JP2010513617A

JP2010513617A - 高い引掻耐性及び耐候性を有する被覆剤

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Publication number: JP2010513617A
Application number: JP2009541878A
Authority: JP
Inventors: グレーネヴォルトマティース; ポッペアンドレアス; クラインギュンター; ニーマイアーマヌエラ; ヴェストホフエルケ; シュテュッベヴィルフリート; ヘーゼナーシモーネ
Original assignee: BASF Coatings GmbH
Current assignee: BASF Coatings GmbH
Priority date: 2006-12-19
Filing date: 2007-12-19
Publication date: 2010-04-30
Also published as: JP2010513618A; BRPI0721292A2; RU2467027C2; KR20090101936A; CA2671663A1; CN101568565B; CN101583643B; JP2010513616A; PL2091987T3; CA2671516C; MX2009005536A; PL2091988T3; MX2009005495A; BRPI0721070A2; US20100028544A1; CA2671662A1; KR101500460B1; ES2369110T3; ES2408171T3; MX2009005613A

Abstract

本発明は、（ａ）少なくとも１種のヒドロキシル基含有化合物（Ａ）、（ｂ）遊離及び／又は遮断されたイソシアネート基を有する、少なくとも１種の化合物（Ｂ）、（ｃ）シラン基の架橋結合のための、少なくとも１種の触媒（Ｄ）を含有する被覆剤（この際、（ｉ）被覆剤の１種以上の成分は、加水分解可能なシラン基を含有し、かつ（ｉｉ）被覆剤は、統計的に分配されたＳｉ‐Ｏ‐Ｓｉ網状構造の領域を有する被膜に最終硬化され得る）に関し、この被覆剤は、被覆剤から得られる最終硬化被膜が、２よりも少ない後架橋結合指数（ＰＣＩ）を有し、この際、後架橋結合指数（ＰＣＩ）は、２００℃の貯蔵弾性率Ｅ’（200）対測定されるガラス転移温度Ｔｇより上の温度での貯蔵弾性率Ｅ’（min）の最小値からの商として定義され、貯蔵弾性率Ｅ’（200）及びＥ’（min）及びガラス転移温度Ｔｇは、動的‐機械的‐熱的‐分析（＝ＤＭＴＡ）で、加熱率２Ｋ／分及び振動数１Ｈｚで測定されていて、かつＤＭＴＡ測定は、ＤＭＴＡ測定に先立ち、対象物温度１４０℃で２０分間硬化されかつ硬化後に２５℃で８日間貯蔵された層厚４０μｍ±１０μｍの独立フィルムで実施されたことを特徴とする。

Description

本発明は、加水分解可能なシラン基を有するポリオール及びポリイソシアネートを含有する中性溶剤をベースとする熱硬化可能な被覆剤に関し、これにより、高い引掻耐性を、同時に高い光沢及び高い耐候性と共に有する被覆物が得られる。

ＷＯ‐Ａ‐０１／９８３９３に、結合剤成分としてポリオール及び架橋結合剤成分として部分的にアルコキシシリル基で官能化されているポリイソシアネートを含有する２Ｋ被覆剤が記載されている。この被覆剤はプライマーとして使用され、金属性の下地、殊にアルミニウム下地との接着に最適である。ＯＥＭ連続ラッカー塗布又は補修ラッカー塗布の分野では、この被覆剤上に、ベースラッカー‐クリアラッカー‐構成体が塗布される。ＷＯ‐０１／９８３９３による被覆剤は、引掻耐性及び耐候性に関して最適ではない。

ＥＰ‐Ａ‐０９９４１１７に、ポリオール成分及び有利にアスパルテートに変換されるモノアルコキシシリルアルキルアミンと部分的に反応され得るポリイソシアネート成分を含有する、湿潤硬化可能な組成物が記載されている。そのような組成物を含む被覆物は確かに一定の硬度を有するが、ＯＥＭ適用には、耐候性に関して及び殊にその引掻耐性に関して、限定的にしか適していない。

ＵＳ‐Ａ‐２００６／０２１７４７２は、ヒドロキシ官能性アクリレート、低分子のポリオール成分、ポリイソシアネート及びアミノ官能性アルコキシシリル成分、有利にビスアルコキシシリルアミンを含有し得る被覆剤を記載している。そのような被覆剤は、ベースラッカー‐クリアラッカー構成体におけるクリアラッカーとして使用され、引掻耐性の被覆物を形成する。しかし、そのような被覆剤の貯蔵性は極めて限定的であり、かつ生じる被覆物は、殊に湿潤‐乾燥‐周期でのＵＶ線に対して、僅かな耐候性を有する。

ＷＯ２００６／０４２５８５に、ＯＥＭ連続ラッカー塗布に適するクリアラッカーが記載されていて、これは、主結合剤成分として、そのイソシアネート基が有利に９０モル％以上ビスアルコキシシリルアミンと反応しているポリイソシアネートを含有する。そのようなクリアラッカーは、特徴的な引掻耐性を、同時に高い化学薬品耐性及び耐候性で有する。しかし、引掻耐性の高水準を保持する場合に、殊に湿潤‐乾燥周期におけるＵＶ線での亀裂形成に対して、更なる耐候性の改善が求められる。

ＥＰ‐Ａ‐１２７３６４０は、ポリオール成分及び脂肪族及び／又は環状脂肪族ポリイソシアネートを含む架橋結合剤成分を含む２Ｋ被覆剤を記載していて、この際、本来存在する遊離性イソシアネート基の０．１〜９５モル％は、ビスアルコキシルシリルアミンと反応している。この被覆剤はＯＥＭ連続ラッカー塗布に使用され、その完全な硬化後に、良好な引掻耐性を、同時に環境的影響に対するその良好な耐性と共に有する。しかし、この被覆剤は、特に強い後架橋結合化傾向を有し、このことは（熱的最終硬化直後）被覆物の不十分な引掻耐性しか得られないという結果をもたらす。同様に、強い後架橋結合は、引張亀裂の危険が高められるので、耐候性に否定的に作用する。

まだ未公開のドイツ国特許出願Ｐ１０２００７０１３２４２に、界面活性的に変性化されたシラン含有の化合物を有する被覆剤が記載されている。この被覆剤は、表面に近い被覆域に、（熱硬化の前に、界面活性的に変性化されたシラン含有化合物の富化に基づき）、塊として、Ｓｉ‐Ｏ‐Ｓｉ網状構造のより高いＳｉ原子密度を有する最終硬化被覆物を生じさせる。これに反して、本発明による被覆物は、この表面でのＳｉ‐Ｏ‐Ｓｉ網状構造の富化を全く有せず、最終硬化された本発明による被覆のＳｉ‐Ｏ‐Ｓｉ網状構造の範囲は、統計的に分配されている。

課題及び解明
本発明の課題は、高度に耐候性の網状構造を生じさせる被覆剤、殊に、ＯＥＭ連続ラッカー被膜における及び自動車補修ラッカー被膜における、クリアラッカー層のための被覆剤を得ることにあって、この際、高い耐酸性を保証するために、加水分解及び天候に不安定な基団の不所望な生成は極めて広汎に抑制される。同時に、熱硬化直後に既に高度に引掻耐性で、かつ殊に引掻負荷後に高い光沢を保持している被覆物を生成させるべきである。更に、被覆物及びラッカー被膜、特にクリアラッカー被膜は、引張亀裂が生じることなく、層厚＞４０μｍで製造されるべきである。このことは、技術的及び美的に特に要求の高い自動車連続ラッカー塗布（ＯＥＭ）分野における、被覆物及びラッカー被膜、殊にクリアラッカー被膜の使用のための重要な前提である。

殊に、湿潤‐乾燥周期におけるＵＶ線での暴候に際し、特に亀裂形成に対する高い安定性を、卓越した引掻耐性と組み合わせて有するクリアラッカー被膜を得るべきである。

更に、新規の被覆剤は、簡単できわめて良好に再現可能に製造することができ、かつラッカーを適用する間に生態学的問題を引き起こすべきではない。

課題の解明
前記の課題状況の観点から、
（ａ）少なくとも１種のヒドロキシル基含有化合物（Ａ）、
（ｂ）遊離及び／又は遮断されたイソシアネート基を有する、少なくとも１種の化合物（Ｂ）、
（ｃ）シラン基の架橋結合のための、少なくとも１種の触媒（Ｄ）
を含有する被覆剤
（この際、
（ｉ）被覆剤の１種以上の成分は、加水分解可能なシラン基を含有し、かつ
（ｉｉ）被覆剤は、統計的に分配されたＳｉ‐Ｏ‐Ｓｉ網状構造の領域を有する被膜に最終硬化され得る）が発明され、
この被覆剤は、被覆剤から得られる最終硬化被膜が２よりも少ない後架橋結合指数（ＰＣＩ）を有することを特徴とし、
この際、
後架橋結合指数（ＰＣＩ）は、２００℃で測定される最終硬化被膜の貯蔵弾性率Ｅ’（200）対測定されるガラス転移温度Ｔｇより上の温度で測定される最終硬化被膜の貯蔵弾性率Ｅ’の最小値（min）からの商として定義され、
貯蔵弾性率Ｅ’（200）及びＥ’（min）及びガラス転移温度Ｔｇは、層厚４０μｍ±１０μｍの独立フィルムで、動的‐機械的‐熱的‐分析（Dynamisch-Mechanischen-Thermo-Analyse）（＝ＤＭＴＡ）で、加熱率２Ｋ／分及び振動数１Ｈｚで測定されていて、かつ
ＤＭＴＡ測定は、ＤＭＴＡ測定に先立ち、対象物温度１４０℃で２０分間硬化されかつ硬化後に２５℃で８日間貯蔵された層厚４０μｍ±１０μｍの独立フィルムで実施された。

本発明の基礎にある課題が、本発明による被覆剤で解明され得ることは、公知技術水準に関して驚異的であり、かつ当業者には予見し得なかった。

本発明による成分は、特に簡単でかつ極めて良好に再現可能に製造することができ、かつラッカー適用に際し、著しい毒物学的及び生態学的な問題を起こさずに提供される。

本発明による被覆剤は、高い引掻耐性であり、かつ慣例の高度に架橋結合された引掻耐性系に相反して耐酸性である新規の被覆物及びラッカー被膜、特にクリアラッカー被膜を生成させる。更に、本発明による被覆物及びラッカー被膜、特にクリアラッカー被膜は、引張亀裂が生じることなく、層厚＞４０μｍで製造され得る。従って、本発明による被覆物及びラッカー被膜、特にクリアラッカー被膜は、技術的及び美的に特に要求の多い自動車連続ラッカー塗布（ＯＥＭ）分野で使用され得る。この際、これは特に高い洗浄ライン耐性及び引掻耐性を特徴とする。殊に、被覆物の高い引掻耐性は、被覆物の最終硬化直後に得られ、従って被覆物は最終硬化に続いて直ちに問題なく処理され得る。更に、CAM 180‐試験（DIN EN ISO 11341 Feb 98及びDIN EN ISO 4892-2 Nov 00による）において、本発明による被覆物のＵＶ線及び湿潤‐乾燥交代での亀裂形成に対する安定性は、高い引掻耐性と組み合わされて特徴的である。

発明の説明
後架橋結合指数（ＰＣＩ）
要求される高い引掻耐性を（熱硬化直後に既に）、同時に良好な耐候性で有する被覆物を達成するために、被覆剤を適用される硬化条件下にできるだけ完全に硬化させる、要するに、被膜の硬化後にほんの僅かしか後硬化を示さないことが本発明の本質である。この僅少な後硬化は、後架橋結合指数（ＰＣＩ）によって表わされる。後架橋結合指数（ＰＣＩ）は、２００℃で測定される最終硬化被膜の貯蔵弾性率Ｅ’（200）対測定されるガラス転移温度Ｔｇの直ぐ上の温度で測定される最終硬化被膜の貯蔵弾性率Ｅ’の最小値（min）からの商として定義され、即ち、Ｅ’（min）は、測定温度がＴｇよりも高くかつ２００℃よりも低い場合に、ＤＭＴＡ‐測定で出現する貯蔵弾性率の最小値である。最終硬化被膜とは、ＤＭＴＡ測定を実施する前に、１４０℃の対象物温度で２０分間硬化させ、かつ硬化後に２５℃で８日間貯蔵させる被膜が解される。当然、本発明による被覆剤は、他の（適用目的によって異なる）条件下に硬化されることもできる。更に、本発明による被覆剤は、貯蔵弾性率を測定する前に、最終硬化後に８日間よりも少なく貯蔵されることも当然できる。この際、一般に、２５℃で、より短い、例えば１日間だけの貯蔵での後硬化指数は、当然、２５℃で８日間の貯蔵の場合よりもやや高い。しかし、各々の被覆剤が本発明によるかどうかを確認する目的で、ＤＭＴＡ‐測定による後架橋結合指数を確定するために、被覆物を、再現可能な正確に規定される条件下に硬化させること及び貯蔵することが必要である。

