JP2011086363A - 駆動回路、当該駆動回路を具備する表示装置、当該表示装置を具備する電子機器 - Google Patents

駆動回路、当該駆動回路を具備する表示装置、当該表示装置を具備する電子機器 Download PDF

Info

Publication number
JP2011086363A
JP2011086363A JP2010202554A JP2010202554A JP2011086363A JP 2011086363 A JP2011086363 A JP 2011086363A JP 2010202554 A JP2010202554 A JP 2010202554A JP 2010202554 A JP2010202554 A JP 2010202554A JP 2011086363 A JP2011086363 A JP 2011086363A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
circuit
transistor
node
potential
signal
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2010202554A
Other languages
English (en)
Other versions
JP5084887B2 (ja
JP2011086363A5 (ja
Inventor
Jun Koyama
潤 小山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd
Original Assignee
Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd filed Critical Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd
Priority to JP2010202554A priority Critical patent/JP5084887B2/ja
Publication of JP2011086363A publication Critical patent/JP2011086363A/ja
Publication of JP2011086363A5 publication Critical patent/JP2011086363A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5084887B2 publication Critical patent/JP5084887B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C19/00Digital stores in which the information is moved stepwise, e.g. shift registers
    • G11C19/28Digital stores in which the information is moved stepwise, e.g. shift registers using semiconductor elements
    • GPHYSICS
    • G09EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
    • G09GARRANGEMENTS OR CIRCUITS FOR CONTROL OF INDICATING DEVICES USING STATIC MEANS TO PRESENT VARIABLE INFORMATION
    • G09G3/00Control arrangements or circuits, of interest only in connection with visual indicators other than cathode-ray tubes
    • G09G3/20Control arrangements or circuits, of interest only in connection with visual indicators other than cathode-ray tubes for presentation of an assembly of a number of characters, e.g. a page, by composing the assembly by combination of individual elements arranged in a matrix no fixed position being assigned to or needed to be assigned to the individual characters or partial characters
    • GPHYSICS
    • G09EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
    • G09GARRANGEMENTS OR CIRCUITS FOR CONTROL OF INDICATING DEVICES USING STATIC MEANS TO PRESENT VARIABLE INFORMATION
    • G09G3/00Control arrangements or circuits, of interest only in connection with visual indicators other than cathode-ray tubes
    • G09G3/20Control arrangements or circuits, of interest only in connection with visual indicators other than cathode-ray tubes for presentation of an assembly of a number of characters, e.g. a page, by composing the assembly by combination of individual elements arranged in a matrix no fixed position being assigned to or needed to be assigned to the individual characters or partial characters
    • G09G3/34Control arrangements or circuits, of interest only in connection with visual indicators other than cathode-ray tubes for presentation of an assembly of a number of characters, e.g. a page, by composing the assembly by combination of individual elements arranged in a matrix no fixed position being assigned to or needed to be assigned to the individual characters or partial characters by control of light from an independent source
    • G09G3/36Control arrangements or circuits, of interest only in connection with visual indicators other than cathode-ray tubes for presentation of an assembly of a number of characters, e.g. a page, by composing the assembly by combination of individual elements arranged in a matrix no fixed position being assigned to or needed to be assigned to the individual characters or partial characters by control of light from an independent source using liquid crystals
    • GPHYSICS
    • G09EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
    • G09GARRANGEMENTS OR CIRCUITS FOR CONTROL OF INDICATING DEVICES USING STATIC MEANS TO PRESENT VARIABLE INFORMATION
    • G09G2310/00Command of the display device
    • G09G2310/02Addressing, scanning or driving the display screen or processing steps related thereto
    • G09G2310/0264Details of driving circuits
    • G09G2310/0267Details of drivers for scan electrodes, other than drivers for liquid crystal, plasma or OLED displays
    • GPHYSICS
    • G09EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
    • G09GARRANGEMENTS OR CIRCUITS FOR CONTROL OF INDICATING DEVICES USING STATIC MEANS TO PRESENT VARIABLE INFORMATION
    • G09G2310/00Command of the display device
    • G09G2310/02Addressing, scanning or driving the display screen or processing steps related thereto
    • G09G2310/0264Details of driving circuits
    • G09G2310/0286Details of a shift registers arranged for use in a driving circuit
    • GPHYSICS
    • G09EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
    • G09GARRANGEMENTS OR CIRCUITS FOR CONTROL OF INDICATING DEVICES USING STATIC MEANS TO PRESENT VARIABLE INFORMATION
    • G09G2310/00Command of the display device
    • G09G2310/02Addressing, scanning or driving the display screen or processing steps related thereto
    • G09G2310/0264Details of driving circuits
    • G09G2310/0289Details of voltage level shifters arranged for use in a driving circuit
    • GPHYSICS
    • G09EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
    • G09GARRANGEMENTS OR CIRCUITS FOR CONTROL OF INDICATING DEVICES USING STATIC MEANS TO PRESENT VARIABLE INFORMATION
    • G09G2310/00Command of the display device
    • G09G2310/02Addressing, scanning or driving the display screen or processing steps related thereto
    • G09G2310/0264Details of driving circuits
    • G09G2310/0291Details of output amplifiers or buffers arranged for use in a driving circuit

Abstract

【課題】エンハンスメント型、またはディプレッション型のいずれかに変動する駆動回路であっても、回路内の誤動作を低減できる駆動回路を提供する。
【解決手段】パルス出力回路には、第1のトランジスタ及び第2のトランジスタのソース端子と、低電源電位を供給する配線との間に、ソース端子の電位を低電源電位より昇圧するための回路が設けられており、ソース端子の電位を低電源電位にするためのスイッチを有し、スイッチは、第1のトランジスタ及び第2のトランジスタがエンハンスメント型、またはディプレッション型であるかを判定する判定回路によって、制御される。
【選択図】図1

