JP2011161872A - 平版印刷版原版及びその製版方法 - Google Patents
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- 238000007639 printing Methods 0.000 title claims abstract description 176
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 40
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract description 122
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 claims abstract description 97
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 72
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 45
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims abstract description 37
- 238000011161 development Methods 0.000 claims abstract description 33
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 claims abstract description 16
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 claims abstract description 12
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 claims abstract description 11
- KWIUHFFTVRNATP-UHFFFAOYSA-O N,N,N-trimethylglycinium Chemical group C[N+](C)(C)CC(O)=O KWIUHFFTVRNATP-UHFFFAOYSA-O 0.000 claims abstract 3
- -1 polyoxyethylene chain Polymers 0.000 claims description 118
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 101
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 92
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims description 85
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical group C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 33
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 31
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims description 27
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 17
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O ammonium group Chemical group [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 claims description 14
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 claims description 10
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 claims description 10
- 125000006353 oxyethylene group Chemical group 0.000 claims description 6
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 6
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 5
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 5
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 claims description 3
- 239000000470 constituent Substances 0.000 claims description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 3
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical group N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 abstract 1
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 abstract 1
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000013016 damping Methods 0.000 abstract 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 43
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 42
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 42
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 36
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 35
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 32
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 27
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 26
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 25
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 22
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 19
- FBCQUCJYYPMKRO-UHFFFAOYSA-N prop-2-enyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC=C FBCQUCJYYPMKRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 18
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 16
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 16
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 16
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 16
- 239000003094 microcapsule Substances 0.000 description 15
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 14
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 13
- KWIUHFFTVRNATP-UHFFFAOYSA-N glycine betaine Chemical group C[N+](C)(C)CC([O-])=O KWIUHFFTVRNATP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 13
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 13
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 12
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 12
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 12
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 12
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 11
- 239000000463 material Substances 0.000 description 11
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical group C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 10
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 10
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 10
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 9
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 9
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 9
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 9
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 9
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 9
- QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M (4z)-1-(3-methylbutyl)-4-[[1-(3-methylbutyl)quinolin-1-ium-4-yl]methylidene]quinoline;iodide Chemical compound [I-].C12=CC=CC=C2N(CCC(C)C)C=CC1=CC1=CC=[N+](CCC(C)C)C2=CC=CC=C12 QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 8
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 8
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 8
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 8
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 8
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 8
- 230000008569 process Effects 0.000 description 8
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 8
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 7
- 229920002396 Polyurea Polymers 0.000 description 7
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 7
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 7
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000006392 deoxygenation reaction Methods 0.000 description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 7
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 7
- 235000019422 polyvinyl alcohol Nutrition 0.000 description 7
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 7
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 6
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 6
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 6
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 5
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 5
- 150000002433 hydrophilic molecules Chemical class 0.000 description 5
- 239000004816 latex Substances 0.000 description 5
- 229920000126 latex Polymers 0.000 description 5
- 239000002609 medium Substances 0.000 description 5
- 125000005641 methacryl group Chemical group 0.000 description 5
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 5
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 5
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 5
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 5
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 4
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Chemical compound NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 4
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 4
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 4
- OZLBDYMWFAHSOQ-UHFFFAOYSA-N diphenyliodanium Chemical class C=1C=CC=CC=1[I+]C1=CC=CC=C1 OZLBDYMWFAHSOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 4
- RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N indolenine group Chemical group N1=CCC2=CC=CC=C12 RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 4
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 4
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 4
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 4
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical group CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PSBDWGZCVUAZQS-UHFFFAOYSA-N (dimethylsulfonio)acetate Chemical compound C[S+](C)CC([O-])=O PSBDWGZCVUAZQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N Benzyl alcohol Chemical compound OCC1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 3
- 230000000274 adsorptive effect Effects 0.000 description 3
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 3
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 3