後架橋結合指数の確定に必要な貯蔵弾性率Ｅ’（200）及びＥ’（min）及びガラス転移温度Ｔｇは、動的‐機械的‐熱的‐分析（＝ＤＭＴＡ）で、加熱率２ｋ／分及び振動数１Ｈｚで測定される。

動的‐機械的な熱的‐分析は、被覆物の粘弾性特性を測定するための一般に公知の測定法であり、例えば、ムラヤマ（Murayama, T.）, ポリマー物質の動的機械的分析（Dynamic Mechanical Analysis of Polymeric Material）, Esevier, New York, 1978及びローレンW.ヒル（Loren W. Hill）, コーティング技術誌（Journal of Coatings Technology）, Vol. 64, No. 808, May 1992, 31〜33頁に記載されている。

測定の実施は、例えば、レオメトリックスサイエンティフィック社（Firma Rheometrics Scientific）の、振動数１Ｈｚ及び振幅率０．２％のＤＭＴＡＶ装置で行われ得る。この際、加熱率は１分間当たり２Ｋである。

ＤＭＴＡ測定は、層厚４０μｍ±１０μｍの独立フィルムで行われる。そのために、本発明による被覆剤を、得られる被膜がその上に接着しない支持体上に塗布する。好適な支持体の例として、ガラス、テフロン、ポリエチレンテレフタレート及びポリプロピレンが挙げられる。そうして得られる被膜を、ＤＭＴＡ測定を実施する前に、１４０℃の対象物温度で２０分間硬化させ、硬化後に２５℃で８日間貯蔵させる。

更に、本発明による被覆剤は、それが、統計的に分配されたＳｉ‐Ｏ‐Ｓｉ網状構造領域を有する被膜に最終硬化され得ることを特徴とする。このことは、被膜の一定範囲で限定されたＳｉ‐Ｏ‐Ｓｉ網状構造の富化又は貧化とならない、即ち、まだ未公開のドイツ国特許出願Ｐ１０２００７０１３２４２に記載された、表面近くの被覆域の富化にもならないことを意味する。

被覆剤から得られる最終硬化被膜は、２よりも少ない、有利に１．８以下、特に有利に１．７以下及び極めて特に有利に１．５以下の後架橋結合指数（ＰＣＩ）を有することは本発明の本質である。

この際、先ず、架橋結合全体でシラン架橋結合の割合が少なければ少ないほど、一般に後架橋結合はより少ない、従って、後架橋結合指数（ＰＣＩ）はより少ないことを確認すべきである。しかし、シラン架橋結合の割合が増すと共に、同時に引掻耐性も減少し、従って、所望の極めて高い引掻耐性の達成のためには、比較的高い割合のシラン架橋結合が所望される。

本発明により調整すべき、２よりも少ない、有利に１．８以下、特に有利に１．７以下及び極めて特に有利に１．５以下の僅少な後架橋結合指数（ＰＣＩ）は、次に詳説される多数の手段によって調整される。従って、本発明による被覆剤は、僅少な後架橋結合度（後架橋結合指数を介して測定される）に基づき、通例では高い割合のシラン架橋結合と結びついた欠点を示さない、極めて高い引掻耐性の調整のために必要な高い割合のシラン架橋結合で既に調整され得る。殊に、僅少な後架橋結合指数の調整によって、被膜の熱的最終硬化に直後に高い引掻耐性を有し、かつ同時に良好な耐候性を有する被覆剤を得ることができる。更に、本発明による被覆剤は、CAM 180‐試験（DIN EN ISO 11341 Feb 98及びDIN EN ISO 4892-2 Nov 00による）で、ＵＶ線及び湿潤‐乾燥交代での亀裂形成に対する本発明による被覆物の極めて良好な安定性、高い光沢及び暴候後の光沢保持を特徴とする。

シラン基の架橋結合のための触媒（Ｄ）
後架橋結合指数（ＰＣＩ）の有利な調整手段は、シラン基の架橋結合のための触媒（Ｄ）である。シラン基又はアルコキシシリル‐単位の架橋結合のための、及び化合物（Ａ）のヒドロキシル基と化合物（Ｂ）の遊離イソシアネート基との間の反応のための触媒として、詳しく後記される他の手段によって、僅少な後架橋結合指数が同時に保証される場合に、自体公知の化合物を使用することができる。そのような公知触媒の例は、リュイス‐酸（電子欠乏化合物）、例えば、錫ナフテネート、錫ベンゾエート、錫オクトエート、錫ブチレート、ジブチル錫ジラウレート、ジブチル錫ジアセテート、ジブチル錫オキシド、鉛オクトエート、及び例えば、ＷＯ‐Ａ‐２００６／０４２５８５に記載されている触媒である。

しかし、僅少な後架橋結合指数の調整のために、触媒（Ｄ）として、有利に燐含有の、殊に燐‐及び窒素‐含有の触媒が使用される。この際、２種以上の異なった触媒（Ｄ）を含む混合物を使用することもできる。

好適な燐含有触媒（Ｄ）の例は、有利に、非環状のホスホン酸ジエステル、環状のホスホン酸ジエステル、非環状のジホスホン酸ジエステル及び環状のジホスホン酸ジエステルを含む群からの置換されたホスホン酸ジエステル及びジホスホン酸ジエステルである。この種類の触媒は、例えば、ドイツ国特許出願ＤＥ‐Ａ‐１０２００５０４５２２８に記載されている。

しかし、触媒として、殊に、有利に非環状の燐酸ジエステル及び環状の燐酸ジエステルを含む群からの、置換された燐酸モノエステル及び燐酸ジエステル、特に有利に燐酸モノエステル及び燐酸ジエステルのアミン付加体が使用される。

この際、非環状燐酸ジエステル（Ｄ）は、殊に、一般式（ＩＶ）：

［式中、基Ｒ_１０及びＲ_１１は、
置換又は非置換の、１〜２０、有利に２〜１６及び殊に２〜１０個の炭素原子を有するアルキル基、３〜２０、有利に３〜１６及び殊に３〜１０個の炭素原子を有するシクロアルキル基及び５〜２０、有利に６〜１４及び殊に６〜１０個の炭素原子を有するアリール基、
置換及び非置換の、アルキルアリール基、アリールアルキル基、アルキルシクロアルキル基、シクロアルキルアルキル基、アリールシクロアルキル基、シクロアルキルアリール基、アルキルシクロアルキルアリール基、アルキルアリールシクロアルキル基、アリールシクロアルキルアルキル基、アリールアルキルシクロアルキル基、シクロアルキルアルキルアリール基及びシクロアルキルアリールアルキル基（この際、この中に含まれるアルキル基、シクロアルキル基及びアリール基は各々前記の数の炭素原子を含有する）及び
酸素原子、硫黄原子、窒素原子、燐原子及び珪素原子、殊に酸素原子、硫黄原子及び窒素原子を含む群から選択される少なくとも１個の、殊に１個のヘテロ原子を含有する、前記の種類の置換及び非置換基
を含む群から選択され、かつ付加的に水素原子であってもよい（部分エステル化）］
の非環状燐酸ジエステル（Ｄ）を含む群から選択される。

触媒（Ｄ）として、極めて特に有利に、相応するアミン遮断化の燐酸エステル、及びこの際、殊にアミン遮断化の燐酸エチルヘキシルエステル及びアミン遮断化の燐酸フェニルエステル、極めて特に有利にアミン‐遮断化の燐酸‐ビス（２‐エチルヘキシル）エステルが使用される。

燐酸エステルがそれで遮断されるアミンの例として、殊に三級アミン、例えば、トリエチルアミンが挙げられる。燐酸エステルの遮断化のために、１４０℃の硬化条件で、触媒の良好な作用を保証する三級アミンが特に有利に使用される。

アミンで遮断された一定の燐酸触媒は商業的にも得られる（例えば、キングインダストリーズ社（Fa. King Industries）のナキュア型（Nacure-Typen））。アミン遮断化の燐酸部分エステルをベースとする特に好適な触媒として、例えば、キングインダストリーズ社の商標ナキュア４１６７が挙げられる。

触媒は、本発明による被覆剤の非揮発性成分に対して、有利に０．０１〜２０質量％の割合で、特に有利に０．１〜１０質量％の割合で使用される。この際、触媒の使用量も後架橋結合指数への一定の影響を有し、それというのも、触媒のより少ない有効性が、相応するより高い使用量によって部分的に補正され得るからである。

加水分解可能なシラン基を有する構造単位
被覆剤の１種以上の成分が、加水分解可能なシラン基を含有することは本発明の本質である。この加水分解可能なシラン基は、最終硬化被膜中で統計的に分配されているＳｉ‐Ｏ‐Ｓｉ網状構造を構成させる。

この際、殊に、被覆剤の１種以上の成分が、少なくとも部分的に、１種以上の同じ又は異なる式（Ｉ）：
‐Ｘ‐Ｓｉ‐Ｒ"_ｘＧ_３‐ｘ（Ｉ）
［式中、
Ｇ＝同じ又は異なる加水分解可能な基であり、
Ｘ＝有機基、殊に１〜２０個の炭素原子を有する直鎖及び／又は分枝鎖のアルキレン基又はシクロアルキレン基であり、極めて特に有利にＸ＝１〜４個の炭素原子を有するアルキレン基であり、
Ｒ"＝アルキル、シクロアルキル、アリール、又はアルアルキルであり、この際、炭素鎖は非隣接の酸素基、硫黄基又はＮＲａ基によって遮断されていてよく、ここで、Ｒａ＝アルキル、シクロアルキル、アリール又はアルアルキルであり、有利にＲ"＝殊に、１〜６個のＣ原子を有するアルキル基であり、
ｘ＝０〜２、有利に０〜１であり、特に有利にｘ＝０である］
の構造単位を有する被覆剤が考慮される。

この際、被膜の硬化の間に、このシラン基の構造も反応性への、従って、できるだけ広範な変換への、要するにできるだけ少ない後架橋結合指数（ＰＣＩ）の調整への影響を有する。

シランの相容性及び反応性に関して、３個の加水分解可能な基を有するシランが有利に使用される（即ち、ｘ＝０）。

加水分解可能な基Ｇは、ハロゲン、殊に塩素及び臭素の群から、アルコキシ基の群から、アルキルカルボニル基の群から及びアシルオキシ基の群から選択され得る。アルコキシ基（ＯＲ’）が特に有利である。

各々有利なアルコキシ基（ＯＲ’）は同じ又は異なっていてよいが、基の構成には、これが加水分解可能なシラン基の反応性に影響する限り決定的である。Ｒ’は、殊に１〜６個のＣ原子を有するアルキル基が有利である。シラン基の反応性を高める、即ち、良好な離脱基である基Ｒ’が特に有利である。その限りでは、メトキシ基が、エトキシ基に比べて、かつこれは再びプロポキシ基に比べて有利である。従って、Ｒ’＝エチル及び／又はメチルが特に有利であり、殊にメチルが有利である。

更に、有機官能性シランの反応性は、変性成分との反応に用いられる、シラン官能基と有機官能基との間のスペーサーＸの長さによっても著しく影響され得る。その例は、ワッカー社（Firma Wacker）で得られる"アルファ"‐シランが挙げられ、この場合には、"ガンマ"‐シランでＳｉ原子と官能基との間に存在するプロピレン基の代わりが、メチレン基である。明らかにするために、加水分解可能なシラン基を被覆剤中に導入させるために、メタクリルオキシメチルトリメトキシシラン（"アルファ"‐シラン、例えば、ワッカー社の商品ゲニオシル（GENIOSIL）（登録商標）XL 33）が、メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン（"ガンマ"‐シラン、例えば、ワッカー社の商品ゲニオシル（登録商標）GF 31）に比べて有利に使用されることが挙げられる。

シランの反応性を高めるスペーサーが、シランの反応性を減少させるスペーサーに比べて、極めて一般的に有利である。

同時にシランの官能性も後架橋結合指数への影響を有する。この際、官能性とは、１分子当たりの式（Ｉ）の基の数が解される。従って、一官能性シランとは、シラン１分子当たり各々１個の式（Ｉ）の基を、変性すべき成分中に導入させるシランが解される。この際、二官能性シランとは、シラン‐１分子当たり各々２個の式（Ｉ）の基を成分中に導入させるシランが解される。

成分が一官能性及び二官能性シランを含む混合物で変性されている、本発明による被覆剤が特に有利である。この際、二官能性シランとして、殊に、詳しく後記した式（ＩＩａ）のアミノ官能性ジシランが使用され、かつ一官能性シランとして、詳しく後記した式（ＩＩＩａ）のシランが使用される。

