JP2010508140A - 逆浸透薄膜のためのミクロおよびナノ複合支持体構造 - Google Patents

Abstract

多孔質高分子支持体；該多孔質高分子支持体上で重合している半透過性高分子フィルム；ならびにミクロ粒子およびナノ粒子の範囲のサイズの、該多孔質高分子支持体中に分散している粒子を有する圧縮抵抗性複合薄膜が開示される。また、高分子フィルムを、多孔質高分子支持体中に分散している、ミクロ粒子およびナノ粒子の範囲のサイズの粒子であって、半透膜の経時的なフラックス流量特性を改善するように選択された粒子を有する多孔質高分子支持体上で重合させることにより圧縮抵抗性複合薄膜を製造する方法も開示される。また、開示された膜を使用して、水を浄化する方法も開示される。本要約は、特定の分野での検索目的のための検索手段として意図されており、本発明の限定を意図するものではない。

Description

関連出願への相互参照
本出願は、２００６年１０月２７日に出願された米国仮特許出願第６０／８６３，１５６号の利益を主張し、その全体を本明細書中で参考として援用する。

背景
高分子濾過膜は、給水圧力が高いと、「内部のファウリング」と呼ばれるものにより内部に損傷を受けることがある。高圧は、逆浸透（ＲＯ）膜プロセスが内部のファウリングの影響を克服して水フラックス流量を維持するために必要となる。印加圧力を更に増加することは、例えば、膜表面で発生し、「外部」のファウリングまたは表面のファウリングと考えられる汚染物質によるファウリングのために経時的に必要とされ得る。表面のファウリング、および所望のフラックスを維持するために必要な、結果として生じるより高い運転圧力により、膜の内部のさらなるファウリングをもたらす可能性がある。そのような内部のファウリングの増加は、今度は、所望のフラックスを達成するために、さらに高い運転圧力を必要とすることがあり得る。高い運転圧力の原因となる表面沈積物は、物理的および化学的な洗浄方法で取り除くことができるけれども、高圧の物理的圧縮による内部のファウリングは、元に戻すことはできない。また、ＲＯ膜のそのような非可逆的なファウリングは、より高い長期の操業経費とエネルギー消費につながる。

例えば、従来のＲＯ膜は、第１印加圧力において第１または初期透過流量を示し、それは内部のファウリングが起こると、通常何日かまたは何時間かのうちに、一般的な定常状態の透過流量が達成されるまで、同じ印加圧力でより低い透過流量に経時的に減少する。定常状態の透過流量が達成された後、フラックス流量は、外部のファウリングの結果、さらに低下することがある。大部分のまたは全てのフラックス流量の減少は、外部のファウリングから生じるものであり、それは一般に表面汚染物質を取り除く様々な洗浄プロセスで回復し得る。その結果、内部および外部のファウリングを考慮して、所望の透過流量を維持するために、印加圧力が増加するか、あるいは印加圧力が一定に維持され、透過流量が非可逆的な内部のファウリングにより、そしてさらには可逆的もしくは少なくとも部分的に可逆的な外部のファウリングにより、初期状態から定常状態へ減少するかどうかにかかわらず、ファウリングはＲＯ膜などの従来の膜に対する大きな操作上の問題である。

したがって、満足する水透過性と溶質阻止を維持しながら、これらの欠点を克服し、ならびに内部および／または外部のファウリングに対する膜抵抗性の改善や初期状態条件から定常状態条件への経時的な水フラックス低下の改善もしくは低減を有する膜を効率的に提供するための方法および組成物に対する必要性が残存する。

概要
本明細書に具体的にかつ広範囲に説明されるように、１つの態様においては、複合薄膜は、多孔質高分子支持体、該多孔質高分子支持体上で重合している半透過性高分子フィルムおよび該多孔質高分子支持体の少なくとも約１重量％の量で、該高分子支持体に分散している、ミクロ粒子およびナノ粒子の範囲のサイズの粒子を含むことができる。

半透過性高分子フィルムは、液体に対して透過性であり、複合薄膜は、合理的な定常状態の透過流量に経時的に減少する液体の初期フラックス流量を示し、初期フラックス流量から定常状態のフラックス流量までの間の減少は、多孔質高分子支持体中に粒子を分散していない、ほかの点では類似の多孔質高分子支持体を有する類似の複合薄膜を通過する液体についての初期フラックス流量から定常状態のフラックス流量までの間の減少よりも約１０％から約５０％少ない範囲にある。

半透過性高分子フィルムは、界面重合している半透過性ポリアミドフィルムマトリクスであり得る。粒子は、金属もしくは金属酸化物粒子、非晶質もしくは結晶質無機粒子、シリカ、アルミナ、粘土もしくはゼオライトの粒子またはカーボンブラック粒子およびまたはリンデＡ型（ＬＴＡ）ゼオライト粒子の少なくとも１つであり得る。圧縮抵抗性膜は、キャスト多孔質高分子支持体、該キャスト多孔質高分子支持体上で重合している半透過性高分子フィルム、ならびにミクロ粒子およびナノ粒子の範囲のサイズであって、キャストする前に高分子中に分散し、該多孔質高分子支持体を形成する粒子を含むことができ、該粒子の該高分子中への分散により、該粒子を含まない類似のキャスト支持体よりも、得られた多孔質高分子支持体の圧縮を使用過程で減少させることができる。

圧縮抵抗性膜は、約５００ｐｓｉで初期フラックス流量から定常状態のフラックス流量までの間で約２０％未満の厚さの減少を示し得る。その膜は、半透過性の、界面重合しているポリアミドマトリクスから成る半透過性高分子フィルムを含むことができる。粒子は、少なくとも１つのゼオライトを含むことができる。粒子なしの、ほかの点では類似の多孔質高分子支持体を有する類似の膜よりも大きい引っ張り強度を示すように、粒子は選択される。

液体のより低い定常状態の流量で一般的な定常状態条件へ経時的に減少する初期流量において第１圧力で液体に透過性の膜は、液体に透過性の高分子支持体、液体に透過性であって、該高分子支持体上で重合している半透過性高分子ならびにミクロ粒子およびナノ粒子の範囲のサイズであって、該高分子支持体中に分散している粒子を含むことができ、その膜の初期流量から定常状態の流量までの間の減少は、高分子支持体中に該粒子を分散していない、類似の高分子支持体を有する類似の膜の初期流量から定常状態流量までの間の減少よりも少ない。

半透過性高分子フィルムは、界面重合しているポリアミドマトリクスである。粒子は無機質であり得る。粒子は、一般的にＬＴＡと呼ばれるリンデＡ型ゼオライトであり得る。粒子は、粒子なしの類似の高分子支持体よりも大きい引っ張り強度を示すように選択される。

半透膜を作製する方法は、高分子マトリクスフィルムを、キャスト多孔質高分子支持体中に分散している、ミクロ粒子およびナノ粒子の範囲のサイズの粒子を有するキャスト多孔質高分子支持体上で重合させることを含むことができ、該粒子が半透膜の経時的なフラックス流量特性を改善するように選択される。

膜は、キャスト多孔質高分子支持体中に粒子を含まない類似の膜の同時間のフラックス低下よりも約１０％から約５０％少ない経時的なフラックス低下を示す。粒子は結晶構造を有する。粒子は、少なくとも１つのゼオライトを含むことができる。キャスト多孔質高分子支持体は、該キャスト多孔質支持体中に高分子を含むことができる。キャスト多孔質支持体は、１つ以上の融点を示すことができる。１つ以上の融点は、それぞれ、高分子の融点よりも高い。

水を浄化する方法は、膜の第１面に半透過性高分子マトリクスフィルムとその反対面に多孔質高分子支持体中に分散している、ミクロ粒子およびナノ粒子の範囲のサイズの粒子を有する多孔質高分子支持体とを有する膜を提供する工程、膜への印加圧力に経時的に応じて該粒子が分散している多孔質高分子支持体の圧縮特性を変更するように、該粒子が選択される工程、少なくとも１つの溶質を有する水溶液に膜の第１面上で圧力を印加する工程、そして膜の第２面で浄化された水を回収することを含む工程ができる。

前記の膜は、粒子を含まない類似の膜の同時間の水フラックス低下よりも約１０％から約５０％少ない経時的な水フラックス低下を示す。粒子は、リンデＡ型（ＬＴＡ）ゼオライトであり得る。溶融された場合の多孔質高分子支持体は、示差走査熱量計を用いて測定すると、該多孔質高分子支持体中の高分子および該粒子に対する別々の溶融ピークではなく、単一の溶融ピークを有することができる。

さらなる利点は、一部は以下の記述で説明され、一部は当業者によりその説明から理解され、ならびに／または本明細書に記述された方法および装置の実施によって知ることができる。また、利点は、添付された特許請求の範囲で特に指摘された要素および組み合わせによって実現および達成することができる。以上の概説と以下の詳細な説明の両方は、単に例示的および説明的なものであり、本発明を限定するものではなく、本発明の範囲は、本明細書に添付された特許請求の範囲から決定することができることが理解される。