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 3
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 3
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000005235 azinium group Chemical group 0.000 description 3
- 239000000987 azo dye Substances 0.000 description 3
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 3
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 description 3
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 3
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 3
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical class I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- 150000004714 phosphonium salts Chemical class 0.000 description 3
- 125000004437 phosphorous atom Chemical group 0.000 description 3
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 3
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 3
- 229940117986 sulfobetaine Drugs 0.000 description 3
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 3
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N sulfuric acid group Chemical class S(O)(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 3
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 3
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 3
- UZAVOFMIRPJYPQ-UHFFFAOYSA-N (4-methoxyphenyl)-[4-(2-methylpropyl)phenyl]iodanium Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1[I+]C1=CC=C(CC(C)C)C=C1 UZAVOFMIRPJYPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WXGXOWWOUHDUOH-UHFFFAOYSA-N (4-octoxyphenyl)-(2,4,6-trimethoxyphenyl)iodanium Chemical compound C1=CC(OCCCCCCCC)=CC=C1[I+]C1=C(OC)C=C(OC)C=C1OC WXGXOWWOUHDUOH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FKTHNVSLHLHISI-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(isocyanatomethyl)benzene Chemical compound O=C=NCC1=CC=CC=C1CN=C=O FKTHNVSLHLHISI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GJZXWSSKVOMLIP-UHFFFAOYSA-N 1-(2-ethylhexoxy)-4-phenylpyridin-1-ium Chemical compound C1=C[N+](OCC(CC)CCCC)=CC=C1C1=CC=CC=C1 GJZXWSSKVOMLIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MSHFRERJPWKJFX-UHFFFAOYSA-N 4-Methoxybenzyl alcohol Chemical compound COC1=CC=C(CO)C=C1 MSHFRERJPWKJFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- RGHNJXZEOKUKBD-SQOUGZDYSA-N D-gluconic acid Chemical compound OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O RGHNJXZEOKUKBD-SQOUGZDYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical class CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JYXGIOKAKDAARW-UHFFFAOYSA-N N-(2-hydroxyethyl)iminodiacetic acid Chemical compound OCCN(CC(O)=O)CC(O)=O JYXGIOKAKDAARW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical class C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RJDOZRNNYVAULJ-UHFFFAOYSA-L [O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[F-].[F-].[Mg++].[Mg++].[Mg++].[Al+3].[Si+4].[Si+4].[Si+4].[K+] Chemical compound [O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[F-].[F-].[Mg++].[Mg++].[Mg++].[Al+3].[Si+4].[Si+4].[Si+4].[K+] RJDOZRNNYVAULJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 2
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-L adipate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)CCCCC([O-])=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229940045714 alkyl sulfonate alkylating agent Drugs 0.000 description 2
- 150000008052 alkyl sulfonates Chemical class 0.000 description 2
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 2
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 2
- 150000001728 carbonyl compounds Chemical class 0.000 description 2
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 2
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 2
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 2
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 2
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 2
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 2
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 2
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 2
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 2
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 2
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 2
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 229920001477 hydrophilic polymer Polymers 0.000 description 2
- 230000005660 hydrophilic surface Effects 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 2
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 2
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N lactic acid Chemical compound CC(O)C(O)=O JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910003002 lithium salt Inorganic materials 0.000 description 2
- 159000000002 lithium salts Chemical class 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 2
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 2
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 2
- 150000004028 organic sulfates Chemical class 0.000 description 2
- 238000000643 oven drying Methods 0.000 description 2
- 125000001820 oxy group Chemical group [*:1]O[*:2] 0.000 description 2
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M perchlorate Chemical compound [O-]Cl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- FAQJJMHZNSSFSM-UHFFFAOYSA-N phenylglyoxylic acid Chemical group OC(=O)C(=O)C1=CC=CC=C1 FAQJJMHZNSSFSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 2
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 2
- 229920000162 poly(ureaurethane) Polymers 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 2
- XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M potassium benzoate Chemical compound [K+].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1 XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N pyrylium Chemical class C1=CC=[O+]C=C1 WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 2
- 238000007127 saponification reaction Methods 0.000 description 2
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 description 2
- 239000012798 spherical particle Substances 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 150000003871 sulfonates Chemical class 0.000 description 2
- 125000001273 sulfonato group Chemical group [O-]S(*)(=O)=O 0.000 description 2
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 2
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 2
- 125000004149 thio group Chemical group *S* 0.000 description 2
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 2
- IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N triethylenediamine Chemical compound C1CN2CCN1CC2 IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WLOQLWBIJZDHET-UHFFFAOYSA-N triphenylsulfonium Chemical compound C1=CC=CC=C1[S+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 WLOQLWBIJZDHET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012953 triphenylsulfonium Substances 0.000 description 2
- RODJBIGBBLKNHX-UHFFFAOYSA-N tris(4-chlorophenyl)sulfanium Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1[S+](C=1C=CC(Cl)=CC=1)C1=CC=C(Cl)C=C1 RODJBIGBBLKNHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 2
- LNEFYSRMVMLZCP-UHFFFAOYSA-N (2,4-diethoxyphenyl)-(4-hexoxyphenyl)iodanium Chemical compound C1=CC(OCCCCCC)=CC=C1[I+]C1=CC=C(OCC)C=C1OCC LNEFYSRMVMLZCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MLIWQXBKMZNZNF-PWDIZTEBSA-N (2e,6e)-2,6-bis[(4-azidophenyl)methylidene]-4-methylcyclohexan-1-one Chemical compound O=C1\C(=C\C=2C=CC(=CC=2)N=[N+]=[N-])CC(C)C\C1=C/C1=CC=C(N=[N+]=[N-])C=C1 MLIWQXBKMZNZNF-PWDIZTEBSA-N 0.000 description 1
- PTHGDVCPCZKZKR-UHFFFAOYSA-N (4-chlorophenyl)methanol Chemical compound OCC1=CC=C(Cl)C=C1 PTHGDVCPCZKZKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DZDORLPPVXWPOM-UHFFFAOYSA-N (4-hexoxyphenyl)-(2,4,6-trimethoxyphenyl)iodanium Chemical compound C1=CC(OCCCCCC)=CC=C1[I+]C1=C(OC)C=C(OC)C=C1OC DZDORLPPVXWPOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CIZFAASMIWNDTR-UHFFFAOYSA-N (4-methylphenyl)-[4-(2-methylpropyl)phenyl]iodanium Chemical compound C1=CC(CC(C)C)=CC=C1[I+]C1=CC=C(C)C=C1 CIZFAASMIWNDTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N (S)-malic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N 0.000 description 1
- MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 1,2,6-trimethylphenanthrene Chemical compound CC1=CC=C2C3=CC(C)=CC=C3C=CC2=C1C MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZDKZFUFMNSQCJ-UHFFFAOYSA-N 1,2-diethoxyethane Chemical compound CCOCCOCC LZDKZFUFMNSQCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPXVHIRIPLPOPT-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-tris(2-hydroxyethyl)-1,3,5-triazinane-2,4,6-trione Chemical compound OCCN1C(=O)N(CCO)C(=O)N(CCO)C1=O BPXVHIRIPLPOPT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTTZISZSHSCFRH-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis(isocyanatomethyl)benzene Chemical compound O=C=NCC1=CC=CC(CN=C=O)=C1 RTTZISZSHSCFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QUQJISPCBFLEDB-UHFFFAOYSA-N 1,6-diisocyanatohexane;ethyl carbamate Chemical compound CCOC(N)=O.O=C=NCCCCCCN=C=O QUQJISPCBFLEDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BKFXGCGBFXTOPL-UHFFFAOYSA-N 1-(cyclohexylmethoxy)pyridin-1-ium Chemical compound C1CCCCC1CO[N+]1=CC=CC=C1 BKFXGCGBFXTOPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QXWFMEQTYGBXOX-UHFFFAOYSA-N 1-cyclohexyloxy-4-phenylpyridin-1-ium Chemical compound C1CCCCC1O[N+]1=CC=C(C=2C=CC=CC=2)C=C1 QXWFMEQTYGBXOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CGNQYDAFROOFBQ-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-4-phenylpyridin-1-ium Chemical compound C1=C[N+](OCC)=CC=C1C1=CC=CC=C1 CGNQYDAFROOFBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FFKRVMAGRRLYNC-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypyridin-1-ium-4-carbonitrile Chemical compound CCO[N+]1=CC=C(C#N)C=C1 FFKRVMAGRRLYNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQURWGJAWSLGQG-UHFFFAOYSA-N 1-isocyanatopropane Chemical compound CCCN=C=O OQURWGJAWSLGQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 1H-benzimidazole Chemical class C1=CC=C2NC=NC2=C1 HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAVVKEZTUOGEAK-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound COCCOCCOC(=O)C(C)=C DAVVKEZTUOGEAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WCASXYBKJHWFMY-NSCUHMNNSA-N 2-Buten-1-ol Chemical compound C\C=C\CO WCASXYBKJHWFMY-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-N 2-Methylbenzenesulfonic acid Chemical compound CC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-hydroxypropoxy)propoxy]propan-1-ol Chemical compound CC(O)COC(C)COC(C)CO LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LTHJXDSHSVNJKG-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCOCCOCCOC(=O)C(C)=C LTHJXDSHSVNJKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URDCARMUOSMFFI-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[bis(carboxymethyl)amino]ethyl-(2-hydroxyethyl)amino]acetic acid Chemical compound OCCN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O URDCARMUOSMFFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940093475 2-ethoxyethanol Drugs 0.000 description 1
- BYDRTKVGBRTTIT-UHFFFAOYSA-N 2-methylprop-2-en-1-ol Chemical compound CC(=C)CO BYDRTKVGBRTTIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VNOGPDJMQWBGSH-UHFFFAOYSA-N 3,4-dichloro-1-(2-ethylhexoxy)pyridin-1-ium Chemical compound CCCCC(CC)CO[N+]1=CC=C(Cl)C(Cl)=C1 VNOGPDJMQWBGSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HTXMGVTWXZBZNC-UHFFFAOYSA-M 3,5-bis(methoxycarbonyl)benzenesulfonate Chemical group COC(=O)C1=CC(C(=O)OC)=CC(S([O-])(=O)=O)=C1 HTXMGVTWXZBZNC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- GIIBAUDXEXFBHL-UHFFFAOYSA-N 3-(3-methylphenoxy)propane-1,2-diol Chemical compound CC1=CC=CC(OCC(O)CO)=C1 GIIBAUDXEXFBHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFJHXXPYPMNRPK-UHFFFAOYSA-N 3-(trimethylazaniumyl)propane-1-sulfonate Chemical compound C[N+](C)(C)CCCS([O-])(=O)=O WFJHXXPYPMNRPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RQFUZUMFPRMVDX-UHFFFAOYSA-N 3-Bromo-1-propanol Chemical compound OCCCBr RQFUZUMFPRMVDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LAMUXTNQCICZQX-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropan-1-ol Chemical compound OCCCCl LAMUXTNQCICZQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CCTFMNIEFHGTDU-UHFFFAOYSA-N 3-methoxypropyl acetate Chemical compound COCCCOC(C)=O CCTFMNIEFHGTDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- REEBJQTUIJTGAL-UHFFFAOYSA-N 3-pyridin-1-ium-1-ylpropane-1-sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)CCC[N+]1=CC=CC=C1 REEBJQTUIJTGAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SDGNNLQZAPXALR-UHFFFAOYSA-N 3-sulfophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(S(O)(=O)=O)=C1C(O)=O SDGNNLQZAPXALR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Diphenylmethane Diisocyanate Chemical compound C1=CC(N=C=O)=CC=C1CC1=CC=C(N=C=O)C=C1 UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBNGPOUEPYVEQH-UHFFFAOYSA-N 4-[2-[2-(2-ethylhexoxy)ethoxy]ethoxy]butane-1-sulfonic acid Chemical group CCCCC(CC)COCCOCCOCCCCS(O)(=O)=O WBNGPOUEPYVEQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SURYLJUJBFGONU-UHFFFAOYSA-N 4-chloro-1-(cyclohexylmethoxy)pyridin-1-ium Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=[N+]1OCC1CCCCC1 SURYLJUJBFGONU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OBHBYIPAMRAVDQ-UHFFFAOYSA-N 4-phenyl-1-phenylmethoxypyridin-1-ium Chemical compound C=1C=CC=CC=1CO[N+](C=C1)=CC=C1C1=CC=CC=C1 OBHBYIPAMRAVDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 8beta-(2,3-epoxy-2-methylbutyryloxy)-14-acetoxytithifolin Natural products COC(=O)C(C)O LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- IGZYMHSXROJTRX-UHFFFAOYSA-N C1(CCCCC1)[N+]1=C(C=C(C=C1)C1=CC=CC=C1)OCC(CCCC)CC Chemical compound C1(CCCCC1)[N+]1=C(C=C(C=C1)C1=CC=CC=C1)OCC(CCCC)CC IGZYMHSXROJTRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N D-Glucitol Natural products OC[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-KVTDHHQDSA-N D-Mannitol Chemical compound OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-KVTDHHQDSA-N 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N D-glucitol Chemical compound OC[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N 0.000 description 1
- RGHNJXZEOKUKBD-UHFFFAOYSA-N D-gluconic acid Natural products OCC(O)C(O)C(O)C(O)C(O)=O RGHNJXZEOKUKBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N Dextrotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- 239000005057 Hexamethylene diisocyanate Substances 0.000 description 1
- 229920002153 Hydroxypropyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 238000012695 Interfacial polymerization Methods 0.000 description 1
- 239000005058 Isophorone diisocyanate Substances 0.000 description 1
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930195725 Mannitol Natural products 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMRDSWJXRLDPBB-UHFFFAOYSA-N N=C=O.N=C=O.C1CCCCC1 Chemical compound N=C=O.N=C=O.C1CCCCC1 OMRDSWJXRLDPBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WMTLVUCMBWBYSO-UHFFFAOYSA-N N=C=O.N=C=O.C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 Chemical compound N=C=O.N=C=O.C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 WMTLVUCMBWBYSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IIGAAOXXRKTFAM-UHFFFAOYSA-N N=C=O.N=C=O.CC1=C(C)C(C)=C(C)C(C)=C1C Chemical compound N=C=O.N=C=O.CC1=C(C)C(C)=C(C)C(C)=C1C IIGAAOXXRKTFAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930192627 Naphthoquinone Natural products 0.000 description 1
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QLZHNIAADXEJJP-UHFFFAOYSA-N Phenylphosphonic acid Chemical compound OP(O)(=O)C1=CC=CC=C1 QLZHNIAADXEJJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical group OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical class N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 1
- DBMJMQXJHONAFJ-UHFFFAOYSA-M Sodium laurylsulphate Chemical compound [Na+].CCCCCCCCCCCCOS([O-])(=O)=O DBMJMQXJHONAFJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N Tartaric acid Natural products [H+].[H+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002679 ablation Methods 0.000 description 1
- 239000011354 acetal resin Substances 0.000 description 1
- 150000001241 acetals Chemical class 0.000 description 1
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 229910052910 alkali metal silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 description 1
- BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N alpha-hydroxysuccinic acid Natural products OC(=O)C(O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ANBBXQWFNXMHLD-UHFFFAOYSA-N aluminum;sodium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[Na+].[Al+3] ANBBXQWFNXMHLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001413 amino acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 239000010407 anodic oxide Substances 0.000 description 1
- 239000001000 anthraquinone dye Substances 0.000 description 1
- 229940053200 antiepileptics fatty acid derivative Drugs 0.000 description 1
- 239000007900 aqueous suspension Substances 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 150000008107 benzenesulfonic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000019445 benzyl alcohol Nutrition 0.000 description 1
- VBQDSLGFSUGBBE-UHFFFAOYSA-N benzyl(triethyl)azanium Chemical compound CC[N+](CC)(CC)CC1=CC=CC=C1 VBQDSLGFSUGBBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SHFLYPPECXRCFO-UHFFFAOYSA-N benzyl-dimethyl-octylazanium Chemical compound CCCCCCCC[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 SHFLYPPECXRCFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HIFVAOIJYDXIJG-UHFFFAOYSA-N benzylbenzene;isocyanic acid Chemical class N=C=O.N=C=O.C=1C=CC=CC=1CC1=CC=CC=C1 HIFVAOIJYDXIJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960003237 betaine Drugs 0.000 description 1
- HTXUQEBTYUTJRI-UHFFFAOYSA-N bis(4-chlorophenyl)-(4-methylphenyl)sulfanium Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1[S+](C=1C=CC(Cl)=CC=1)C1=CC=C(Cl)C=C1 HTXUQEBTYUTJRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIYWWLGWGUWAIY-UHFFFAOYSA-N bis(4-chlorophenyl)-phenylsulfanium Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1[S+](C=1C=CC(Cl)=CC=1)C1=CC=CC=C1 JIYWWLGWGUWAIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- CDQSJQSWAWPGKG-UHFFFAOYSA-N butane-1,1-diol Chemical compound CCCC(O)O CDQSJQSWAWPGKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKWKJIWDLVYZIY-UHFFFAOYSA-M butyl(triphenyl)phosphanium;bromide Chemical compound [Br-].C=1C=CC=CC=1[P+](C=1C=CC=CC=1)(CCCC)C1=CC=CC=C1 IKWKJIWDLVYZIY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000005626 carbonium group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000002843 carboxylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 230000005591 charge neutralization Effects 0.000 description 1
- 239000002738 chelating agent Substances 0.000 description 1
- 235000015165 citric acid Nutrition 0.000 description 1
- 238000005354 coacervation Methods 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 239000000306 component Substances 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 150000004696 coordination complex Chemical class 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- FNTHQRXVZDCWSP-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,1,2-triol Chemical compound OC1CCCCC1(O)O FNTHQRXVZDCWSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PDXRQENMIVHKPI-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,1-diol Chemical compound OC1(O)CCCCC1 PDXRQENMIVHKPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 1
- 230000003635 deoxygenating effect Effects 0.000 description 1
- 239000012973 diazabicyclooctane Substances 0.000 description 1
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 description 1
- 150000001989 diazonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 229940105990 diglycerin Drugs 0.000 description 1
- GPLRAVKSCUXZTP-UHFFFAOYSA-N diglycerol Chemical compound OCC(O)COCC(O)CO GPLRAVKSCUXZTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 1
- 235000013870 dimethyl polysiloxane Nutrition 0.000 description 1
- JXEOIWVKTZSRJT-UHFFFAOYSA-N dimethyl(propyl)azanium;acetate Chemical compound CC([O-])=O.CCC[NH+](C)C JXEOIWVKTZSRJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ITVBHBPCGAINNL-UHFFFAOYSA-N dimethyl(propyl)azanium;methanesulfonate Chemical compound CS([O-])(=O)=O.CCC[NH+](C)C ITVBHBPCGAINNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N dipropylene glycol Chemical compound OCCCOCCCO SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YGSZNSDQUQYJCY-UHFFFAOYSA-L disodium;naphthalene-1,5-disulfonate Chemical compound [Na+].[Na+].C1=CC=C2C(S(=O)(=O)[O-])=CC=CC2=C1S([O-])(=O)=O YGSZNSDQUQYJCY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 238000010494 dissociation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000005593 dissociations Effects 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- VICYBMUVWHJEFT-UHFFFAOYSA-N dodecyltrimethylammonium ion Chemical compound CCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)C VICYBMUVWHJEFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N doxepin Chemical compound C1OC2=CC=CC=C2C(=C/CCN(C)C)/C2=CC=CC=C21 ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 238000000635 electron micrograph Methods 0.000 description 1
- 239000003995 emulsifying agent Substances 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WUDNUHPRLBTKOJ-UHFFFAOYSA-N ethyl isocyanate Chemical compound CCN=C=O WUDNUHPRLBTKOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- DWYMPOCYEZONEA-UHFFFAOYSA-L fluoridophosphate Chemical compound [O-]P([O-])(F)=O DWYMPOCYEZONEA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- WCASXYBKJHWFMY-UHFFFAOYSA-N gamma-methylallyl alcohol Natural products CC=CCO WCASXYBKJHWFMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000174 gluconic acid Substances 0.000 description 1
- 235000012208 gluconic acid Nutrition 0.000 description 1
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 1
- 229920000578 graft copolymer Polymers 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 239000004519 grease Substances 0.000 description 1
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 description 1
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TZMQHOJDDMFGQX-UHFFFAOYSA-N hexane-1,1,1-triol Chemical compound CCCCCC(O)(O)O TZMQHOJDDMFGQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ACCCMOQWYVYDOT-UHFFFAOYSA-N hexane-1,1-diol Chemical compound CCCCCC(O)O ACCCMOQWYVYDOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006158 high molecular weight polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001863 hydroxypropyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010977 hydroxypropyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- MTNDZQHUAFNZQY-UHFFFAOYSA-N imidazoline Chemical class C1CN=CN1 MTNDZQHUAFNZQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 1
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 description 1
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical group OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N isophorone diisocyanate Chemical compound CC1(C)CC(N=C=O)CC(C)(CN=C=O)C1 NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-L isophthalate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)C1=CC=CC(C([O-])=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000004310 lactic acid Substances 0.000 description 1
- 235000014655 lactic acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000000670 limiting effect Effects 0.000 description 1
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002632 lipids Chemical class 0.000 description 1
- 229920002521 macromolecule Polymers 0.000 description 1
- 239000001630 malic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011090 malic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000000594 mannitol Substances 0.000 description 1
- 235000010355 mannitol Nutrition 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M methacrylate group Chemical group C(C(=C)C)(=O)[O-] CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000001434 methanylylidene group Chemical group [H]C#[*] 0.000 description 1
- VHWYCFISAQVCCP-UHFFFAOYSA-N methoxymethanol Chemical compound COCO VHWYCFISAQVCCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AYLRODJJLADBOB-QMMMGPOBSA-N methyl (2s)-2,6-diisocyanatohexanoate Chemical compound COC(=O)[C@@H](N=C=O)CCCCN=C=O AYLRODJJLADBOB-QMMMGPOBSA-N 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229940057867 methyl lactate Drugs 0.000 description 1
- 125000005527 methyl sulfate group Chemical group 0.000 description 1
- 229940032007 methylethyl ketone Drugs 0.000 description 1
- 239000010445 mica Substances 0.000 description 1