Description

本発明は、駆動回路(シフトレジスタ回路ともいう)に関する。または、画素部と同じ基板に形成される駆動回路を有する表示装置に関する。または、当該表示装置を具備する電子機器に関する。
表示装置は、液晶テレビなどの大型表示装置の普及に伴い、より付加価値の高い製品が求められており、開発が進められている。特に、チャネル領域が非晶質半導体、特に酸化物半導体によって構成される薄膜トランジスタ(TFT)を用いて、画素部と同じ基板に走査線駆動回路などの駆動回路を構成する技術は、活発に開発が進められている。
チャネル領域が非晶質半導体によって構成される薄膜トランジスタは、単極性の回路構成によって駆動回路を構成することが多く、一例としては、特許文献1に記載の構成が挙げられる。
特開2005−251348号公報
チャネル領域が非晶質半導体によって構成される薄膜トランジスタを単極性の駆動回路に用いる場合、しきい値電圧のばらつき等により、動作に不具合が生じる場合がある。具体的にしきい値電圧のばらつきにより生じる問題点について、図11を示し詳述する。
図11(A)に示す単極性回路は一例として特許文献1の図1に記載のシフトレジスタを構成するパルス出力回路の1段目について示した回路であり、トランジスタTr11、トランジスタTr12、トランジスタTr13、トランジスタTr14、トランジスタTr15、トランジスタTr16、容量素子CAを有するものである。また図11(A)中、NAはトランジスタTr12のゲート端子のノード、NBはトランジスタTr13のゲート端子のノード、NCは出力端子のノードについて、示すものである。また図11(A)では、トランジスタTr12に第1のクロック信号CK1が入力され、トランジスタTr14に第2のクロック信号CK2が入力され、トランジスタTr11及びトランジスタTr15にスタートパルスVstが入力され、トランジスタTr13、トランジスタTr15、トランジスタTr16に低電源電位(Vss)が供給される構成が開示されている。また図11(A)で信号GS_(1)は、1段目のパルス出力回路の信号について示すものである。また図11(B)に示すタイミングチャートは、特許文献1の図2に記載の図11(A)に示す回路のタイミングチャートである。図11(A)中の各素子は、図11(B)の信号に応じて動作することとなる。
図11(A)中のノードNAでは、出力信号を高電源電位の信号(H信号ともいう)にするために、定期的に、電気的にフローティング状態(浮遊状態)及び所定の電位が入力される状態がある(図11(B)中、NAで点線の期間がフローティング状態の期間、実線の期間が所定の電位が入力される期間)。同様に、図11(A)中のノードNBでは、出力信号を低電源電位の信号(L信号ともいう)に保持するために、定期的に、電気的にフローティング状態及び所定の電位が入力される状態がある(図11(B)中、NBで点線の期間がフローティング状態の期間、実線の期間が所定の電位が入力される期間)。
上述したように、チャネル領域が非晶質半導体によって構成される薄膜トランジスタを単極性の駆動回路に用いる場合、しきい値電圧のばらつきを生じることで、トランジスタがエンハンスメント型(ノーマリーオフともいう)、ディプレッション型(ノーマリーオンともいう)になることがある。ノーマリーオンの場合には、ノードNAの電位が、特に図11(B)中、Aの期間で、トランジスタTr16からのリーク電流により低下し、出力信号をH信号に保持できないといった問題がある。同様に、ノーマリーオンの場合には特に図11(B)中、Bの期間で、ノードNBの電位がトランジスタTr15からのリーク電流により低下し、ゲート電位がLレベルであっても、出力信号をL信号に保持できないといった問題がある。また、トランジスタがノーマリーオンとなることを抑制するために、各端子に入力する電位を調整することで対策をとった場合、トランジスタがノーマリーオフとなった場合には所望の動作が得られないといった問題が生じる。
なお、図11(A)、(B)に示す例に限らずに、ダイナミック駆動により、順次パルスを出力する駆動回路の場合には、リーク電流の増加が誤動作の原因になる。また、パルス出力回路を具備する駆動回路を生産する上で、エンハンスメント型、またはディプレッション型となるかが基板毎に異なるといったバラツキが生じることもあり、その際予めエンハンスメント型、またはディプレッション型の一方となる際の対策を講じた回路設計では、エンハンスメント型、またはディプレッション型の他方となった際の対応が難しくなるといった問題もあり得る。そのため、薄膜トランジスタの特性がエンハンスメント型、またはディプレッション型であるに関わらず、誤動作のない駆動回路となる回路設計であることが求められる。
そこで本発明の一態様は、チャネルが非晶質半導体によって構成される薄膜トランジスタを単極性の駆動回路に用いる際、薄膜トランジスタの作製条件等に起因するしきい値電圧のばらつきによって、エンハンスメント型、またはディプレッション型のいずれかに変動する駆動回路であっても、回路内の誤動作を低減できる駆動回路を提供することを課題の一とする。
本発明の一態様は、複数段のパルス出力回路を有する駆動回路において、パルス出力回路は、第1のノード、第2のノードの電位に応じて出力信号を出力するための第1の回路と、第1のノードに、前段のパルス出力回路の出力信号に応じた信号を供給する第2の回路と、第2のノードに間欠的に高電源電位の信号を供給するための第3の回路と、第2のノードがゲートに電気的に接続され、第2のノードの電位に応じて、第1のノードの電位を制御するための第1のトランジスタと、前段のパルス出力回路の出力信号に応じた信号がゲートに供給され、第2のノードの電位を制御するための第2のトランジスタと、を有し、第1のトランジスタ及び第2のトランジスタのソース端子と、低電源電位を供給する配線との間には、ソース端子の電位を低電源電位より昇圧するための第4の回路が設けられており、ソース端子の電位を低電源電位にするためのスイッチを有し、スイッチは、第1のトランジスタ及び第2のトランジスタがエンハンスメント型、またはディプレッション型であるかを判定する判定回路によって、制御されることを特徴とする駆動回路である。
本発明の一態様において、第4の回路は、ゲートとドレイン端子が電気的に接続され、ソース端子が低電源電位が供給される配線に電気的に接続されたトランジスタを有する回路である駆動回路でもよい。
本発明の一態様において、第4の回路を構成するトランジスタのL/Wは、第1のトランジスタ及び第2のトランジスタのL/Wより大きい駆動回路でもよい。
本発明の一態様において、判定回路は、定電流源、トランジスタ、コンパレータ、及びバッファ回路を有する駆動回路でもよい。
本発明の一態様において、スイッチはトランジスタである駆動回路でもよい。
本発明の一態様において、駆動回路を構成するトランジスタは、酸化物半導体層でなる半導体層を有する駆動回路でもよい。
本発明の一態様により、チャネルが非晶質半導体によって構成される薄膜トランジスタを単極性の駆動回路に用いる際、薄膜トランジスタの作製条件等に起因するしきい値電圧のばらつきによって、エンハンスメント型、またはディプレッション型のいずれかに変動する駆動回路であっても、回路内の誤動作を低減できる駆動回路を提供することができる。
パルス出力回路の一例を示す図。 判定回路の一例を示す図。 パルス出力回路を構成する各回路の一例を示す図。 パルス出力回路及びシフトレジスタの一例を示す図。 シフトレジスタのタイミングチャートを示す図。 パルス出力回路の動作を説明するフローチャート図。 表示装置の断面図の一例を示す図。 表示装置のブロック図の一例を示す図。 シフトレジスタのブロック図及びタイミングチャートの一例を示す図。 表示装置の一例を示す図。 従来の回路の課題について説明するための図。
以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら説明する。但し、本発明は多くの異なる態様で実施することが可能であり、本発明の趣旨及びその範囲から逸脱することなくその形態及び詳細を様々に変更し得ることは当業者であれば容易に理解される。従って実施の形態の記載内容に限定して解釈されるものではない。なお、以下に説明する本発明の構成において、同じ物を指し示す符号は異なる図面間において共通とする。
なお、各実施の形態の図面等において示す各構成の、大きさ、層の厚さ、又は領域は、明瞭化のために誇張されて表記している場合がある。よって、必ずしもそのスケールに限定されない。
なお本明細書にて用いる第1、第2、第3、乃至第N(Nは自然数)という用語は、構成要素の混同を避けるために付したものであり、数的に限定するものではないことを付記する。
(実施の形態1)
本実施の形態では、まず、複数段のパルス出力回路を有する駆動回路でのパルス出力回路の一段の構成について図面を参照して説明する。
本実施の形態で示すパルス出力回路100は、第1の回路101、第2の回路102、第3の回路103、第4の回路104A及び104B、第1のトランジスタ105、第2のトランジスタ106、スイッチ107A及び107Bを有する。なおパルス出力回路100を構成する各トランジスタはnチャネル型の薄膜トランジスタである。
なおパルス出力回路100を構成する各トランジスタの半導体層として、酸化物半導体を用いてもよい。酸化物半導体を用いたトランジスタはアモルファスシリコン等のシリコン系半導体材料を用いたトランジスタと比較して電界効果移動度が高い。なお酸化物半導体としては、例えば、酸化亜鉛(ZnO)、酸化スズ(SnO)なども用いることができる。また、ZnOにInやGaなどを添加することもできる。
酸化物半導体としてInMO(ZnO)(x>0)で表記される薄膜を用いることができる。なお、Mは、ガリウム(Ga)、鉄(Fe)、ニッケル(Ni)、マンガン(Mn)及びコバルト(Co)から選ばれた一の金属元素又は複数の金属元素を示す。例えばMとして、Gaの場合があることの他、GaとNi又はGaとFeなど、Ga以外の上記金属元素が含まれる場合がある。また、上記酸化物半導体において、Mとして含まれる金属元素の他に、不純物元素としてFe、Niその他の遷移金属元素、又は該遷移金属の酸化物が含まれているものがある。例えば、酸化物半導体層としてIn−Ga−Zn−O系膜を用いることができる。
酸化物半導体(InMO(ZnO)(x>0)膜)としてIn−Ga−Zn−O系膜のかわりに、Mを他の金属元素とするInMO(ZnO)(x>0)膜を用いてもよい。また、酸化物半導体として上記の他にも、In−Sn−Zn−O系、In−Al−Zn−O系、Sn−Ga−Zn−O系、Al−Ga−Zn−O系、Sn−Al−Zn−O系、In−Zn−O系、Sn−Zn−O系、Al−Zn−O系、In−O系、Sn−O系、Zn−O系の酸化物半導体を適用することができる。
なお、第1の回路101は、第1のノードNA、第2のノードNBの電位に応じて高電源電位の信号または低電源電位の信号を出力信号として出力するための回路であり、第1のノードNA、第2のノードNBの電位に応じて当該段(図1ではN段目)の出力信号OUT_(N)とする回路である。
なお高電源電位とは、基準電位より高い電位のことであり、低電源電位とは基準電位以下の電位のことをいう。なお高電源電位及び低電源電位ともに、トランジスタが動作できる程度の電位、すなわち高電源電位がゲートに印加されることで理想的なトランジスタ(しきい値電圧が0V)がオン状態となり、低電源電位が印加されることで理想的なトランジスタオフ状態となる電位であることが望ましい。
なお、電圧とは、ある電位と、基準の電位(例えばグラウンド電位)との電位差のことを示す場合が多い。よって、電圧、電位、電位差を、各々、電位、電圧、電圧差と言い換えることが可能である。
なお、薄膜トランジスタの構成は、様々な形態をとることができ、特定の構成に限定されない。例えば、ゲート電極が2個以上のマルチゲート構造を適用することができる。
また、チャネル領域の上下にゲート電極が配置されている構造を適用することができる。なお、チャネル領域の上下にゲート電極が配置される構成にすることにより、複数の薄膜トランジスタが並列に接続されたような構成とすることも可能である。
なお、AとBとが接続されている、と明示的に記載する場合は、AとBとが電気的に接続されている場合と、AとBとが機能的に接続されている場合と、AとBとが直接接続されている場合とを含むものとする。ここで、A、Bは、対象物(例えば、装置、素子、回路、配線、電極、端子、導電膜、層、など)であるとする。したがって、所定の接続関係、例えば、図または文章に示された接続関係に限定されず、図または文章に示された接続関係以外のものも含むものとする。
なお第1のノードNAとは、第1の回路101、第2の回路102、及び第1のトランジスタ105に接続されるノードであり、第2のノードNBとは、第1の回路101、第3の回路103、第1のトランジスタ105、第2のトランジスタ106に接続されるノードである。
第2の回路102は、第1のノードNAに、前段のパルス出力回路の出力信号OUT_(N−1)(1段目であれば、スタートパルスSP)に応じた信号を供給するための回路である。また第2の回路102は、前段のパルス出力回路の出力信号OUT_(N−1)を、第2のトランジスタ106のゲートに出力するための回路である。
第3の回路103は、第2のノードNBに対し、クロック信号の入力等によって得られる所定のタイミングに応じて、間欠的に高電源電位の信号を供給するための回路である。
第1のトランジスタ105は、第2のノードNBがゲートに接続され、ドレイン端子が第1のノードNAに接続され、第2のノードNBの電位に応じて、第1のノードNAの電位を制御するためのトランジスタである。