添付図面は、本明細書に組み込まれ、本明細書の一部を構成する。
図１ａは、従来の複合膜の横断面図に関する概略図である。図１ｂは、親水性被覆層を有する従来の複合膜の横断面図である。 図２ａは、１例のゼオライトＡ（ＬＴＡ）のモデルを示す。図２ｂは、棒状で示される無機骨格を有するあるゼオライト結晶構造についての多次元的相互連結した開骨格を示し、さらに、その相互連結した細孔構造は、無地の灰色で示される。 図３ａは、〜５．８の未調整のｐＨにおいて、５８５ｐｐｍのＮａＣｌ供給液を用いて５００ｐｓｉで試験されたＴＦＣ膜とｎＴＦＣ膜に対する固有の流体力学的抵抗を示す。図３ｂは、ＴＦＣ膜とｎＴＦＣ（ＬＴＡ）膜に関するフラックス対時間（フラックス低下）を示す。 図４ａは、ナノ粒子が多孔質支持層中に分散している複合薄膜の横断面図についての概略図である。図４ｂは、ナノ粒子が親水性被覆層を有する多孔質支持層中に分散している複合薄膜の横断面図についての概略図である。 図５は、ＴＦＣ膜とナノ複合薄膜（ｎＴＦＣ）に対する時間の関数としてのフラックス流量に関するグラフ表示である。 図６ａは、本明細書で開示された様々なナノ複合膜と純ポリスルホン膜に対する２５０ｐｓｉでのフラックス対時間のグラフである。図６ｂは、本明細書で開示された様々なナノ複合膜と純ポリスルホン膜に対する５００ｐｓｉでのフラックス対時間のグラフである。 図７ａは、２５０ｐｓｉにおける流量に対する膜抵抗対時間のグラフである。図７ｂは、５００ｐｓｉにおける流量に対する膜抵抗対時間のグラフである。 図８は、支持層中にナノ粒子を有する支持膜の試験において使用されるクロスフロー濾過システムの概要である。 図９は、ＮＦ９０膜とＮＦ２７０膜に関する２５０ｐｓｉと１０ｍＭ ＮａＣｌでのフラックス対時間のグラフである。 図１０は、ＮＦ９０膜とＮＦ２７０膜に関する２５０ｐｓｉと１０ｍＭ ＮａＣｌでの抵抗対時間のグラフである。 図１１ａは、非圧縮ＮＦ９０膜のＳＥＭ画像である。図１１ｂは、圧縮ＮＦ９０膜のＳＥＭ画像である。 図１２ａは、非圧縮ＮＦ２７０膜のＳＥＭ画像である。図１２ｂは、２５０ｐｓｉの圧縮圧力での圧縮ＮＦ２７０膜のＳＥＭ画像である。 図１３ａは、２５０ｐｓｉで圧縮後の複合薄膜（ＴＦＣ）のＳＥＭ画像である。図１３ｂは、５００ｐｓｉで圧縮後の複合薄膜（ＴＦＣ）のＳＥＭ画像である。図１３ｃは、非圧縮複合薄膜（ＴＦＣ）のＳＥＭ画像である。 図１４ａは、２５０ｐｓｉで圧縮後のＳＴ２０１−ＴＦＣ膜のＳＥＭ画像である。図１４ｂは、５００ｐｓｉで圧縮後のＳＴ２０１−ＴＦＣ膜のＳＥＭ画像である。図１４ｃは、非圧縮ＳＴ２０１−ＴＦＣ膜のＳＥＭ画像である。 図１５ａは、２５０ｐｓｉで圧縮後のＬＴＡ−ＴＦＣ膜のＳＥＭ画像である。図１５ｂは、５００ｐｓｉで圧縮後のＬＴＡ−ＴＦＣ膜のＳＥＭ画像である。図１５ｃは、非圧縮ＬＴＡ−ＴＦＣ膜のＳＥＭ画像である。 図１６ａは、２５０ｐｓｉで圧縮後のＭ１０４０膜のＳＥＭ画像である。図１６ｂは、５００ｐｓｉで圧縮後のＭ１０４０膜のＳＥＭ画像である。図１６ｃは、非圧縮Ｍ１０４０膜のＳＥＭ画像である。 図１７ａは、２５０ｐｓｉで圧縮後のＳＴ５０−ＴＦＣ膜のＳＥＭ画像である。図１７ｂは、５００ｐｓｉで圧縮後のＳＴ５０−ＴＦＣ膜のＳＥＭ画像である。図１７ｃは、非圧縮ＳＴ５０−ＴＦＣ膜のＳＥＭ画像である。 図１８ａは、２５０ｐｓｉで圧縮後のＳＴ−ＺＬ−ＴＦＣ膜のＳＥＭ画像である。図１８ｂは、５００ｐｓｉで圧縮後のＳＴ−ＺＬ−ＴＦＣ膜のＳＥＭ画像である。図１８ｃは、非圧縮ＳＴ−ＺＬ−ＴＦＣ膜のＳＥＭ画像である。 図１９ａは、２５０ｐｓｉで圧縮後のＯＭＬＴＡ−ＴＦＣ膜のＳＥＭ画像である。図１９ｂは、５００ｐｓｉで圧縮後のＯＭＬＴＡ−ＴＦＣ膜のＳＥＭ画像である。図１９ｃは、非圧縮ＯＭＬＴＡ−ＴＦＣ膜のＳＥＭ画像である。 図２０は、様々な多孔質支持体のガラスまたは他の転移温度を説明するグラフを示す。

詳細な説明
本発明は、本発明の態様についての以下の詳細な説明および本明細書に含まれる実施例、ならびに図面およびそれらの上記および下記の記述を参照することにより、より容易に理解することができる。

本明細書で使用される場合、ＴＦＣは複合薄膜を意味する。ＰＳｆはポリスルホンを意味する。ＰＳｆ−ＴＦＣは、ポリスルホン担持ＴＦＣ膜を意味する。ＰＳｆ−ＬＴＡは、ポリスルホン担持複合薄膜中に分散しているＬＴＡナノ粒子を有する、ポリスルホン担持複合薄膜（ＴＦＣ）を意味する。ＰＳｆ−ＯＭＬＴＡは、ポリスルホン担持複合薄膜中に分散している有機修飾したＬＴＡナノ粒子を有する、ポリスルホン担持複合薄膜（ＴＦＣ）を意味する。

Ａ．逆浸透膜
逆浸透（ＲＯ）用途に有用な膜は、複合薄膜（ＴＦＣ）を含む。ＲＯ用途に特に有用な膜のうち、半透過性層または分別層がポリアミドであるものである。複合薄膜は、通常、多孔質高分子支持体と該多孔質高分子支持体上で重合している半透過性高分子フィルムとを含む。

複合ポリアミド膜は、通常、多孔質高分子（例えば、ポリスルホン）支持構造を多官能性アミン単量体で被覆することにより、最も一般的には水溶液で被覆され、製造される。水が好ましい溶媒であるが、非水性溶媒（例えば、アセトニトリルやジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）など）を利用することができる。次いで、多官能性ハロゲン化アシル単量体（酸ハライドとも称される）が、その支持体に、一般には有機溶液で被覆される。アミン溶液が最初に、次いで、ハロゲン化アシル溶液が多孔質支持体に被覆される。接触すると単量体は反応し、その結果、重合して、高分子（例えば、ポリアミド）マトリクスフィルムを支持構造の表面で生成する。多官能性アミンとハロゲン化アシルの１つまたは両方を溶液で多孔質支持体に塗布することができるが、その代わりに、蒸着または加熱などの他の手段で塗布することができる。

次に、得られた半透膜は、水などの様々な液体を浄化または分離する方法において使用することができる。そのような方法は、膜の高分子マトリクスフィルム側の水溶液（例えば、塩の水溶液）に圧力を印加し、膜の反対側で浄化水を回収することを通常含む。

Ｂ．圧縮とフラックス低下
水透過性の半透膜についての透過率は、所定の印加圧力における水フラックスとして定義できる。従来の逆浸透膜は、１０バール（約１４５ｐｓｉ）より大きい水圧に曝されると透過性を失うのが知られている。水圧は、経時的に支持構造の厚さをある程度まで減少させること、および厚さの相対的な減少と透過性喪失はともに印加圧力に相関することが認められた。したがって、一般に、高い印加圧力が、支持構造のスキン層全体のマクロ空隙とミクロ空隙の物理的圧縮の原因となり、それにより複合膜の透過率を減少させると考えられる。

物理的な圧縮によるＲＯ複合膜のこの非可逆的な内部のファウリングは、膜処理における主要な関心事である。それは多孔質支持体上で膜がキャストされるその多孔質支持体がスポンジ状形態であるためである。理論に束縛されることを望むものではないが、膜の圧縮は、過度の印加圧力により多孔質支持層中でマクロ空隙が崩壊した場合に起こると考えられる；次に、この圧力損失により、支持層空隙のサイズの縮小が引き起こされ、その結果、全体の膜の断面を通る正味の透過率が低下する。

Ｃ．ミクロおよびナノ複合ＲＯ膜
ＴＦＣ膜と対照的に、開示された膜および方法は、粒子が複合薄膜中に分散している複合薄膜に関する。１つの態様では、複合薄膜は、膜中に分散しているナノ粒子を有し、ナノ構造複合薄膜（ｎＴＦＣ）と呼ぶことができる。さらなる態様では、複合薄膜は、膜中に分散しているミクロ粒子を有し、ミクロ構造の複合薄膜と呼ぶことができる。

今度は、図１および１ｂを参照すると、ＴＦＣ膜１０などの従来の複合膜は、図１ａに示されるように、多孔質支持層１２および薄膜の半透過性高分子層１４を含むことができる。図１ｂは、多孔質支持層１２と薄膜の半透過性高分子層１４と親水性被覆層１６とを含むＴＦＣ膜１１などの従来の複合膜を示す。そのような従来の膜は、例えば、図４ａ、４ｂ、および４ｃに関して、以下に示されるように、ミクロ粒子および／またはナノ粒子を欠いている。例えば、図４ａ、４ｂおよび４ｃに関して、以下に開示され、記述されるように、膜１３、１５および１７は、例えば、圧縮抵抗の増加、フラックス低下の減少、および／またはファウリング抵抗を達成するために、多孔質支持層１２およびまたは半透過性薄膜層１２中に分散している、ミクロ粒子およびナノ粒子の範囲のサイズの粒子１８を選択および添加することにより増強することができる。したがって、１つの態様では、開示された膜１３、１５および２５は、新しい種類の濾過材、例えば、脱塩用膜材であると考えることができる。

対照的に、開示された膜は、例えば、圧縮抵抗の増加、フラックス低下の減少、および／またはファウリング抵抗を達成するために、ミクロ粒子および／またはナノ粒子の選択と添加により増強される。したがって、１つの態様では、開示された膜は、新しい種類の濾過材、例えば、脱塩用膜材であると考えることができる。

１．ミクロおよびナノ複合支持構造
種々の態様では、支持構造１２は、多孔質高分子支持体であることができ、高分子１９中に分散している、ミクロ粒子およびナノ粒子の範囲のサイズの粒子１８を有することができる。１つの態様では、粒子１８は、多孔質高分子支持体の少なくとも約１重量％の量で支持体中に存在することができる。ある態様では、半透過性高分子フィルム１４は、多孔質高分子支持体１２上で重合することができる。