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- GWVLAXGYZUVAGV-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethylmethanamine;methanesulfonic acid Chemical compound C[NH+](C)C.CS([O-])(=O)=O GWVLAXGYZUVAGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N n-vinylcarbazole Chemical compound C1=CC=C2N(C=C)C3=CC=CC=C3C2=C1 KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VILFVXYKHXVYAB-UHFFFAOYSA-L naphthalene-2,7-disulfonate(2-) Chemical group C1=CC(S([O-])(=O)=O)=CC2=CC(S(=O)(=O)[O-])=CC=C21 VILFVXYKHXVYAB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000002791 naphthoquinones Chemical class 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052755 nonmetal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002843 nonmetals Chemical group 0.000 description 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 1
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 125000003566 oxetanyl group Chemical group 0.000 description 1
- GAGSAAHZRBTRGD-UHFFFAOYSA-N oxirane;oxolane Chemical compound C1CO1.C1CCOC1 GAGSAAHZRBTRGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005702 oxyalkylene group Chemical group 0.000 description 1
- FVGBHSIHHXTYTH-UHFFFAOYSA-N pentane-1,1,1-triol Chemical compound CCCCC(O)(O)O FVGBHSIHHXTYTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UWJJYHHHVWZFEP-UHFFFAOYSA-N pentane-1,1-diol Chemical compound CCCCC(O)O UWJJYHHHVWZFEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGTNSSLYPYDJGL-UHFFFAOYSA-N phenyl isocyanate Chemical compound O=C=NC1=CC=CC=C1 DGTNSSLYPYDJGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003009 phosphonic acids Chemical class 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 1
- 239000001007 phthalocyanine dye Substances 0.000 description 1
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920001610 polycaprolactone Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000921 polyethylene adipate Polymers 0.000 description 1
- 238000000710 polymer precipitation Methods 0.000 description 1
- 239000002952 polymeric resin Substances 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- ODGAOXROABLFNM-UHFFFAOYSA-N polynoxylin Chemical compound O=C.NC(N)=O ODGAOXROABLFNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 1
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 1
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 1
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 1
- ASUAYTHWZCLXAN-UHFFFAOYSA-N prenol Chemical compound CC(C)=CCO ASUAYTHWZCLXAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULWHHBHJGPPBCO-UHFFFAOYSA-N propane-1,1-diol Chemical compound CCC(O)O ULWHHBHJGPPBCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N propylene carbonate Chemical compound CC1COC(=O)O1 RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JEXVQSWXXUJEMA-UHFFFAOYSA-N pyrazol-3-one Chemical compound O=C1C=CN=N1 JEXVQSWXXUJEMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001008 quinone-imine dye Substances 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 239000013558 reference substance Substances 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 238000007142 ring opening reaction Methods 0.000 description 1
- 239000010731 rolling oil Substances 0.000 description 1
- 238000000790 scattering method Methods 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 150000003335 secondary amines Chemical class 0.000 description 1
- SPVXKVOXSXTJOY-UHFFFAOYSA-O selenonium Chemical class [SeH3+] SPVXKVOXSXTJOY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000010802 sludge Substances 0.000 description 1
- 229910001388 sodium aluminate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940077386 sodium benzenesulfonate Drugs 0.000 description 1
- 159000000000 sodium salts Chemical group 0.000 description 1
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- KNOGXLBAOQDKTG-UHFFFAOYSA-M sodium;2-ethylhexane-1-sulfonate Chemical compound [Na+].CCCCC(CC)CS([O-])(=O)=O KNOGXLBAOQDKTG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ZKCDDKBKEBVTKX-UHFFFAOYSA-M sodium;4-[2-(2-butoxyethoxy)ethoxy]butane-1-sulfonate Chemical compound [Na+].CCCCOCCOCCOCCCCS([O-])(=O)=O ZKCDDKBKEBVTKX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- KCOBZRXMFLVGLG-UHFFFAOYSA-M sodium;4-[2-(2-hexoxyethoxy)ethoxy]butane-1-sulfonate Chemical compound [Na+].CCCCCCOCCOCCOCCCCS([O-])(=O)=O KCOBZRXMFLVGLG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- XFTALRAZSCGSKN-UHFFFAOYSA-M sodium;4-ethenylbenzenesulfonate Chemical compound [Na+].[O-]S(=O)(=O)C1=CC=C(C=C)C=C1 XFTALRAZSCGSKN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- IAAKNVCARVEIFS-UHFFFAOYSA-M sodium;4-hydroxynaphthalene-1-sulfonate Chemical compound [Na+].C1=CC=C2C(O)=CC=C(S([O-])(=O)=O)C2=C1 IAAKNVCARVEIFS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- KVCGISUBCHHTDD-UHFFFAOYSA-M sodium;4-methylbenzenesulfonate Chemical compound [Na+].CC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1 KVCGISUBCHHTDD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- MZSDGDXXBZSFTG-UHFFFAOYSA-M sodium;benzenesulfonate Chemical compound [Na+].[O-]S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 MZSDGDXXBZSFTG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- XQCHMGAOAWZUPI-UHFFFAOYSA-M sodium;butane-1-sulfonate Chemical compound [Na+].CCCCS([O-])(=O)=O XQCHMGAOAWZUPI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- DIIKAKPJAGLSOD-UHFFFAOYSA-M sodium;cyclohexanesulfonate Chemical compound [Na+].[O-]S(=O)(=O)C1CCCCC1 DIIKAKPJAGLSOD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- QWSZRRAAFHGKCH-UHFFFAOYSA-M sodium;hexane-1-sulfonate Chemical compound [Na+].CCCCCCS([O-])(=O)=O QWSZRRAAFHGKCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- HIEHAIZHJZLEPQ-UHFFFAOYSA-M sodium;naphthalene-1-sulfonate Chemical compound [Na+].C1=CC=C2C(S(=O)(=O)[O-])=CC=CC2=C1 HIEHAIZHJZLEPQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- HRQDCDQDOPSGBR-UHFFFAOYSA-M sodium;octane-1-sulfonate Chemical compound [Na+].CCCCCCCCS([O-])(=O)=O HRQDCDQDOPSGBR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000000600 sorbitol Substances 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000001256 steam distillation Methods 0.000 description 1
- IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-N sulfamic acid group Chemical class S(N)(O)(=O)=O IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003457 sulfones Chemical class 0.000 description 1
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 238000010557 suspension polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000008399 tap water Substances 0.000 description 1
- 235000020679 tap water Nutrition 0.000 description 1
- 239000011975 tartaric acid Substances 0.000 description 1
- 235000002906 tartaric acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- DZLFLBLQUQXARW-UHFFFAOYSA-N tetrabutylammonium Chemical compound CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC DZLFLBLQUQXARW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CCIYPTIBRAUPLQ-UHFFFAOYSA-M tetrabutylphosphanium;iodide Chemical compound [I-].CCCC[P+](CCCC)(CCCC)CCCC CCIYPTIBRAUPLQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- UGNWTBMOAKPKBL-UHFFFAOYSA-N tetrachloro-1,4-benzoquinone Chemical compound ClC1=C(Cl)C(=O)C(Cl)=C(Cl)C1=O UGNWTBMOAKPKBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QEMXHQIAXOOASZ-UHFFFAOYSA-N tetramethylammonium Chemical compound C[N+](C)(C)C QEMXHQIAXOOASZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BRKFQVAOMSWFDU-UHFFFAOYSA-M tetraphenylphosphanium;bromide Chemical compound [Br-].C1=CC=CC=C1[P+](C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 BRKFQVAOMSWFDU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 1
- 150000007944 thiolates Chemical class 0.000 description 1
- DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N toluene 2,4-diisocyanate Chemical compound CC1=CC=C(N=C=O)C=C1N=C=O DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KYWVDGFGRYJLPE-UHFFFAOYSA-N trimethylazanium;acetate Chemical compound CN(C)C.CC(O)=O KYWVDGFGRYJLPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FBOJXFNZDVRYQZ-UHFFFAOYSA-L triphenyl(7-triphenylphosphaniumylheptyl)phosphanium;sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O.C=1C=CC=CC=1[P+](C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)CCCCCCC[P+](C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 FBOJXFNZDVRYQZ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- ZELVAMAIJBWLCX-UHFFFAOYSA-N triphenyl(9-triphenylphosphaniumylnonyl)phosphanium Chemical compound C=1C=CC=CC=1[P+](C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)CCCCCCCCC[P+](C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 ZELVAMAIJBWLCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RHZZVWTVJHZKAH-UHFFFAOYSA-K trisodium;naphthalene-1,2,3-trisulfonate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].C1=CC=C2C(S([O-])(=O)=O)=C(S([O-])(=O)=O)C(S(=O)(=O)[O-])=CC2=C1 RHZZVWTVJHZKAH-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920003176 water-insoluble polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920003169 water-soluble polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 1
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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Abstract
【解決手段】支持体上に、(a)赤外線吸収剤、(b)ラジカル重合開始剤、(c)ポリマー微粒子及び(d)ラジカル重合性ウレタンオリゴマーを含有し、印刷機のシリンダー上で湿し水及び印刷インキにより未露光部が除去可能な画像記録層を有する平版印刷版原版であって、上記(d)ラジカル重合性ウレタンオリゴマーが重合性基、並びにスルホ基、ポリオキシアルキレン鎖を有する基、ヒドロキシ基、アミド基、アンモニウム基及びベタイン構造を有する基から選ばれる少なくとも一つの親水性基を有し、質量平均モル質量(Mw)が1500〜10000であり、かつポリマー微粒子外に存在することを特徴とする平版印刷版原版。
【選択図】なし
Description
この平版印刷版を作製するため、従来は、親水性の支持体上に親油性の感光性樹脂層(画像記録層)を設けてなる平版印刷版原版(PS版)を用い、PS版にリスフィルムなどのマスクを通した露光を行った後、アルカリ性現像液などによる現像処理を行い、画像部に対応する画像記録層を残存させ、非画像部に対応する不要な画像記録層を溶解除去して、平版印刷版を得ていた。
また、簡易現像の方法としては、画像記録層の不要部分の除去を、従来の高アルカリ性現像液ではなく、pHが中性に近いフィニッシャー又はガム液によって行う「ガム現像」と呼ばれる方法も行われている。
2.親水性基がポリオキシアルキレン鎖を有する基、アミド基及びベタイン構造を有する基のいずれかであることを特徴とする前記1に記載の平版印刷版原版。
3.親水性基がポリオキシエチレン鎖を有する基であることを特徴とする前記2に記載の平版印刷版原版。
4.ポリオキシエチレン鎖のオキシエチレンの繰り返し数が2〜20であることを特徴とする前記3に記載の平版印刷版原版。
5.ラジカル重合性ウレタンオリゴマーの質量平均モル質量(Mw)が2000〜5000であることを特徴とする前記1〜4のいずれか一項に記載の平版印刷版原版。
6.ラジカル重合性ウレタンオリゴマーが、少なくとも(A)三官能以上のイソシアネート化合物、(B)メタクリロイル基又はアクリロイル基及びヒドロキシ基を有する化合物、並びに(C)親水性基及びヒドロキシ基を有する化合物の反応により得られるラジカル重合性ウレタンオリゴマーであり、(B)及び(C)の少なくともいずれかは2つ以上のヒドロキシ基を有することを特徴とする前記1〜5のいずれか一項に記載の平版印刷版原版。
7.ポリマー微粒子が、ポリオキシアルキレン鎖を含有することを特徴とする前記1〜6のいずれか一項に記載の平版印刷版原版。
8.ポリマー微粒子の有するポリオキシアルキレン鎖がポリオキシエチレン鎖であることを特徴とする前記7に記載の平版印刷版原版。
9.ポリマー微粒子の有するポリオキシエチレン鎖のオキシエチレンの繰り返し数が2〜20であることを特徴とする前記8に記載の平版印刷版原版。
10.ポリマー微粒子が、少なくともアクリロニトリルモノマー単位を構成成分とする有機樹脂微粒子であることを特徴とする前記1〜9のいずれか一項に記載の平版印刷版原版。
11.ポリマー微粒子が、1つ以上のエチレン性不飽和基を有するモノマー単位を含有することを特徴とする前記1〜10のいずれか一項に記載の平版印刷版原版。
12.画像記録層の上に、保護層を有することを特徴とする前記1〜11のいずれか一項に記載の平版印刷版原版。
13.保護層が、親水性樹脂を含有することを特徴とする前記12に記載の平版印刷版原版。
14.保護層が、無機層状化合物を含有することを特徴とする前記12又は13に記載の平版印刷版原版。
15.前記1〜14のいずれか一項に記載の平版印刷版原版を露光後に、現像処理工程を経ることなく、印刷機のシリンダー上で湿し水及び/又は印刷インキを供給して画像記録層未露光部分を除去し、平版印刷版を作製すること特徴とする平版印刷版の製版方法。
本発明の平版印刷版原版は、支持体上に、(a)赤外線吸収剤、(b)ラジカル重合開始剤、(c)ポリマー微粒子及び(d)ラジカル重合性ウレタンオリゴマーを含有し、印刷機のシリンダー上で湿し水及び印刷インキにより未露光部が除去可能な画像記録層を有する平版印刷版原版であって、上記(d)ラジカル重合性ウレタンオリゴマーは、重合性基、並びにスルホ基、ポリオキシアルキレン鎖を有する基、ヒドロキシ基、アミド基、アンモニウム基及びベタイン構造を有する基から選ばれる少なくとも一つの親水性基を有し、質量平均モル質量(Mw)が1500〜10000であり、かつポリマー微粒子外に存在することを特徴とする。
以下、平版印刷版原版の構成要素及び成分などについて詳細に説明する。
(d)ラジカル重合性ウレタンオリゴマー
本発明のラジカル重合性ウレタンオリゴマーは、少なくとも一つ以上の重合性基と、少なくとも一つ以上の親水性基を有することを特徴とする。親水性基はスルホ基、ポリオキシアルキレン鎖を有する基、ヒドロキシ基、アミド基、アンモニウム基及びベタイン構造を有する基から選ばれる少なくとも一つの基である。スルホ基はスルホネート基であってもよい。なかでも好ましいのは、ポリオキシアルキレン鎖を有する基、アミド基及びベタイン構造を有する基である。
本発明のラジカル重合性ウレタンオリゴマーは、25℃でDMAcに濃度10質量%以上溶解するものが好ましい。
また、本発明のウレタンオリゴマーは画像記録層中でポリマー微粒子外に存在することを特徴とする。
(A)成分としては、3官能以上のイソシアネート化合物であればいずれも好適であるが、トリイソシアネート化合物及びテトライソアネート化合物が好ましい。更に好ましいのは下記一般式(I)又は(II)で表される化合物であり、これらは複数の種類を使用してもよい。
重合性基とヒドロキシ基を有する化合物であれば(B)成分としていずれも好適に用いられるが、ヒドロキシ基を1〜4個有する化合物が好ましく、更に好ましくは1〜3個のヒドロキシ基を有する化合物であり、特に好ましくは1又は2個のヒドロキシ基を有する化合物である。
重合性基数は1以上であればいずれも好適に用いられるが、2以上10以下が好ましく、更に好ましくは2以上8以下であり、最も好ましくは3以上6以下である。
重合性基としてはエチレン性不飽和基が好ましく用いられるが、具体的にはメタクリル基、アクリル基、アリル基、スチリル基、ビニル基が好ましく、更に好ましくは、メタクリル基、アクリル基、スチリル基である。
A2は非金属原子から構成される3〜14価の有機残基を表し、2から30個までの炭素原子、10個までの窒素原子、10個までの酸素原子、10個までのハロゲン原子、10個までのケイ素原子、2個から100個までの水素原子、10個までのリン原子、10個までの硫黄原子から選ばれる少なくとも1種以上の元素から構成されるものが挙げられる。中でも3個から20個までの炭素原子、5個までの窒素原子、10個までの酸素原子、2個から40個までの水素原子の組合せが好ましい。好ましくは前記の原子及び連結基群中の構造及びそれらを組み合わせた3〜14価の有機残基である。
(B)成分の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限られるものではない。
(C)成分としては、親水性基とヒドロキシ基を有していれば、いずれの化合物も好適に用いられるが、1〜4個のヒドロキシ基を有する化合物が好ましく、更に好ましくは1〜3個のヒドロキシ基を有する化合物であり、特に好ましくは1個又は2個のヒドロキシ基を有する化合物である。
A3及びA4はそれぞれ独立に非金属原子から構成される2〜14価の有機残基を表し、3から30個までの炭素原子、10個までの窒素原子、10個までの酸素原子、10個までのハロゲン原子、10個までのケイ素原子、3個から100個までの水素原子、10個までのリン原子、10個までの硫黄原子から選ばれる少なくとも1種以上の元素から構成されるものが挙げられる。中でも3から20個までの炭素原子、5個までの窒素原子、10個までの酸素原子、2個から50個までの水素原子の組合せが好ましい。好ましくは前記の原子及び連結基群中の構造及びそれらを組み合わせた2〜14価の有機残基である。
ポリオキシアルキレン基としては、ポリオキシエチレン基及びポリオキシプロピレン基が好ましく、特にポリオキシエチレン基が好ましく、オキシエチレンの繰り返し数としては2〜100が好ましく、更に好ましくは2〜50であり、最も好ましくは2〜20である。
アミド基としては特に無置換アミド、若しくはN上に置換基を有する一置換アミド基が好ましい。置換基としては炭素数1〜10のアルキル基若しくはヒドロキシアルキル基が好ましく、炭素数1〜8のアルキル基若しくはヒドロキシアルキル基が更に好ましく、最も好ましくは炭素数1〜6のアルキル基若しくはヒドロキシアルキル基である。
ベタイン構造としては、ベタイン構造であれば好適に用いられるが、特にスルホベタイン、ホスホベタイン、カルボベタインが好ましく、更に好ましくはスルホベタイン、ホスホベタイン、最も好ましくはスルホベタインである。
本発明のウレタンオリゴマーは、上記(A)、(B)及び(C)成分以外に、(D)その他の成分を加えて合成してもよい。(D)成分には特に制限はないが、モノイソシアネート化合物、ジイソシアネート化合物、一価アルコールが好ましく用いられる。
ウレタンオリゴマーを合成する際、好ましくはイソシアネート価〔(A)成分に含まれるイソシアネート基のモル数〕:ヒドロキシ基価=1:1〜1:5であることが好ましく、更に好ましくは1:1〜1:4であり、最も好ましくは1:1〜1:3である。
赤外線吸収剤は、吸収した赤外線を熱に変換する機能と赤外線により励起して後述のラジカル重合開始剤に電子移動及び/又はエネルギー移動する機能を有する。本発明において使用される赤外線吸収剤は、波長760〜1200nmに吸収極大を有する染料である。
これらの染料のうち特に好ましいものとしては、シアニン色素、スクアリリウム色素、ピリリウム塩、ニッケルチオレート錯体、インドレニンシアニン色素が挙げられる。更に、シアニン色素やインドレニンシアニン色素が好ましく、特に好ましい例として下記一般式(a)で示されるシアニン色素が挙げられる。
また特開平5−5005号公報の段落番号[0008]〜[0009]、特開2001−222101号公報の段落番号[0022]〜[0025]に記載の化合物も好ましく使用することが出来る。
本発明に用いられる(b)ラジカル重合開始剤としては、(d)ラジカル重合性ウレタンオリゴマーの重合を開始、促進する化合物を示す。本発明において使用しうるラジカル重合開始剤としては、公知の熱重合開始剤、結合解離エネルギーの小さな結合を有する化合物、光重合開始剤などを使用することができる。
(g)ヘキサアリールビイミダゾール化合物としては、例えば、特開2008−195018号公報の段落番号[0027]に記載の化合物が好ましい。
本発明では、機上現像性を向上させるため、ポリマー微粒子を用いることができる。ポリマー微粒子としてはあらゆる粒子を用いることができるが、好ましくは後述のラテックス、マイクロカプセルを挙げることができる。
ラテックスとしては1992年1月のResearch Disclosure No.333003、特開平9−123387号公報、同9−131850号公報、同9−171249号公報、同9−171250号公報及び欧州特許第931647号明細書などに記載のポリマー微粒子を好適なものとして挙げることができる。
ラテックスを構成するポリマーの具体例としては、エチレン、スチレン、塩化ビニル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、塩化ビニリデン、シアノ基を含有するモノマー及びビニルカルバゾールから選ばれるモノマー単位を含むホモポリマー若しくはコポリマー又はそれらの混合物を挙げることができる。なかでも、スチレン、アクリロニトリル及びメタクリル酸メチルから選ばれるモノマー単位を含むホモポリマー又はコポリマーが好ましい。耐刷性の観点では特にアクリロニトリルをモノマー単位として含むホモポリマー又はコポリマーが好ましい。
上記の中でもエチレン性不飽和基が特に好ましい。ポリマー微粒子がエチレン性不飽和基を有することによって、露光時にポリマー微粒子も重合反応に関わり、耐刷性を向上させることができる。
モノマーと乳化剤(界面活性剤)を混合し、そこに媒体に溶解可能な重合開始剤(通常ラジカル発生剤)を加えて行う乳化重合、(2)モノマーと水などの媒体とを機械的に撹拌し、懸濁させて行う重合方法である懸濁重合、が挙げられる。
好ましいマイクロカプセル壁は、3次元架橋を有し、溶剤によって膨潤する性質を有するものである。このような観点から、マイクロカプセルの壁材は、ポリウレア、ポリウレタン、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアミド、及びこれらの混合物が好ましく、特に、ポリウレア及びポリウレタンが好ましい。
本発明の画像記録層にはラジカル重合性化合物として、前記ウレタンオリゴマー以外の公知のラジカル重合性化合物を用いることができる。かかるラジカル重合性化合物として、例えば、特開2002−287334号、特開2005−329708号などの公報に記載のラジカル重合性化合物を挙げることができる。より具体的には、多価アルコールとアクリル酸とのエステル、多価アミンとアクリル酸とのアミド、イソシアヌル酸エチレンオキシド変性アクリレートなどのイソシアヌル酸骨格を有する重合性化合物が挙げられる。また、ウレタン系の重合性化合物の中でも親水性基を持たないもの、分子量が1500未満のものなどを用いることもできる。
上記ラジカル重合性化合物の含有量はウレタンオリゴマーの10mol%以下が好ましい。
本発明の画像記録層には、画像記録層の膜強度を向上させるため、バインダーポリマーを用いることができる。本発明に用いることができるバインダーポリマーは、従来公知のものを制限なく使用でき、皮膜性を有するポリマーが好ましい。なかでも、アクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリウレタン樹脂が好ましい。
バインダーを使用しても良いが、バインダーの含有量はウレタンオリゴマーの10mol%以下が好ましい。
本発明における画像記録層は、耐刷性を低下させることなく機上現像性を向上させるために、低分子親水性化合物を含有してもよい。
低分子親水性化合物としては、例えば、水溶性有機化合物としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール等のグリコール類及びそのエーテル又はエステル誘導体類、グリセリン、ペンタエリスリトール、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレート等のポリオール類、トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、モノエタノールアミン等の有機アミン類及びその塩、アルキルスルホン酸、トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸等の有機スルホン酸類及びその塩、アルキルスルファミン酸等の有機スルファミン酸類及びその塩、アルキル硫酸、アルキルエーテル硫酸等の有機硫酸類及びその塩、フェニルホスホン酸等の有機ホスホン酸類及びその塩、酒石酸、シュウ酸、クエン酸、リンゴ酸、乳酸、グルコン酸、アミノ酸類等の有機カルボン酸類及びその塩、ベタイン類、等が挙げられる。
これらの化合物は単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
本発明の画像記録層には、着肉性を向上させるために、画像記録層にホスホニウム化合物、含窒素低分子化合物、アンモニウム基含有ポリマーなどの感脂化剤を用いることができる。特に、保護層に無機質の層状化合物を含有させる場合、これらの化合物は、無機質の層状化合物の表面被覆剤として機能し、無機質の層状化合物による印刷途中の着肉性低下を防止する。
30%ポリマー溶液3.33g(固形分として1g)を、20mlのメスフラスコに秤量し、N−メチルピロリドンでメスアップする。この溶液を30℃の恒温槽で30分間静置し、ウベローデ還元粘度管(粘度計定数=0.010cSt/s)に入れて30℃にて流れ落ちる時間を測定する。なお測定は同一サンプルで2回測定し、その平均値を算出する。同様にブランク(N−メチルピロリドンのみ)の場合も測定し、下記式から還元粘度(ml/g)を算出した。
(1)2−(トリメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=p−トルエンスルホナート/3,6−ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体(モル比10/90 Mw4.5万)
(2)2−(トリメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=ヘキサフルオロホスファート/3,6−ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体(モル比20/80 Mw6.0万)