ところで一般に、同じシラン化内容で、一官能性シランの割合が上昇すると共に、後架橋結合指数（ＰＣＩ）は減少するが、同時に引掻耐性も減少する。更に、二官能性シランの割合が上昇すると共に、後架橋結合指数（ＰＣＩ）は上昇するが、同時に引掻耐性も上昇する。従って、本発明による被覆剤を得るために、二官能性シランの割合が高い場合には、後架橋結合指数の低下のために、他の手段を相応して用いるべきである。例えば、シラン化度を全体的に低下させることができる、即ち、後記の式（ＩＩａ）の（ビス‐シリル）アミンでのポリイソシアネート成分（Ｂ）の変性化では、全体的にシランと反応するイソシアネート基の割合を相応に低く選択することができる。更に、シラン化度が上昇し（要するに、化合物（ＩＩａ）及び（ＩＩＩａ）と反応するイソシアネート基の全割合が上昇する）かつ二官能性シラン（ＩＩａ）の割合が上昇すると共に、触媒の後架橋結合指数への影響がより大きくなり、従って、この場合には、燐含有の触媒及び殊にアミン遮断化の燐酸‐ベースの触媒を使用することが有利である。

最後に、構造単位（Ｉ）又は（ＩＩ）又は（ＩＩＩ）の導入に使用される有機官能性シランの非官能性置換基も、加水分解可能なシラン基の反応性に影響し得る。これは、例えば、アミン官能性シランの反応性を減少させ得る、アミン官能基の容量の大きい嵩張った置換基の例で説明される。この背景から、構造単位（ＩＩＩ）の導入のために、Ｎ‐（ｎ‐ブチル）‐３‐アミノプロピルトリメトキシシランが、Ｎ‐シクロヘキシル‐３‐アミノプロピルトリメトキシシランよりも有利である。

シランの反応性を高める基は、シランの反応性を減少させる基に比べて、極めて一般的に有利である。

式（Ｉ）の構造単位は、様々な方法で、被覆剤の成分中に導入され得る。しかし、異なった方法では、変性すべき成分の官能基とシランの相補的官能基との反応を介して、構造単位の導入が行われることが共通である。従って、次に、例えば、ヒドロキシル基及び場合により更に他の反応基を有する化合物（Ａ）中への、及び／又はイソシアネート基を有する化合物（Ｂ）中への構造単位（Ｉ）の導入のための様々な可能性を挙げる。

殊に、ミカエル（Michael）‐付加の範囲で、例えば、一級アミノシラン、例えば、３‐アミノプロピルトリエトキシシラン（例えば、ワッカーヒェミー社（Fa. Wacker Chemie）の商標ゲニオシル（Geniosil）（登録商標）GF 93で得られる）、３‐アミノプロピルトリメトキシシラン（例えば、ワッカーヒェミー社の商標ゲニオシル（登録商標）GF 96で得られる）、Ｎ‐（２‐アミノエチル）‐３‐アミノプロピルトリメトキシシラン（（例えば、ワッカーヒェミー社の商標ゲニオシル（登録商標）GF 9及びゲニオシル（登録商標）GF 91で得られる）、Ｎ‐（２‐アミノエチル）‐３‐アミノプロピルメチルジメトキシシラン（例えば、ワッカーヒェミー社の商標ゲニオシル（登録商標）GF 95で得られる）等が使用される。

殊に、イソシアネート官能性化合物の付加の範囲で、例えば、二級アミノシラン、例えば、ビス‐（２‐トリメトキシシリルエチル）アミン、ビス‐（２‐トリエトキシシリルエチル）アミン、ビス（３‐トリエトキシシリルプロピル）アミン（デグッサ社（Firma Degussa）で商標ダイナシラン（Dynasylan）（登録商標）1122で得られる）、ビス（３‐トリメトキシシリルプロピル）アミン（デグッサ社で商標ダイナシラン（登録商標）1124で得られる）、ビス‐（４‐トリエトキシシリルブチル）アミン、Ｎ‐（ｎ‐ブチル）‐３‐アミノプロピルトリメトキシシラン（デグッサ社で商標ダイナシラン（登録商標）1189で得られる）、Ｎ‐（ｎ‐ブチル）‐３‐アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ‐シクロヘキシル‐３‐アミノプロピルトリメトキシシラン（例えば、ワッカーヒェミー社の商標ゲニオシル（登録商標）GF 92で得られる）、Ｎ‐シクロヘキシル‐３‐アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ‐シクロヘキシルアミノメチルメチルジエトキシシラン（例えば、ワッカーヒェミー社の商標ゲニオシル（登録商標）XL 924で得られる）、Ｎ‐シクロヘキシルアミノメチルトリエトキシシラン（例えば、ワッカーヒェミー社の商標ゲニオシル（登録商標）XL 926で得られる）、Ｎ‐フェニルアミノメチルトリメトキシシラン（例えば、ワッカーヒェミー社の商標ゲニオシル（登録商標）XL 973で得られる）等が使用される。

エポキシ官能性シランは、殊に、カルボン酸又は無水物官能性化合物の付加に使用され得る。好適なエポキシ官能性シランの例は、３‐グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン（デグッサ社で商標ダイナシラン（登録商標）GLYMOで得られる）、３‐グリシジルオキシプロピルトリエトキシシラン（デグッサ社で商標ダイナシラン（登録商標）GLYEOで得られる）等が使用され得る。

無水物官能性シランは、殊にエポキシ官能性化合物の付加に使用され得る。無水物官能性を有するシランの例は、３‐（トリエトキシシリル）プロピル無水琥珀酸（ワッカーヒェミー社の商標ゲニオシル（登録商標）GF 20で得られる）が挙げられる。

この種類のシランは、ミカエル反応の範囲で、又は金属触媒反応の範囲でも使用され得る。例えば、３‐メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン（例えば、デグッサ社で商標ダイナシラン（登録商標）MEMO又はワッカーヒェミー社で商標ゲニオシル（登録商標）GF 31で得られる）、３‐メタクリルオキシプロピルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン（特に、ワッカーヒェミー社で商標ゲニオシル（登録商標）XL 10で得られる）、ビニルジメトキシメチルシラン（特に、ワッカーヒェミー社で商標ゲニオシル（登録商標）XL 12で得られる）、ビニルトリエトキシシラン（特に、ワッカーヒェミー社で商標ゲニオシル（登録商標）GF 56で得られる）、（メタクリルオキシメチル）メチルジメトキシシラン（特に、ワッカーヒェミー社で商標ゲニオシル（登録商標）XL 32で得られる）、メタクリルオキシメチルトリメトキシシラン（特に、ワッカーヒェミー社で商標ゲニオシル（登録商標）XL 33で得られる）、（メタクリルオキシメチル）メチルジエトキシシラン（特に、ワッカーヒェミー社で商標ゲニオシル（登録商標）XL 34で得られる）、メタクリルオキシメチルトリエトキシシラン（特に、ワッカーヒェミー社で商標ゲニオシル（登録商標）XL 36で得られる）が挙げられる。

イソシアナト官能基又はカルバメート官能基を有するシランは、殊に、ヒドロキシ‐官能性化合物との反応の範囲で使用される。イソシアナト官能基を有するシランの例は、例えば、ＷＯ０７／０３８５７に記載されている。

好適なイソシアナトアルキルトリアルコキシシランは、例えば、イソシアナトプロピルトリメトキシシラン、イソシアナトプロピルメチルジメトキシシラン、イソシアナトプロピルメチルジエトキシシラン、イソシアナトプロピルトリエトキシシラン、イソシアナトプロピルトリイソプロポキシシラン、イソシアナトプロピルメチルジイソプロポキシシラン、イソシアナトネオヘキシルトリメトキシシラン、イソシアナトネオヘキシルジメトキシシラン、イソシアナトネオヘキシルジエトキシシラン、イソシアナトネオヘキシルトリエトキシシラン、イソシアナトネオヘキシルトリイソプロポキシシラン、イソシアナトネオヘキシルジイソプロポキシシラン、イソシアナトイソアミルトリメトキシシラン、イソシアナトイソアミルメチルジメトキシシラン、イソシアナトイソアミルメチルジエトキシシラン、イソシアナトイソアミルトリエトキシシラン、イソシアナトイソアミルトリイソプロポキシシラン及びイソシアナトイソアミルメチルジイソプロポキシシランである。多くのイソシアナトアルキルトリ‐及び‐ジ‐アルコキシシランは、市販で、例えば、ヴィッツココーポレイション（Witco Corporation）の企画で、オシスペシャルティーズ社（Firma OSi Specialties, Inc.）の商品名シルクエスト（SILQUEST）（登録商標）で得られる。

使用されるイソシアナトプロピルアルコキシシランは、有利に、殊に少なくとも９５％の高純度を有し、かつ不所望な副反応を引き起こし得る付加物、例えば、エステル交換触媒を有しないことが有利である。

殊に、（イソシアナトメチル）メチルジメトキシシラン（ワッカーヒェミー社で商標ゲニオシル（登録商標）XL 42で得られる）、３‐イソシアナトプロピルトリメトキシシラン（ワッカーヒェミー社で商標ゲニオシル（登録商標）XL 40で得られる）及びＮ‐ジメトキシ（メチル）シリルメチル‐Ｏ‐メチル‐カルバメート（ワッカーヒェミー社で商標ゲニオシル（登録商標）XL 65で得られる）が使用される。

本発明により、少なくとも１種のヒドロキシル基含有化合物（Ａ）及び少なくとも１種のイソシアネート基含有化合物（Ｂ）を含有する被覆剤が特に有利であり、これは、被覆剤の１種以上の成分が、付加的な官能性成分として、構造単位（ＩＩ）及び（ＩＩＩ）の総計に対して、少なくとも１種の式（ＩＩ）：
‐Ｎ（Ｘ‐ＳｉＲ"ｘ（ＯＲ’）３‐ｘ）ｎ（Ｘ’‐ＳｉＲ"ｙ（ＯＲ’）３‐ｙ）ｍ
（ＩＩ）
［式中、
Ｒ’＝水素、アルキル又はシクロアルキルであり、この際、炭素鎖は非隣接の酸素基、硫黄基又はＮＲａ基で遮断されていてよく、ここで、Ｒａ＝アルキル、シクロアルキル、アリール又はアルアルキルであり、有利にＲ’＝エチル及び／又はメチルであり、
Ｘ、Ｘ’＝１〜２０個の炭素原子を有する直鎖及び／又は分枝鎖のアルキレン又はシクロアルキレン基であり、有利にＸ、Ｘ’＝１〜４個の炭素原子を有するアルキレン基であり、
Ｒ"＝アルキル、シクロアルキル、アリール又はアルアルキルであり、この際、炭素鎖は非隣接の酸素基、硫黄基又はＮＲａ基で遮断されていてよく、ここで、Ｒａ＝アルキル、シクロアルキル、アリール又はアルアルキルであり、有利にＲ"＝殊に１〜６個のＣ原子を有するアルキル基であり、
ｎ＝０〜２であり、ｍ＝０〜２であり、ｍ＋ｎ＝２であり、かつｘ、ｙ＝０〜２である］の構造単位２．５〜９７．５モル％
及び
構造単位（ＩＩ）及び（ＩＩＩ）の総計に対して、少なくとも１種の式（ＩＩＩ）：
‐Ｚ‐（Ｘ‐ＳｉＲ"ｘ（ＯＲ’）３‐ｘ）（ＩＩＩ）
［式中、
Ｚ＝‐ＮＨ‐、‐ＮＲ‐、‐Ｏ‐であり、ここで、
Ｒ＝アルキル、シクロアルキル、アリール又はアルアルキルであり、この際、炭素鎖は非隣接の酸素基、硫黄基又はＮＲａ基で遮断されていてよく、ここで、Ｒａ＝アルキル、シクロアルキル、アリール又はアルアルキルであり、
ｘ＝０〜２であり、
Ｘ、Ｒ’、Ｒ"は、式（ＩＩ）で挙げた意味を有する］の構造単位２．５〜９７．５モル％を有することを特徴とする。

被覆剤の１種以上の成分が、各々構造単位（ＩＩ）及び（ＩＩＩ）の総計に対して、少なくとも１種の式（ＩＩ）の構造単位５〜９５モル％、殊に１０〜９０モル％、特に有利に２０〜８０モル％及び極めて特に有利に３０〜７０モル％、及び各々構造単位（ＩＩ）及び（ＩＩＩ）の総計に対して、少なくとも１種の式（ＩＩＩ）の構造単位５〜９５モル％、殊に１０〜９０モル％、特に有利に２０〜８０モル％及び極めて特に有利に３０〜７０モル％を有する被覆剤が極めて特に有利である。