第2のトランジスタ106は、前段のパルス出力回路の出力信号OUT_(N−1)に応じた信号がゲートに供給され、ドレイン端子が第2のノードNBに接続され、第2のノードNBの電位を制御するためのトランジスタである。
なお、薄膜トランジスタは、ゲート端子と、ドレイン端子と、ソース端子とを含む少なくとも三つの端子を有する素子であり、ドレイン領域とソース領域の間にチャネル領域を有しており、ドレイン領域とチャネル領域とソース領域とを介して電流を流すことが出来る。本明細書においては、高電源電位を供給するための配線側に接続される端子をドレイン端子、低電源電位が供給される配線側に接続される端子をソース端子として説明することとする。なお、ソース端子とドレイン端子を、第1端子、第2端子と表記する場合がある。
第4の回路104Aは、第1のトランジスタ105のソース端子と、低電源電位を供給する配線110との間に設け、第1のトランジスタ105のソース端子の電位を配線110の電位より昇圧させる回路である。また第4の回路104Bは、第4の回路104Aと同様に、第2のトランジスタ106のソース端子と、低電源電位を供給する配線110との間に設け、第2のトランジスタ106のソース端子の電位を配線110の電位より昇圧させる回路である。
なお本実施の形態で示す構成において、第4の回路104Aとして第3のトランジスタ108A、第4のトランジスタ109Aを設け、それぞれのトランジスタのゲートとドレイン端子を短絡するように接続している。その結果、第1のトランジスタ105のソース端子、すなわち第3のノードN1の電位を配線110の電位より第3のトランジスタ108Aと第4のトランジスタ109Aとのしきい値電圧の和の分だけ高くすることができる。同様に、第4の回路104Bとして第3のトランジスタ108B、第4のトランジスタ109Bを設け、それぞれのトランジスタのゲートとドレイン端子を短絡するように接続している。その結果、第2のトランジスタ106のソース端子、すなわち第3のノードN2の電位を配線110の電位より第3のトランジスタ108Bと第4のトランジスタ109Bとのしきい値電圧の和の分だけ高くすることができる。なお第4の回路104A及び第4の回路104Bは、いずれか一方を省略してもよいし、さらに複数のトランジスタで冗長化してもよい。
なお、第4の回路104A及び第1のトランジスタ105、並びに第4の回路104B及び第2のトランジスタ106は、第1の回路101を制御するためにフローティング状態とするノードの数に応じて設けられるものである。本実施の形態では一例として、第1のノードNA及び第2のノードNBの2つの構成を示すものである。また本実施の形態では、第4の回路104Aとして第3のトランジスタ108A及び第4のトランジスタ109Aの2つ、並びに第4の回路104Bとして第3のトランジスタ108B及び第4のトランジスタ109Bの2つを配置する構成としたが、更にトランジスタ数を増やして、第3のノードN1、N2の電位を高くするようにする構成としてもよい。また、第4の回路104A、104Bを構成するトランジスタである第3のトランジスタ108A、第4のトランジスタ109A、及び第3のトランジスタ108B、第4のトランジスタ109Bのトランジスタの抵抗値を、さらなるオフ電流の低減のために、第1のトランジスタ105、第2のトランジスタ106よりも高くなるように予めすることが好ましい。
すなわち第4の回路を構成するトランジスタである第3のトランジスタ108A、第4のトランジスタ109A、及び第3のトランジスタ108B、第4のトランジスタ109BのトランジスタのL/W比を、第1のトランジスタ105、第2のトランジスタ106のL/W比より大きくすることが好ましい。また、第4の回路を構成するトランジスタである第3のトランジスタ108A、第4のトランジスタ109A、及び第3のトランジスタ108B、第4のトランジスタ109Bの半導体層の膜厚を、第1のトランジスタ105、第2のトランジスタ106の半導体層の膜厚より小さくすることが好ましい。なおゲート長Lはトランジスタのゲートと半導体層が重なる領域でのソース、ドレイン間の長さに相当し、ゲート幅Wはトランジスタのゲートと半導体層が重なる領域でのソース、ドレイン間の幅に相当する。従って、L/W比は、ゲート長とゲート幅の比に相当する。
スイッチ107Aは、第1のトランジスタ105のソース端子、すなわち第3のノードN1を低電源電位が供給される配線110と短絡するための回路である。スイッチ107Bは、第1のトランジスタ105のソース端子及び第2のトランジスタ106のソース端子、すなわち第3のノードN2を低電源電位が供給される配線110と短絡するための回路である。なおスイッチ107A、107Bとしては、第1乃至第4のトランジスタと同様に作製されるトランジスタで形成すればよい。また、スイッチ107A、107Bのオンまたはオフは、外部に設けられた判定回路111により供給される判定信号により制御される。なおスイッチ107A、107Bをトランジスタで作製する場合には、判定回路111からの信号は当該トランジスタを確実にオン又はオフできる電位の信号であることが好ましい。なお、スイッチ107A、Bと同様の機能を有するスイッチをさらに複数設ける構成としてもよい。
すなわち第1のトランジスタ105及び第2のトランジスタ106がノーマリーオンの場合には、第4の回路104A、104Bにより第3のノードN1、N2を低電源電位Vssより高くして、第1のトランジスタ105及び第2のトランジスタ106を電流が流れにくくし、ノーマリーオフのときにはスイッチ107A、107Bを短絡させて第3のノードN1、N2の電位を低電源電位に下げることで第1のトランジスタ105及び第2のトランジスタ106を電流が流れやすくし、ノーマリーオンでもノーマリーオフでも問題なく動作させることができるものとなる。なお、スイッチ107A、107Bをトランジスタで構成する場合には、ノーマリーオンであると動作が不安定になるので、外部回路である判定回路111よりスイッチ107A、107Bとなるトランジスタのゲートに十分な電圧レベルの信号を印加する構成とすることが好ましい。
次いで判定回路111の構成例について図2を用いて説明する。
判定回路111は、定電流源201、トランジスタ202、コンパレータ203(比較回路ともいう)、バッファ回路204を有する。なお、定電流源201と、トランジスタ202、及びコンパレータ203が接続されるノードを、説明のため、ノードNEと呼ぶことにする。
図2において、定電流源201は一方の端子が高電源電位Vddを供給する配線に接続され、他方の端子がノードNEに接続される。トランジスタ202はドレイン端子がノードNEに接続され、ゲート及びソース端子が低電源電位Vssを供給する配線に接続される。コンパレータ203は、入力端子がノードNEに接続され、出力端子がバッファ回路204の入力端子に接続される。バッファ回路204の出力端子は、スイッチ107A、1070Bとなるトランジスタのゲートに接続される。
なお、バッファ回路204は、トランジスタでなるスイッチ107A、107Bまでの距離が長い場合に、各段のパルス出力回路に入力するための信号の電荷供給能力を高めるために設けるものであり、省略してもよい。
判定回路111ではトランジスタ202が、駆動回路を構成するトランジスタのノーマリーオンまたはノーマリーオフを判定するためのトランジスタであり、同一基板上に同じ条件で作製され、同じトランジスタ特性を有するものである。そして定電流源201より流れる電流がトランジスタ202を流れる際、トランジスタ202がノーマリーオンまたはノーマリーオフによって、ノードNEの電位の高低を判定することで、スイッチ107A、107Bのオン又はオフを制御するものである。なお、トランジスタ202がノーマリーオンとなるときには、トランジスタ202がノーマリーオフとなるときより、ノードNEの電位が低くなる。なおコンパレータ203では予め設定された参照電位(一例としては、高電源電位Vddと低電源電位Vssとの中間電位)とノードNEの電位を比較し、ノーマリーオフのときには、高電源電位の信号を出力し、ノーマリーオンのときには低電源電位の信号を出力する。そしてバッファ回路204で、トランジスタでなるスイッチ107A、107Bのオン又はオフを十分制御できる電圧の信号(判定信号)となる。
なお、駆動回路を構成するトランジスタがノーマリーオンであるかノーマリーオフであるかは、作製工程が同じであっても基板毎にばらつきが生じることもあり得る。そのため、本実施の形態の構成によって、ノーマリーオンであるかノーマリーオフであるかを表示装置となる基板毎に判定し、補正することのできる構成により、駆動回路での歩留まりの向上を図ることができる。
なおコンパレータ203で比較する参照電位は、ノーマリーオンとなる際のノードNEの電位の上昇、及びノーマリーオフとなる際のノードNEの電位の低下を予めモニターしておき、適宜設定される電位であってもよい。
次いで、第1の回路101、第2の回路102、及び第3の回路103の一例について、図3を用いて説明する。
図3(A)に示す第1の回路101の一例としては、図11(A)と同様に、トランジスタ301、トランジスタ302を設ける。そしてトランジスタ301のゲートを第1のノードNAに接続し、トランジスタ302のゲートを第2のノードNBに接続し、トランジスタ301のドレイン端子をクロック信号CK1(第1のクロック信号ともいう)が供給される配線に接続し、トランジスタ301のソース端子とトランジスタ302のドレイン端子とを接続して出力信号OUT_Nを出力する端子とし、トランジスタ302のソース端子を低電源電位Vssを供給する配線に接続する構成とすればよい。また、トランジスタ301のゲートとソースの間に必要に応じて、容量素子303を設ける構成としてもよい。容量素子を設けることで、第1のノードがフローティング状態となった際に、ゲートとソースの間でのブートストラップが起こりやすくなり好適である。
次いで図3(B)に示す第2の回路102の一例としては、図11(A)と同様に、トランジスタ304を設ける。そして、トランジスタ304のゲートとドレイン端子、及び第2のトランジスタ106のゲートが接続される端子を前段のパルス出力回路の出力信号OUT_(N−1)が入力される端子に接続し、トランジスタ304のソース端子を第2のノードNBに接続する構成とすればよい。また図3(B)とは異なる第2の回路102の別の構成としては、図3(C)に示すトランジスタ305を設ける構成がある。そして、トランジスタ305のドレイン端子を高電源電位Vddが供給される配線に接続し、トランジスタ305のゲート及び第2のトランジスタ106のゲートが接続される端子を前段のパルス出力回路の出力信号OUT_(N−1)が入力される端子に接続し、トランジスタ305のソース端子を第2のノードNBに接続する構成とすればよい。
次いで図3(D)に示す第3の回路103の一例としては、図11(A)と同様に、トランジスタ306を設ける。トランジスタ306のゲート及びドレイン端子をクロック信号CK2(第2のクロック信号ともいう)が供給される配線に接続し、トランジスタ306のソース端子を第2のノードNBに接続する構成とする。なお図3(D)でのクロック信号CK2は、図3(A)でのクロック信号CK1の反転信号であることが好ましい。また図3(D)とは異なる第3の回路103の別の構成としては、図3(E)に示すトランジスタ307及びトランジスタ308がある。トランジスタ307のゲートをクロック信号CK2(第2のクロック信号ともいう)が供給される配線に接続し、トランジスタ307のドレイン端子を高電源電位Vddが供給される配線に接続し、トランジスタ307のソース端子とトランジスタ308のドレイン端子とを接続し、トランジスタ308のゲートをクロック信号CK3(第3のクロック信号ともいう)が供給される配線に接続され、トランジスタ308のソース端子が第2のノードNBに接続される構成とする。なお、図3(D)でのクロック信号CK2は、図3(A)でのクロック信号CK1が1/4周期分遅延した信号であり、図3(E)でのクロック信号CK3は、図3(E)でのクロック信号CK2が1/4周期分遅延した信号であることが好ましい。
また図1に示す構成は、第1の回路101、第2の回路102、及び第3の回路103の他にも、別途回路を設ける構成としてもよい。例えば、図3(F)に示すトランジスタ309を有する回路を図1に示す第2のノードNBに接続して設ける。図3(F)に示すトランジスタ309は、ドレイン端子を高電源電位Vddが供給される端子に接続し、ゲートをパルス出力回路で2段後段の出力信号OUT_(N+2)が入力される端子に接続し、ソース端子を第2のノードNBに接続する構成とすればよい。図3(F)に示す回路を追加して設ける構成とすることで第2のノードNBの電位をより確実に制御することが出来るため好適である。
なお第1の回路101、第2の回路102、及び第3の回路103をそれぞれ複数個設ける構成とすることも可能である。
次いで、複数段のパルス出力回路を具備する駆動回路であるシフトレジスタの構成について図4に示し、本実施形態で示す構成の効果等について詳述していく。なお、図4は、図1における第1の回路101として図3(A)の回路とし、図1における第2の回路102として図3(C)の回路とし、図1における第3の回路103として図3(E)の回路とし、第2のノードNBに図3(F)の回路を設ける構成について具体的に示した回路である。なお図4では第1の回路101を複数設ける例について説明するものである。
