してもよい]。 - 前記環状カルボニル構造が、芳香族環を含む共役系中にある請求項1に記載の感光性ネガ型樹脂組成物。
- 式b1中、9,10−アントラキノン骨格、または2つ以上のチオキサントン骨格を有する請求項2に記載の感光性ネガ型樹脂組成物。
- 前記樹脂(a)が、下記式a1で表わされることを特徴とする、請求項1から3のいずれか1項に記載の感光性ネガ型樹脂組成物:
A1からAhは、それぞれ独立に、直鎖状または分岐鎖状の炭素数1以上9以下のアルキレン基と、−O−と、−C(=O)−とからなる群から選ばれる1つ以上の基で構成される基を表し、V1からVhは、それぞれ独立に、下記式a2で表わされる基を表し、L1からLhは、それぞれ独立に、0以上の数を表し、
Ah、LhおよびVhにおけるhは2以上の整数を表し、ただし、hが2の場合は、R中に少なくとも1個のシクロヘキセンオキシド骨格を含有する]、
- 更に、シクロヘキセンオキシド骨格とは異なる脂環式基を含有する、軟化点70℃以上のエポキシ樹脂(e)を含む、請求項1から4のいずれか1項に記載の感光性ネガ型樹脂組成物。
- 更に、下記式f1で表わされるカチオン部構造および下記式f2で表されるアニオン部構造から成るオニウム塩(f)を含むことを特徴とする、請求項1から5のいずれか1項に記載の感光性ネガ型樹脂組成物:
R8はヘテロ原子を含有してもよい炭素数1以上20以下の炭化水素基を表し、Y2はメチレン基、−CH2−C(=O)−*2、−CH2−C(=O)−O−*2、−CH2−O−CF2−*2、−CH2−C(=O)−CF2−*2、−CH2−O−C(=O)−CF2−*2、−CH2−C(=O)−O−CF2−*2、または単結合を表し、ただし、*2はR8に結合する末端を表し、
Zは炭素原子または硫黄原子を表し、ただし、Zが炭素原子を表す場合、kは1を表し、Zが硫黄原子を表す場合、kは2を表す]。 - 式f2中のZが硫黄原子を表す請求項6に記載の感光性ネガ型樹脂組成物。
- 式b2中のXがリン原子を表す請求項1から8のいずれか1項に記載の感光性ネガ型樹脂組成物。
- 更に、芳香族基を含有するエポキシ樹脂(h)を含むことを特徴とする、請求項1から9のいずれか1項に記載の感光性ネガ型樹脂組成物。
- 基板上に形成される微細構造体であって、請求項1から10のいずれか1項に記載の感光性ネガ型樹脂組成物の硬化物であることを特徴とする微細構造体。
- 請求項11に記載の微細構造体により流路形成層が構成されている液体吐出ヘッド。
- (1)請求項1から10のいずれか1項に記載の感光性ネガ型樹脂組成物を基板上に配置する工程と、
(2)該感光性ネガ型樹脂組成物を、i線光を用いたフォトリソグラフィーによりパターニング処理する工程と、
を含むことを特徴とする微細構造体の製造方法。
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