ヒドロキシル基含有化合物（Ａ）
ヒドロキシル基含有化合物（Ａ）として、有利に、低分子ポリオールもオリゴ‐及び／又はポリマーのポリオールも使用される。

低分子ポリオールとして、例えば、ジオール、例えば、有利にエチレングリコール、ネオペンチルグリコール、１，２‐プロパンジオール、２，２‐ジメチル‐１，３‐プロパンジオール、１，４‐ブタンジオール、１，３‐ブタンジオール、１，５‐ペンタンジオール、２，２，４‐トリメチル‐１，３‐ペンタンジオール、１，６‐ヘキサンジオール、１，４‐シクロヘキサンジメタノール及び１，２‐シクロヘキサンジメタノール、及びポリオール、例えば、有利にトリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、トリメチロールヘキサン、１，２，４‐ブタントリオール、ペンタエリスリトール及びジペンタエリスリトールが使用される。

そのような低分子ポリオールは、有利に、オリゴ‐及び／又はポリマーのポリオール成分（Ａ）の下位割合で混合される。

有利なオリゴ‐及び／又はポリマーのポリオール（Ａ）は、ＧＰＣ（ゲル透過クロマトグラフィー）により測定した質量平均分子量Ｍｗ＞５００ダルトン、有利に８００〜１０００００ダルトン、殊に１０００〜５００００ダルトンを有する。ポリエステルポリオール、ポリウレタンポリオール、ポリシロキサンポリオール及び殊にポリアクリレートポリオール及び／又はポリメタクリレートポリオール及び次からポリアクリレートポリオールと称されるその混合重合体が特に有利である。ポリオールは、有利に、ＫＯＨ３０〜４００ｍｇ／ｇ、殊にＫＯＨ１００〜３００／ｇのＯＨ価を有する。ＤＳＣ（示差熱分析（Differential Thermoanalyse））により測定されるポリオールのガラス転移温度は、有利に−１５０〜１００℃、特に有利に−１２０℃〜８０℃である。

好適なポリエステルポリオールは、例えば、ＥＰ‐Ａ‐０９９４１１７及びＥＰ‐Ａ‐１２７３６４０に記載されている。ポリウレタンポリオールは、有利にポリエステルポリオール‐プレポリマーと好適なジ‐又はポリイソシアネートとの反応によって製造され、例えば、ＥＰ‐Ａ‐１２７３６４０に記載されている。好適なポリシロキサンポリオールは、例えば、ＷＯ‐Ａ‐０１／０９２６０に記載されていて、この際、そこに挙げられたポリシロキサンポリオールは、有利に他のポリオール、殊により高いガラス転移温度を有するポリオールと組み合わせて使用され得る。

本発明により極めて特に有利なポリアクリレートポリオールは、通例、共重合体であり、ポリスチレン標準に対するゲル透過クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により各々測定される、有利に質量平均分子量Ｍｗ１０００〜２００００ダルトン、殊に１５００〜１００００ダルトンを有する。共重合体のガラス転移温度は、通例−１００〜１００℃、殊に−５０〜８０℃（ＤＳＣ‐測定により測定される）である。ポリアクリレートポリオールは、有利にＫＯＨ６０〜２５０ｍｇ／ｇ、殊にＫＯＨ７０〜２００／ｇのＯＨ価及びＫＯＨ０〜３０ｍｇ／ｇの酸価を有する。

ヒドロキシル価（ＯＨ価）は、何ｍｇの水酸化カリウムが、アセチル化の際に物質１ｇによって結合される酢酸‐量に等しいかを示す。試料を無水酢酸‐ピリジンでの測定の際に煮沸し、生じる酸を水酸化カリウム溶液で滴定する（DIN 53240-2）。この際、酸価は、成分（ｂ）の各化合物１ｇの中和に消費される水酸化カリウムｍｇ数を示す（DIN EN ISO 2114）。

後架橋結合指数は、ヒドロキシル基含有結合剤の選択によっても影響され得る。つまり、一般に、成分（Ａ）のＯＨ価が上昇すると共に、シラン化度、即ち、式（Ｉ）又は（ＩＩ）又は（ＩＩＩ）の構造単位の量を減少させることができ、このことは再び後架橋結合指数をより低下させることになる。

ヒドロキシル基含有のモノマー構成要素として、有利にヒドロキシアルキルアクリレート及び／又はヒドロキシアルキルメタクリレート、例えば、殊に２‐ヒドロキシエチルアクリレート、２‐ヒドロキシエチルメタクリレート、２‐ヒドロキシプロピルアクリレート、２‐ヒドロキシプロピルメタクリレート、３‐ヒドロキシプロピルアクリレート、３‐ヒドロキシプロピルメタクリレート、３‐ヒドロキシブチルアクリレート、３‐ヒドロキシブチルメタクリレート及び殊に４‐ヒドロキシブチルアクリレート及び／又は４‐ヒドロキシブチルメタクリレートが使用される。

ポリアクリレートポリオールのための更なるモノマー構成要素として、有利にアルキルメタクリレート及び／又はアルキルメタクリレート、例えば、有利にエチルアクリレート、エチルメタクリレート、プロピルアクリレート、プロピルメタクリレート、イソプロピルアクリレート、イソプロピルメタクリレート、ブチルアクリレート、ブチルメタクリレート、イソブチルアクリレート、イソブチルメタクリレート、ｔ‐ブチルアクリレート、ｔ‐ブチルメタクリレート、アミルアクリレート、アミルメタクリレート、ヘキシルアクリレート、ヘキシルメタクリレート、エチルヘキシルアクリレート、エチルヘキシルメタクリレート、３，３，５‐トリメチルヘキシルアクリレート、３，３，５‐トリメチルヘキシルメタクリレート、ステアリルアクリレート、ステアリルメタクリレート、ラウリルアクリレート又はラウリルメタクリレート、シクロアルキルアクリレート及び／又はシクロアルキルメタクリレート、例えば、シクロペンチルアクリレート、シクロペンチルメタクリレート、イソボルニルアクリレート、イソボルニルメタクリレート又は殊にシクロヘキシルアクリレート及び／又はシクロヘキシルメタクリレートが使用される。

ポリアクリレートポリオールのための更なるモノマー構成要素として、ビニル芳香族炭化水素、例えば、ビニルトルオール、アルファ‐メチルスチレン又は殊にスチレン、アクリル酸又はメタクリル酸のアミド又はニトリル、ビニルエステル又はビニルエーテル、及び下位量で、殊にアクリル酸及び／又はメタクリル酸を使用することができる。

本発明のもう１つの実施態様で、ヒドロキシル基含有化合物（Ａ）は、ヒドロキシル基のほかに、式（Ｉ）及び／又は式（ＩＩ）及び／又は式（ＩＩＩ）の構造単位を有する。

式（ＩＩ）の構造単位は、化合物（Ａ）に、そのような構造単位を有するモノマー単位を組み込ませることによって、又は他の官能基を有するポリオールと、式（ＩＩａ）：
ＨＮ（Ｘ‐ＳｉＲ"ｘ（ＯＲ’）３‐ｘ）ｎ（Ｘ’‐ＳｉＲ"ｙ（ＯＲ’）３‐ｙ）ｍ
（ＩＩａ）
［式中、置換基は前記の意味を有する］の化合物との反応によって導入され得る。これは、ポリオールと化合物（ＩＩａ）との反応のために、化合物（ＩＩａ）の二級アミノ基と反応する、他の官能基、例えば、殊に酸基又はエポキシ基を相応に有する。本発明により有利な化合物（ＩＩａ）は、ビス（２‐エチルトリメトキシシリル）アミン、ビス（３‐プロピルトリメトキシシリル）アミン、ビス（４‐ブチルトリメトキシシリル）アミン、ビス（２‐エチルトリエトキシシリル）アミン、ビス（３‐プロピルトリエトキシシリル）アミン及び／又はビス（４‐ブチルトリエトキシシリル）アミンである。ビス（３‐プロピルトリメトキシシリル）アミンが極めて特に有利である。そのようなアミノシランは、例えば、デグッサ社の商標ダイナシラン（DYNASILAN）（登録商標）又はオシ社のシルクエスト（登録商標）で得られる。

構造要素（ＩＩ）を有するモノマー構成要素は、有利にアクリル酸及び／又はメタクリル酸又はエポキシ基含有のアルキルアクリレート及び／又は‐メタクリレートと前記化合物（ＩＩａ）との反応生成物である。

式（ＩＩＩ）の構造単位は、化合物（Ａ）に、そのような構造単位を有するモノマー単位を組み込ませることによって又は他の官能基を有するポリオールと式（ＩＩＩａ）：
Ｈ‐Ｚ‐（Ｘ‐ＳｉＲ"ｘ（ＯＲ’）３‐ｘ）（ＩＩＩａ）
［式中、置換基は前記の意味を有する］の化合物との反応によって導入され得る。これは、ポリオールと化合物（ＩＩＩａ）との反応のために、化合物（ＩＩＩａ）の官能基‐ＺＨと反応する、他の官能基、例えば、殊に酸基、エポキシ基又はエステル基を相応に有する。本発明により有利な化合物（ＩＩＩａ）は、オメガ‐アミノアルキル‐又はオメガ‐ヒドロキシアルキル‐トリアルコキシシラン、例えば、有利に２‐アミノエチルトリメトキシシラン、２‐アミノエチルトリエトキシシラン、３‐アミノプロピルトリメトキシシラン、３‐アミノプロピルトリエトキシシラン、４‐アミノブチルトリメトキシシラン、４‐アミノブチルトリエトキシシラン、２‐ヒドロキシエチルトリメトキシシラン、２‐ヒドロキシエチルトリエトキシシラン、３‐ヒドロキシプロピルトリメトキシシラン、３‐ヒドロキシプロピルトリエトキシシラン、４‐ヒドロキシブチルトリメトキシシラン、４‐ヒドロキシブチルトリエトキシシランである。特に有利な化合物（ＩＩＩａ）は、Ｎ‐（２‐（トリメトキシシリル）エチル）アルキルアミン、Ｎ‐（３‐（トリメトキシシリル）プロピル）アルキルアミン、Ｎ‐（４‐（トリメトキシシリル）ブチル）アルキルアミン、Ｎ‐（２‐（トリエトキシシリル）エチル）アルキルアミン、Ｎ‐（３‐（トリエトキシシリル）プロピル）アルキルアミン及び／又はＮ‐（４‐（トリエトキシシリル）ブチル）アルキルアミンである。Ｎ‐（３‐（トリメトキシシリル）プロピル）ブチルアミンが極めて特に有利である。そのようなアミノシランは、例えば、デグッサ社の商標ダイナシラン（登録商標）又はオシ社のシルクエスト（登録商標）で得られる。

構造要素（ＩＩＩ）を有するモノマー構成要素は、有利にアクリル酸及び／又はメタクリル酸又はエポキシ基含有のアルキルアクリレート及び／又は‐メタクリレートと、殊に前記のヒドロキシ官能性及び／又はアミノ官能性アルコキシシリル化合物（ＩＩＩａ）との反応生成物であり、かつヒドロキシ官能性アルコキシシリル化合物の場合には、アルキルアクリレート及び／又は‐メタクリレートのエステル交換生成物である。

イソシアネート基含有化合物（Ｂ）
本発明による被覆剤は、成分（Ｂ）として、遊離の、即ち非遮断の及び／又は遮断されたイソシアネート基を有する１種以上の化合物を含有する。本発明による被覆剤は、有利に、遊離イソシアネート基を有する化合物（Ｂ）を含有する。しかし、イソシアネート基含有化合物（Ｂ）の遊離イソシアネート基は、遮断された形で使用されることもできる。これは、本発明による被覆剤が単一成分系として使用される場合には有利である。

本発明により有利に使用されるイソシアネート基含有化合物（Ｂ）の基体として用いられるジイソシアネート及び／又はポリイソシアネートは、有利に自体公知の置換された又は非置換の芳香族、脂肪族、環状脂肪族及び／又は複素環系のポリイソシアネートである。有利なポリイソシアネートの例は次のものである：２，４‐トルオールジイソシアネート、２，６‐トルオールジイソシアネート、ジフェニルメタン‐４，４’‐ジイソシアネート、ジフェニルメタン‐２，４’‐ジイソシアネート、ｐ‐フェニレンジイソシアネート、ビフェニルジイソシアネート、３，３’‐ジメチル‐４，４’‐ジフェニレンジイソシアネート、テトラメチレン‐１，４‐ジイソシアネート、ヘキサメチレン‐１，６‐ジイソシアネート、２，２，４‐トリメチルヘキサン‐１，６‐ジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、エチレンジイソシアネート、１，１２‐ドデカンジイソシアネート、シクロブタン‐１，３‐ジイソシアネート、シクロヘキサン‐１，３‐ジイソシアネート、シクロヘキサン‐１，４‐ジイソシアネート、メチルシクロヘキシルジイソシアネート、ヘキサヒドロトルオール‐２，４‐ジイソシアネート、ヘキサヒドロトルオール‐２，６‐ジイソシアネート、ヘキサヒドロフェニレン‐１，３‐ジイソシアネート、ヘキサヒドロフェニレン‐１，４‐ジイソシアネート、ペルヒドロジフェニルメタン‐２，４’‐ジイソシアネート、４，４’‐メチレン‐ジシクロヘキシルジイソシアネート（例えば、バイエル社（Fa. Bayer AG）のデスモデュール（Desmodur）（登録商標）W）、テトラメチルキシリルジイソシアネート（例えば、アメリカンシアナミド社（Fa. American Cyanamid）のTMXDI（登録商標））及び前記のポリイソシアネートの混合物。更に有利なポリイソシアネートは、前記のジイソシアネートのビゥレット‐ダイマー及びイソシアヌレート‐トライマーである。