ａ．高分子
さらなる態様では、多孔質高分子支持膜１２を製造するために選択された高分子１９は、ポリスルホン、ポリエーテルスルフォン、ポリ（エーテルスルホンケトン）、ポリ（エーテルエチルケトン）、ポリ（フタラジノンエーテルスルホンケトン）、ポリアクリロニトリル、ポリプロピレン、セルロースアセテート、セルロースジアセテート、またはセルローストリアセテートである。

ｂ．粒子
本明細書で開示された膜に関連して使用される粒子１８は、多くの評価基準に基づいて選択できる。その基準は、以下の１つ以上を含む：
（１）ナノスケール次元での平均粒径（例えば、約１ｎｍから約１，０００ｎｍ、例えば、約１ｎｍから約５００ｎｍ、約１ｎｍから約２５０ｎｍ、または約１ｎｍから約１００ｎｍの粒径の少なくとも１つの寸法を有する）；
（２）マイクロスケール次元での平均粒径（例えば、約１μｍから約１，０００μｍ、例えば、約１μｍから約５００μｍ、約１μｍから約２５０μｍ、または約１μｍから約１００μｍの粒径の少なくとも１つの寸法を有する）；
（３）無機または無機−有機ハイブリッド組成物；
（４）高硬度（高分子と比較して）；
（５）支持体を製造するために使用される高分子中での分散性；ならびに／あるいは
（６）支持体および／または被覆層を製造するために使用される高分子との相容性。

（１）粒子組成
選択された粒子は、金、銀、銅、亜鉛、チタン、鉄、アルミニウム、ジルコニウム、インジウム、スズ、マグネシウム、もしくはカルシウムなどの金属種、またはそれらの合金もしくはそれらの酸化物もしくは混合物などである。あるいは、選択された粒子は、Ｓｉ_３Ｎ_４、ＳｉＣ、ＢＮ、Ｂ_４Ｃ、もしくはＴｉＣ、またはそれらの合金もしくはそれらの混合物などの非金属種である。

選択された粒子は、グラファイト、カーボングラス、少なくともＣ_２のカーボンクラスタ、バックミンスターフラーレン、高次フラーレン、カーボンナノ粒子、またはそれらの混合物などの炭素系種である。１つの態様では、粒子は、金属もしく金属酸化物の粒子、非晶質もしくは結晶質の無機粒子、シリカ、アルミナ、粘土もしくはゼオライトの粒子またはカーボンブラック粒子の少なくとも１つの粒子を含む。さらなる態様では、粒子は、金属および金属酸化物、非晶質もしくは結晶質の無機粒子、シリカ、アルミナ、粘土、ゼオライト、カーボンモレキュラーシーブ、またはカーボンブラックの少なくとも１つを含む。また、ナノ粒子およびミクロ粒子の範囲のサイズのカーボンナノチューブの粒子も使用できる。

また、選択された粒子は、天然もしくは合成のゼオライト、および／または「モレキュラーシーブ」、すなわち、特定のサイズでまたは特定のサイズより小さいサイズで選択的に分子を通過させる物質である。

ゼオライト構造は、四面体の配位骨格原子を頂点共有する網目構造を記述し、定義するために使用される３つの大文字から成る名称で言及されることができる。そのような名称は、１９７８年のゼオライト命名法に関するＩＵＰＡＣ委員会によって設定された規則に従う。３文字コードは、一般に、材料タイプの名前に由来する。様々なサイズの分子を通すか、または阻止するための適切な多孔質のナノ粒子材料であると考えることができる公知の合成ゼオライトは、以下のものを含む：

現在、ｈｔｔｐ：／／ｔｏｐａｚ．ｅｔｈｚ．ｃｈ／ＩＺＡ−ＳＣ／ＳｔｄＡｔｌａｓ．ｈｔｍで、公知の合成ゼオライトの最新リストにアクセスできる。

さらなる態様では、適切なゼオライトは、〜３．２から約４．１Åの範囲の有効細孔径を有する相互連結した３次元の骨格構造を有する。ある態様では、開示された膜および方法に関連して使用するための適切な多孔質の結晶質微粒子材料であると考えることができる合成ゼオライトは、ＬＴＡ、ＲＨＯ、ＰＡＵ、およびＫＦＩを含む。これらの態様では、それぞれが異なるＳｉ／Ａｌ比を有し、したがって、異なる特徴的な電荷および親水性を有する。

さらなる態様では、粒子は、金属−有機骨格（ＭＯＦ）構造の部類を含むことができたが、それは一般に有機的なリンカーおよび金属酸化物ユニットの２つの主要成分を有する。リンカーは、金属酸化物ユニットを架橋する「支柱」として機能し、次に、得られるＭＯＦ構造物において「ジョイント」として機能する。この配置は必然的に金属−有機の多面体（ＭＯＰ）、ゼオライトイミダゾレート骨格（ＺＩＦ）および共有結合の有機骨格（ＣＯＦ）を含むように広げられた多孔質構造を生成する［Ｍｅｔａｌ−Ｏｒｇａｎｉｃ Ｆｒａｍｅｗｏｒｋｓ：Ａ Ｎｅｗ Ｃｌａｓｓ ｏｆ Ｐｏｒｏｕｓ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ、Ｊ．Ｒｏｗｓｅｌｌ、Ｏ．Ｍ．Ｙａｇｈｉ、Ｍｉｃｒｏ− ａｎｄ Ｍｅｓｏｐｏｒｏｕｓ Ｍａｔｅｒ．、２００４、７３、３］。

次に、図２を参照すると、ゼオライトＡ（ＬＴＡ）粒子１８の１例のモデルは、あるゼオライト結晶構造の多次元的相互連結した開骨格を説明する。無機骨格２０は、棒状で示され、相互連結した細孔構造２２は、無地の灰色で示される。選択された粒子は、多孔質構造を有することができる。すなわち、ナノ粒子またはミクロ粒子の細孔は、相互連結された多孔質材をもたらすことができる１つ以上の次元または方向で開構造２２を提供することができる。すなわち、ナノ粒子またはミクロ粒子の細孔１８は、「連結」することができ、１つより多くの次元または方向で開構造を提供する。多孔質材の１例は、ゼオライト材に見ることができる。相互連結した多孔質材の具体的な例は、ゼオライトＡに見ることができる。そのような態様では、ナノ粒子またはミクロ粒子は、以下に開示する膜に浸透する液体に対して選択的な流経路を提供できる。

次に、図の４ａ、１４ｂ、および１４ｃを参照すると、粒子１８は、支持層１２の高分子１９中に分散でき、該支持層の上に、図１４ａの膜１３では、半透過性の薄膜１４が形成される。膜１５は、図４ｂに示されるように、親水性被覆層１６を含むことができる。また、膜２５は、図５ｃに示されるように、半透過性の薄膜層１７中に分散している粒子１８を含むことができる。例えば、図２に関して、上でも議論された粒子１８中の細孔径は、平均細孔径の観点から記載することができ、オングストローム（Å）で表すことができる。さらなる態様では、粒子は、約３Åから約３０Å、例えば、約３Åから５Åもしくは１０Å、約１０Åから約２０Å、約２０Åから約３０Å、約３Åから約２０Å、または約１０Åから約３０Åの特徴的な細孔次元を有するナノスケールの多孔性を有することができる。粒子は相互連結した細孔構造を有することができる。すなわち、隣接した細孔は、連結または結合することができ、粒子構造を貫通して複数の方向に流路の網目構造を形成する。選択された粒子は、約１Åから約５０Åの多孔質材、約２Åから約４０Åの多孔質材、約３Åから約１２Åの多孔質材、約３Åから約３０Åの多孔質材、約１Åから約２０Åの多孔質材、約２Åから約２０Åの多孔質材、約２Åから約４０Åの多孔質材、約５Åから約５０Åの多孔質材、または約５Åから約２０Åの多孔質材であり得る。

一般に、ゼオライトまたは他のモレキュラーシーブは、分子の大きさ、電荷、および形状の違いに基づいて、混合物の成分を分離することができる選択的吸着特性を有する材料である。ゼオライトは、頂点を共有するＳｉＯ_４やＡｌＯ_４の四面体から構成される完全に架橋した開骨格構造を有する結晶質アルミノケイ酸塩である。ゼオライトの代表的な実験式は、Ｍ_２／ｎＯ・Ａｌ_２Ｏ_３・ｘＳｉＯ_２・ｙＨ_２Ｏ（式中、Ｍは、原子価ｎの交換可能な陽イオンを表す）である。他の金属、非金属、および有機陽イオンもまた、構造中のアルミニウムの存在によって生じる負の電荷とのバランスをとることができるけれども、一般に、Ｍは、第１族または第２族元素のイオンである。その骨格は、水で占められることができる、別個のサイズの相互連結されたケージと流路を含むことができる。Ｓｉ^４＋とＡｌ^３＋に加えて、他の元素もまた、ゼオライトの骨格中に存在することができる。それらは、Ｓｉ^４＋またはＡｌ^３＋と等電子数である必要はないが、骨格部位を占めることができる。アルミノケイ酸塩ゼオライトは、正味の負の骨格電荷を通常示すが、他のモレキュラーシーブ骨格は、電気的に中性である。

