JP2011141174A5 - - Google Patents

Claims (2)

1. 前記パターンは縞状のパターンを有し、
   前記投影手段は、更に、前記位置姿勢演算手段によって算出された前記計測対象物体の位置姿勢の変化の大きさに基づいて投影するパターンの縞の間隔を変更することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の３次元計測装置。
   
2. 計測対象物体の形状モデルを形状モデル保持手段に保持する工程と、
   前記計測対象物体の概略位置姿勢を示す情報を概略位置姿勢保持手段に保持する工程と、
   明暗で構成された複数種類のパターンを投影部より前記計測対象物体に投影する投影工程と、
   前記投影工程でパターンが投影された前記計測対象物体を撮像部により撮影する撮影工程と、
   前記形状モデルと前記概略位置姿勢を示す情報とに基づいて前記撮影工程で取得される撮像画像における前記パターンの座標値を算出する投影位置演算工程と、
   前記投影位置演算工程で算出された前記座標値に基づいて前記撮像画像における撮影されたパターンを探索し、撮影されたパターンと投影されたパターンとを対応づけることにより前記計測対象物体の表面と前記撮像部との距離を求める距離演算工程と、
   前記距離演算工程で求めた距離と前記形状モデル保持手段に保持されている形状モデルを用いて前記計測対象物体の位置姿勢を推定し、前記概略位置姿勢保持手段に保持されている概略位置姿勢の情報を更新する位置姿勢演算工程とを備えることを特徴とする３次元計測装置の制御方法。