特に有利なポリイソシアネートＰＩは、ヘキサメチレン‐１、６‐ジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート及び４，４’‐メチレンジシクロヘキシルジイソシアネート、そのビゥレット‐ダイマー及び／又はイソシアヌレート‐トライマーである。

本発明のもう１つの実施態様で、ポリイソシアネートは、ポリオールと、化学量論的過剰量の前記のポリイソシアネートとの反応によって得られる、ウレタン構造単位を有するポリイソシアネート‐プレポリマーである。そのようなポリイソシアネート‐プレポリマーは、例えば、ＵＳ‐Ａ‐４５９８１３１に記載されている。

本発明により極めて特に有利な、構造単位（ＩＩ）及び（ＩＩＩ）で官能化されたイソシアネート基含有化合物（Ｂ）は、有利に、前記のジ‐及び／又はポリイソシアネートと、前記の化合物（ＩＩａ）及び（ＩＩＩａ）との反応により、ポリイソシアネート基体中のイソシアネート基２．５〜９０モル％、有利に５〜８５モル％、特に有利に７．５〜８０モル％を、少なくとも１種の化合物（ＩＩａ）と反応させ、かつポリイソシアネート基体中のイソシアネート基２．５〜９０モル％、有利に５〜８５モル％、特に有利に７．５〜８０モル％を少なくとも１種の化合物（ＩＩＩａ）と反応させることによって製造される。

ポリイソシアネート化合物（Ｂ）中の、化合物（ＩＩａ）及び／又は（ＩＩＩａ）と反応されるイソシアネート基の全割合は、ポリイソシアネート基体中のイソシアネート基の５〜９５モル％、有利に１０〜９０モル％、特に有利に１５〜８５モル％である。殊に、高シラン化度では、即ち、イソシアネート基の高割合、殊に少なくとも５０モル％が化合物（ＩＩａ）／（ＩＩＩａ）と反応している場合には、イソシアネート基は、有利に化合物（ＩＩａ）及び（ＩＩＩａ）の混合物と反応される。

特に有利な化合物（ＩＩａ）は、ビス（２‐エチルトリメトキシシリル）アミン、ビス（３‐プロピルトリメトキシシリル）アミン、ビス（４‐ブチルトリメトキシシリル）アミン、ビス（２‐エチルトリエトキシシリル）アミン、ビス（３‐プロピルトリエトキシシリル）アミン及び／又はビス（４‐ブチルトリエトキシシリル）アミンである。ビス（３‐プロピルトリメトキシシリル）アミンが極めて特に有利である。そのようなアミノシランは、例えば、デグッサ社の商標ダイナシラン（登録商標）又はオシ社のシルクエスト（登録商標）で得られる。

有利な化合物（ＩＩＩａ）は、２‐アミノエチルトリメトキシシラン、２‐アミノエチルトリエトキシシラン、３‐アミノプロピルトリメトキシシラン、３‐アミノプロピルトリエトキシシラン、４‐アミノブチルトリメトキシシラン、４‐アミノブチルトリエトキシシラン、２‐ヒドロキシエチルトリメトキシシラン、２‐ヒドロキシエチルトリエトキシシラン、３‐ヒドロキシプロピルトリメトキシシラン、３‐ヒドロキシプロピルトリエトキシシラン、４‐ヒドロキシブチルトリメトキシシラン、４‐ヒドロキシブチルトリエトキシシランである。

特に有利な化合物（ＩＩＩａ）は、Ｎ‐（２‐（トリメトキシシリル）エチル）アルキルアミン、Ｎ‐（３‐（トリメトキシシリル）プロピル）アルキルアミン、Ｎ‐（４‐（トリメトキシシリル）ブチル）アルキルアミン、Ｎ‐（２‐（トリエトキシシリル）エチル）アルキルアミン、Ｎ‐（３‐（トリエトキシシリル）プロピル）アルキルアミン及び／又はＮ‐（４‐（トリエトキシシリル）ブチル）アルキルアミンである。Ｎ‐（３‐（トリメトキシシリル）プロピル）ブチルアミンが極めて特に有利である。そのようなアミノシランは、例えば、デグッサ社の商標ダイナシラン（登録商標）又はオシ社のシルクエスト（登録商標）で得られる。

極めて特に有利なイソシアネート基含有化合物（Ｂ）は、ヘキサメチレン‐１，６‐ジイソシアネート及び／又はイソホロンジイソシアネート、及び／又はそのイソシアヌレート‐トライマーと、ビス（３‐プロピルトリメトキシシリル）アミン及びＮ‐（３‐（トリメトキシシリル）プロピル）ブチルアミンとの反応生成物である。イソシアネート基含有化合物（Ｂ）と化合物（ＩＩａ）及び（ＩＩＩａ）との反応は、有利に不活性ガス雰囲気中で最高１００℃、有利に最高６０℃の温度で行われる。

イソシアネート基含有化合物Ｂの遊離イソシアネート基は、遮断された形で使用されてもよい。これは、本発明による被覆剤が単一成分系として使用される場合に有利である。遮断のために、原則的に、ポリイソシアネートの遮断に使用される十分に低い脱遮断温度を有する各遮断剤が使用され得る。この種類の遮断剤は当業者に周知されている。例えば、ＥＰ‐Ａ‐０６２６８８８及びＥＰ‐Ａ‐０６９２００７に記載されている遮断剤が有利に使用される。

被覆剤の成分Ａ及びＢ及び他の成分の組合せ
イソシアネート基含有化合物Ｂの質量割合に対する、使用すべきヒドロキシル基含有化合物Ａの質量割合は、ポリオールのヒドロキシ当量及びポリイソシアネートＢの遊離イソシアネート基の当量に依存する。

本発明による被覆剤において、１種以上の成分は、構造単位（ＩＩ）及び（ＩＩＩ）の合計に対して、少なくとも１種の構造単位（ＩＩ）２．５〜９７．５モル％、及び構造単位（ＩＩ）及び（ＩＩＩ）の合計に対して、少なくとも１種の構造単位（ＩＩＩ）２．５〜９７．５モル％を含有することが有利である。

本発明による被覆剤は、被覆剤中の非揮発性物質の含量に対して、有利にヒドロキシル基含有化合物（Ａ）２．５〜９７．５質量％、特に有利に５〜９５質量％、極めて特に有利に１０〜９０質量％、殊に２０〜８０質量％、及び被覆剤中の非揮発性物質の含量に対して、有利にイソシアネート基含有化合物（Ｂ）２．５〜９７．５質量％、特に有利に５〜９５質量％、極めて特に有利に１０〜９０質量％、殊に２０〜８０質量％を含有する。

ヒドロキシル基及びイソシアネート基の割合及び構造要素（Ｉ）及び／又は（ＩＩ）及び／又は（ＩＩＩ）の割合から生じる、本発明による被覆剤における架橋結合にとって決定的な官能基の合計に対して、構造要素（Ｉ）及び／又は（ＩＩ）及び／又は（ＩＩＩ）は、有利に２．５〜９７．５モル％、特に有利に５〜９５モル％及び極めて特に有利に１０〜９０モル％の割合で存在する。

更に、本発明による被覆物の、熱的最終硬化直後の高い引掻耐性と組み合わせた、CAM180‐試験（DIN EN ISO 11341 Feb 98及びDIN EN ISO 4892-2 Nov 00）でのＵＶ線及び湿潤‐乾燥交代での亀裂形成に対する更に改善された極めて良好な安定性、高い光沢及び暴候後の高い光沢持続を保証するために、本発明による被覆剤が、最終硬化状態で、ＰＣＩの説明で前記した方法により２００℃で測定された、４*１０^８Ｐａよりも少ない、殊に３*１０^８Ｐａ以下の貯蔵弾性率Ｅ’（２００℃）を有するように、構造単位（Ｉ）及び／又は（ＩＩ）及び／又は（ＩＩＩ）の含量を最高に高く選択することが有利である。

更に、本発明による被覆剤が、各々被覆剤の固体含量に対して、構造単位（Ｉ）及び／又は（ＩＩ）及び／又は（ＩＩＩ）のＳｉ６．５質量％よりも少なく、極めて特に有利に最高で、構造単位（Ｉ）及び／又は（ＩＩ）及び／又は（ＩＩＩ）のＳｉ６．０質量％を含有するように、構造単位（Ｉ）及び／又は（ＩＩ）及び／又は（ＩＩＩ）の含量を最高に高く選択することが有利である。この際、シラン含量（Ｓｉ質量％で）は、構造単位（Ｉ）を有する化合物又は化合物（ＩＩａ）又は（ＩＩＩａ）の使用量から算出される。

本発明のもう１つの実施態様で、構造要素（Ｉ）、（ＩＩ）及び／又は（ＩＩＩ）は、付加的に、成分（Ａ）及び（Ｂ）とは異なる、１種以上の更なる成分（Ｃ）の成分であってもよく、この際、前記の基準が適用される。例えば、成分（Ｃ）として、アルコキシシリル‐基を有する低重合体又は重合体、例えば、特許（出願）ＵＳ‐Ａ‐４４９９１５０、ＵＳ‐Ａ‐４４９９１５１又はＥＰ‐Ａ‐０５７１０７３に挙げられたポリ（メタ）アクリレートを、構造要素（ＩＩＩ）の担体として、又はＷＯ‐Ａ‐２００６／０４２５８５に挙げられた化合物を、構造要素（ＩＩ）の担体として使用することができる。通例、そのような成分（Ｃ）は、被覆剤の非揮発性成分に対して、４０質量％まで、有利に３０質量％まで、特に有利に２５質量％までの割合で使用される。

ポリオールＡ及びポリイソシアネートＢの質量割合は、有利に、イソシアネート含有化合物（Ｂ）の未反応イソシアネート基対ヒドロキシル基含有化合物（Ａ）のヒドロキシル基のモル当量比が、０．９：１〜１：１．１、有利に０．９５：１〜１．０５：１、特に有利に０．９８：１〜１．０２：１であるように選択される。

単一成分の被覆剤が重要である場合には、その遊離イソシアネート基が前記の遮断剤で遮断されているイソシアネート基含有化合物（Ｂ）が選択される。

本発明により有利な２‐成分（２Ｋ）被覆剤の場合には、被覆剤の塗布直前に、ヒドロキシル基含有化合物（Ａ）及び更なる後記成分を含有するラッカー成分を、イソシアネート基含有化合物（Ｂ）及び場合により更なる後記の成分を含有するラッカー成分と自体公知の方法で混合させ、この際、通例、化合物（Ａ）を含有するラッカー成分が触媒及び溶剤の一部を含有する。

本発明による被覆剤用の溶剤として、殊に、被覆剤中で化合物（Ａ）及び（Ｂ）に対して化学的に不活性であり、かつ被覆剤の硬化の際も（Ａ）及び（Ｂ）と反応しない溶剤が好適である。そのような溶剤の例は、脂肪族及び／又は芳香族炭化水素、例えば、トルオール、キシロール、ソルベントナフサ、ソルベッソ（Solvesso）100又はヒドロソル（Hydrosol）（登録商標）（Fa. ARAL）、ケトン、例えば、アセトン、メチルエチルケトン又はメチルアミルケトン、エステル、例えば、エチルアセテート、ブチルアセテート、ペンチルアセテート又はエチルエトキシプロピオネート、エーテル又は前記の溶剤を含む混合物である。中性溶剤又は溶剤混合物は、溶剤に対して、有利に最高１質量％、特に有利に最高０．５質量％の水含量を有する。

化合物（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）の他に更に、有利に化合物（Ａ）のヒドロキシル基及び／又は化合物（Ｂ）の遊離イソシアネート基及び／又は化合物（Ａ）、（Ｂ）及び／又は（Ｃ）のアルコキシシリル基と反応し、かつ網状構造点を形成し得る、更なる結合剤（Ｅ）を使用することができる。