ゼオライトは、また、同様のケージ状の骨格構造を有するか、または同様の特性を有するか、および／またはアルミノケイ酸塩に会合している鉱物を含むことができる。これらは、リン酸塩：ケホエイト、パファサアイト、およびチップトップ石；ならびにケイ酸塩：ハシアンフラル石、ロブダライト、ヴィセ沸石、パルテ沸石、葡萄石、ロッジァン石、魚眼石、ガイロル石、マリコパ石、オーケン石、タカラン石、およびトベルモリー石を含む。したがって、ゼオライトは、また、ＡｌＰＯ_４に基づくモレキュラーシーブであり得る。これらのアルミノケイ酸塩、シリコアルミノホスフェート、メタロアルミノホスフェートおよびメタロシリコアルミノホスフェートは、ＡｌＰＯ_４−ｎ、ＳＡＰＯ_−ｎ、ＭｅＡＰＯ_−ｎおよびＭｅＡＰＳＯ_−ｎとしてそれぞれ命名され、式中、ｎは、構造タイプを示す整数である。ＡｌＰＯ_４モレキュラーシーブは、公知のゼオライトの構造または他の構造を有することができる。ＳｉがＡｌＰＯ_４−ｎ骨格中に組み込まれる場合、その生成物はＳＡＰＯとして知られている。ＭｅＡＰＯまたはＭｅＡＰＳＯの篩は、金属原子（Ｍｅ）をＡｌＰＯ_４−ｎまたはＳＡＰＯ骨格中に組み込むことにより形成できる。これらの金属原子は、Ｌｉ、Ｂｅ、Ｍｇ、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｂ、Ｇａ、Ｆｅ、Ｇｅ、Ｔｉ、およびＡｓを含む。ほとんどの複数個の置換されたＡｌＰＯ_４−ｎは、ＡｌＰＯ_４−ｎと同じ構造を有するが、いくつかの新しい構造が、ＳＡＰＯ、ＭｅＡＰＯおよびＭｅＡＰＳＯの材料に見られるだけである。それらの骨格は、一般的に電荷を帯びる。

ゼオライト粒子１８の構造２０などのモレキュラーシーブの骨格は、細孔構造２０を含み、一般的に個別のサイズ、通常約３Åから約３０Åの直径のケージおよび流路を含んでいる。ある態様では、モレキュラーシーブの主要な構造単位は、個別の四面体単位であり、四面体の特定の組み合わせの有限数の観点から説明されるトポロジーは、「２次構造単位」（ＳＢＵ）と呼ばれる。

これらの態様では、また、モレキュラーシーブの骨格のトポロジーの説明には、空隙におけるＳＢＵの異なる配置に対応する「第３次」構造単位を伴うことができる。骨格は、特徴的なケージを形成する大きい多面体の構成要素の観点から骨格を考えることができる。例えば、方ソーダ石、ゼオライトＡ、およびゼオライトＹはすべて、βケージとして知られている切頂八面体により生成することができる。拡張構造について説明する代替法は、２次元シート構造単位を使用する。また、様々な種類の連鎖が、モレキュラーシーブ骨格を構成する基礎として使用できる。

例えば、ゼオライトは、方沸石群である、方沸石（水和ナトリウムアルミニウムケイ酸塩）、ポルクス石（水和セシウムナトリウムアルミニウムケイ酸塩）、およびワイラケ沸石（水和カルシウムナトリウムアルミニウムケイ酸塩）；ベルバーガイト（水和カリウムバリウムストロンチウムナトリウムアルミニウムケイ酸塩）；ビキタアイト（水和リチウムアルミニウムケイ酸塩）；ボグザイト（水和カルシウムナトリウムアルミニウムケイ酸塩）；ブリュスター沸石（水和ストロンチウムバリウムナトリウムカルシウムアルミニウムケイ酸塩）；菱沸石群である、菱沸石（水和カルシウムアルミニウムケイ酸塩）およびウィルヘンダーソン沸石（水和カリウムカルシウムアルミニウムケイ酸塩）；コウルス沸石（水和カルシウムアルミニウムケイ酸塩）；ダキアルディ沸石（水和カルシウムナトリウムカリウムアルミニウムケイ酸塩）；エディントン沸石（水和バリウムカルシウムアルミニウムケイ酸塩）；剥沸石（水和カルシウムアルミニウムケイ酸塩）；エリオン沸石（水和ナトリウムカリウムカルシウムアルミニウムケイ酸塩）；フォージャス沸石（水和ナトリウムカルシウムマグネシウムアルミニウムケイ酸塩）；苦土沸石（水和ナトリウムカリウムマグネシウムカルシウムアルミニウムケイ酸塩）；ギスモンド沸石群である、アミサイト（水和カリウムナトリウムアルミニウムケイ酸塩）；ガロン沸石（水和カルシウムアルミニウムケイ酸塩）；ギスモンド沸石（水和バリウムカルシウムアルミニウムケイ酸塩）；およびゴビンス沸石（水和ナトリウムカリウムカルシウムアルミニウムケイ酸塩）； グメリン沸石（水和ナトリウムカルシウムアルミニウムケイ酸塩）；ゴナルド沸石（水和ナトリウムカルシウムアルミニウムケイ酸塩）；グースクリーク沸石（水和カルシウムアルミニウムケイ酸塩）；重土十字沸石群である、重土十字沸石（水和バリウムカリウムアルミニウムケイ酸塩）；灰十字沸石（水和カリウムナトリウムカルシウムアルミニウムケイ酸塩）；ウェルズ沸石（水和バリウムカルシウムカリウムアルミニウムケイ酸塩）；灰輝沸石群である、灰斜プチロル沸石（水和ナトリウムカリウムカルシウムアルミニウムケイ酸塩）および輝沸石（水和ナトリウムカルシウムアルミニウムケイ酸塩）；濁沸石（水和カルシウムアルミニウムケイ酸塩）；レビ沸石（水和カルシウムナトリウムカリウムアルミニウムケイ酸塩）；マッチー沸石（水和カリウムナトリウムマグネシウムカルシウムアルミニウムケイ酸塩）；メルリーノ沸石（水和カリウムナトリウムカルシウムバリウムアルミニウムケイ酸塩）；マモテソンマ沸石（水和カリウムナトリウムアルミニウムケイ酸塩）；モルデン沸石（水和ナトリウムカリウムカルシウムアルミニウムケイ酸塩）；ソーダ沸石群である、中沸石（水和ナトリウムカルシウムアルミニウムケイ酸塩）；ソーダ沸石（水和ナトリウムアルミニウムケイ酸塩）、およびスコレス沸石（水和カルシウムアルミニウムケイ酸塩）；オフレット沸石（水和カルシウムカリウムマグネシウムアルミニウムケイ酸塩）；パラソーダ沸石（水和ナトリウムアルミニウムケイ酸塩）；ポーリング沸石（水和カリウムカルシウムナトリウムバリウムアルミニウムケイ酸塩）；ペルリアライト（水和カリウムナトリウムカルシウムストロンチウムアルミニウムケイ酸塩）；束沸石群である、バアレル沸石（水和ナトリウムカリウムカルシウムアルミニウムケイ酸塩）；束沸石（水和ナトリウムカルシウムアルミニウムケイ酸塩）、およびステラ沸石（水和カルシウムアルミニウムケイ酸塩）；トムソン沸石（水和ナトリウムカルシウムアルミニウムケイ酸塩）；チャーニック沸石（水和カルシウムアルミニウムケイ酸塩）；湯河原沸石（水和カルシウムアルミニウムケイ酸塩）またはそれらの混合物からのものであり得る。

１つの態様では、脱塩膜での使用を含む選択された粒子１８は、ゼオライトＡ（リンデＡ型またはＬＴＡとも呼ばれる）、ＭＦＩ、ＦＡＵ、もしくはＣＬＯまたはそれらの混合物であり得る。

ゼオライトは、負の電荷を帯びた官能基を有することができ、例えば、結晶質骨格の中に負の電荷の種を帯びた種を有することができるが、その一方、骨格は全体的に正味の中性電荷を維持する。あるいは、ゼオライトは、ゼオライトＡなどの結晶質骨格に正味の電荷を有することができる。負の電荷の官能基は、例えば、銀イオンを含む陽イオンと結合すことができる。したがって、ゼオライトのナノ粒子は、銀イオンとのイオン交換に付すことができる。図４ａ、４ｂ、および４ｃにそれぞれ示されるナノ複合膜１３、１５、および２５は、その結果、抗菌特性を獲得することができる。

（２）粒径
粒子は実質的に球形であると想定して、粒径は平均流体力学的径によりしばしば記述される。選択された粒子は、約１ｎｍから約１０００ｎｍ、約１０ｎｍから約１０００ｎｍ、約２０ｎｍから約１０００ｎｍ、約５０ｎｍから約１０００ｎｍ、約１ｎｍから約５００ｎｍ、約１０ｎｍから約５００ｎｍ、約５０ｎｍから約２５０ｎｍ、約２００ｎｍから約３００ｎｍ、または約５０ｎｍから約５００ｎｍまでの平均流体力学的径を有することができる。

選択された粒子は、約１μｍから約１０００μｍ、約１０μｍから約１０００μｍ、約２０μｍから約１０００μｍ、約５０μｍから約１０００μｍ、約１μｍから約５００μｍ、約１０μｍから約５００μｍ、約５０μｍから約２５０μｍ、約２００μｍから約３００μｍ、または約５０μｍから約５００μｍまでの平均流体力学的径を有することができる。

選択された粒子は、約１ｎｍから約１０００μｍ、約１０ｎｍから約１０００μｍ、約２０ｎｍから約１０００μｍ、約５０ｎｍから約１０００μｍ、約１ｎｍから約５００μｍ、約１０ｎｍから約５００μｍ、約５０ｎｍから約２５０μｍ、約２００ｎｍから約３００μｍ、または約５０ｎｍから約５００μｍまでの平均流体力学的径を有することができる。

ナノ粒子およびミクロ粒子の組み合わせもまた、開示された膜および方法に関して使用できることが理解される。
（３）粒子硬度
開示された膜に関して使用するために選択された粒子１８は、ある硬度を有する。当業者は、例えば、ブリネル硬さ試験（ＨＢ）；ジャンカ木材硬度評価法；ヌープ硬さ試験（ＨＫ）または微小硬さ試験；マイヤー硬さ試験；ロックウェル硬さ試験（ＨＲ）；ショアー押込み硬度；ビッカース硬さ試験（ＨＶ）（最も広範囲のスケールの１つを有する）；およびバーコル硬さ試験の１つ以上と関連した技術により様々な粒子および／または高分子／粒子複合体２１の硬度を容易に測定することができる。ナノ粒状の材料の硬度測定のために、ナノ押し込み試験法を使用することができる。押し込み硬さは、材料の硬度（すなわち、永久的な、特にプラスチックの変形に対する抵抗性）を特性化することができる。これは、特定の幾何学的圧子を材料に荷重し、得られる押し込みの次元を測定することによって測定できる。