図4(A)に示すシフトレジスタは、第1のパルス出力回路10_1乃至第Nのパルス出力回路10_N(N≧3の自然数)を有している。図4(A)に示すシフトレジスタの第1のパルス出力回路10_1乃至第Nのパルス出力回路10_Nには、第1の配線11より第1のクロック信号CK1、第2の配線12より第2のクロック信号CK2、第3の配線13より第3のクロック信号CK3、第4の配線14より第4のクロック信号CK4が供給される。また第1のパルス出力回路10_1では、第5の配線15からのスタートパルスSP1(第1のスタートパルス)が入力される。また2段目以降の第nのパルス出力回路10_n(nは、2≦n≦Nの自然数)では、一段前段のパルス出力回路からの信号(前段信号OUT(n−1)という)が入力される。また第1のパルス出力回路10_1では、2段後段の第3のパルス出力回路10_3からの信号が入力される。同様に、2段目以降の第nのパルス出力回路10_nでは、2段後段の第(n+2)のパルス出力回路10_(n+2)からの信号(後段信号OUT(n+2)という)が入力される。従って、各段のパルス出力回路からは、後段及び/または二つ前段のパルス出力回路に入力するための第1の出力信号OUT(1)(SR)〜OUT(N)(SR)、別の回路等に入力される第2の出力信号OUT(1)〜OUT(N)が出力される。また各段のパルス出力回路には、第6の配線16より、判定回路111からの判定信号JSが供給される。ただし、図4(A)に示すように、シフトレジスタの最終段の2つの段には、後段信号OUT(n+2)が入力されないため、一例としては、別途第7の配線17より第2のスタートパルスSP2、第8の配線18より第3のスタートパルスSP3をそれぞれ入力する構成でもよい。または別途、内部で生成された信号であってもよい。例えば、表示部へのパルス出力に寄与しない第(n+1)のパルス出力回路10(n+1)、第(n+2)のパルス出力回路10(n+2)を設け(ダミー段ともいう)、当該ダミー段より第2のスタートパルス(SP2)及び第3のスタートパルス(SP3)に相当する信号を生成する構成としてもよい。
なお、第1のクロック信号(CK1)〜第4のクロック信号(CK4)は、一定の間隔でH信号とL信号を繰り返す信号である。また、第1のクロック信号(CK1)〜第4のクロック信号(CK4)は、順に1/4周期分遅延している(すなわち、互いに90°位相がずれている)。本実施の形態では、第1のクロック信号(CK1)〜第4のクロック信号(CK4)を利用して、パルス出力回路の駆動の制御等を行う。なお、クロック信号は、入力される駆動回路に応じて、GCK、SCKということもあるが、ここではCKとして説明を行う。
第1のパルス出力回路10_1〜第Nのパルス出力回路10_Nの各々は、第1の入力端子21、第2の入力端子22、第3の入力端子23、第4の入力端子24、第5の入力端子25、第1の出力端子26、第2の出力端子27、第6の入力端子28を有している(図4(B)参照)。
図4(B)に図4(A)で示したパルス出力回路10_nの一つを示す。第1の入力端子21、第2の入力端子22及び第3の入力端子23は、第1の配線11〜第4の配線14のいずれかと電気的に接続されている。例えば、図4(A)、(B)において、第1のパルス出力回路10_1は、第1の入力端子21が第1の配線11と電気的に接続され、第2の入力端子22が第2の配線12と電気的に接続され、第3の入力端子23が第3の配線13と電気的に接続されている。また、第2のパルス出力回路10_2は、第1の入力端子21が第2の配線12と電気的に接続され、第2の入力端子22が第3の配線13と電気的に接続され、第3の入力端子23が第4の配線14と電気的に接続されている。
また図4(A)、(B)において、第1のパルス出力回路10_1は、第4の入力端子24にスタートパルスが入力され、第5の入力端子25に後段信号OUT(3)が入力され、第1の出力端子26より第1の出力信号OUT(1)(SR)が出力され、第2の出力端子27より第2の出力信号OUT(1)が出力され、第6の入力端子28より判定信号JSが入力されていることとなる。
次に、パルス出力回路の具体的な回路構成の一例について、図4(C)で説明する。
第1のパルス出力回路10_1は、図1と同様に、第1の回路101A及び101B、第2の回路102、第3の回路103、第4の回路104A及び104B、第1のトランジスタ105、第2のトランジスタ106、トランジスタでなるスイッチ107A及び107Bを有している。また、図1の構成に加えて第2のノードNBに接続されるトランジスタ401を有する。トランジスタ401は後段信号OUT(n+2)がH信号となるタイミングに応じて、第2のノードNBの電位を上昇させるためのトランジスタである。また、図1の構成に加えて第1のノードNAにおいて、トランジスタ402を挿入し、ゲートを高電源電位Vddが供給される配線に接続する構成としてもよい。トランジスタ402を第1のノードNAに挿入する構成とすることによって、第1の回路101Aでのトランジスタのゲートが、フローティング状態となりやすくなるため好適である。ここで第1のクロック信号(CK1)〜第4のクロック信号(CK4)は、一定の間隔でHレベルとLレベルを繰り返す信号であるが、HレベルのときVdd、LレベルのときVssであるとする。
図4(C)におけるパルス出力回路が第1のパルス出力回路10_1の場合、第1の入力端子21には第1のクロック信号CK1が入力され、第2の入力端子22には第2のクロック信号CK2が入力され、第3の入力端子23には第3のクロック信号CK3が入力され、第4の入力端子24にはスタートパルスSPが入力され、第5の入力端子25には後段信号OUT(3)が入力され、第1の出力端子26からは第1の出力信号OUT(1)(SR)が出力され、第2の出力端子27からは第2の出力信号OUT(1)が出力され、第6の入力端子28からは判定信号JSが入力される。
ここで、図4(C)に示したパルス出力回路を複数具備するシフトレジスタのタイミングチャートについて図5に示す。なおシフトレジスタが走査線駆動回路である場合、図5中の期間501は垂直帰線期間であり、期間502はゲート選択期間に相当する。
図4(C)中のノードNAでは、出力信号OUT_(N)をH信号にするために、定期的に、電気的にフローティング状態(浮遊状態)及び所定の電位が入力される状態がある。図5中のNAで矢印A区間の期間がフローティング状態の期間であり、フローティング状態となる際にリーク電流による電位の低下が問題となる期間である。同様に、図5中のノードNBで矢印B区間の期間がフローティング状態の期間であり、フローティング状態となる際にリーク電流による電位の低下が問題となる期間である。具体的にいえば、フローティング状態となる矢印A区間、及び矢印B区間での電位低下の度合いが、トランジスタがノーマリーオンまたはノーマリーオフかによって変化することが問題である。一方で、単にノーマリーオンまたはノーマリーオフの状態を補正する回路を付加するだけでは、ノーマリーオンまたはノーマリーオフの各状態が基板間でばらつく場合に、対策として不十分である。
次に、図6に図1で示したパルス出力回路の動作について説明する。そしてノーマリーオンまたはノーマリーオフの各状態が基板間でばらつく場合に、いずれの状態であっても正確な動作を補償できる図1のパルス出力回路を具備する駆動回路での動作による効果について説明する。
まず、判定回路111で各回路を構成するトランジスタがノーマリーオンかノーマリーオフかの指標として、トランジスタ202がノーマリーオンかノーマリーオフの判定を行い、第4の回路104A、104Bによる第3のノードN1、N2の電位の上昇を行うか否かを判定する(図6、ステップ601)。
次いで、図2に示す判定回路111は、ノードNEの電位が参照電位よりも高いかどうかの判定を行う(図6、ステップ602)。トランジスタ202に流れる電流が大きく、ノードNEの電位が参照電位よりも高くなる場合、トランジスタ202がノーマリーオフであると判定される(図6、ステップ603)。
次いで、コンパレータ203及びバッファ回路204を介して判定回路111より、スイッチ107A及び107BにH信号が出力される(図6、ステップ604)。スイッチ107A及び107Bがnチャネル型のトランジスタの場合には、スイッチ107A及び107Bがオン状態となる(図6、ステップ605)。その結果、第3のノードN1、N2の電位が配線110の電位にあたる低電源電位Vssに低下する(図6、ステップ606)。
また逆に、トランジスタ202に流れる電流が小さく、ノードNEの電位が参照電位よりも低くなる場合、トランジスタ202がノーマリーオンであると判定される(図6、ステップ607)。
次いで、コンパレータ203及びバッファ回路204を介して判定回路111より、スイッチ107A及び107BにL信号が出力される(図6、ステップ608)。スイッチ107A及び107Bがnチャネル型のトランジスタの場合には、スイッチ107A及び107Bがオフ状態となる(図6、ステップ609)。その結果、第3のノードN1及びN2の電位が低電源電位Vssより高い電位を保持することとなる(図6、ステップ610)。
上述の動作によって第1のトランジスタ105及び第2のトランジスタ106がノーマリーオンであってもノーマリーオフであってもトランジスタがオン状態またはオフ状態をとるのに十分なゲートとソースの間の電圧Vgsを得ることのできるパルス出力回路とすることができる。すなわちノーマリーオンのトランジスタの場合にはトランジスタのゲートとソース端子との間にかかる電圧Vgsを上昇させることで、スイッチング特性の向上を行い、ノーマリーオフのトランジスタの場合にはソース端子の電位を低下させて十分に高い電圧Vgsを確保することができる。そのため、トランジスタがノーマリーオンであるかノーマリーオフであるかが基板毎にばらついても、より確度が高く誤動作を低減することのできる駆動回路とすることができる。すなわち、薄膜トランジスタの作製条件等に起因するしきい値電圧のばらつきによって、エンハンスメント型、またはディプレッション型のいずれかに変動する駆動回路であっても、回路内の誤動作を低減できる駆動回路を提供することができる。
本実施の形態は、他の実施の形態に記載した構成と適宜組み合わせて実施することが可能である。
(実施の形態2)
本実施の形態では、上記実施の形態で説明した駆動回路、及び当該駆動回路によって制御される表示部を具備する表示装置の断面図について、図7を用いて説明する。また本実施の形態では、表示装置として液晶表示装置の一例について説明をおこなうが、有機EL素子等の発光素子を具備するEL表示装置、または電気泳動素子を具備する電気泳動表示装置にも適用することが可能である。なお、上記実施の形態で説明した構成は、表示装置の駆動回路に限らず、光センサ用駆動回路等の他の装置にも適用可能である。
本発明の一形態である液晶表示装置を図7に示す。図7の液晶表示装置は、薄膜トランジスタ701及び容量702を含む画素部、及び薄膜トランジスタ703を含む駆動回路部、画素電極層704、配向膜として機能する絶縁層705が設けられた基板706と、配向膜として機能する絶縁層707、対向電極層708、カラーフィルタとして機能する着色層709が設けられた対向基板710とが液晶層711を挟持して対向している。また、基板706及び対向基板710の液晶層711と反対側には、それぞれ偏光板(偏光子を有する層、単に偏光子ともいう)712a、712bが設けられ、ゲート配線の端子部には第1の端子713、接続電極714、及び接続用の端子電極715、ソース配線の端子部には第2の端子716及び接続用の端子電極717が設けられている。
駆動回路部において、薄膜トランジスタ703はゲート電極層721及びゲート絶縁層722上の半導体層723の上方の酸化物絶縁層724上に導電層718が設けられ、ドレイン電極層719bはゲート電極層と同工程で形成される導電層720と電気的に接続している。また、画素部において、薄膜トランジスタ701のドレイン電極層は画素電極層704と電気的に接続している。
酸化物半導体を用いた薄膜トランジスタで形成することにより、製造コストを低減することができる。また酸化物半導体を用いた薄膜トランジスタは電界効果移動度が高く表示装置の画素部及び駆動回路を構成するものとして好適である。一方で、酸化物半導体は外因性の不純物が添加されなくても、酸素が抜けた空孔欠陥によりn型化しやすいという性質がある。酸化物半導体層に接して酸化物絶縁膜を形成することによって、安定した電気特性を有する薄膜トランジスタを得ることができるが、仮に酸化物半導体がn型化してノーマリーオンの薄膜トランジスタが形成された場合でも、本実施の形態の駆動回路を用いることによって、駆動回路を安定に動作させることができる。
なお、本実施の形態では、酸化物半導体をチャネルに用いる薄膜トランジスタの例について説明したが、実施の形態1で開示する構成は、駆動回路を構成する薄膜トランジスタがノーマリーオンまたはノーマリーオフでも動作することができるものである。従って、例えば、非晶質シリコンを用いた薄膜トランジスタの半導体層において、意図的または非意図的にn型の導電性を付与する不純物が含まれることによってノーマリーオンとして動作するトランジスタにも、用いることができる。また、チャネル領域を形成する半導体層のゲート絶縁膜とは反対側(バックチャネル側)に電荷が蓄積されることによって寄生チャネルが形成され、ノーマリーオンとして動作するトランジスタにおいても適用可能である。
半導体層のチャネル形成領域は高抵抗化領域であるので、薄膜トランジスタの電気特性は安定化し、オフ電流の増加などを防止することができる。よって、電気特性が良好で信頼性のよい薄膜トランジスタを有する半導体装置とすることが可能となる。