成分（Ｅ）として、例えば、アミノプラスト樹脂及び／又はエポキシ樹脂が使用可能である。そのメチロール基及び／又はメトキシメチル基が部分的にカルバメート基又はアロファネート基によって脱官能化されていてよい慣例的な公知のアミノプラスト樹脂が考慮される。この種類の架橋結合剤は、特許明細書ＵＳ‐Ａ‐４７１０５４２及びＥＰ‐Ｂ‐０２４５７００に、及びB. Singh共同研究者による論文"Carbamylmethylated Melamines, Novel Crosslinkers for the Coatings Industry"、Advanced Organic Coatings Science and Technology Series, 1991, 13巻, 193〜207頁に記載されている。

そのような成分（Ｅ）は、被覆剤の非揮発性成分に対して、通例４０質量％まで、有利に３０質量％まで、特に有利に２５質量％までの割合で使用される。

更に、本発明による被覆剤は、少なくとも１種の慣例的な公知のラッカー添加剤を有効量で、即ち、被覆剤の非揮発性成分に対して、有利に３０質量％まで、特に有利に２５質量％まで及び殊に２０質量％までの量で含有することができる。

好適なラッカー添加剤の例は、次のものである：
殊にＵＶ‐吸収剤；殊に遮光剤、例えば、HALS‐化合物、ベンズトリアゾール又はオキサルアニリド；ラジカル受容体；滑剤；重合抑制剤；消泡剤；反応性希釈剤、例えば、‐Ｓｉ（ＯＲ）３‐基に対して有利に不活性である、公知技術水準から一般に公知であるもの；湿潤剤、例えば、シロキサン、弗素含有化合物、カルボン酸半エステル、燐酸エステル、ポリアクリル酸及びそのコポリマー又はポリウレタン；粘着助剤、例えば、トリシクロデカンジメタノール；流展剤；被膜形成助剤、例えば、セルロース‐誘導体；充填剤、例えば、二酸化珪素、酸化アルミニウム又は酸化ジルコニウムをベースとするナノ粒子；補足的に、更にレンプレキシコン（Roempp Lexikon）》ラッカー及び印刷インク（Lacke und Druckfarben）《Georg Thieme Verlag, Stuttgart, 1998, 250〜252頁に示されている；流動学的調整剤、例えば、特許明細書ＷＯ９４／２２９６８、ＥＰ‐Ａ‐０２７６５０１、ＥＰ‐Ａ‐０２４９２０１又はＷＯ９７／１２９４５から公知である添加剤；架橋結合ポリマーミクロ粒子、例えば、ＥＰ‐Ａ‐０００８１２７に公開されているもの；無機層状シリケート、例えば、モンモリロナイト‐型のアルミニウム‐マグネシウム‐シリケート、ナトリウム‐マグネシウム‐及びナトリウム‐マグネシウム‐弗素‐リチウム‐層状シリケート；珪酸、例えば、エーロジル；又はイオン性及び／又は会合作用性の基を有する合成ポリマー、例えば、ポリビニルアルコール、ポリ（メタ）アクリルアミド、ポリ（メタ）アクリル酸、ポリビニルピロリドン、スチレン‐無水マレイン酸‐又はエチレン‐無水マレイン酸‐コポリマー及びその誘導体又は疎水性に変性されたエトキシル化ウレタン又はポリアクリレート；及び／又は防炎剤。

本発明のもう１つの実施態様で、本発明による被覆剤は、なお更なる顔料及び／又は充填剤を含有し、着色トップコートの製造に用いられ得る。それに使用される顔料及び／又は充填剤は当業者に公知である。

本発明による被覆剤から製造される本発明による被覆物は、既に硬化された電気浸漬ラッカー被膜、充填剤ラッカー被膜、ベースラッカー被膜又は慣例的な公知のクリアラッカー被膜上に卓越的に接着するので、自動車連続（ＯＥＭ）ラッカー塗布での使用のほかに、既にラッカー塗布された自動車体の自動補修ラッカー塗布又はモジュール式の引掻耐性仕上げに傑出して好適である。

本発明による被覆剤の塗布は、全ての慣例的な塗布法で、例えば、射出、ドクターナイフ塗布、はけ塗り、注ぎ込み、浸漬、含浸、滴下又はローラー掛けによって行われ得る。この際、被覆すべき支持体は、そのものとして静置していてよく、この際、塗布機器又は‐装置を動かす。しかし被覆すべき支持体、殊にコイルを動かすこともでき、この際、塗布装置を支持体に相対的に静置させるか、又は好適な方法で動かす。

射出塗布法、例えば、圧縮空気射出、エアレス‐射出、高速回転、静電噴霧塗布（ESTA）を、場合により熱射出塗布、例えば、ホット‐エア‐熱射出と接続させて有利に使用する。

塗布された本発明による被覆剤の硬化は、一定の静置時間後に行われ得る。静置時間は、例えば、ラッカー層の流展のため及び脱ガスのため又は揮発成分、例えば、溶剤の蒸発のために用いられる。この際、ラッカー層の損傷又は変化、例えば、早期の完全な架橋結合化が生じない限り、高められた温度の適用によって及び／又は空気湿度の減少によって、静置時間を補助し及び／又は短縮することができる。

被覆剤の熱硬化は、方法的な特殊性を有しないが、慣例的な公知方法、例えば、循環空気炉中での加熱又はＩＲ‐ランプでの照射によって行われる。この際、熱硬化は段階的に行うこともできる。もう１つの有利な硬化法は、近赤外線（NIR線）での硬化である。

熱硬化は、有利に３０〜２００℃、特に有利に４０〜１９０℃及び殊に５０〜１８０℃の温度で、１分間〜１０時間、特に有利に２分間〜５時間及び殊に３分間〜３時間の時間で行われ、この際、有利に３０〜９０℃である自動車補修ラッカー塗布に適用される温度では、より長い硬化時間も適用され得る。

本発明による被覆剤から、高い引掻耐性及び殊に化学薬品耐性及び耐候性である、新規の硬化被覆物、殊にラッカー被膜、特にクリアラッカー被膜、成形部材、特に光学的成形部材、及び自立シートが得られる。殊に、本発明による被覆物及びラッカー被膜、特にクリアラッカー被膜は、引張亀裂が生じることなく、層厚＞４０μｍでも製造される。

従って、本発明による被覆剤は、移動手段（殊に、自動車両、例えば、オートバイ、バス、LKW又はPKW）の車体又はその部材の；内部‐及び外部範囲での建築物の；家具、窓及び扉の；プラスチック成形部材、殊にCDs及び窓の；工業的小部材、コイル、容器及び包装部材の；白い品物の；シートの；光学的、電気技術的及び機械的構造部材の及びガラス中空体及び日常必定品の装飾的、保護的及び／又は効果的な高引掻耐性の被覆物及びラッカー被膜として卓越的に好適である。

本発明による被覆剤及びラッカー被膜、殊にクリアラッカー被膜は、殊に、工業技術的及び美学的に特に要求の多い、自動車連続ラッカー塗布（OEM）及び自動車補修ラッカー塗布の範囲で使用される。本発明による被覆剤は、特に有利に、多段階の被覆法で、殊に場合により予備被覆された支持体上に、先ず着色ベースラッカー層を、かつ次いで本発明による被覆剤を有する層を塗布する方法で使用される。

水で希釈可能なベースラッカーも有機溶剤をベースとするベースラッカーも使用することができる。好適なベースラッカーは、例えば、ＥＰ‐Ａ‐０６９２００７及びそこで３欄、５０行以降に挙げられた文書に記載されている。塗布されたベースラッカーを、先ず乾燥させ、即ち、ベースラッカー被膜から、蒸発相で、有機溶剤又は水の少なくとも一部を除去させることが有利である。乾燥は、有利に室温〜８０℃の温度で行われる。乾燥後に、本発明による被覆剤を塗布する。引き続き、二層ラッカー被膜を、有利に自動車連続ラッカー被膜に適用される条件下に、３０〜２００℃、特に有利に４０〜１９０℃及び殊に５０〜１８０℃の温度で、１分間〜１０時間、特に有利に２分間〜５時間及び殊に３分間〜３時間の間で焼付け、この際、自動車補修ラッカー被膜に適用される、有利に３０〜９０℃である温度では、より長い硬化時間を適用することもできる。

本発明による被覆剤で生じた層は、特に、特に高い化学薬品耐性及び耐候性及び極めて良好な洗浄ライン耐性及び引掻耐性、殊に、引掻耐性及び湿潤‐乾燥周期でのＵＶ線に対する耐候性の卓越した組み合わせを特徴とする。

本発明のもう１つの有利な実施態様で、本発明による被覆剤は、プラスチック支持体、殊に透明なプラスチック支持体の被覆のための透明なクリアラッカーとして使用される。この場合には、被覆剤は、プラスチック支持体の有効なＵＶ‐保護にも、量及び種類で説明されているＵＶ‐吸収剤を含有する。ここでも、被覆剤は、引掻耐性及び湿潤‐乾燥周期でのＵＶ線に対する耐候性の卓越した組み合わせを特徴とする。このようにして被覆されたプラスチック支持体は、有利に自動車製造において、ガラス成分の代用に使用され、この際、プラスチック支持体は、有利にポリメチルメタクリレート又はポリカルボネートを含む。

例
本発明による成分Ｂの製造
製造例Ｂ１部分シラン化ポリイソシアネートの製造（ＩＩＩａ１００モル％を有するＨＤＩ：変換度ｃ＝３０モル％）
還流冷却器及び温度計を備えた三頸ガラスフラスコ中に、トライマー化ヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＤＩ）（バスフ社（Fa. BASF AG）のバソネート（Basonat）HI 100）５７．３質量部及びソルベントナフサ８８．０質量部を前もって装入させる。還流冷却、窒素被覆及び攪拌下に、Ｎ‐［３‐（トリメトキシシリル）プロピル］‐ブチルアミン（ＩＩＩａ）（デグッサ社のダイナシラン（登録商標）1189）２１．８質量部を、５０〜６０℃を越さないように添加する。供給の終了後に、滴定により調べられるイソシアネート‐質量割合が、理論的に計算される７０モル％となるまで、反応温度を５０〜６０℃で保持する。

部分シラン化ポリイソシアネートの溶液は、固体含量４７．１質量％を有する。

製造例Ｂ２部分シラン化ポリイソシアネートの製造（ＩＩＩａ７０モル％及びＩＩａ３０モル％を有するＨＤＩ：変換度ｃ＝３０モル％）
還流冷却器及び温度計を備えた三頸ガラスフラスコ中に、トライマー化ヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＤＩ）（バスフ社のバソネートHI 100）５７．３質量部及びソルベントナフサ６９．７質量部を前もって装入させる。還流冷却、窒素被覆及び攪拌下に、Ｎ‐［３‐（トリメトキシシリル）プロピル］‐ブチルアミン（ＩＩＩａ）（デグッサ社のダイナシラン（登録商標）1189）１４．８質量部及びビス‐［３‐（トリメトキシシリル）プロピル］‐アミン（デグッサ社のダイナシラン（登録商標）1124）９．２質量部を含む混合物を、５０〜６０℃を越さないように添加する。供給の終了後に、滴定により調べられるイソシアネート‐質量割合が、理論的に計算される７０モル％となるまで、反応温度を５０〜６０℃で保持する。

部分シラン化ポリイソシアネートの溶液は、固体含量５３．９質量％を有する。

製造例Ｂ３部分シラン化ポリイソシアネートの製造（ＩＩＩａ３０モル％及びＩＩａ７０モル％を有するＨＤＩ：変換度ｃ＝３０モル％）
還流冷却器及び温度計を備えた三頸ガラスフラスコ中に、トライマー化ヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＤＩ）（バスフ社のバソネートHI 100）５７．３質量部及びソルベントナフサ６９．７質量部を前もって装入させる。還流冷却、窒素被覆及び攪拌下に、Ｎ‐［３‐（トリメトキシシラン）プロピル］‐ブチルアミン（ＩＩＩａ）（デグッサ社のダイナシラン（登録商標）1189）６．４質量部及びビス‐［３‐（トリメトキシシリル）プロピル］‐アミン（ＩＩａ）（デグッサ社のダイナシラン（登録商標）1124）２１．５質量部を含む混合物を、５０〜６０℃を越さないように添加する。供給の終了後に、滴定により調べられるイソシアネート‐質量割合が、理論的に計算される７０モル％となるまで、反応温度を５０〜６０℃で保持する。