当業者は、硬質材料と軟質材料の違いを容易に理解することができる。１つの態様では、選択された粒子は、高分子支持構造を提供するために使用される高分子よりも硬い。さらなる態様では、粒子は無機質である。さらなる態様では、粒子は結晶構造を有する。硬度の適正レベルは、支持膜１２（その中で、粒子１８が高分子１９に分散している）などの膜の圧縮抵抗に寄与する。

通常、粒子硬度は、周知のホール−ペッチ効果によって説明されるように、粒径の減少とともに増加する。この関係は、サブマイクロメータからミリメータの領域での粒径に関して実験的に立証されていたので、従来の知識では、ナノサイズの粒子はさらに大きい硬度の材料を生成するであろうことを示唆する。しかしながら、コンピュータシミュレーションは、約１０ｎｍから２０ｎｍの径の粒子を有する材料では、材料の硬度と降伏応力が実際に減少することを示す。したがって、ある粒径より下では、硬度は、粒径の減少とともに減少するのが理解される。この特定の粒径は、粒子の組成によって変動し得る。

したがって、さらなる態様では、開示された膜１３、１５および２５に関して使用される粒子１８を、所定の選択された粒径に対する最大硬度の粒子を提供するために選択することができる。すなわち、所望のサイズの粒子に関しては、ホール−ペッチ効果の観点から、および「特定の粒径」硬度閾値の観点から、組成（すなわち、材料構成）を、満足できる硬度を提供するために選択することができる。

さらなる態様では、開示された膜１３、１５および２５に関して使用される粒子１８の粒径を、所定の選択された粒子組成に対する最大硬度の粒子を提供するために選択することができる。すなわち、所望の組成の粒子に関しては、その粒径を、ホール−ペッチ効果の観点から、および「特定の粒径」硬度閾値の観点から、満足できる硬度を提供するために選択することができる。

ｃ．示差走査熱量測定分析
１つの態様では、支持構造１２を製造するのに使用される高分子中の粒子の分散性に基づいておよび／または支持構造１２を製造するのに使用される高分子と粒子１８の相容性に基づいて、粒子１８を選択することができる。すなわち、構造、溶解度、または他の物理的な特性の類似性を参考にして、支持構造を製造するために使用される粒子と高分子間の物理的および／または化学的な相容性を最大にするか、またはそうでなければ影響を与えるように、粒子１８を選択することができる。この相容性は、例えば、粒子／高分子複合体２１の示差走査熱量測定（ＤＳＣ）分析を観測することによって評価される。

通常、ＤＳＣは、材料の固体状態および液体状態の間の、または結晶状態および非晶質状態の間の転移を観測するのに使用できる。１つの態様では、開示された膜１３、１５および２５に関して使用するために選択された粒子１８は、明確な転移（例えば、融点またはガラス転移温度）を有する。１つの態様では、開示された膜１３、１５および２５の支持構造１２に関して使用するために選択される高分子１９は、明確な転移（例えば、融点またはガラス転移温度）を有する。種々の態様では、適切な粒子１８の１つまたは複数の転移点は、高分子１９の１つまたは複数の転移点とは異なる。さらなる態様では、高分子１９に分散している適切な粒子１８を有する支持体１２は、別々に、粒子１８と高分子１９の融点とは異なる転移点（例えば、融点）を示すであろう。

さらなる態様では、高分子１９と分散し、支持層１２を形成する粒子１８を含む複合材料は、複合材料を示す１つ以上の転移点を示すことができる。例えば、支持層１２の複合材料は、粒子１８と高分子１９の個々のピークを合わせた単一の転移ピークを示すことができる。このピークは、個々の粒子１８と高分子１９の転移ピークと比べて、シフトし得る（すなわち、異なった温度で起きる）。さらなる例として、粒子１８を有し、そこで分散し、支持層１２を生成する高分子１９は、示差走査熱量計を使用して測定した場合、粒子１８を含まない類似の支持体１２の溶融ピークと比べて、シフトした溶融ピークを共に形成することができる。さらなる態様では、粒子１８および支持体１２の高分子１９は共に、示差走査熱量計を使用して測定した場合、支持体高分子１９および粒子１８に関する別々の溶融ピークではなく、合わせた溶融ピークを形成する。そのような合わせたおよび／またはシフトしたピークは、支持構造を製造するために使用される粒子１８および高分子１９の間の物理的および／または化学的な相互作用または関係を示すことができる。

高分子１９およびそこに分散している粒子１８の間のそのような物理的および／または化学的な相互作用または関係は、粒子および高分子の間の相容性と呼ぶことができ、１つの態様において、支持構造１２および得られた膜１０における粒子／高分子複合材料２１の、経時的な膜厚の減少、経時的な水フラックス低下、および／または圧縮抵抗の改善を容易にすることができる。

ｄ．極限強さ
材料が破壊前に受けることができる引っ張応力の最大量は、極限強さ（材料が耐えることができる最大応力）と呼ぶことができる。支持構造１２の基礎となる織布または不織布の極限強さは、例えば、約１６ＭＰａである。ある態様では、支持層１２は、約２５ＭＰａから約５０ＭＰａ、例えば、約３０ＭＰａより大きい、約３５ＭＰａより大きい、または４０ＭＰａより大きい極限強さを有することができる。

１つの態様では、高分子１９中に分散し、支持層１２、すなわち、粒子／高分子複合体２１を形成する粒子１８を有する高分子１９の得られる極限強さに基づいて、粒子１８を選択できる。すなわち、粒子／高分子複合体２１の測定された極限強さを参考として、粒子１８を選択でき、その結果、支持構造１２を製造するのに使用される粒子１８と高分子１９との間の物理的および／または化学的な相容性または他の関係を最大にするか、またはそうでなければ影響を与える。

１つの態様では、支持体１２とその中に分散している粒子１８は共に、粒子１９を含まない類似の支持体１２の極限強さより大きい極限強さを示す。

高分子中に粒子１８が分散していない高分子１９と比べて、粒子／高分子複合体１２のそのような極限強さの増加は、支持構造１２を製造するために使用される粒子１８および高分子１９の間の物理的および／または化学的な相互作用または他の関係を示すことができる。さらに、粒子１８および高分子１９の間の物理的および／または化学的な相互作用または他の関係は、粒子１８および高分子１９の間の相容性と呼ぶことができ、１つの態様では、支持構造１２および得られた膜１０における粒子／高分子複合体２１の、経時的な膜１０の厚さの減少、経時的な水フラックス低下、および／または圧縮抵抗を改善するのを容易にすることができる。

２．フィルム
薄膜１４は、半透過性の高分子マトリクスであり、例えば、３次元高分子網目構造を有し、実質的に水に透過性であり、実質的に溶質に対して非透過性である。例えば、高分子網目構造は、少なくとも１個の多官能性単量体と２官能性または多官能性の単量体との反応によって形成される架橋高分子であり得る。

ａ．高分子組成
高分子マトリクスフィルム１４は、脂肪族または芳香族のポリアミド、芳香族ポリヒドラジド、ポリ−ベンズイミダゾロン、ポリエピアミン／アミド、ポリエピアミン／尿素、ポリ−エチレンイミン／尿素、スルホン化ポリフラン、ポリベンズイミダゾール、ポリピペラジンイソフタルアミド、ポリエーテル、ポリエーテル−尿素、ポリエステル、もしくはポリイミド、またはそれらの共重合体もしくはそれらの混合物などの３次元高分子網目構造である。好ましくは、高分子マトリクスフィルムは、界面重合反応で形成できるか、または重合後に架橋することができる。

高分子マトリクスフィルム１４は、フタロイル（例えば、イソフタロイルまたはテレフタロイル）ハライド、トリメチルハライド、またはそれらの混合物などの残基の芳香族または非芳香族ポリアミドである。別の例では、ポリアミドは、ジアミノベンゼン、トリアミノベンゼン、ポリエーテルイミン、ピペラジンもしくはポリーピペラジンの残基またはトリメソイルハライドの残基およびジアミノベンゼンの残基である。また、フィルムはトリメソイルクロリドおよびｍ−フェニレンジアミンの残基である。さらに、フィルムは、トリメソイルクロリドとｍ−フェニレンジアミンとの反応生成物であり得る。

ｂ．フィルムの厚み
高分子マトリクスフィルム１４は、約１ｎｍから約１０００ｎｍの厚みを有することができる。例えば、フィルムは、約１０ｎｍから約１０００ｎｍ、約１００ｎｍから約１０００ｎｍ、約１ｎｍから約５００ｎｍ、約１０ｎｍから約５００ｎｍ、約５０ｎｍから約５００ｎｍ、約５０ｎｍから約２００ｎｍ、約５０ｎｍから約２５０ｎｍ、約５０ｎｍから約３００ｎｍ、または約２００ｎｍから約３００ｎｍまでの厚みを有することができる。

３．親水性層
開示された膜は、高分子マトリクス１４などのフィルムを含むことができ、それは、高分子マトリクス１４の表面に近接した、隣接した、または接触した親水性層１６を有することができる。

親水性層１６は、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロール、ポリビニルピロリドン、ヒドロキシプロピルセルロース、ポリエチレングリコール、ケン化ポリエチレン−酢酸ビニル共重合体、トリエチレングリコール、もしくはジエチレングリコールまたはそれらの混合物などの水溶性高分子であり得る。親水性層は、架橋ポリビニルアルコールなどの架橋された親水性高分子材料であることができる。

４．膜の形状
多様な膜の形状が有用であり、開示された方法および技術を使用することにより提供できる。これらは、プレートやフレーム状、うず巻状、中空繊維状、または平板状の膜を含む。

５．溶質
１つの態様では、開示された膜１３および１５は、半透膜である。すなわち、開示された膜は、例えば、適切にフィルム１４を調製することによって液体（例えば、水）に実質的に透過性であり、溶質に実質的に非透過性であるように調製できる。本明細書で使用される場合、「溶質」は、一般に液体中に溶解、分散、または懸濁された物質を指す。その物質が望ましくない場合がある。そのような場合には、膜１３および１５が、液体から望ましくない溶質を取り除くのに使用でき、それにより液体を浄化し、次いで液体は回収することができる。その物質が望ましい場合がある。そのような場合には、膜１３および１５は、液体の容積を減少させるのに使用することができ、それにより溶質を濃縮し、次に、溶質を回収することができる。