また、薄膜トランジスタは静電気などにより破壊されやすいため、画素部または駆動回路と同一基板上に保護回路を設けることが好ましい。保護回路は、酸化物半導体層を用いた非線形素子を用いて構成することが好ましい。例えば、保護回路は画素部と、走査線入力端子及び信号線入力端子との間に配設されている。本実施の形態では複数の保護回路を配設して、走査線、信号線及び容量バス線に静電気等によりサージ電圧が印加され、画素トランジスタなどが破壊されないように構成されている。そのため、保護回路にはサージ電圧が印加されたときに、共通配線に電荷を逃がすように構成する。また、保護回路は、走査線に対して並列に配置された非線形素子によって構成されている。非線形素子は、ダイオードのような二端子素子又はトランジスタのような三端子素子で構成される。例えば、画素部の薄膜トランジスタ701と同じ工程で形成することも可能であり、例えばゲート端子とドレイン端子を接続することによりダイオードと同様の特性を持たせることができる。
本実施の形態は、他の実施の形態に記載した構成と適宜組み合わせて実施することが可能である。
(実施の形態3)
本実施の形態では、同一基板上に少なくとも駆動回路の一部と、画素部に配置する薄膜トランジスタを作製する例について以下に説明する。なお基板上に配置する薄膜トランジスタは、実施の形態2の断面図に示すよう形成すればよい。
アクティブマトリクス型表示装置のブロック図の一例を図8(A)に示す。表示装置の基板5300上には、画素部5301、第1の走査線駆動回路5302、第2の走査線駆動回路5303、信号線駆動回路5304、判定回路5306を有する。画素部5301には、複数の信号線が信号線駆動回路5304から延伸して配置され、複数の走査線が第1の走査線駆動回路5302、及び第2の走査線駆動回路5303から延伸して配置されている。なお走査線と信号線との交差領域には、各々、表示素子を有する画素がマトリクス状に配置されている。また、表示装置の基板5300はFPC(Flexible Printed Circuit)等の接続部を介して、タイミング制御回路5305(コントローラ、制御ICともいう)に接続されている。
図8(A)では、第1の走査線駆動回路5302、第2の走査線駆動回路5303、信号線駆動回路5304、判定回路5306は、画素部5301と同じ基板5300上に形成される。そのため、外部に設ける駆動回路等の部品の数が減るので、コストの低減を図ることができる。また、基板5300外部に駆動回路を設けた場合の配線を延伸させることによる接続部での接続数を減らすことができ、信頼性の向上、又は歩留まりの向上を図ることができる。なお判定回路5306は、基板上に複数設けられていてもよく、一例としては駆動回路毎に設けられる構成とすればよい。
なお、タイミング制御回路5305は、第1の走査線駆動回路5302に対し、一例として、第1の走査線駆動回路用スタート信号(GSP1)(スタートパルスともいう)、走査線駆動回路用クロック信号(GCK1)を供給する。また、タイミング制御回路5305は、第2の走査線駆動回路5303に対し、一例として、第2の走査線駆動回路用スタート信号(GSP2)、走査線駆動回路用クロック信号(GCK2)を供給する。信号線駆動回路5304に、信号線駆動回路用スタート信号(SSP)、信号線駆動回路用クロック信号(SCK)、ビデオ信号用データ(DATA)(単にビデオ信号ともいう)、ラッチ信号(LAT)を供給するものとする。なお各クロック信号は、周期のずれた複数のクロック信号でもよいし、クロック信号を反転させた信号(CKB)とともに供給されるものであってもよい。なお、第1の走査線駆動回路5302と第2の走査線駆動回路5303との一方を省略することが可能である。
図8(B)では、判定回路5306及び第1の走査線駆動回路5302と第2の走査線駆動回路5303を画素部5301と同じ基板5300に形成し、信号線駆動回路5304を画素部5301とは別の基板に形成する構成について示している。
また、実施の形態1及び実施の形態2に示す薄膜トランジスタは、nチャネル型TFTである。図9(A)、図9(B)ではnチャネル型TFTで構成する信号線駆動回路の構成、動作について一例を示し説明する。
信号線駆動回路は、シフトレジスタ5601、及びスイッチング回路5602を有する。スイッチング回路5602は、スイッチング回路5602_1〜5602_N(Nは自然数)という複数の回路を有する。スイッチング回路5602_1〜5602_Nは、各々、薄膜トランジスタ5603_1〜5603_k(kは自然数)という複数のトランジスタを有する。薄膜トランジスタ5603_1〜5603_kは、Nチャネル型TFTである例を説明する。
信号線駆動回路の接続関係について、スイッチング回路5602_1を例にして説明する。薄膜トランジスタ5603_1〜5603_kの第1端子は、各々、配線5604_1〜5604_kと接続される。薄膜トランジスタ5603_1〜5603_kの第2端子は、各々、信号線S1〜Skと接続される。薄膜トランジスタ5603_1〜5603_kのゲートは、配線5605_1と接続される。
シフトレジスタ5601は、配線5605_1〜5605_Nに順番にHレベル(H信号、高電源電位レベル、ともいう)の信号を出力し、スイッチング回路5602_1〜5602_Nを順番に選択する機能を有する。
スイッチング回路5602_1は、配線5604_1と信号線S1との導通状態(第1端子と第2端子との間の導通)を制御する機能、即ち配線5604_1の電位を信号線S1に供給するか否かを制御する機能を有する。このように、スイッチング回路5602_1は、セレクタとしての機能を有する。同様に、薄膜トランジスタ5603_2〜5603_kは、各々、配線5604_2〜5604_kと信号線S2〜Skとの導通状態を制御する機能、即ち配線5602_1〜5604_kの電位を信号線S2〜Skに供給する機能を有する。このように、薄膜トランジスタ5603_1〜5603_kは、各々、スイッチとしての機能を有する。
なお、配線5604_1〜5604_kには、各々、ビデオ信号用データ(DATA)が入力される。ビデオ信号用データ(DATA)は、画像情報又は画像信号に応じたアナログ信号である場合が多い。
次に、図9(A)の信号線駆動回路の動作について、図9(B)のタイミングチャートを参照して説明する。図9(B)には、信号Sout_1〜Sout_N、及び信号Vdata_1〜Vdata_kの一例を示す。信号Sout_1〜Sout_Nは、各々、シフトレジスタ5601の出力信号の一例であり、信号Vdata_1〜Vdata_kは、各々、配線5604_1〜5604_kに入力される信号の一例である。なお、信号線駆動回路の1動作期間は、表示装置における1ゲート選択期間に対応する。1ゲート選択期間は、一例として、期間T1〜期間TNに分割される。期間T1〜TNは、各々、選択された行に属する画素にビデオ信号用データ(DATA)を書き込むための期間である。
期間T1〜期間TNにおいて、シフトレジスタ5601は、Hレベルの信号を配線5605_1〜5605_Nに順番に出力する。例えば、期間T1において、シフトレジスタ5601は、ハイレベルの信号を配線5605_1に出力する。すると、薄膜トランジスタ5603_1〜5603_kはオンになるので、配線5604_1〜5604_kと、信号線S1〜Skとが導通状態になる。このとき、配線5604_1〜5604_kには、Data(S1)〜Data(Sk)が入力される。Data(S1)〜Data(Sk)は、各々、薄膜トランジスタ5603_1〜5603_kを介して、選択される行に属する画素のうち、1列目〜k列目の画素に書き込まれる。こうして、期間T1〜TNにおいて、選択された行に属する画素に、k列ずつ順番にビデオ信号用データ(DATA)が書き込まれる。
以上のように、ビデオ信号用データ(DATA)が複数の列ずつ画素に書き込まれることによって、ビデオ信号用データ(DATA)の数、又は配線の数を減らすことができる。よって、外部回路との接続数を減らすことができる。また、ビデオ信号が複数の列ずつ画素に書き込まれることによって、書き込み時間を長くすることができ、ビデオ信号の書き込み不足を防止することができる。
なお、走査線駆動回路の構成について説明する。走査線駆動回路は、シフトレジスタを有している。また場合によってはレベルシフタやバッファ等を有していても良い。走査線駆動回路において、シフトレジスタにクロック信号(CK)及びスタートパルス信号(SP)が入力されることによって、選択信号が生成される。生成された選択信号はバッファにおいて緩衝増幅され、対応する走査線に供給される。走査線には、1ライン分の画素のトランジスタのゲート電極が接続されている。そして、1ライン分の画素のトランジスタを一斉にONにしなくてはならないので、バッファは大きな電流を流すことが可能なものが用いられる。
本実施の形態は、他の実施の形態に記載した構成と適宜組み合わせて実施することが可能である。
(実施の形態4)
本実施形態においては、上記実施の形態で説明した表示装置を表示部に具備する電子機器の例について説明する。
上記実施の形態の各々の図で述べた内容(一部でもよい)を様々な電子機器に適用することができる。具体的には、電子機器の表示部に適用することができる。そのような電子機器として、ビデオカメラ、デジタルカメラなどのカメラ、ゴーグル型ディスプレイ、ナビゲーションシステム、音響再生装置(カーオーディオ、オーディオコンポ等)、コンピュータ、ゲーム機器、携帯情報端末(モバイルコンピュータ、携帯電話、携帯型ゲーム機又は電子書籍等)、記録媒体を備えた画像再生装置(具体的にはDigital Versatile Disc(DVD)等の記録媒体を再生し、その画像を表示しうるディスプレイを備えた装置)などが挙げられる。
図10(A)はディスプレイであり、筐体1011、支持台1012、表示部1013を含む。図10(A)に示すディスプレイは、様々な情報(静止画、動画、テキスト画像など)を表示部に表示する機能を有する。なお、図10(A)に示すディスプレイが有する機能はこれに限定されず、様々な機能を有することができる。
図10(B)はカメラであり、本体1031、表示部1032、受像部1033、操作キー1034、外部接続ポート1035、シャッターボタン1036を含む。図10(B)に示すカメラは、静止画を撮影する機能を有する。動画を撮影する機能を有する。なお、図10(B)に示すカメラが有する機能はこれに限定されず、様々な機能を有することができる。
図10(C)はコンピュータであり、本体1051、筐体1052、表示部1053、キーボード1054、外部接続ポート1055、ポインティングデバイス1056を含む。図10(C)に示すコンピュータは、様々な情報(静止画、動画、テキスト画像など)を表示部に表示する機能を有する。なお、図10(C)に示すコンピュータが有する機能はこれに限定されず、様々な機能を有することができる。
本実施形態の表示部に上記実施の形態で説明した表示装置を用いる構成とすることで、上述の図10(A)乃至図10(C)の表示部を構成する画素に接続される信号線及び電源線の数を削減することができる。そして信号線に接続された信号線駆動回路において、駆動回路の素子数を削減することができ、低コスト化を図ることができ、表示部での高精細な表示を行うことができる。
本実施の形態は、他の実施の形態に記載した構成と適宜組み合わせて実施することが可能である。
10 パルス出力回路
11 配線
12 配線
13 配線
14 配線
15 配線
16 配線
17 配線
18 配線
21 入力端子
22 入力端子
23 入力端子
24 入力端子
25 入力端子
26 出力端子
27 出力端子
28 入力端子
100 パルス出力回路
101 第1の回路
102 第2の回路
103 第3の回路
105 第1のトランジスタ
104A 第4の回路
104B 第4の回路
106 第2のトランジスタ
107A スイッチ
107B スイッチ
110 配線
111 判定回路
201 定電流源
202 トランジスタ
203 コンパレータ
204 バッファ回路
301 トランジスタ
302 トランジスタ
303 容量素子
304 トランジスタ
305 トランジスタ
306 トランジスタ
307 トランジスタ
308 トランジスタ
309 トランジスタ
401 トランジスタ
402 トランジスタ
501 期間
502 期間
601 ステップ
602 ステップ
603 ステップ
604 ステップ
605 ステップ
606 ステップ
607 ステップ
608 ステップ
609 ステップ
610 ステップ
701 薄膜トランジスタ
702 容量
703 薄膜トランジスタ
704 画素電極層
705 絶縁層
706 基板
707 絶縁層
708 対向電極層
709 着色層
710 対向基板
711 液晶層
712a 偏光板
712b 偏光板
713 端子
714 接続電極
715 端子電極
716 端子
717 端子電極
718 導電層
719b ドレイン電極層
720 導電層
721 ゲート電極層
722 ゲート絶縁層
723 半導体層
724 酸化物絶縁層
1011 筐体
1012 支持台
1013 表示部
101A 第1の回路
101B 第1の回路
1031 本体
1032 表示部
1033 受像部
1034 操作キー
1035 外部接続ポート
1036 シャッターボタン
1051 本体
1052 筐体
1053 表示部
1054 キーボード
1055 外部接続ポート
1056 ポインティングデバイス
108A 第3のトランジスタ
108B 第3のトランジスタ
109A 第4のトランジスタ
109B 第4のトランジスタ
404B 回路
5300 基板
5301 画素部
5302 走査線駆動回路
5303 走査線駆動回路
5304 信号線駆動回路
5305 タイミング制御回路
5306 判定回路
5601 シフトレジスタ
5602 スイッチング回路
5603 薄膜トランジスタ
5604 配線
5605 配線