部分シラン化ポリイソシアネートの溶液は、固体含量５５．０質量％を有する。

製造例Ｂ４部分シラン化ポリイソシアネートの製造（ＩＩａ１００モル％を有するＨＤＩ：変換度ｃ＝３０モル％）
還流冷却器及び温度計を備えた三頸ガラスフラスコ中に、トライマー化ヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＤＩ）（バスフ社のバソネートHI 100）５７．３質量部及びソルベントナフサ８８．０質量部を前もって装入させる。還流冷却、窒素被覆及び攪拌下に、ビス‐［３‐（トリメトキシシリル）プロピル］‐アミン（デグッサ社のダイナシラン（登録商標）1124）３０．７質量部を、５０〜６０℃を越さないように添加する。供給の終了後に、滴定により調べられるイソシアネート‐質量割合が、理論的に計算される７０モル％となるまで、反応温度を５０〜６０℃で保持する。

部分シラン化ポリイソシアネートの溶液は、固体含量６３．０質量％を有する。

製造例Ｂ５部分シラン化ポリイソシアネートの製造（ＩＩＩａ１００モル％を有するＨＤＩ：変換度ｃ＝７０モル％）
還流冷却器及び温度計を備えた三頸ガラスフラスコ中に、トライマー化ヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＤＩ）（バスフ社のバソネートHI 100）５７．３質量部及びソルベントナフサ８８．０質量部を前もって装入させる。還流冷却、窒素被覆及び攪拌下に、Ｎ‐［３‐（トリメトキシシリル）プロピル］‐ブチルアミン（ＩＩＩａ）（デグッサ社のダイナシラン（登録商標）1189）４９．４質量部を、５０〜６０℃を越さないように添加する。供給の終了後に、滴定により調べられるイソシアネート‐質量割合が、理論的に計算される３０モル％となるまで、反応温度を５０〜６０℃で保持する。

部分シラン化ポリイソシアネートの溶液は、固体含量５４．８質量％を有する。

製造例Ｂ６部分シラン化ポリイソシアネートの製造（ＩＩＩａ７０モル％及びＩＩａ３０モル％を有するＨＤＩ：変換度ｃ＝７０モル％）
還流冷却器及び温度計を備えた三頸ガラスフラスコ中に、トライマー化ヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＤＩ）（バスフ社のバソネートHI 100）５７．３質量部及びソルベントナフサ６９．７質量部を前もって装入させる。還流冷却、窒素被覆及び攪拌下に、Ｎ‐［３‐（トリメトキシシリル）プロピル］‐ブチルアミン（ＩＩＩａ）（デグッサ社のダイナシラン（登録商標）1189）３４．６質量部及びビス‐［３‐（トリメトキシシリル）プロピル］‐アミン（ＩＩａ）（デグッサ社のダイナシラン（登録商標）1124）２１．５質量部を含む混合物を、５０〜６０℃を越さないように添加する。供給の終了後に、滴定により調べられるイソシアネート‐質量割合が、理論的に計算される３０モル％となるまで、反応温度を５０〜６０℃で保持する。

部分シラン化ポリイソシアネートの溶液は、固体含量６１．９質量％を有する。

製造例Ｂ７部分シラン化ポリイソシアネートの製造（ＩＩＩａ３０モル％及びＩＩａ７０モル％を有するＨＤＩ：変換度ｃ＝７０モル％）
還流冷却器及び温度計を備えた三頸ガラスフラスコ中に、トライマー化ヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＤＩ）（バスフ社のバソネートHI 100）５７．３質量部及びソルベントナフサ８８．０質量部を前もって装入させる。還流冷却、窒素被覆及び攪拌下に、Ｎ‐［３‐（トリメトキシシリル）プロピル］‐ブチルアミン（ＩＩＩａ）（デグッサ社のダイナシラン（登録商標）1189）１４．８質量部及びビス‐［３‐（トリメトキシシリル）プロピル］‐アミン（ＩＩａ）（デグッサ社のダイナシラン（登録商標）1124）５０．２質量部を含む混合物を、５０〜６０℃を越さないように添加する。供給の終了後に、滴定により調べられるイソシアネート‐質量割合が、理論的に計算される７０モル％となるまで、反応温度を５０〜６０℃で保持する。

部分シラン化ポリイソシアネートの溶液は、固体含量５８．２質量％を有する。

ポリアクリレートポリオールＡの製造
モノマー供給口、重合開始剤供給口、温度計、油加熱器及び還流冷却器を備えた鋼釜中で、商慣習の芳香族溶剤混合物（ディーエイチシーソルベントヒェミー社（Fa. DHC Solvent Chemie GmbH）のソルベントナフサ（Solventnaphtha）（登録商標））２９．０８質量部を１４０℃に加熱する。次いで、ソルベントナフサ３．３９質量部及びｔ‐ブチルペルオキシ‐２‐エチルヘキサノエート２．２４質量部を含む混合物ａ１を、混合物ａ１の添加が６．７５時間後に終了するような速度で攪拌下に添加する。混合物ａ１の添加開始１５分間後に、スチレン４．９７質量部、ｔ‐ブチルアクリレート１６．９１質量部、２‐ヒドロキシプロピルメタクリレート１９．８９質量部、ｎ‐ブチルメタクリレート７．４５質量部及びアクリル酸０．５８質量部を含む混合物ａ２を、混合物ａ２の添加が６時間後に終了するような速度で添加する。混合物ａ１の添加後に、反応混合物を更に２時間１４０℃に保ち、引き続いて１００℃下に冷却させる。引き続き、反応混合物を、更に１‐メトキシプロピルアセテート‐２３．７０質量部、ブチルグリコールアセテート３．０６質量部及びブチルアセテート６．３６質量部を含む混合物a３で更に９８／１００に希釈する。

得られるポリアクリレートポリオールＡの溶液は、固体含量５２．４％（１時間、１３０℃、循環空気炉）、粘度３．６dPas（ICI‐プレート‐コーン‐粘度計（ICI-Platte-Kegel-Viskosimeter）、２３℃）ヒドロキシル価ＫＯＨ１５５ｍｇ／ｇ及び酸価ＫＯＨ１０〜１３ｍｇ／ｇを有する。

被覆剤の組成
被覆剤は、次のように組成された：
成分Ａ（ポリオール）及び商慣習の添加剤及び触媒及び溶剤を含む成分１を、塗布直前に、成分Ｂ（変性化ポリイソシアネート）を含む成分２と合一させ、均一な混合物が生じるまで攪拌する。

塗布は、空気圧２．５バールで３回の射出行程で行われる。その後に、被膜を室温で５分間暴気させ、引き続き１４０℃で２２分間焼き付ける。

表１に、本発明による全ての被覆剤Ｂ１〜Ｂ７を、成分の割合に関して示す。

各々硬化させた被膜の貯蔵弾性率Ｅ’（200）及びＥ’（min）及びガラス転移温度Ｔｇを、動的‐機械的‐熱的‐分析（＝ＤＭＴＡ）で、振動数１Ｈｚ及び振幅率０．２％で、レオメトリックスサイエンティフィック社の装置DMTA Vを用いて、加熱率２Ｋ／分で測定する。ＤＭＴＡ測定は、層厚４０μｍ±１０μｍの独立フィルムで実施する。このために、試験すべき被覆剤を、得られる被膜がそれに接着しない支持体に塗布する。好適な支持体の例として、ガラス、テフロン、ポリエチレンテレフタレート及びポリプロピレンが挙げられる。そうして得られる被膜を、ＤＭＴＡ測定を実施する前に、１４０℃の対象物温度で２０分間硬化させ、硬化後に２５℃で８日間貯蔵する。

生じた被覆物の表面の引掻耐性を、クロックメーター（Crockmeter）‐試験（EN ISO 105-X12により、９umの研磨紙（3M 281Q wetordry^TMproduction^TM）の使用下に、１０回の往復行程及び押付力９Ｎで、引き続いて、商慣習の光沢装置を用いて２０°で残余光沢の測定下に）、及びハンマー試験（ハンマーで実施する、鋼綿（RAKSO（登録商標）00（微細）及び押付重量１ｋｇでの１０回又は１００回の往復行程。引き続き、再び、商慣習の光沢装置を用いて２０°で残余光沢を測定する）により、耐候性をCAM 180‐試験（DIN EN ISO 11341 Feb 98及びDIN EN ISO 4892-2 Nov 00により）によって検査した。結果を表２に挙げる。

表２は、ＨＤＩ‐イソシアヌレートと、成分ＩＩａ及び成分ＩＩＩａを含む各々１種の混合物（例Ｂ２、Ｂ３、Ｂ６及びＢ７）との反応から出発するイソシアヌレート付加体Ｂを含有する、本発明による被覆剤から製造される例Ｂ１〜Ｂ７の被覆物の特性を、ＨＤＩ‐イソシアヌレート（次から短くＨＤＩ）、及び排他的に成分ＩＩａ（例Ｂ４）又はＩＩＩａ（例Ｂ１及びＢ５）との反応から出発するイソシアヌレート付加体Ｂを含有する被覆剤と比較して示す。

全例Ｂ１〜Ｂ７で、本発明による低い後架橋結合度及び相応する良好な引掻耐性及び耐候性を有する被覆物が得られる。先ず、架橋結合全体でシラン架橋結合の割合が少なくなればなるほど、後架橋結合は一般により少なくなり、従って、後架橋結合指数（ＰＣＩ）はより小さくなることを確認すべきである。即ち、シラン架橋結合の極めて少ない割合を有する例Ｂ１及びＢ２で（例Ｂ１で構造単位ＩＩＩ１００モル％、及び例Ｂ２で構造単位ＩＩＩ７０モル％の、一官能性シラン‐構造単位３０モル％以上の割合の、ＨＤＩのイソシアネート基の変換度）、シラン架橋結合の高割合を有する例７（例７で、構造単位ＩＩの二官能性シラン‐構造単位の７０モル％以上の割合の、ＨＤＩのイソシアネート基の変換度）におけるよりも低い後架橋結合度を有する。しかし、同時に、シラン架橋結合の割合が減少すると共に、引掻耐性も減少し、従って、例Ｂ１及びＢ２とＢ７との比較によって同様に示されるように、極めて高い引掻耐性の達成のために、シラン架橋結合の比較的高い割合も所望される。

ＨＤＩのイソシアネート基の変換度３０モル％で、Ｂ１（構造単位ＩＩＩだけを含有する）は、Ｂ４（構造単位ＩＩだけを含有する）に比べて、CAM 180試験における亀裂出現までの明らかにより長い時間を示す。相応して、ＨＤＩのイソシアネート基の変換度７０モル％で、例Ｂ５（構造単位ＩＩＩだけを含有する）は、Ｂ７（構造単位ＩＩ７０モル％を含有する）に比べて、CAM 180試験における亀裂出現までの明らかにより長い時間を示す。これに対して、引掻耐性は逆に反応する：ＨＤＩのイソシアネート基の変換度３０モル％で、Ｂ１（構造単位ＩＩＩだけを含有する）は、Ｂ４（構造単位ＩＩだけを含有する）に比べて、様々な引掻試験において明らかにより弱い引掻耐性を示す。相応して、ＨＤＩのイソシアネート基の変換度７０モル％で、例Ｂ５（構造単位ＩＩＩだけを含有する）は、Ｂ７（構造単位ＩＩ７０モル％を含有する）に比べて、様々な引掻試験において明らかにより弱い引掻耐性を示す。従って、構造ＩＩの相対的割合は引掻耐性について、及び構造ＩＩＩの割合は耐候性についての原因となるので、２種のシロキサンアミンＩＩａ又はＩＩＩａの使用量の綿密な調整が、耐候時間と引掻耐性との間の微調整を可能にする。

ここで、Ｂ１及びＢ４を、Ｂ２及びＢ３に比べて、イソシアネート官能基の変換度３０モル％を有する群で例証する。Ｂ１は、耐候性で高い値を達成するが、引掻耐性は中庸である。Ｂ４は、良好な引掻耐性値を有するが、耐候性ではより弱い。２例のＢ２及びＢ３は、Ｂ１に比べてより良好な引掻耐性を有し、かつＢ４に比べてより良好な耐候時間を有する。

同様のことが、イソシアネートの変換度７０モル％の群で、Ｂ６及びＢ７に比べてＢ５に当てはまるが、ここでは、引掻耐性も耐候性も、シロキサン官能基の高い相対的割合によって更により強く影響される。Ｂ６及びＢ７の値の比較で容易に確認されるように、イソシアネート官能基の高い変換度では、構造ＩＩＩの相対的割合は、構造ＩＩが引掻耐性に影響するよりも著しく強く耐候性に影響することが同様に明らかとなる。一般に、引掻耐性値は、イソシアネート基と化合物ＩＩ及びＩＩＩとの変換率と相関し、この際、極めて高い引掻耐性の達成のために、イソシアネート基のより高い変換率も必要である。

比較例１〜７
例１〜７を繰り返したが、ここで、アミン遮断化の燐酸部分エステルをベースとする触媒の代わりに、触媒として、遮断化のパラトルオールスルホン酸を使用したという唯一の違いを有した。