(3)2−(エチルジメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=p−トルエンスルホナート/ヘキシルメタクリレート共重合体(モル比30/70 Mw4.5万)
(4)2−(トリメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=ヘキサフルオロホスファート/2−エチルヘキシルメタクリレート共重合体(モル比20/80 Mw6.0万)
(5)2−(トリメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=メチルスルファート/ヘキシルメタクリレート共重合体(モル比40/60 Mw7.0万)
(6)2−(ブチルジメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=ヘキサフルオロホスファート/3,6−ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体(モル比 25/75 Mw6.5万)
(7)2−(ブチルジメチルアンモニオ)エチルアクリレート=ヘキサフルオロホスファート/3,6−ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体(モル比20/80 Mw6.5万)
(8)2−(ブチルジメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=13−エチル−5,8,11−トリオキサ−1−ヘプタデカンスルホナート/3,6−ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体(モル比20/80 Mw7.5万)
(9)2−(ブチルジメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=ヘキサフルオロホスファート/3,6−ジオキサヘプチルメタクリレート/2−ヒドロキシ−3−メタクロイルオキシプロピルメタクリレート共重合体(モル比15/80/5 Mw6.5万)
更にその他の成分として、界面活性剤、着色剤、焼き出し剤、重合禁止剤、高級脂肪酸誘導体、可塑剤、無機微粒子、無機質層状化合物、及び共増感剤若しくは連鎖移動剤などを添加することができる。具体的には、特開2008−284817号公報の段落番号[0114]〜[0159]、特開2006−091479号公報の段落番号[0023]〜[0027]、米国特許公開2008/0311520号明細書[0060]に記載の化合物及び添加量が好ましい。
本発明における画像記録層は、例えば、特開2008−195018号公報の段落番号[0142]〜[0143]に記載のように、必要な上記各成分を公知の溶剤に分散又は溶解して塗布液を調製し、これを支持体上にバーコーター塗布など公知の方法で塗布し、乾燥することで形成される。塗布、乾燥後に得られる支持体上の画像記録層塗布量(固形分)は、用途によって異なるが、一般的に0.3〜3.0g/m2が好ましい。この範囲で、良好な感度と画像記録層の良好な皮膜特性が得られる。
本発明の平版印刷版原版は、画像記録層と支持体との間に下塗り層(中間層と呼ばれることもある)を設けることが好ましい。下塗り層は、露光部においては支持体と画像記録層との密着を強化し、未露光部においては画像記録層の支持体からのはく離を生じやすくさせるため、耐刷性を損なわず現像性を向上させるのに寄与する。また、赤外線レーザー露光の場合は、下塗り層が断熱層として機能することにより、露光により発生した熱が支持体に拡散して感度が低下するのを防ぐ。
高分子ポリマーである場合は、吸着性基を有するモノマー、親水性基を有するモノマー、及び架橋性基を有するモノマーの共重合体が好ましい。支持体表面に吸着可能な吸着性基としては、フェノール性ヒドロキシ基、カルボキシ基、−PO3H2、−OPO3H2、−CONHSO2−、−SO2NHSO2−、−COCH2COCH3が好ましい。親水基としては、スルホ基が好ましい。架橋性基としてはメタクリル基、アリル基などが好ましい。
この高分子ポリマーは、高分子ポリマーの極性置換基と、対荷電を有する置換基及びエチレン性不飽和結合を有する化合物との塩形成で導入された架橋性基を有してもよいし、上記以外のモノマー、好ましくは親水性モノマーが更に共重合されていてもよい。
具体的には、特開平10−282679号公報に記載されている付加重合可能なエチレン性二重結合反応基を有しているシランカップリング剤、特開平2−304441号公報記載のエチレン性二重結合反応基を有しているリン化合物が好適に挙げられる。特開2005-238816、特開2005−125749、特開2006−239867、特開2006−215263号の各公報記載の架橋性基(好ましくは、エチレン性不飽和結合基)、支持体表面に相互作用する官能基、及び親水性基を有する低分子又は高分子化合物を含有するものも好ましく用いられる。
より好ましいものとして、特開2005−125749号及び特開2006−188038号公報に記載の支持体表面に吸着可能な吸着性基、親水性基、及び架橋性基を有する高分子ポリマーが挙げられる。
下塗り層用の高分子ポリマーは、Mwが5000以上であるのが好ましく、1万〜30万であるのがより好ましい。
本発明の平版印刷版原版に用いられる支持体としては、公知の支持体が用いられる。なかでも、公知の方法で粗面化処理され、陽極酸化処理されたアルミニウム板が好ましい。
また、上記アルミニウム板は必要に応じて、特開2001−253181号公報や特開2001−322365号公報に記載されている陽極酸化皮膜のマイクロポアの拡大処理や封孔処理、及び米国特許第2,714,066号、同第3,181,461号、同第3,280,734号及び同第3,902,734号の各明細書に記載されているようなアルカリ金属シリケートあるいは米国特許第3,276,868号、同第4,153,461号及び同第4,689,272号の各明細書に記載されているようなポリビニルホスホン酸などによる表面親水化処理を適宜選択して行うことができる。
支持体は、中心線平均粗さが0.10〜1.2μmであるのが好ましい。
本発明の平版印刷版原版は、画像記録層の上に保護層(オーバーコート層)を設けることが好ましい。保護層は酸素遮断によって画像形成阻害反応を抑制する機能の他、画像記録層における傷の発生防止、及び高照度レーザー露光時のアブレーション防止の機能を有する。
変性ポリビニルアルコールとしては、カルボン酸基又はスルホン酸基を有する酸変性ポリビニルアルコールが好ましく用いられる。具体的には、特開2005−250216、特開2006−259137記載の変性ポリビニルアルコールが好適に挙げられる。
また、保護層には、可撓性付与のための可塑剤、塗布性を向上させための界面活性剤、表面の滑り性を制御する無機微粒子など公知の添加物を含むことができる。また、画像記録層の説明に記載した感脂化剤を保護層に含有させることもできる。
本発明の平版印刷版原版の製版は機上現像方法で行うことが好ましい。機上現像方法は、平版印刷版原版を画像露光する工程と、露光後の平版印刷版原版になんらの現像処理を施すことなく、油性インキと水性成分とを供給して、印刷する印刷工程とを有し、該印刷工程の途上において平版印刷版原版の未露光部分が除去されることを特徴とする。画像様の露光は平版印刷版原版を印刷機に装着した後、印刷機上で行ってもよいし、プレートセッターなどで別途行ってもよい。後者の場合は、露光済み平版印刷版原版は現像処理工程を経ないでそのまま印刷機に装着される。その後、該印刷機を用い、油性インキと水性成分とを供給してそのまま印刷することにより、印刷途上の初期の段階で機上現像処理、すなわち、未露光領域の画像記録層が除去され、それに伴って親水性支持体表面が露出され非画像部が形成される。油性インキ及び水性成分としては、通常の平版印刷用の印刷インキと湿し水が用いられる。
以下、更に詳細に説明する。
赤外線レーザーに関しては、出力は100mW以上であることが好ましく、1画素当たりの露光時間は20マイクロ秒以内であるのが好ましく、また照射エネルギー量は10〜300mJ/cm2であるのが好ましい。レーザーにおいては、露光時間を短縮するためマルチビームレーザーデバイスを用いるのが好ましい。
このようにして、本発明の平版印刷版原版はオフセット印刷機上で機上現像され、そのまま多数枚の印刷に用いられる。
C−1 10.71g(0.025mol)、B−1 10.76g(0.035 mol)、メチルエチルケトン600mlを45℃で混合攪拌しながらA−1 23.30g(0.040mol)を1時間かけて滴下し、その後4時間反応させた。更に反応温度を10℃以下にしてネオスタンU−600(日東化成、ビスマス触媒)0.2gを30分かけ滴下し、次いで45℃で3時間攪拌反応させた後、エタノール50gを加え更に10分間攪拌した。その後、水に析出させ、濾過乾燥し、ウレタンオリゴマー1を合成した、Mwは3,000であった。
C−1 10.71g(0.025mol)、B−1 10.76g(0.035 mol)、メチルエチルケトン400mlを55℃で混合攪拌しながらA−1 23.30g(0.040mol)を1時間かけて滴下し、その後4時間反応させた。更に反応温度を10℃以下にしてネオスタンU−600(日東化成、ビスマス触媒)0.2gを30分かけ滴下し、次いで55℃で3時間攪拌反応させた後、エタノール50gを加え更に10分間攪拌させ、その後、水に析出させ、濾過乾燥し、ウレタンオリゴマー5を合成した、Mwは7,000であった。
C−1 2.91g(0.005mol)、B−1 23.67g(0.055 mol)、メチルエチルケトン600mlを45℃で混合攪拌しながらA−1 23.30g(0.040mol)を1時間かけて滴下し、その後4時間反応させた。更に反応温度を10℃以下にして、ネオスタンU−600(日東化成、ビスマス触媒)0.2gを30分かけ滴下し、次いで45℃で3時間攪拌反応させた後、エタノール50gを加え更に10分間攪拌させ、その後、水に析出させ、濾過乾燥し、ウレタンオリゴマー10を合成した、Mwは3,000であった。
その他のウレタンオリゴマーは上記合成例を適宜応用して合成した。分子量については、反応温度、反応時間、反応中にエタノール添加するタイミングを変化させることによりコントロールした。
1000mlの4つ口フラスコに撹拌機、温度計、滴下ロート、窒素導入管、還流冷却器を施し、窒素ガスを導入して脱酸素を行いつつ、ポリエチレングリコールメチルエーテルメタクリレート(PEGMA エチレングリコールの平均の繰返し単位は4)20g、蒸留水200g及びn−プロパノール200gを加えて内温が70℃となるまで加熱した。次に予め混合されたスチレン(St)30g、アクリロニトリル(AN)50g及び2,2’−アゾビスイソブチロニトリル0.8gの混合物を1時間かけて滴下した。滴下終了後5時間そのまま反応を続けた後、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル0.4gを添加し、内温を80℃まで上昇させた。続いて、0.5gの2,2’−アゾビスイソブチロニトリルを6時間かけて添加した。合計で20時間反応させた段階でポリマー化は98%以上進行しており、質量比でPEGMA/St/AN=20/30/50のポリマー微粒子水分散液D1が得られた。このポリマー微粒子の粒径分布は、粒子径150nmに極大値を有していた。
油相成分として、下記構造の多官能イソシアナート(三井化学ポリウレタン製;75%酢酸エチル溶液)4.46g、トリメチロールプロパン(6モル)とキシレンジイソシアナート(18モル)を付加させ、これにメチル片末端ポリオキシエチレン(1モル、なおオキシエチレン単位の繰り返し数は90)を付加させた付加体(三井化学ポリウレタン製;50%酢酸エチル溶液)0.86g、ペンタエリスリトールテトラアクリレート(サートマー製、SR399E)1.72g、及びパイオニンA−41C(竹本油脂製;メタノール70%溶液)0.05gを酢酸エチル4.46gに溶解した。油相成分及び水相成分としての水17.30gを混合し、ホモジナイザーを用いて10000rpmで15分間乳化した。得られた乳化物を、40℃で4時間攪拌した。このようにして得られたポリポリウレア/ウレタン微粒子(ミクロゲル)液の固形分濃度を、15質量%になるように水を用いて希釈し、このポリウレア/ウレタン微粒子(ミクロゲル)液をポリマー微粒子水分散液D2とした。ポリウレア/ウレタン微粒子(ミクロゲル)の平均粒径を光散乱法により測定したところ、平均粒径は0.25μmであった。
油相成分として、トリメチロールプロパンとキシレンジイソシアナート付加体(三井化学ポリウレタン(株)製、タケネートD−110N)10g、ペンタエリスリトールトリアクリレート(日本化薬(株)製、SR444)3.15g、及びパイオニンA−41C(竹本油脂(株)製)0.1g、ウレタンオリゴマー1 0.5gを酢酸エチル17gに溶解した。水相成分としてPVA−205の4質量%水溶液40gを調製した。油相成分及び水相成分を混合し、ホモジナイザーを用いて12,000rpmで10分間乳化した。得られた乳化物を、蒸留水25gに添加し、室温で30分攪拌後、50℃で3時間攪拌した。このようにして得られたポリウレア/ウレタン微粒子(ミクロゲル)液の固形分濃度を、15質量%になるように蒸留水を用いて希釈し、これをポリマー微粒子水分散液D3とした。ポリウレア/ウレタン微粒子(ミクロゲル)の平均粒径を光散乱法により測定したところ、平均粒径は0.2μmであった。
1000mlの4つ口フラスコに撹拌機、温度計、滴下ロート、窒素導入管、還流冷却器を施し、窒素ガスを導入して脱酸素を行いつつ、エチレングリコール20g、蒸留水200g及びn−プロパノール200gを加えて内温が70℃となるまで加熱した。次に予め混合されたスチレン(St)20g、アクリロニトリル(AN)80g及び2,2’−アゾビスイソブチロニトリル0.8gの混合物を1時間かけて滴下した。滴下終了後5時間そのまま反応を続けた後、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル0.4gを添加し、内温を80℃まで上昇させた。続いて、0.5gの2,2’−アゾビスイソブチロニトリルを6時間かけて添加した。合計で20時間反応させた段階でポリマー化は98%以上進行しており、質量比でSt/AN=20/80のポリマー微粒子水分散液D4が得られた。このポリマー微粒子の粒径分布は、粒子径170nmに極大値を有していた。
1000mlの4つ口フラスコに撹拌機、温度計、滴下ロート、窒素導入管、還流冷却器を施し、窒素ガスを導入して脱酸素を行いつつ蒸留水350mLを加えて内温が80℃となるまで加熱した。分散剤としてドデシル硫酸ナトリウム1.5gを添加し、更に開始剤として過硫化アンモニウム0.45gを添加し、次いでスチレン45.0gを滴下ロートから約1時間かけて滴下した。滴下終了後5時間そのまま反応を続けた後、水蒸気蒸留で未反応単量体を除去した。その後冷却しアンモニア水でpH6に調整し、最後に不揮発分が15質量%となるように純水を添加してポリマー微粒子水分散液D5を得た。ポリマー微粒子水分散液D1の場合と同様に測定したこのポリマー微粒子の粒径分布は、粒子径60nmに極大値を有していた。
1000mlの4つ口フラスコに撹拌機、温度計、滴下ロート、窒素導入管、還流冷却器を施し、窒素ガスを導入して脱酸素を行いつつ、ポリエチレングリコールメチルエーテルメタクリレート(PEGMA エチレングリコールの平均の繰返し単位は2)20g、蒸留水200g及びn−プロパノール200gを加えて内温が70℃となるまで加熱した。次に予め混合されたスチレン(St)10g、アクリロニトリル(AN)50g、アリルメタクリレート(AllylMA)20g及び2,2’−アゾビスイソブチロニトリル0.8gの混合物を1時間かけて滴下した。滴下終了後5時間そのまま反応を続けた後、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル0.4gを添加し、内温を80℃まで上昇させた。続いて、0.5gの2,2’−アゾビスイソブチロニトリルを6時間かけて添加した。合計で20時間反応させた段階でポリマー化は98%以上進行しており、質量比でPEGMA/St/AN/AllylMA=20/10/50/20のポリマー微粒子水分散液D6が得られた。このポリマー微粒子の粒径分布は、粒子径150nmに極大値を有していた。
1000mlの4つ口フラスコに撹拌機、温度計、滴下ロート、窒素導入管、還流冷却器を施し、窒素ガスを導入して脱酸素を行いつつ、ポリエチレングリコールメチルエーテルメタクリレート(PEGMA エチレングリコールの平均の繰返し単位は4)20g,蒸留水200g及びn−プロパノール200gを加えて内温が70℃となるまで加熱した。次に予め混合されたスチレン(St)10g、アクリロニトリル(AN)50g、アリルメタクリレート(AllylMA)20g及び2,2’−アゾビスイソブチロニトリル0.8gの混合物を1時間かけて滴下した。滴下終了後5時間そのまま反応を続けた後、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル0.4gを添加し、内温を80℃まで上昇させた。続いて、0.5gの2,2’−アゾビスイソブチロニトリルを6時間かけて添加した。合計で20時間反応させた段階でポリマー化は98%以上進行しており、質量比でPEGMA/St/AN/AllylMA=20/10/50/20のポリマー微粒子水分散液D7が得られた。このポリマー微粒子の粒径分布は、粒子径150nmに極大値を有していた。
1000mlの4つ口フラスコに撹拌機、温度計、滴下ロート、窒素導入管、還流冷却器を施し、窒素ガスを導入して脱酸素を行いつつ、ポリエチレングリコールメチルエーテルメタクリレート(PEGMA エチレングリコールの平均の繰返し単位は20)20g、蒸留水200g及びn−プロパノール200gを加えて内温が70℃となるまで加熱した。次に予め混合されたスチレン(St)10g、アクリロニトリル(AN)50g、アリルメタクリレート(AllylMA)20g及び2,2’−アゾビスイソブチロニトリル0.8gの混合物を1時間かけて滴下した。滴下終了後5時間そのまま反応を続けた後、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル0.4gを添加し、内温を80℃まで上昇させた。続いて、0.5gの2,2’−アゾビスイソブチロニトリルを6時間かけて添加した。合計で20時間反応させた段階でポリマー化は98%以上進行しており、質量比でPEGMA/St/AN/AllylMA=20/10/50/20のポリマー微粒子水分散液D8が得られた。このポリマー微粒子の粒径分布は、粒子径150nmに極大値を有していた。