Claims (8)

  1. 複数段のパルス出力回路を有する駆動回路において、
    前記パルス出力回路は、
    第1のノード、第2のノードの電位に応じて出力信号を出力するための第1の回路と、
    前記第1のノードに、前段のパルス出力回路の出力信号に応じた信号を供給する第2の回路と、
    前記第2のノードに間欠的に高電源電位の信号を供給するための第3の回路と、
    前記第2のノードがゲートに電気的に接続され、前記第2のノードの電位に応じて、前記第1のノードの電位を制御するための第1のトランジスタと、
    前記前段のパルス出力回路の出力信号に応じた信号がゲートに供給され、前記第2のノードの電位を制御するための第2のトランジスタと、を有し、
    前記第1のトランジスタ及び前記第2のトランジスタのソース端子と、低電源電位を供給する配線との間には、前記ソース端子の電位を低電源電位より昇圧するための第4の回路が設けられており、
    前記ソース端子の電位を低電源電位にするためのスイッチを有し、前記スイッチは、前記第1のトランジスタ及び前記第2のトランジスタがエンハンスメント型、またはディプレッション型であるかを判定する判定回路によって、制御されることを特徴とする駆動回路。
  2. 請求項1において、前記第4の回路は、ゲートとドレイン端子が電気的に接続され、ソース端子が低電源電位が供給される配線に電気的に接続されたトランジスタを有する回路であることを特徴とする駆動回路。
  3. 請求項2において、第4の回路を構成する前記トランジスタのL/Wは、前記第1のトランジスタ及び前記第2のトランジスタのL/Wより大きいことを特徴とする駆動回路。
  4. 請求項1乃至請求項3の一において、前記判定回路は、定電流源、トランジスタ、コンパレータ、及びバッファ回路を有することを特徴とする駆動回路。
  5. 請求項1乃至請求項4のいずれか一において、前記スイッチはトランジスタであることを特徴とする駆動回路。
  6. 請求項1乃至請求項5のいずれか一において、前記駆動回路を構成するトランジスタは、酸化物半導体層でなる半導体層を有することを特徴とする駆動回路。
  7. 請求項1乃至請求項6に記載の前記駆動回路を具備する表示装置。
  8. 請求項7に記載の表示装置を具備する電子機器。
JP2010202554A 2009-09-16 2010-09-10 駆動回路、当該駆動回路を具備する表示装置、当該表示装置を具備する電子機器 Active JP5084887B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010202554A JP5084887B2 (ja) 2009-09-16 2010-09-10 駆動回路、当該駆動回路を具備する表示装置、当該表示装置を具備する電子機器

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009214297 2009-09-16
JP2009214297 2009-09-16
JP2010202554A JP5084887B2 (ja) 2009-09-16 2010-09-10 駆動回路、当該駆動回路を具備する表示装置、当該表示装置を具備する電子機器

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2012193861A Division JP5380595B2 (ja) 2009-09-16 2012-09-04 駆動回路

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2011086363A true JP2011086363A (ja) 2011-04-28
JP2011086363A5 JP2011086363A5 (ja) 2012-09-13
JP5084887B2 JP5084887B2 (ja) 2012-11-28

Family

ID=43730543

Family Applications (4)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010202554A Active JP5084887B2 (ja) 2009-09-16 2010-09-10 駆動回路、当該駆動回路を具備する表示装置、当該表示装置を具備する電子機器
JP2012193861A Expired - Fee Related JP5380595B2 (ja) 2009-09-16 2012-09-04 駆動回路
JP2013199665A Active JP5600792B2 (ja) 2009-09-16 2013-09-26 駆動回路
JP2014161149A Expired - Fee Related JP5809336B2 (ja) 2009-09-16 2014-08-07 駆動回路

Family Applications After (3)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2012193861A Expired - Fee Related JP5380595B2 (ja) 2009-09-16 2012-09-04 駆動回路
JP2013199665A Active JP5600792B2 (ja) 2009-09-16 2013-09-26 駆動回路
JP2014161149A Expired - Fee Related JP5809336B2 (ja) 2009-09-16 2014-08-07 駆動回路

Country Status (5)

Country Link
US (1) US8427417B2 (ja)
JP (4) JP5084887B2 (ja)
KR (1) KR101700470B1 (ja)
TW (1) TWI492208B (ja)
WO (1) WO2011033909A1 (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2012153697A1 (en) * 2011-05-06 2012-11-15 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor memory device
JP2013066172A (ja) * 2011-08-29 2013-04-11 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 半導体装置
WO2013160941A1 (ja) * 2012-04-25 2013-10-31 パナソニック株式会社 シフトレジスタ及び表示装置
WO2018003931A1 (ja) * 2016-07-01 2018-01-04 シャープ株式会社 Tft回路およびシフトレジスタ回路

Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9466618B2 (en) 2011-05-13 2016-10-11 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device including two thin film transistors and method of manufacturing the same
TWI501226B (zh) * 2011-05-20 2015-09-21 Semiconductor Energy Lab 記憶體裝置及驅動記憶體裝置的方法
JP6116149B2 (ja) 2011-08-24 2017-04-19 株式会社半導体エネルギー研究所 半導体装置
TWI462075B (zh) 2012-01-20 2014-11-21 Hung Ta Liu 一種驅動方法及使用該方法之顯示裝置
US9742378B2 (en) 2012-06-29 2017-08-22 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Pulse output circuit and semiconductor device
TWI635501B (zh) 2012-07-20 2018-09-11 半導體能源研究所股份有限公司 脈衝輸出電路、顯示裝置、及電子裝置
JP6475424B2 (ja) 2013-06-05 2019-02-27 株式会社半導体エネルギー研究所 半導体装置
US9583063B2 (en) 2013-09-12 2017-02-28 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Display device
US11266981B2 (en) * 2013-12-02 2022-03-08 Johnson Matthey Public Limited Company Mixed template synthesis of low silica CHA zeolite
BR112016012390B1 (pt) * 2013-12-02 2021-05-04 Johnson Matthey Public Limited Company composição de catalisador, métodos para sintetizar uma composição de catalisador e para tratar um gás de escape, e, artigo de catalisador
JP6416650B2 (ja) * 2015-02-06 2018-10-31 エイブリック株式会社 定電圧回路及び発振装置
CN107993603B (zh) * 2016-10-27 2023-08-18 合肥鑫晟光电科技有限公司 移位寄存单元、移位寄存器、栅极驱动电路、显示装置
TWI615824B (zh) * 2017-02-20 2018-02-21 友達光電股份有限公司 顯示面板及其驅動電路
TWI686786B (zh) * 2017-04-17 2020-03-01 世界先進積體電路股份有限公司 顯示系統
US20190019472A1 (en) 2017-07-13 2019-01-17 Vanguard International Semiconductor Corporation Display system and method for forming an output buffer of a source driver

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH086653A (ja) * 1994-06-16 1996-01-12 Sony Corp レファレンス電圧発生回路
JPH09116408A (ja) * 1995-10-19 1997-05-02 Hitachi Ltd 半導体集積回路
JP2005251348A (ja) * 2004-03-08 2005-09-15 Casio Comput Co Ltd シフトレジスタ回路及びその駆動制御方法
JP2011120221A (ja) * 2009-10-30 2011-06-16 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 駆動回路、当該駆動回路を具備する表示装置、及び当該表示装置を具備する電子機器

Family Cites Families (113)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01233914A (ja) * 1988-03-15 1989-09-19 Fujitsu Ltd Dcfl基本論理素子で構成された集積回路
EP0820644B1 (en) * 1995-08-03 2005-08-24 Koninklijke Philips Electronics N.V. Semiconductor device provided with transparent switching element
JP3625598B2 (ja) * 1995-12-30 2005-03-02 三星電子株式会社 液晶表示装置の製造方法
JP4170454B2 (ja) 1998-07-24 2008-10-22 Hoya株式会社 透明導電性酸化物薄膜を有する物品及びその製造方法
JP2000150861A (ja) * 1998-11-16 2000-05-30 Tdk Corp 酸化物薄膜
JP3276930B2 (ja) * 1998-11-17 2002-04-22 科学技術振興事業団 トランジスタ及び半導体装置
TW460731B (en) * 1999-09-03 2001-10-21 Ind Tech Res Inst Electrode structure and production method of wide viewing angle LCD
US7633471B2 (en) * 2000-05-12 2009-12-15 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Light-emitting device and electric appliance
JP4089858B2 (ja) 2000-09-01 2008-05-28 国立大学法人東北大学 半導体デバイス
JP2002133890A (ja) * 2000-10-24 2002-05-10 Alps Electric Co Ltd シフトレジスタ
KR20020038482A (ko) * 2000-11-15 2002-05-23 모리시타 요이찌 박막 트랜지스터 어레이, 그 제조방법 및 그것을 이용한표시패널
KR100788391B1 (ko) * 2001-02-27 2007-12-31 엘지.필립스 엘시디 주식회사 액정표시패널의 양 방향 구동 회로
JP3997731B2 (ja) * 2001-03-19 2007-10-24 富士ゼロックス株式会社 基材上に結晶性半導体薄膜を形成する方法
JP2002289859A (ja) 2001-03-23 2002-10-04 Minolta Co Ltd 薄膜トランジスタ
US7218349B2 (en) 2001-08-09 2007-05-15 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device
JP3925839B2 (ja) 2001-09-10 2007-06-06 シャープ株式会社 半導体記憶装置およびその試験方法
JP4090716B2 (ja) 2001-09-10 2008-05-28 雅司 川崎 薄膜トランジスタおよびマトリクス表示装置
JP4164562B2 (ja) 2002-09-11 2008-10-15 独立行政法人科学技術振興機構 ホモロガス薄膜を活性層として用いる透明薄膜電界効果型トランジスタ
WO2003040441A1 (en) * 2001-11-05 2003-05-15 Japan Science And Technology Agency Natural superlattice homologous single crystal thin film, method for preparation thereof, and device using said single crystal thin film
JP4083486B2 (ja) * 2002-02-21 2008-04-30 独立行政法人科学技術振興機構 LnCuO(S,Se,Te)単結晶薄膜の製造方法
CN1445821A (zh) * 2002-03-15 2003-10-01 三洋电机株式会社 ZnO膜和ZnO半导体层的形成方法、半导体元件及其制造方法
JP3933591B2 (ja) * 2002-03-26 2007-06-20 淳二 城戸 有機エレクトロルミネッセント素子
US7339187B2 (en) * 2002-05-21 2008-03-04 State Of Oregon Acting By And Through The Oregon State Board Of Higher Education On Behalf Of Oregon State University Transistor structures
JP2004022625A (ja) * 2002-06-13 2004-01-22 Murata Mfg Co Ltd 半導体デバイス及び該半導体デバイスの製造方法
US7105868B2 (en) 2002-06-24 2006-09-12 Cermet, Inc. High-electron mobility transistor with zinc oxide
US7067843B2 (en) * 2002-10-11 2006-06-27 E. I. Du Pont De Nemours And Company Transparent oxide semiconductor thin film transistors
JP4339103B2 (ja) * 2002-12-25 2009-10-07 株式会社半導体エネルギー研究所 半導体装置及び表示装置
JP4166105B2 (ja) 2003-03-06 2008-10-15 シャープ株式会社 半導体装置およびその製造方法
JP2004273732A (ja) 2003-03-07 2004-09-30 Sharp Corp アクティブマトリクス基板およびその製造方法
JP4531343B2 (ja) 2003-03-26 2010-08-25 株式会社半導体エネルギー研究所 駆動回路
JP4108633B2 (ja) 2003-06-20 2008-06-25 シャープ株式会社 薄膜トランジスタおよびその製造方法ならびに電子デバイス
US7486269B2 (en) * 2003-07-09 2009-02-03 Samsung Electronics Co., Ltd. Shift register, scan driving circuit and display apparatus having the same
US7262463B2 (en) * 2003-07-25 2007-08-28 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Transistor including a deposited channel region having a doped portion
DE102004038800A1 (de) * 2003-08-13 2005-03-31 Dsm Ip Assets B.V. Herstellung von Tocol, Tocolderivaten und Tocopherolen
CN1998087B (zh) 2004-03-12 2014-12-31 独立行政法人科学技术振兴机构 非晶形氧化物和薄膜晶体管
US7145174B2 (en) * 2004-03-12 2006-12-05 Hewlett-Packard Development Company, Lp. Semiconductor device
US7297977B2 (en) * 2004-03-12 2007-11-20 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Semiconductor device
US7282782B2 (en) * 2004-03-12 2007-10-16 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Combined binary oxide semiconductor device
US7211825B2 (en) * 2004-06-14 2007-05-01 Yi-Chi Shih Indium oxide-based thin film transistors and circuits
JP2006100760A (ja) * 2004-09-02 2006-04-13 Casio Comput Co Ltd 薄膜トランジスタおよびその製造方法
US7285501B2 (en) * 2004-09-17 2007-10-23 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Method of forming a solution processed device
US7298084B2 (en) * 2004-11-02 2007-11-20 3M Innovative Properties Company Methods and displays utilizing integrated zinc oxide row and column drivers in conjunction with organic light emitting diodes
US7453065B2 (en) * 2004-11-10 2008-11-18 Canon Kabushiki Kaisha Sensor and image pickup device
US7829444B2 (en) * 2004-11-10 2010-11-09 Canon Kabushiki Kaisha Field effect transistor manufacturing method
RU2399989C2 (ru) * 2004-11-10 2010-09-20 Кэнон Кабусики Кайся Аморфный оксид и полевой транзистор с его использованием
WO2006051994A2 (en) * 2004-11-10 2006-05-18 Canon Kabushiki Kaisha Light-emitting device
US7791072B2 (en) * 2004-11-10 2010-09-07 Canon Kabushiki Kaisha Display
US7863611B2 (en) * 2004-11-10 2011-01-04 Canon Kabushiki Kaisha Integrated circuits utilizing amorphous oxides
US7868326B2 (en) * 2004-11-10 2011-01-11 Canon Kabushiki Kaisha Field effect transistor
US7579224B2 (en) * 2005-01-21 2009-08-25 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Method for manufacturing a thin film semiconductor device
TWI412138B (zh) * 2005-01-28 2013-10-11 Semiconductor Energy Lab 半導體裝置,電子裝置,和半導體裝置的製造方法
TWI569441B (zh) * 2005-01-28 2017-02-01 半導體能源研究所股份有限公司 半導體裝置,電子裝置,和半導體裝置的製造方法
US7858451B2 (en) * 2005-02-03 2010-12-28 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Electronic device, semiconductor device and manufacturing method thereof
US7948171B2 (en) * 2005-02-18 2011-05-24 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Light emitting device
US20060197092A1 (en) * 2005-03-03 2006-09-07 Randy Hoffman System and method for forming conductive material on a substrate
US8681077B2 (en) * 2005-03-18 2014-03-25 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device, and display device, driving method and electronic apparatus thereof
WO2006105077A2 (en) * 2005-03-28 2006-10-05 Massachusetts Institute Of Technology Low voltage thin film transistor with high-k dielectric material
JP4993544B2 (ja) * 2005-03-30 2012-08-08 三菱電機株式会社 シフトレジスタ回路
US7645478B2 (en) * 2005-03-31 2010-01-12 3M Innovative Properties Company Methods of making displays
US8300031B2 (en) * 2005-04-20 2012-10-30 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device comprising transistor having gate and drain connected through a current-voltage conversion element
JP2006344849A (ja) * 2005-06-10 2006-12-21 Casio Comput Co Ltd 薄膜トランジスタ
US7691666B2 (en) * 2005-06-16 2010-04-06 Eastman Kodak Company Methods of making thin film transistors comprising zinc-oxide-based semiconductor materials and transistors made thereby
US7402506B2 (en) * 2005-06-16 2008-07-22 Eastman Kodak Company Methods of making thin film transistors comprising zinc-oxide-based semiconductor materials and transistors made thereby
US7507618B2 (en) * 2005-06-27 2009-03-24 3M Innovative Properties Company Method for making electronic devices using metal oxide nanoparticles
JP2007018299A (ja) * 2005-07-08 2007-01-25 Mitsubishi Electric Corp 電圧発生回路及び表示装置
KR100711890B1 (ko) * 2005-07-28 2007-04-25 삼성에스디아이 주식회사 유기 발광표시장치 및 그의 제조방법
JP2007059128A (ja) * 2005-08-23 2007-03-08 Canon Inc 有機el表示装置およびその製造方法
JP4280736B2 (ja) * 2005-09-06 2009-06-17 キヤノン株式会社 半導体素子
JP4850457B2 (ja) * 2005-09-06 2012-01-11 キヤノン株式会社 薄膜トランジスタ及び薄膜ダイオード
JP2007073705A (ja) * 2005-09-06 2007-03-22 Canon Inc 酸化物半導体チャネル薄膜トランジスタおよびその製造方法
JP5116225B2 (ja) * 2005-09-06 2013-01-09 キヤノン株式会社 酸化物半導体デバイスの製造方法
EP1995787A3 (en) * 2005-09-29 2012-01-18 Semiconductor Energy Laboratory Co, Ltd. Semiconductor device having oxide semiconductor layer and manufacturing method therof
US7310402B2 (en) * 2005-10-18 2007-12-18 Au Optronics Corporation Gate line drivers for active matrix displays
US9153341B2 (en) 2005-10-18 2015-10-06 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Shift register, semiconductor device, display device, and electronic device
JP5037808B2 (ja) * 2005-10-20 2012-10-03 キヤノン株式会社 アモルファス酸化物を用いた電界効果型トランジスタ、及び該トランジスタを用いた表示装置
CN101577282A (zh) * 2005-11-15 2009-11-11 株式会社半导体能源研究所 半导体器件及其制造方法
TWI292281B (en) * 2005-12-29 2008-01-01 Ind Tech Res Inst Pixel structure of active organic light emitting diode and method of fabricating the same
JP2007207411A (ja) * 2006-01-05 2007-08-16 Mitsubishi Electric Corp シフトレジスタ回路およびそれを備える画像表示装置
US7867636B2 (en) * 2006-01-11 2011-01-11 Murata Manufacturing Co., Ltd. Transparent conductive film and method for manufacturing the same
JP4977478B2 (ja) * 2006-01-21 2012-07-18 三星電子株式会社 ZnOフィルム及びこれを用いたTFTの製造方法
US7576394B2 (en) * 2006-02-02 2009-08-18 Kochi Industrial Promotion Center Thin film transistor including low resistance conductive thin films and manufacturing method thereof
US7977169B2 (en) * 2006-02-15 2011-07-12 Kochi Industrial Promotion Center Semiconductor device including active layer made of zinc oxide with controlled orientations and manufacturing method thereof
KR20070101595A (ko) * 2006-04-11 2007-10-17 삼성전자주식회사 ZnO TFT
US20070252928A1 (en) * 2006-04-28 2007-11-01 Toppan Printing Co., Ltd. Structure, transmission type liquid crystal display, reflection type display and manufacturing method thereof
JP5028033B2 (ja) * 2006-06-13 2012-09-19 キヤノン株式会社 酸化物半導体膜のドライエッチング方法
JP4609797B2 (ja) * 2006-08-09 2011-01-12 Nec液晶テクノロジー株式会社 薄膜デバイス及びその製造方法
JP4999400B2 (ja) * 2006-08-09 2012-08-15 キヤノン株式会社 酸化物半導体膜のドライエッチング方法
JP4332545B2 (ja) * 2006-09-15 2009-09-16 キヤノン株式会社 電界効果型トランジスタ及びその製造方法
JP4274219B2 (ja) * 2006-09-27 2009-06-03 セイコーエプソン株式会社 電子デバイス、有機エレクトロルミネッセンス装置、有機薄膜半導体装置
JP5164357B2 (ja) * 2006-09-27 2013-03-21 キヤノン株式会社 半導体装置及び半導体装置の製造方法
JP4932415B2 (ja) * 2006-09-29 2012-05-16 株式会社半導体エネルギー研究所 半導体装置
TWI651701B (zh) 2006-09-29 2019-02-21 日商半導體能源研究所股份有限公司 顯示裝置和電子裝置
JP5116277B2 (ja) * 2006-09-29 2013-01-09 株式会社半導体エネルギー研究所 半導体装置、表示装置、液晶表示装置、表示モジュール及び電子機器
US7622371B2 (en) * 2006-10-10 2009-11-24 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Fused nanocrystal thin film semiconductor and method
US7772021B2 (en) * 2006-11-29 2010-08-10 Samsung Electronics Co., Ltd. Flat panel displays comprising a thin-film transistor having a semiconductive oxide in its channel and methods of fabricating the same for use in flat panel displays
JP2008140684A (ja) * 2006-12-04 2008-06-19 Toppan Printing Co Ltd カラーelディスプレイおよびその製造方法
TWI383348B (zh) * 2006-12-05 2013-01-21 Chunghwa Picture Tubes Ltd 移位暫存器以及使用其之驅動電路與顯示裝置
TWI346320B (en) * 2006-12-26 2011-08-01 Au Optronics Corp Gate driving circuit and driving method thereof
KR101303578B1 (ko) * 2007-01-05 2013-09-09 삼성전자주식회사 박막 식각 방법
US8207063B2 (en) * 2007-01-26 2012-06-26 Eastman Kodak Company Process for atomic layer deposition
KR100851215B1 (ko) * 2007-03-14 2008-08-07 삼성에스디아이 주식회사 박막 트랜지스터 및 이를 이용한 유기 전계 발광표시장치
TWI453711B (zh) * 2007-03-21 2014-09-21 Semiconductor Energy Lab 顯示裝置
US7795613B2 (en) * 2007-04-17 2010-09-14 Toppan Printing Co., Ltd. Structure with transistor
KR101325053B1 (ko) * 2007-04-18 2013-11-05 삼성디스플레이 주식회사 박막 트랜지스터 기판 및 이의 제조 방법
KR20080094300A (ko) * 2007-04-19 2008-10-23 삼성전자주식회사 박막 트랜지스터 및 그 제조 방법과 박막 트랜지스터를포함하는 평판 디스플레이
KR101334181B1 (ko) * 2007-04-20 2013-11-28 삼성전자주식회사 선택적으로 결정화된 채널층을 갖는 박막 트랜지스터 및 그제조 방법
KR101345376B1 (ko) * 2007-05-29 2013-12-24 삼성전자주식회사 ZnO 계 박막 트랜지스터 및 그 제조방법
JP5245292B2 (ja) * 2007-05-30 2013-07-24 カシオ計算機株式会社 シフトレジスタ回路及び表示装置
JP4715833B2 (ja) * 2007-11-07 2011-07-06 ソニー株式会社 表示装置、表示装置の駆動方法および電子機器
US8202365B2 (en) * 2007-12-17 2012-06-19 Fujifilm Corporation Process for producing oriented inorganic crystalline film, and semiconductor device using the oriented inorganic crystalline film
US8314765B2 (en) 2008-06-17 2012-11-20 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Driver circuit, display device, and electronic device
KR101959185B1 (ko) 2008-11-28 2019-03-15 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 반도체 장치, 표시 장치 및 표시 장치를 포함하는 전자 장치
WO2011071573A2 (en) * 2009-09-02 2011-06-16 Arizona Board Of Regents, For And On Behalf Of Arizona State University Amplifiers with depletion and enhancement mode thin film transistors and related methods