Ｄ．濾過性能
従来の複合膜と対照的に、開示された膜１３および１５は、ＲＯ膜の可逆的（表面）および非可逆的（内部）なファウリングの両方を最小化することにより膜の脱塩法の操作経費および環境への影響を低減化することができる。これは、粒子／高分子複合体２１を形成するのに使用される高分子１９中に分散している粒子１８を使用することによって達成でき、該複合体は、支持層１２を生成して脱塩法で印加された高い水圧による支持膜構造１２の物理的な圧縮を最小にすることによって、逆浸透（ＲＯ）膜を通る固有の水透過率の損失を最小にする。開示された膜１３と１５の利点は、逆浸透膜に基づく海水脱塩法で使用することができるなどの、高い印加圧力における高透過率（エネルギー効率）を維持する能力である。

次に図３を参照すると、膜材料が圧縮性である、つまり半透膜１４もしくは支持層１２、または両方が、圧縮性であるならば、純水または単一な食塩水を濾過したとき、フラックスは経時的に低下することがあり得る。実験では、水フラックス低下が一定の印加圧力に対して経時的に測定されたが、データは膜抵抗を増加させる形で示されており、支持層１２の高分子１９中でのナノ粒子またはミクロ粒子を含まない膜１３および１５に関する粘度において何の変化もないことを推測している。両方のナノ複合膜は、ゼロ時において、小さい固有の流体力学的抵抗、つまり、フラックス流量に対する初期抵抗を有する。これは望ましいことであり、その理由は、より低い初期抵抗は、所望のフラックスを達成するために、より少ない圧力を必要とするからである。従来の膜（純高分子でナノ粒子を含まない）の抵抗は、数時間にわたって指数関数的に増加し、定常状態の流体力学的抵抗と考えることができる初期抵抗の２倍である値で最終的に横ばいとなる。次に、粒子１８を含まない膜１０は、ゼロ時での透過率の半分である。このように、水が強制的に膜を通過するのに必要なエネルギーは倍となる。

ナノ複合膜１３および１５は、流体力学的抵抗において非常にわずかな増加を受ける。明らかに、その中に分散している粒子を有する複合薄膜（例えば、ナノ複合支持体に被覆された通常の薄膜）は、粒子１８を含まないＴＦＣ膜よりはるかに小さい圧縮を受けるが、依然として観測される少量の圧縮（抵抗の増加）がある。

さらに図３を参照すると、４つの異なるナノ構造のＴＦＣ ＲＯ膜１０に対する固有の流体力学的抵抗が、〜５．８の未調整ｐＨで５８５ｐｐｍのＮａＣｌ供給溶液を用いて５００ｐｓｉで試験された。観測された阻止率は、すべて９０％より大きく、それは、それらがＲＯ膜として機能できることを示す。固有の流体力学的抵抗は、ダーシー透過係数の逆であり、ダーシー則は、

（式中、ｕは速度であり、ｋはダーシー透過率であり、μは溶液粘度であり、ｄｐは示差流体力学的圧力であり、そしてｄｘは液体輸送距離（または、活性膜の厚さ）である）として与えられる。膜に関して、このダーシー則の関係は、

［式中、Ｊ_ｖは容積フラックス（ｍ^３−水／ｍ^２−膜／ｓであり、それは速度であり、ｍ^３／ｍ^２．ｓ＝ｍ／ｓである）であり、そして、Ｒ_ｍはダーシー透過率と膜活性層の厚さの組み合わせを表す］として通常、記載される。

次に再び図４を参照すると、「ファウリング」または「圧縮」によるフラックス損失は、支持層１２に粒子１８を含むことによって処置できる。このように、多孔質支持体１２上で重合している高分子マトリクスフィルム１４を有する複合膜１３および１５が開示され、ここで支持体１２は、支持体１２の高分子１９中に分散している粒子１８を有し、そして、膜１３および１５は、多孔質支持体１２中に粒子１８を含まない類似の複合膜１０よりも大きい圧縮抵抗を示す。

次に、図６、７ａ、および７ｂを参照すると、これらの膜１３および１５は、また、多孔質または非多孔質のナノ粒子１８を使用して、より透過性である。理論によって束縛されることを願うものではないが、非多孔質ナノ粒子を含むことによる圧縮抵抗は、初期の印加圧力により起こる「瞬時の圧縮」を防止することに起因すると考えられる。

膜１３および１５は、膜の平方フィート／日／ポンド／印加圧力の平方インチあたり、少なくとも０．０２ガロンの純水フラックスを有することができる。

通常、この態様での使用のために選択される粒子１８は、硬質および／または無機質である。そのような粒子の包含は、経時的なフラックスのより小さい減少および／または膜厚のより小さい減少をもたらすことができる。

次に、再び図４を参照すると、膜１３および１５中で使用される粒子１８を、当業者に知られた粒子から選択することができ、特に本明細書に開示された粒子から選択することができる。適切な粒子は、金属および金属酸化物、非晶質または結晶質の無機粒子を含み、それらはシリカ、アルミナ、粘土、およびゼオライト、ならびにカーボンブラックを含む。また、粒子の混合物は、例えば、粒子１８は、個々の能力が異なる性能の強化を付与するように独立して選択される場合、または粒子が相乗的な性能改良のために総合的に選択される場合に使用することができる。

１．厚さの変化の減少
ＴＦＣ膜１０は、通常、逆浸透技術に関連した圧力により圧縮されることがある。すなわち、ＴＦＣ膜は、運転圧力に曝した後に厚さの減少を示すことがあり得る。膜厚の大部分は、通常、高分子支持構造１２（高分子フィルム１４は、全体的な膜１０の厚さの比較的小さい部分である）の厚さによるので、この減少はまた、運転圧力に曝した後の高分子支持構造１２の厚さの減少としても表わすことができる。また、この変化は、初期の膜厚と定常状態の厚さに達することができる十分な時間、運転圧力に曝した後の膜厚との差として測定できる。

１つの態様では、厚さの減少は、膜に加えられた圧力に関係し、その減少は加えられた圧力におおよそ比例し得る。理論によって束縛されることを願うものではないが、常識では、厚さの減少は膜の内部のファウリングに相関することが主張される。

参照のために、膜厚の減少は、特定の運転圧力、例えば、５００ｐｓｉに関して表すことができる。しかしながら、膜厚の低下の減少は、異なる運転圧力、例えば、３００ｐｓｉで、６００ｐｓｉで、８００ｐｓｉで、または１０００ｐｓｉで観察できることが理解される。

対照的に、従来のＴＦＣ膜１０と比べて、開示された膜は、厚さの変化の減少を示すことができる。この改善は、相対的な意味で、例えば、運転圧力での従来のＴＦＣ膜１０の膜厚の減少と運転圧力での開示された膜１３と１５の膜厚の減少との差として表すことができる。あるいは、改善は、絶対的な意味で、例えば、初期の膜厚と定常状態の厚さに達することができる十分な時間、運転圧力に曝した後の膜厚との差として表すことができる。

２．水フラックス低下の減少
逆浸透技術に関連した圧力による圧縮と相関し、必ずしもそれにより引き起こされることではないが、ＴＦＣ膜は、通常、経時的に合理的な定常状態の透過流量に減少する液体の初期透過流量を示す。すなわち、ＴＦＣ膜は、運転圧力に曝した後の透過流量の減少を示すことがある。この変化は、初期透過流量と定常状態の厚さに達することができる十分な時間、運転圧力に曝した後の膜の透過流量との差として測定できる。

１つの態様では、透過流量のこの減少は、膜に加えられた圧力に関係し、そして透過流量は加えられた圧力におおよそ比例することができる。

参考のために、透過流量の減少は、特定の運転圧力、例えば、５００ｐｓｉに関して表すことができる。しかしながら、透過流量の減少は、異なる運転圧力、例えば、３００ｐｓｉで、６００ｐｓｉで、８００ｐｓｉで、または、１０００ｐｓｉで観測できるのが理解される。

対照的に、従来のＴＦＣ膜１０と比べて、開示された膜１３および１５は、透過流量の変化の減少を示すことができる。この改善は、相対的な意味で、例えば、運転圧力での従来のＴＦＣ膜の透過流量の減少と運転圧力でのナノ構造の膜の透過流量の減少との差として表すことができる。あるいは、改善は、絶対的な意味で、例えば、初期の透過流量と定常状態の透過流量に達することができる十分な時間、運転圧力に曝した後の透過流量との差として表すことができる。

したがって、１つの態様では、半透過性の高分子フィルムは、液体に対して透過性であり、複合薄膜は、合理的な定常状態の透過流量に経時的に減少する液体の初期透過流量を示し、初期透過流量から定常状態の透過流量までの間の減少は、多孔質高分子支持体中に粒子が分散していない、ほかの点では類似の多孔質高分子支持体を有する類似の複合薄膜を通過する液体に対する初期透過流量から定常状態の透過流量までの間の減少よりも約１０％から約５０％少ない範囲にある。

さらなる態様では、初期透過流量から定常状態の透過流量までの間の減少は、多孔質高分子支持体中に粒子が分散していない、ほかの点では類似の多孔質高分子支持体を有する類似の複合薄膜を通過する液体に対する初期透過流量から定常状態の透過流量までの間の減少よりも約１０％少ない。さらなる態様では、初期透過流量から定常状態の透過流量までの間の減少は、少なくとも約２０％少ない、少なくとも約３０％少ない、少なくとも約４０％少ない、または少なくとも約５０％少ない。

３．圧縮抵抗の増加
初期膜厚と定常状態膜厚との間の厚さの減少の改善および、初期透過流量と定常状態透過流量との間の減少の改善の観測により、圧縮抵抗の減少による透過流量低下という考えが起こる。１つの態様では、開示されたナノ構造膜は、支持層１２中にナノ粒子またはミクロ粒子が分散していない、従来のＴＦＣ膜と比べて、改善された圧縮抵抗を示す。