表３に、比較例の全被覆剤を成分の割合に関して挙げる：

本発明による例１〜７と比較例ＶＢ１〜ＶＢ７との比較は、例Ｂ１〜Ｂ７の本発明による被覆物は、最終硬化直後に、良好な引掻耐性を有するが、１４０℃で２０分間の最終硬化後に、全て高い後架橋結合指数＞２を有する相応する比較例ＶＢ１〜ＶＢ７の被覆物は、著しくより悪い引掻耐性を有することを示す。従って、殊に、低いシラン化度を有する比較例ＶＢ１〜ＶＢ４の被覆物は、ＯＥＭラッカー塗布の範囲で要求される良好な引掻耐性を達成するために、硬化に続いて更に熱的後処理をしなければならないが、このことは、極めて浪費となり、従って実際的ではない。この後処理を行なわず、少ない引掻耐性に基づく被覆物は、損傷の危険が生じるので、精々限定的にしか扱われない。生成した被覆物の補修のためにその境界線で必要な研磨可能性も、比較例の被覆物については、限定的にしか与えられない。

本発明による、殊に例Ｂ３〜Ｂ７の被覆物は、シラン含量が増加すると共に、相応する比較例の被覆物よりも良好な光沢も示す。

更に、こうしてＢ１〜Ｂ７又はＶＢ１〜ＶＢ７により、シラン化度が上昇しかつ二官能性シラン（ＩＩａ）の割合が上昇すると共に、触媒の後架橋結合指数への影響はより大きくなる。イソシアネート基の変換度３０モル％の低シラン化度では、本発明による例Ｂ１は、アミン遮断化燐酸部分エステルをベースとする高い有効性の触媒の使用下で、ＰＣＩ１．１を示し、一方で、相応する比較例は、遮断化ｐ‐トルオールスルホン酸をベースとする実際に有効性の悪い触媒の相応する量の使用下で、高すぎるＰＣＩ２．９を示す。この高すぎるＰＣＩに基づき、比較例ＶＢ１の被膜は、既に前記した完全に不十分すぎる引掻耐性を示す。ＶＢ２、ＶＢ３を越えてＶＢ７までの列で、シラン含量が増加すると共に、比較例の後架橋結合指数ＰＣＩ、従って、後架橋結合は激しく上昇し、そうして、相応する本発明によるＢ７でのＰＣＩ＝１．６の僅かしか上昇しない後架橋結合指数に比べて、比較例ＶＢ７でのイソシアネート基の変換度７０モル％での高いシラン化度で、ＰＣＩ＝６．６の値に達する。しかし、後架橋結合は、熱処理の間の硬化よりも制御できずに進行し、かつ後架橋結合が行われた後に生成する被覆物の最終硬度は（全般的には）調整することが極めて更にもっと困難である。このことは、一般に、生成する被覆物の僅少な再現可能性に結びつく。しかし特に、高い〜極めて高い後架橋結合の比較例は、例えば、比較例ＶＢ６及びＶＢ７におけるように、引張亀裂出現の極めて大きな危険を示し、従って、これは要求の多い自動車連続ラッカー塗布の範囲には不適である。

Claims

（ａ）少なくとも１種のヒドロキシル基含有化合物（Ａ）、
（ｂ）遊離及び／又は遮断されたイソシアネート基を有する、少なくとも１種の化合物（Ｂ）、
（ｃ）シラン基の架橋結合のための、少なくとも１種の触媒（Ｄ）
を含有する被覆剤
（この際、
（ｉ）被覆剤の１種以上の成分は、加水分解可能なシラン基を含有し、かつ
（ｉｉ）被覆剤は、統計的に分配されたＳｉ‐Ｏ‐Ｓｉ網状構造の領域を有する被膜に最終硬化され得る）において、
被覆剤から得られる最終硬化被膜が、２よりも少ない後架橋結合指数（ＰＣＩ）を有し、この際、
後架橋結合指数（ＰＣＩ）は、２００℃で測定される最終硬化被膜の貯蔵弾性率Ｅ’（200）対測定されるガラス転移温度Ｔｇより上の温度で測定される最終硬化被覆物の貯蔵弾性率Ｅ’の最小値（min）からの商として定義され、
貯蔵弾性率Ｅ’（200）及びＥ’（min）及びガラス転移温度Ｔｇは、層厚４０μｍ±１０μｍの独立フィルムで、動的‐機械的‐熱的‐分析（＝ＤＭＴＡ）で、１分間当たりの加熱率２Ｋ及び振動数１Ｈｚで測定されていて、かつ
ＤＭＴＡ測定は、ＤＭＴＡ測定に先立ち、対象物温度１４０℃で２０分間硬化されかつ硬化後に２５℃で８日間貯蔵された層厚４０μｍ±１０μｍの独立フィルムで実施されたことを特徴とする被覆剤。
被覆剤から得られる最終硬化被膜は、後架橋結合指数（ＰＣＩ）１．８以下、有利に１．７以下及び極めて特に有利に１．５以下を有する、請求項１に記載の被覆剤。
触媒（Ｄ）は、燐を含有している、及び有利に燐及び窒素を含有している、請求項１又は２に記載の被覆剤。
触媒（Ｄ）は、置換された燐酸モノエステル及び燐酸ジエステルの群から、有利に非環状の燐酸ジエステル及び環状の燐酸ジエステル、又は相応するアミン遮断化の燐酸エステルを含む群から選択される、請求項１から３までのいずれか１項に記載の被覆剤。
触媒（Ｄ）は、三級アミンで遮断されている、請求項４に記載の被覆剤。
触媒（Ｄ）は、アミン遮断化の燐酸エチルヘキシル部分エステル及びアミン遮断化の燐酸フェニル部分エステル、殊にアミン遮断化の燐酸ビス（エチルヘキシル）エステルの群から選択される、請求項４又は５に記載の被覆剤。
被覆剤から得られる最終硬化被膜は、２００℃で測定された貯蔵弾性率Ｅ’（200）４*１０^８Ｐａよりも少なく、有利に３*１０^８Ｐａ以下を有する、請求項１から６までのいずれか１項に記載の被覆剤。
被覆剤の１種以上の成分は、少なくとも部分的に、１種以上の、同じ又は異なる、式（Ｉ）：
‐Ｘ‐Ｓｉ‐Ｒ"_ｘＧ_３‐ｘ（Ｉ）
［式中、
Ｇ＝同じ又は異なる加水分解可能な基であり、殊に、Ｇ＝アルコキシ基（ＯＲ’）であり、
Ｘ＝有機基、殊に１〜２０個の炭素原子を有する直鎖及び／又は分枝鎖のアルキレン基又はシクロアルキレン基であり、極めて特に有利にＸ＝１〜４個の炭素原子を有するアルキレン基であり、
Ｒ"＝アルキル、シクロアルキル、アリール、又はアルアルキルであり、この際、炭素鎖は非隣接の酸素基、硫黄基又はＮＲａ基によって遮断されていてよく、ここで、Ｒａ＝アルキル、シクロアルキル、アリール又はアルアルキルであり、有利にＲ"＝殊に１〜６個のＣ原子を有するアルキル基であり、
ｘ＝０〜２、有利に０〜１であり、特に有利にｘ＝０である］
の構造単位を有する、請求項１から７までのいずれか１項に記載に被覆剤。
被覆剤の１種以上の成分は、構造単位（ＩＩ）及び（ＩＩＩ）の総計に対して、少なくとも１種の式（ＩＩ）：
‐Ｎ（Ｘ‐ＳｉＲ"ｘ（ＯＲ’）３‐ｘ）ｎ（Ｘ’‐ＳｉＲ"ｙ（ＯＲ’）３‐ｙ）ｍ
（ＩＩ）
［式中、
Ｒ’＝水素、アルキル又はシクロアルキルであり、この際、炭素鎖は非隣接の酸素基、硫黄基又はＮＲａ基で遮断されていてよく、ここで、Ｒａ＝アルキル、シクロアルキル、アリール又はアルアルキルであり、有利にＲ’＝エチル及び／又はメチルであり、
Ｘ、Ｘ’＝１〜２０個の炭素原子を有する直鎖及び／又は分枝鎖のアルキレン又はシクロアルキレン基であり、有利にＸ、Ｘ’＝１〜４個の炭素原子を有するアルキレン基であり、
Ｒ"＝アルキル、シクロアルキル、アリール又はアルアルキルであり、この際、炭素鎖は非隣接の酸素基、硫黄基又はＮＲａ基で遮断されていてよく、ここで、Ｒａ＝アルキル、シクロアルキル、アリール又はアルアルキルであり、有利にＲ"＝殊に１〜６個のＣ原子を有するアルキル基であり、
ｎ＝０〜２であり、ｍ＝０〜２であり、ｍ＋ｎ＝２であり、かつｘ、ｙ＝０〜２である］の構造単位２．５〜９７．５モル％
及び
構造単位（ＩＩ）及び（ＩＩＩ）の総計に対して、少なくとも１種の式（ＩＩＩ）：
‐Ｚ‐（Ｘ‐ＳｉＲ"ｘ（ＯＲ’）３‐ｘ）（ＩＩＩ）
［式中、
Ｚ＝‐ＮＨ‐、‐ＮＲ‐、‐Ｏ‐であり、ここで、
Ｒ＝アルキル、シクロアルキル、アリール又はアルアルキルであり、この際、炭素鎖は非隣接の酸素基、硫黄基又はＮＲａ基で遮断されていてよく、ここで、Ｒａ＝アルキル、シクロアルキル、アリール又はアルアルキルであり、
ｘ＝０〜２であり、かつ
Ｘ、Ｒ’、Ｒ"は、式（ＩＩ）で挙げた意味を有する］の構造単位２．５〜９７．５モル％を有する、請求項１から８までのいずれか１項に記載の被覆剤。
被覆剤の１種以上の成分は、各々構造単位（ＩＩ）及び（ＩＩＩ）の総計に対して、少なくとも１種の式（ＩＩ）の構造単位５〜９５モル％、殊に１０〜９０モル％、特に有利に２０〜８０モル％及び極めて特に有利に３０〜７０モル％、及び各々構造単位（ＩＩ）及び（ＩＩＩ）の総計に対して、少なくとも１種の式（ＩＩＩ）の構造単位５〜９５モル％殊に１０〜９０モル％、特に有利に２０〜８０モル％及び極めて特に有利に３０〜７０モル％を有する、請求項９に記載に被覆剤。
構造要素（ＩＩ）及び（ＩＩＩ）は、各々、ヒドロキシル基及びイソシアネート基の割合及び構造要素（ＩＩ）及び（ＩＩＩ）の割合から生じる、被覆剤における架橋結合に決定的な官能基の合計に対して、２．５〜９７．５モル％、有利に５〜９５モル％、特に有利に１０〜９０モル％の割合で存在している、請求項９又は１０に記載の被覆剤。
ポリイソシアネート（Ｂ）は、構造単位（Ｉ）又は（ＩＩ）又は（ＩＩＩ）を有する、請求項８から１１までのいずれか１項に記載の被覆剤。
ポリイソシアネート（Ｂ）において、ポリイソシアネート基体中のイソシアネート基の２．５〜９０モル％が構造単位（ＩＩ）に、かつポリイソシアネート基体中のイソシアネート基の２．５〜９０モル％が構造単位（ＩＩＩ）に変換されている、及び／又はポリイソシアネート基体中で、構造単位（ＩＩ）及び／又は（ＩＩＩ）に変換されるイソシアネート基の全割合は５〜９５モル％である、請求項１２に記載の被覆剤。
ポリイソシアネート基体は、１，６‐ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、及び４，４’‐メチレンジシクロヘキシルジイソシアネート、前記のポリイソシアネートのビゥレット‐ダイマー及び／又は前記のポリイソシアネートのイソシアヌレート‐トライマーの群から選択される、請求項１２又は１３に記載の被覆剤。
ポリオール（Ａ）は、少なくとも１種のポリ（メタ）アクリレートポリオールを含有する、請求項１から１４までのいずれか１項に記載の被覆剤。
場合により予備被覆された支持体上に、着色ベースラッカー層を塗布し、次いで、請求項１から１５までのいずれか１項に記載の被覆剤からなる層を塗布する、多段階の被覆法。
着色ベースラッカー層の塗布後に、塗布されたベースラッカーを、先ず室温から８０℃までの温度で乾燥させ、かつ請求項１から１４までのいずれか１項に記載の被覆剤の塗布後に、３０〜２００℃の温度で、１分間から１０時間までの時間で硬化させる、請求項１６に記載の多段階の被覆法。
自動車連続ラッカー塗布及び自動車補修ラッカー塗布のための、請求項１から１５までのいずれか１項に記載の被覆剤のクリアラッカーとしての使用、又は請求項１６又は１７に記載の方法の適用。