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH086653A (ja) * 1994-06-16 1996-01-12 Sony Corp レファレンス電圧発生回路
JPH09116408A (ja) * 1995-10-19 1997-05-02 Hitachi Ltd 半導体集積回路
JP2005251348A (ja) * 2004-03-08 2005-09-15 Casio Comput Co Ltd シフトレジスタ回路及びその駆動制御方法
JP2011120221A (ja) * 2009-10-30 2011-06-16 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 駆動回路、当該駆動回路を具備する表示装置、及び当該表示装置を具備する電子機器

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2012153697A1 (en) * 2011-05-06 2012-11-15 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor memory device
US8630110B2 (en) 2011-05-06 2014-01-14 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor memory device
JP2013066172A (ja) * 2011-08-29 2013-04-11 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 半導体装置
JP2021047420A (ja) * 2011-08-29 2021-03-25 株式会社半導体エネルギー研究所 半導体装置
WO2013160941A1 (ja) * 2012-04-25 2013-10-31 パナソニック株式会社 シフトレジスタ及び表示装置
JPWO2013160941A1 (ja) * 2012-04-25 2015-12-21 株式会社Joled シフトレジスタ及び表示装置
US9443608B2 (en) 2012-04-25 2016-09-13 Joled Inc. Shift register having multiple output units connected in cascade as display device scan line driving circuit
WO2018003931A1 (ja) * 2016-07-01 2018-01-04 シャープ株式会社 Tft回路およびシフトレジスタ回路

Also Published As

Publication number Publication date
JP5600792B2 (ja) 2014-10-01
JP5809336B2 (ja) 2015-11-10
JP2014060726A (ja) 2014-04-03
KR20120083309A (ko) 2012-07-25
TW201133459A (en) 2011-10-01
US20110064186A1 (en) 2011-03-17
JP5084887B2 (ja) 2012-11-28
WO2011033909A1 (en) 2011-03-24
TWI492208B (zh) 2015-07-11
JP5380595B2 (ja) 2014-01-08
KR101700470B1 (ko) 2017-01-26
US8427417B2 (en) 2013-04-23
JP2013030263A (ja) 2013-02-07
JP2015027089A (ja) 2015-02-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5084887B2 (ja) 駆動回路、当該駆動回路を具備する表示装置、当該表示装置を具備する電子機器
KR101712340B1 (ko) 구동 회로, 구동 회로를 포함하는 표시 장치, 및 표시 장치를 포함하는 전자 기기
JP5616176B2 (ja) 半導体装置、表示装置及び電子機器
KR102059691B1 (ko) 액정 표시 장치의 제어 회로, 액정 표시 장치, 및 상기 액정 표시 장치를 구비한 전자 기기
US20150029082A1 (en) Gate drive circuit and display apparatus having the same
JP6074077B2 (ja) 半導体装置
WO2019184323A1 (zh) 移位寄存器单元、栅极驱动电路、显示装置及驱动方法
JP2019191396A (ja) 表示装置
JP2014191836A (ja) シフトレジスタ回路および画像表示装置
US20230343285A1 (en) Shift Register Unit and Driving Method Thereof, Gate Driving Circuit, and Display Panel

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120727

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20120727

A871 Explanation of circumstances concerning accelerated examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871

Effective date: 20120727

A975 Report on accelerated examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005

Effective date: 20120821

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20120828

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20120904

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5084887

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150914

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150914

Year of fee payment: 3

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250