次に、図５を参照すると、例として、仮想の従来のＴＦＣ膜（膜１）は、仮想のナノ構造ＴＦＣ膜（膜２）と比較することができる。膜１と比べて、膜２は厚さの変化の減少を示した。さらに、膜１と比べて、膜２は透過流量の変化の減少を示した。

フラックス低下（ＦＤ）は、所定圧力での初期状態と定常状態との間の透過流量の分数的減少を指し、式３を用いて計算できる。

［式中、Ｊ_０は、初期の膜フラックス（それは簡潔にするために、１００％または１．００として表記できる）であり、Ｊ_ｓｓは、運転圧力における定常状態での膜フラックスである］。したがって、ＦＤは、０（所定圧力でのフラックスにおける低下がない）から１（フラックスは、定常状態においてゼロである）の範囲であり得る。

フラックス保持（ＦＲ）は、所定圧力での初期状態の分数としての、所定圧力における定常状態透過流量を意味し、式４を使用して計算できる。

フラックス低下が完全に物理的な圧縮に起因すると仮定する場合、圧縮抵抗の値は、２つの膜、例えば、膜１（ＴＦＣ）と膜２（粒子が分散している複合薄膜）を比較することにより、式５を使って計算できる：

下記表１で示されるように、仮想膜２の圧縮抵抗は、膜１と比較して計算できる。この例では、両方の膜は、同じ初期透過流量（１０ｇｆｄ）を有し、比較は同じ所定の運転圧力で行われる。ここで、膜２（粒子が分散している複合薄膜）は、膜１（ＴＦＣ）より３３％大きい圧縮抵抗を示す。

また、初期フラックスおよび定常状態フラックスの替わりに、初期（印加圧力へ曝す前）膜および最終（定常状態フラックスを達成するために十分な与圧後）膜厚を使用して類似の計算を実行できるのが理解される。

したがって、１つの態様では、圧縮抵抗性膜１３または１５は、同じ圧力で類似のＴＦＣ膜によって示される減少よりも小さい、運転圧力での初期透過流量と定常状態の透過流量との間の厚さの減少を示すことができる。さらなる態様では、圧縮抵抗性膜１３または１５は、約２５０ｐｓｉにおける初期透過流量と定常状態の透過流量との間で、約２０％未満、例えば、約１５％未満または約１０％未満の厚さの減少を示すことができる。さらなる態様では、圧縮抵抗性膜１３または１５は、約５００ｐｓｉにおける初期透過流量と定常状態の透過流量との間で、約２０％未満、例えば、約１５％未満または約１０％未満の厚さの減少を示すことができる。

開示された膜の例の顕著な特性は、表２に要約される。この表では、添加物は支持構造を形成するために加えられた粒子を指す。

次に、図２０を参照すると、開示された多孔質支持体１２の例の顕著な特性は、表２に要約され、様々な多孔質支持体のガラスまたは他の転移温度（℃）（ときには融点と呼ばれる）が、グラフ３０に示される。線３２は、図１の多孔質支持体１２を表し、そこでは、粒子は支持構造１２中に分散しなかった。このＴＦＣ支持体は、高分子１９（図４に示され、その中に粒子１８は分散していない）のガラス転移温度であると考えられる約１８８℃の単一の転移温度を有した。線３４は、図４に示される支持体１２を表し、そこでは粒子１８は、支持構造１２（例えば表２に示されるタイプＮＰ１−ＴＦＣ）の高分子１９中に分散しているＬＴＡ粒子である。３００℃より大きいガラス転移温度は、この多孔質支持体１２に対するものと推定され、その理由は転移温度が使用された装置の３００℃の範囲を超えて生じたからである。この単一の、または合わせた転移温度は、ＬＴＡの粒子１８の高分子１９中への分散が、構造的または他の特性（例えば、凝集など）を獲得した場合に達成されたガラス転移温度であると考えられ、それは多孔質支持体１２におけるこの粒子／高分子の組み合わせを使用して、初期状態条件から定常状態条件までの透過流量の減少を最小にする使用のために非常に有益である可能性がある。

線３６は、図４に示される多孔質支持体１２を表し、そこでは粒子１８は、支持構造１２（例えば、表２に示されるタイプＮＰ２、ＮＰ３、ＮＰ４またはＮＰ６−ＴＦＣ）の高分子１９中に分散しているＮＳ−ＯＤＴＬＡ、Ｓｉｌｉｃａ−ＳＴＺＬ、Ｓｉｌｉｃａ Ｍ１０４０またはＳｉｌｉｃａ ＳＴ−５０粒子である。これらの支持体は、１８８℃で転移温度を示し、３００℃より大きい第２転移温度を有すると考えられる。その理由は、粒子１８は、３００℃より大きい、そしておそらくは５００℃より大きい転移温度を有するからである。２つの転移温度の存在は、望ましい特性（例えば、凝集など）が生じなかったことを示す。高分子１９中への粒子１８のより小さいまたはおそらくより大きな荷重は可能であり、望ましい特性が獲得できるであろう。

線３８は、図４に示される支持体１２を表し、そこでは粒子１８は、支持構造１２（例えば、表２に示されるタイプＮＰ５−ＴＦＣ）の高分子１９中に分散しているＳＴ２０Ｌタイプの粒子である。約２５８℃の転移点は、それが高分子１９の１８８℃の転移温度より実質的に高いので、この粒子／高分子混合物中の高分子に対する転移温度であると結論を下すのが合理的である。

したがって、少なくとも２つの温度、例えば、２５８℃と３００℃より高い温度が示されているので、単一の転移点のこの明らかに望ましい特性を示す、粒子および高分子の様々な組み合わせに対しての転移温度の範囲があり得ると結論を下すのは妥当である。また、より高い、単一のガラス転移温度または他の転移温度を有する粒子／高分子混合物は、単一の、しかし低い転移温度を有するものよりもより望ましいバージョンの特性を有すると結論を下すこともまた合理的である。その理由は、最高の単一転移温度を有したＬＴＡ粒子との混合物が、他の試験でより良い結果を出したからである。また、粒子／高分子混合物中の粒子の望ましい荷重は、表２および図２０に示されるように単一ガラス転移温度および／または表２に示されるように極限破壊強度について試験することにより決定することができると結論するのは妥当である。
Ｅ．ナノ複合体ＲＯ膜の製造
１つの態様では、開示された膜は、従来のＲＯ膜の製造処理と異なった方法により製造できる。しかしながら、従来のＲＯ膜の調製に使用される技術の多くが開示された方法に適用可能である。したがって、開示された方法は、重大な処理修正なしで既存の市販膜製造処理の即時導入を受け入れることができる。

１．高分子支持構造の形成
１つの態様では、粒子１８と高分子材料１９との混合物から多孔質支持体１２を形成し、高分子マトリクスフィルム１４を多孔質支持体１２上で重合して複合薄膜を形成することにより、膜１１は製造される。多孔質支持体１２は、本明細書に開示された高分子１９、例えばポリスルホンの高分子「溶液」中の選択されたナノ粒子の分散液から層をキャスト分散することにより提供することができる。通常、分散液は、粒子１８および高分子１９を液体中、ある濃度で選択することにより調製され、そこでは、分散液は高分子１９の析出を実質的に示さず、また粒子１８の凝集を実質的に示さない。これは、分散液の濁度を測定することにより、および／または分散液中の粒子の平均粒径を測定することにより評価できる。次いで、測定は、高分子および／または粒子なしの溶媒の濁度と比較して行うことができる。

キャスト分散（あるいは、浸漬沈殿法または非溶媒誘起相反転）による支持層１２の調製は、高分子−ナノ粒子−溶媒分散液の一定量を表面に注ぎ、溶媒を除去することにより達成される。高い温度および／または減圧は、除去を容易にすることができる。非溶媒（高分子に対して低い親和性を有する溶媒）の使用は、支持層を提供するのに特に有効である。

２．フィルム形成
複合薄膜１４は、多孔質支持膜１２の表面での重合反応、例えば、界面重合により形成できる。参照：米国特許第６，５６２，２６６号。本明細書で開示されるように、高分子マトリクスフィルム１４は、例えばポリアミドを提供するために界面重合により提供できる。適切な単量体は、ｍ−フェニレンジアミンおよびトリメソイルクロリドを含む。

多孔質支持構造１２は、第１反応剤（例えば、１，３−ジアミノベンゼンまたは「ＭＰＤ」単量体）を含む水溶液に浸漬することができる。その基体１２は、次いで、第２反応剤（例えば、トリメソイルクロリドまたは「ＴＭＣ」開始剤）を含む有機溶液に接触させることができる。通常、有機の液体または非極性液体は、極性または水性の液体と非混和性であり、それにより反応が２つの溶液の界面で起こり、緻密高分子層１４を支持膜表面に形成する。

ＭＰＤとＴＭＣとの反応が全芳香族のポリアミド複合薄膜を形成する標準条件は、極性相で約１から３重量％のＭＰＤを有する〜２０のＭＰＤ：ＴＭＣ濃度比を含む。反応は、開放環境下、室温で行うことができるが、極性もしくは非極性液体または両方の液体の温度を制御できる。一度形成すると、緻密高分子層は、反応剤間の接触を阻害して、反応を減速させるためのバリアとして作用できる。したがって、そのように形成された選択的緻密層は、通常、非常に薄く、水に透過性であるが、溶解、分散、または懸濁された固体に対しては比較的、非透過性である。このタイプの膜は、慣習的に逆浸透（ＲＯ）膜として説明されている。

一般に、薄膜１４の高分子マトリクスは、２つ以上の単量体の反応により製造できる。１つの態様では、第１単量体は、２求核性単量体または多求核性単量体であり、第２単量体は、２求電子単量体または多求電子単量体であり得る。すなわち、各単量体は、２つ以上の反応性（例えば、求核性または求電子性）基を有することができる。求核試薬および求電子試薬の両方は、当該分野で周知であり、当業者は、この使用のための適切な単量体を選択することができる。１つの態様では、第１単量体および第２単量体を、接触した際に、界面重合反応を受けて高分子マトリクス（すなわち、３次元高分子網目構造）を形成することができるように選択することができる。さらなる態様では、第１単量体および第２単量体を、接触して、例えば、熱への曝露、光照射、または化学的架橋剤によりその後の架橋が可能な高分子生成物を形成する際に、重合反応を受けることができるように選択することができる。

