JP2010534406A5

JP2010534406A5 -

Info

Publication number: JP2010534406A5
Application number: JP2010517027A
Authority: JP
Filing date: 2008-07-18
Publication date: 2011-07-14
Anticipated expiration: 2028-07-18

Claims

基板の端部のみを用いて前記基板を検知し、テンプレート・モールドを前記基板に対して位置合わせする方法であって、前記方法は、
前記テンプレート・モールド及び前記基板の上にセンサ・システムを配置するステップであって、前記センサ・システムは光エネルギー・ビームを生成し、検出面から角度ウィンドウ内に反射された前記光エネルギーの部分のみを受光するように構成され、前記センサ・システムは前記テンプレート・モールド及び前記基板の前記検出面から反射され受光した光エネルギーの変動に応じてセンサ信号を生成する、ステップと、
前記テンプレート・モールドをツール座標内で位置特定するための制御信号に応答して前記テンプレート・モールドを位置決めするステップであって、前記テンプレート・モールドは所定の寸法増分に対応するピッチの検出面を有する回折格子で囲まれたインプリント可能な特徴部を含む、ステップと、
前記基板をツール座標内で前記基板を位置特定するための制御信号に応答して前記基板を位置決めするステップであって、前記基板の端部のみが検出面として構成される、ステップと、
前記テンプレート・モールドを前記基板に対してツール座標内で位置特定するための前記センサ信号をコントローラ内で処理するステップと、
前記制御信号を生成し、それによって前記基板を前記テンプレート・モールドに対して正確に位置決めするステップと、
から構成され、
チャックの第１の面により光ビームを実質的に前記センサ・システムに照射し、前記基板の端部の第２の面により光ビームを、受光エネルギーが変動させる前記センサ・システムから実質的に離間させて照射するように、前記チャック上に前記基板が位置決めされることを特徴とする方法。
前記ツール座標内で前記テンプレート・モールドに対して前記基板が正確に位置決めされると、前記回折格子のパターン及び前記アクティブ・エリアを前記基板上にインプリントするステップと、
前記基板上にインプリントされた前記回折格子のパターン及び前記アクティブ・エリアを前記センサ・システムで走査することにより、前記基板端部に対応する検出面及び前記インプリントされた回折格子上の検出面からセンサ信号を生成するステップと、
前記インプリントされたパターンをツール座標内で前記基板の前記端部に対して位置特定するための前記センサ信号を前記コントローラ内で処理して、前記アクティブ・エリアの前記基板に対する同心度を判定し、プロセス制御を容易にするステップと、
をさらに含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
前記テンプレート・モールドの前記アクティブ・エリアのインプリント特徴部が形成されるのと同時に、前記回折格子は前記テンプレート・モールド上にインプリント特徴部として形成されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
前記センサ・システムは前記光エネルギー・ビームを生成するレーザー光エミッタと、前記レーザー光の周波数に反応して検出面から角度ウィンドウ内に反射された前記光エネルギー部分を受光する光検出器とを備える、ことを特徴とする請求項１に記載の方法。
前記レーザー光エミッタと前記光検出器は、所定の角度ウィンドウ内に検出面から反射されたレーザー光のみが前記光検出器上に入射するように相対的に位置決めされることを特徴とする請求項４に記載の方法。
前記回折格子は、所定の距離パラメータに対応するピッチを有する一連の平行な等間隔を空けた長方形の峰及び谷として構成されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
前記アクティブ・エリアの特徴部がインプリントされるとの同時に、前記回折格子は前記基板上にインプリントされることを特徴とする請求項１に記載の方法。
インプリント・パターン及びインプリント格子を含む前記基板の直交軸に沿って前記センサ・システムを走査し、前記回折格子の端部から内縁までの距離を測定するステップと、
個々の直交経路に沿った前記距離を減算して、前記基板にインプリントしたパターンの同心度の測定値を生成するステップと、
をさらに含むことを特徴とする請求項７に記載の方法。
前記チャックの前記第１の面は、少なくとも１つの傾斜を有することを特徴とする請求項１に記載の方法。
前記センサ・システムは光源と検出器を有し、前記チャックの前記第１の面の傾斜は実質的に前記光源と前記検出器との間の角度の半分に等しいことを特徴とする請求項９に記載の方法。
前記基板は、前記基板の内縁が前記第１の面の前記傾斜の少なくとも一部に重なり合うように位置決めされることを特徴とする請求項９に記載の方法。
前記ツール座標内に前記基板を位置特定することは、前記基板の中心位置を決定するステップを含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
前記ツール座標内に前記基板を位置特定することは、前記基板の半径を決定するステップを含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。