1000mlの4つ口フラスコに撹拌機、温度計、滴下ロート、窒素導入管、還流冷却器を施し、窒素ガスを導入して脱酸素を行いつつ、ポリエチレングリコールメチルエーテルメタクリレート(PEGMA エチレングリコールの平均の繰返し単位は45)20g、蒸留水200g及びn−プロパノール200gを加えて内温が70℃となるまで加熱した。次に予め混合されたスチレン(St)10g、アクリロニトリル(AN)50g、アリルメタクリレート(AllylMA)20g及び2,2’−アゾビスイソブチロニトリル0.8gの混合物を1時間かけて滴下した。滴下終了後5時間そのまま反応を続けた後、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル0.4gを添加し、内温を80℃まで上昇させた。続いて、0.5gの2,2’−アゾビスイソブチロニトリルを6時間かけて添加した。合計で20時間反応させた段階でポリマー化は98%以上進行しており、質量比でPEGMA/St/AN/AllylMA=20/10/50/20のポリマー微粒子水分散液D9が得られた。このポリマー微粒子の粒径分布は、粒子径150nmに極大値を有していた。
1000mlの4つ口フラスコに撹拌機、温度計、滴下ロート、窒素導入管、還流冷却器を施し、窒素ガスを導入して脱酸素を行いつつ、ポリエチレングリコールメチルエーテルメタクリレート(PEGMA エチレングリコールの平均の繰返し単位は1)20g、蒸留水200g及びn−プロパノール200gを加えて内温が70℃となるまで加熱した。次に予め混合されたスチレン(St)10g、アクリロニトリル(AN)50g、アリルメタクリレート(AllylMA)20g及び2,2’−アゾビスイソブチロニトリル0.8gの混合物を1時間かけて滴下した。滴下終了後5時間そのまま反応を続けた後、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル0.4gを添加し、内温を80℃まで上昇させた。続いて、0.5gの2,2’−アゾビスイソブチロニトリルを6時間かけて添加した。合計で20時間反応させた段階でポリマー化は98%以上進行しており、質量比でPEGMA/St/AN/AllylMA=20/10/50/20のポリマー微粒子水分散液D10が得られた。このポリマー微粒子の粒径分布は、粒子径150nmに極大値を有していた。
D1:ポリ[PEGMA(エチレンオキサイド繰り返し数4)/St/AN]微粒子
D2:ポリウレタン/ウレア微粒子
D3:ポリウレタン/ウレア微粒子 (ウレタンオリゴマー内包、比較例用)
D4:ポリ[St/AN]微粒子 (ポリオキシアルキレン基を含まない)
D5:ポリ[St]微粒子
D6: ポリ[PEGMA(エチレンオキサイド繰り返し数2)/St/AN/AllylMA]微粒子
D7: ポリ[PEGMA(エチレンオキサイド繰り返し数4)/St/AN/AllylMA]微粒子
D8: ポリ[PEGMA(エチレンオキサイド繰り返し数20)/St/AN/AllylMA]微粒子
D9: ポリ[PEGMA(エチレンオキサイド繰り返し数45)/St/AN/AllylMA]微粒子
D10: ポリ[PEGMA(エチレンオキサイド繰り返し数1)/St/AN/AllylMA]微粒子
(1)支持体の作製
厚み0.3mmのアルミニウム板(材質JIS A 1050)の表面の圧延油を除去するため、10質量%アルミン酸ソーダ水溶液を用いて50℃で30秒間、脱脂処理を施した後、毛径0.3mmの束植ナイロンブラシ3本とメジアン径25μmのパミス−水懸濁液(比重1.1g/cm3)を用いアルミニウム表面を砂目立てして、水でよく洗浄した。この板を45℃の25質量%水酸化ナトリウム水溶液に9秒間浸漬してエッチングを行い、水洗後、更に60℃で20質量%硝酸に20秒間浸漬し、水洗した。この時の砂目立て表面のエッチング量は約3g/m2であった。
次に、この板に15質量%硫酸(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)を電解液として電流密度15A/dm2で2.5g/m2の直流陽極酸化皮膜を設けた後、水洗、乾燥して支持体(1)を作製した。
その後、非画像部の親水性を確保するため、支持体(1)に2.5質量%3号ケイ酸ソーダ水溶液を用いて60℃で10秒間、シリケート処理を施し、その後、水洗して支持体(2)を得た。Siの付着量は10mg/m2であった。この基板の中心線平均粗さ(Ra)を直径2μmの針を用いて測定したところ、0.51μmであった。
次に、上記支持体(2)上に、下記下塗り層用塗布液(1)を乾燥塗布量が20mg/m2になるよう塗布して、以下の実験に用いる下塗り層を有する支持体を作製した。
・下記構造の下塗り層用化合物(1) 0.18g
・ヒドロキシエチルイミノ二酢酸 0.10g
・メタノール 55.24g
・水 6.15g
。
・ポリマー微粒子水分散液[下表に記載] 20.0g
・赤外線吸収剤(1)[下記構造] 0.2g
・ラジカル重合開始剤 Irgacure250(チバスペシャリティケミカルズ製) 0.5g
・ラジカル重合性ウレタンオリゴマー[下表に記載] 0.24g
・メルカプト−3−トリアゾール 0.2g
・Byk336(Byk Chimie社製) 0.4g
・Klucel M(Hercules社製) 4.8g
・ELVACITE4026(Ineos Acrylica社製) 2.5g
・n−プロパノール 55.0g
・2−ブタノン 17.0g
・IRGACURE 250:(4−メトキシフェニル)[4−(2−メチルプロピル)フェニル]ヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート(75質量%プロピレンカーボナート溶液)
・Byk 336:変性ジメチルポリシロキサン共重合体(25質量%キシレン/メトキシプロ
ピルアセテート溶液)
・Klucel M:ヒドロキシプロピルセルロース(2質量%水溶液)
・ELVACITE 4026:高分岐ポリメチルメタクリレート(10質量%2−ブタノン溶液)
実施例1の平版印刷版原版に用いた画像記録層塗布液(1)のポリマー微粒子水分散液D1の代りにポリマー微粒子水分散液D2用いて形成した画像記録層上に、更に下記組成の保護層塗布液(1)をバー塗布した後、120℃、60秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量0.15g/m2の保護層を形成して、実施例6の平版印刷版原版を得た。
実施例1の平版印刷版原版の画像記録層上に、更に下記組成の保護層塗布液(1)をバー塗布した後、120℃、60秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量0.15g/m2の保護層を形成して、実施例7の平版印刷版原版を得た。
・無機質層状化合物分散液(1) 1.5g
・ポリビニルアルコール(日本合成化学工業(株)製CKS50、スルホン酸変性、
けん化度99モル%以上、重合度300)6質量%水溶液 0.55g
・ポリビニルアルコール((株)クラレ製PVA−405、
けん化度81.5モル%、重合度500)6質量%水溶液 0.03g
・日本エマルジョン(株)製界面活性剤
(エマレックス710)1質量%水溶液 0.86g
・イオン交換水 6.0g
イオン交換水193.6gに合成雲母ソマシフME−100(コープケミカル(株)製)6.4gを添加し、ホモジナイザーを用いて平均粒径(レーザー散乱法)が3μmになるまで分散した。得られた分散粒子のアスペクト比は100以上であった。
画像記録層塗布液(1)に更にバインダーポリマー〔例示化合物(10)、Mw25000〕を0.2g加えた以外は実施例1と同様にして実施例8の平版印刷版原版を作製した。
画像記録層塗布液(1)に更に重合性化合物〔テトラエチレングリコールジメタクリレート〕を0.3g加えた以外は実施例1と同様にして実施例9の平版印刷版原版を作製した。
実施例1の平版印刷版原版に用いる画像記録層塗布液の粒子としてD1の代りに下記表2に記載のポリマー粒子を用いた平版印刷版原版の画像記録層上に、更に上記組成の保護層塗布液(1)をバー塗布した後、120℃、60秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量0.15g/m2の保護層を形成して、実施例10の平版印刷版原版を得た。
実施例1の平版印刷版原版に用いる画像記録層塗布液の粒子としてD1の代りに下記表3に記載のポリマー粒子を用いた実施例11〜17の平版印刷版原版を得た。
画像記録層塗布液(1)のラジカル重合性ウレタンオリゴマーをウレタンオリゴマーUA−306H〔ペンタエリスリトールトリアクリレート/ヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマー(共栄社化学(株)製、Mw726)に変更した以外は実施例1と同様にして比較例1の平版印刷版原版を作製した。
画像記録層塗布液(1)のウレタンオリゴマー1を無添加とし、ポリマー微粒子水分散液D1の代わりにウレタンオリゴマー1を内包するポリマー微粒子D3を用いた画像記録層塗布液(1)を実施例1と同様の方法で塗布して画像記録層を形成した後、その上に更に保護層塗布液(1)をバー塗布し、120℃、60秒でオーブン乾燥して乾燥塗布量0.15g/m2の保護層を形成し比較例2の平版印刷版原版を得た。
画像記録層塗布液(1)のポリマー微粒子水分散液を添加しなかった以外は実施例1と同様にして比較例5の平版印刷版原版を作製した。
画像記録層塗布液(1)のラジカル重合性ウレタンオリゴマーを下記表4に記載のC成分を含まないラジカル重合性ウレタンオリゴマーX1に変更した以外は実施例1と同様にして比較例6の平版印刷版原版を作製した。
画像記録層塗布液(1)のラジカル重合性ウレタンオリゴマーを下記表4に記載のB成分を含まないラジカル重合性ウレタンオリゴマーX2に変更した以外は実施例1と同様にして比較例7の平版印刷版原版を作製した。
(1)耐刷性
得られた平版印刷版原版を赤外線半導体レーザー搭載の富士フイルム(株)製Luxel PLATESETTER T−6000IIIにて、外面ドラム回転数1000rpm、レーザー出力70%、解像度2400dpiの条件で露光した。露光画像にはベタ画像及び20μmドットFMスクリーンの50%網点チャートを含むようにした。
得られた露光済み原版を現像処理することなく、(株)小森コーポレーション製印刷機LITHRONE26の版胴に取り付けた。Ecolity−2(富士フイルム(株)製)/水道水=2/98(容量比)の湿し水とValues−G(N)墨インキ(大日本インキ化学工業(株)製)とを用い、LITHRONE26の標準自動印刷スタート方法で湿し水とインキとを供給して機上現像した後、毎時10000枚の印刷速度で、特菱アート(76.5kg)紙に印刷を行った。
印刷枚数を増やしていくと徐々に画像記録層が磨耗するため印刷物上のインキ濃度が低下した。印刷物におけるFMスクリーン50%網点の網点面積率をグレタグ濃度計で計測した値が印刷100枚目の計測値よりも5%低下したときの印刷部数を刷了枚数として耐刷性を評価した。結果を下表に示す。
各々の平版印刷版について上記通り印刷行い、1万枚印刷した後における非画像部のブランケットの汚れをテープに転写し1cm2あたりのインキ汚れ面積が1%未満を100、2%未満を90、4%未満を80、6%未満を70、8%未満を60、10%未満を50、15%未満を40、20%未満を30、30%未満20、40%未満を10、40%以上を0の10段階で評価した。結果を下表に示す。
各々の平版印刷版について上記通り印刷行い、1万枚印刷後における非画像部の機上現像カスを目視で評価した。印刷後水つけローラをテープに転写し、マイクロスコープで1cm2中の長さ3マイクロメートル以上のカスの数が2個未満を100、4個未満を90、6個未満を80、10個未満を70、15個未満を60、20個未満を50、25個未満を40、30個未満を30、40個未満を20、50個未満を10、50個以上を0の10段階で評価した。結果を下表に示す。
比較例1の公知のウレタンオリゴマーを用いた場合と比較して、本発明のウレタンオリゴマーは、耐刷性、機上現像カス、汚れ性、いずれの点でも優れている。
比較例2は、ウレタンオリゴマーを含有するが、ポリマー微粒子中に内包され、粒子外にウレタンオリゴマーがない場合は、本発明の効果は発現されないことを示している。
また、比較例3、4は、ウレタンオリゴマーのMwが本発明の範囲外である場合も、耐刷性、機上現像カス、汚れ性のいずれもが良好という本発明の効果は発現されないことを示している。
本発明の実施例においては、種々のポリマー微粒子D1〜D10のいずれでも本発明の効果が発現されるが、なかでも、ポリオキシアルキレン基を有するポリマー微粒子を含有する場合(実施例1、実施例10、実施例13〜16)が、機上現像カス及び汚れ性の点で優れている。実施例13〜17の比較から、ポリマー微粒子が有するエチレンオキサイド繰り返し数は2〜20が特に好ましいことが分かる。
また、耐刷性の点ではシアノ基を有するポリマー微粒子がより好ましいことがわかる。
なかでも、親水性基がポリオキシエチレン鎖、ベタイン、アミド基であるウレタンオリゴマーを用いた場合がより良好であり、ポリオキシエチレン鎖のくり返し単位数としては2〜20である場合がより良好である。
Claims (15)
- 支持体上に、(a)赤外線吸収剤、(b)ラジカル重合開始剤、(c)ポリマー微粒子及び(d)ラジカル重合性ウレタンオリゴマーを含有し、印刷機のシリンダー上で湿し水及び印刷インキにより未露光部が除去可能な画像記録層を有する平版印刷版原版であって、上記(d)ラジカル重合性ウレタンオリゴマーが重合性基、並びにスルホ基、ポリオキシアルキレン鎖を有する基、ヒドロキシ基、アミド基、アンモニウム基及びベタイン構造を有する基から選ばれる少なくとも一つの親水性基を有し、質量平均モル質量(Mw)が1500〜10000であり、かつポリマー微粒子外に存在することを特徴とする平版印刷版原版。
- 親水性基がポリオキシアルキレン鎖を有する基、アミド基及びベタイン構造を有する基のいずれかであることを特徴とする請求項1に記載の平版印刷版原版。
- 親水性基がポリオキシエチレン鎖を有する基であることを特徴とする請求項2に記載の平版印刷版原版。
- ポリオキシエチレン鎖のオキシエチレンの繰り返し数が2〜20であることを特徴とする請求項3に記載の平版印刷版原版。
- ラジカル重合性ウレタンオリゴマーの質量平均モル質量(Mw)が2000〜5000であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の平版印刷版原版。
- ラジカル重合性ウレタンオリゴマーが、少なくとも(A)三官能以上のイソシアネート化合物、(B)メタクリロイル基又はアクリロイル基及びヒドロキシ基を有する化合物、並びに(C)親水性基及びヒドロキシ基を有する化合物の反応により得られるラジカル重合性ウレタンオリゴマーであり、(B)及び(C)の少なくともいずれかは2つ以上のヒドロキシ基を有することを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項に記載の平版印刷版原版。
- ポリマー微粒子が、ポリオキシアルキレン鎖を含有することを特徴とする請求項1〜6のいずれか一項に記載の平版印刷版原版。
- ポリマー微粒子の有するポリオキシアルキレン鎖がポリオキシエチレン鎖であることを特徴とする請求項7に記載の平版印刷版原版。
- ポリマー微粒子の有するポリオキシエチレン鎖のオキシエチレンの繰り返し数が2〜20であることを特徴とする請求項8に記載の平版印刷版原版。
- ポリマー微粒子が、少なくともアクリロニトリルモノマー単位を構成成分とする有機樹脂微粒子であることを特徴とする請求項1〜9のいずれか一項に記載の平版印刷版原版。
- ポリマー微粒子が、1つ以上のエチレン性不飽和基を有するモノマー単位を含有することを特徴とする請求項1〜10のいずれか一項に記載の平版印刷版原版。
- 画像記録層の上に、保護層を有することを特徴とする請求項1〜11のいずれか一項に記載の平版印刷版原版。
- 保護層が、親水性樹脂を含有することを特徴とする請求項12に記載の平版印刷版原版。
- 保護層が、無機層状化合物を含有することを特徴とする請求項12又は13に記載の平版印刷版原版。
- 請求項1〜14のいずれか一項に記載の平版印刷版原版を露光後に、現像処理工程を経ることなく、印刷機のシリンダー上で湿し水及び/又は印刷インキを供給して画像記録層未露光部分を除去し、平版印刷版を作製すること特徴とする平版印刷版の製版方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010029447A JP5537980B2 (ja) | 2010-02-12 | 2010-02-12 | 平版印刷版原版及びその製版方法 |
EP11154129.8A EP2363748B1 (en) | 2010-02-12 | 2011-02-11 | Lithographic printing plate precursor and plate making method thereof |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010029447A JP5537980B2 (ja) | 2010-02-12 | 2010-02-12 | 平版印刷版原版及びその製版方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011161872A true JP2011161872A (ja) | 2011-08-25 |
JP5537980B2 JP5537980B2 (ja) | 2014-07-02 |
Family
ID=44148939
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010029447A Active JP5537980B2 (ja) | 2010-02-12 | 2010-02-12 | 平版印刷版原版及びその製版方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP2363748B1 (ja) |
JP (1) | JP5537980B2 (ja) |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20111216 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120709 |
|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20120914 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
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