１つの態様では、第１単量体を、極性液体と混和性であるように選択でき、極性液体と共に極性混合物を形成できる。さらなる態様では、第１単量体を、非極性液体と混和性であるように選択することができる。しかし、第１単量体を、非極性液体と非混和性であるように場合により選択することもできる。通常、第１単量体は、２求核性単量体または多求核性単量体であり得る。さらなる態様では、第１単量体は、ジアミノベンゼンである。例えば、第１単量体は、ｍ−フェニレンジアミンである。さらなる例として、第１単量体は、トリアミノベンゼンである。なおさらなる態様では、極性液体および第１単量体は、同じ化合物であることができる。すなわち、第１単量体が提供され、別の極性液体には溶解されない。

１つの態様では、第２単量体は、非極性液体と混和性であるように選択でき、非極性液体と共に非極性混合物を形成できる。第２単量体は、極性液体と非混和性であるように場合により選択することもできる。通常、第２単量体は、２求電子性単量体または多求電子性単量体であり得る。さらなる態様では、第２単量体は、トリメソイルハライドである。例えば、第２単量体は、トリメソイルクロリドであることが可能である。さらなる例として、第２単量体は、フタロイルハライドであることができる。なおさらなる態様では、非極性液体および第２単量体は、同じ化合物であることができる。すなわち、第２単量体が提供されて、他の非極性液体には溶解されない。

一般に、２官能性または官能性求核単量体は、１級または２級のアミノ基を有することができ、芳香族（例えば、ｍ−フェニレンジアミン、ｐ−フェニレンジアミン、１，３，５−トリアミノベンゼン、１，３，４−トリアミノベンゼン、３，５−ジアミノ安息香酸、２，４−ジアミノトルエン、２，４−ジアミノアニソール、およびキシリレンジアミン）または脂肪族（例えば、エチレンジアミン、プロピレンジアミン、およびトリス（２−ジアミノエチル）アミン）であり得る。適切なアミン種の例としては、２個または３個のアミノ基を有する１級芳香族アミン（例えば、ｍ−フェニレンジアミン）、および２個のアミノ基を有する２級脂肪族アミン（例えば、ピペラジン）が挙げられる。アミンは、通常、極性液体中、例えば水中で溶液としてミクロ多孔質支持体に適用することができる。得られた極性混合物は、通常、約０．１重量％から約２０重量％、例えば、約０．５重量％から約６重量％のアミンを含む。多孔質支持体上に一旦被覆されると、過剰の極性混合物は、場合により除去することができる。極性混合物は、水性である必要はないが、極性液体は、１つの態様では、非極性液体と非混和性であるべきである。

単量体は、場合により気相（十分な蒸気圧を有する単量体に対して）から送達することができるが、一般に２官能性または多官能性の求電子性単量体は、非極性の液体から好ましく被覆される。求電子性単量体は、本来、芳香族であり、１分子あたり２個以上の、例えば３個の求電子性基を含むことができる。ハロゲン化アシルの求電子性単量体の場合では、比較的低い費用とより大きな有用性のために、塩化アシルは、対応する臭化物やヨウ化物より一般に適切である。適切な多官能性ハロゲン化アシルは、トリメソイルクロリド（ＴＭＣ）である。多官能性ハロゲン化アシルは、非極性有機液体に、例えば約０．０１重量％から約１０．０重量％または約０．０５重量％から約３重量％の範囲で溶解し、連続した被覆工程の一部として送達することができる。適切な非極性の液体は、求電子性単量体を例えば多官能性ハロゲン化アシルに溶解することができるもの、および極性液体、例えば水と混和しないものである。特に、適切な極性および非極性液体は、オゾン層への脅威を引き起こさず、それらの引火点と燃焼性に関して、より十分安全なものであって、さらに極端な予防策を企てる必要がなく通常の処理を受けることができる。高沸点の炭化水素、すなわち、Ｃ_８−Ｃ_２４炭化水素やそれらの混合物などの沸点が約９０℃より高いものは、それらのＣ_５−Ｃ_７の対応するものより適切な引火点を有するが、それらは揮発性がより小さい。

一旦、互いに接触すると、求電子性単量体と求核性単量体は、極性混合物と非極性混合物との界面で反応して高分子、例えば、ポリアミド（分別層１４）を形成する。反応時間は、通常１秒未満であるが、接触時間はしばしばもっと長く、例えば、１秒から６０秒であり、その後、過剰の液体は、場合により、例えば、エアナイフ、水浴（複数可）、乾燥機などにより除去することができる。過剰の極性混合物および／または非極性混合物の除去は、周囲温度における風乾を使用できるけれども、高温、例えば、約４０℃から約１２０℃で乾燥することにより都合よく達成することができる。

ルーチンの実験により、他の単量体の特異性と濃度、反応条件、および所望の膜性能が与えられれば、当業者は単量体の最適な濃度がわかるであろう。

３．任意の後処理
様々な後処理が、形成されたＴＦＣ膜１０または１１の透過性、溶質阻止、またはファウリング抵抗を向上させるために使用することができる。例えば、膜は、酸性および／または塩基性の溶液に浸漬されて、残存する未反応の酸クロリドやジアミンを取り除くことができ、それにより形成された複合膜のフラックスを改善することができる。さらに、加熱処理、または硬化処理を適用することもでき、ポリアミドフィルム１４とポリスルホン支持体１２との接触（例えば、低温で）を促進するか、または形成したポリアミドフィルム１４中での架橋を促進することができる。一般に、硬化処理は溶質阻止率を増加させるが、しばしば低い水透過性を犠牲にする。最後に、膜は、例えば、次亜塩素酸ナトリウムの１０ｐｐｍから２０ｐｐｍの溶液を３０分から６０分間膜で濾過することにより塩素などの酸化剤に曝露することができる。遊離の塩素は、ポリアミドフィルム内でペンダントアミン官能基と反応するので、全芳香族ポリアミド複合薄膜の塩素化後は、クロラミンが形成される。これは、正電荷のペンダントアミン基を中和することにより負電荷密度を増加させることができ、その結果、より高いフラックス、脱塩、およびファウリング抵抗を有するより親水性で負電荷のＲＯ膜１０または１１となる。

親水性、電荷、および粗度などの膜表面特性は、ＲＯ膜表面のファウリングと通常、相関する。一般に、高親水性、負電荷、および平滑面を有する膜は、良好な透過率、阻止率、およびファウリング挙動をもたらす。しかし、ＲＯ膜の重要な表面属性は（ファウリング抵抗を促進するために）、親水性と平滑性である。膜表面の電荷もまた、溶液イオン強度が有意に１００ｍＭ未満のとき、要因となり得る。その理由は、このイオン強度またはそれより上では、電気的２重層の相互作用を無視できるからである。ＲＯ適用の多くは、高濃度の塩水を含むので、人々はファウリング沈着を抑制するために静電気的相互作用に必ずしも頼ることができない。そのうえ、天然有機物質（ＮＯＭ）によるポリアミド複合膜のファウリングは、膜表面でのＮＯＭ高分子のカルボン酸官能基とペンダントカルボン酸官能基との間に起こるカルシウム錯体形成反応により通常媒介されることが証明された。

４．任意の親水性層形成
不活性、親水性、および平滑性の複合膜の表面の形成は、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリビニルピロール（ＰＶＰ）、またはポリエチレングリコール（ＰＥＧ）などの水溶性（超親水性）の高分子から成る付加的被覆層１６をポリアミド複合ＲＯ膜の表面に適用して従来通りに実行できる。近年、複合膜表面改質のいくつかの方法が、過去の簡単な浸漬被覆法や界面重合方法に替わって膜の調製に導入されている。これらの高度な方法は、プラズマ、光化学、およびレドックス開始グラフト重合、乾燥−溶出（２段階）、静電気的自己組織化多層を含む。これらの表面改質アプローチの利点は、よく制御された被膜層の厚さ、透過率、電荷、官能基、平滑性、および親水性を含む。しかしながら、これらの従来の表面改質方法のすべての欠点は、既存の商業生産システムにそれらを経済的に組み入れることができないことである。

現在、複合薄膜の表面改質への１つの好ましいアプローチは、簡単な浸漬−乾燥アプローチが存在する。さらに、ポリビニルアルコールは、その高い水溶性と優れたフィルム形成能により複合膜の改質のための１つの魅力的な選択肢となり得る。ポリビニルアルコールは、グリース、炭化水素、および動物油または植物油にほとんど影響を受けないことが知られている。それは有機溶媒に対して傑出した物理的および化学的な安定性を有する。したがって、ポリビニルアルコールは、多くの逆浸透用途のための複合薄膜の形成における保護スキン層として、および多くの浸透気化用途における極薄の選択層として使用することができる。

ＰＶＡ被覆層１６は、以下のようにポリアミド複合膜の表面に形成できる。〜０．１重量％から１０重量％で、分子量が２，０００から７０，０００超の範囲のＰＶＡ水溶液は、高分子を蒸留水／脱イオン水に溶解することによって調製できる。ＰＶＡ粉末は、〜９０℃で〜５時間、攪拌することにより水に容易に溶ける。既に形成したポリアミド複合膜は、ＰＶＡ溶液と接触させ、その沈着フィルムを一晩乾燥する。その後、膜を架橋剤（例えば、ジアルデヒドおよび２塩基酸）と触媒（例えば、〜２．４重量％の酢酸）を含む溶液と約１秒間、接触（例えば、ＰＶＡ側から）することができる。次いで、膜はオーブンで所定時間、所定温度で加熱される。ＰＶＡ溶液（ホルムアルデヒド、エチルアルコール、テトラヒドロフラン、塩化マンガン、およびシクロヘキサン）中、様々な架橋剤（グルタルアルデヒド、ＰＶＡ−グルタルアルデヒド混合物、パラホルムアルデヒド、ホルムアルデヒド、グリオキサール）と添加物は、調製されたＰＶＡフィルムの加熱処理と組み合わせてフィルム物性を改質するために、既存の膜に対するＰＶＡフィルムキャストを調製するために使用できる。

１つの態様では、高分子はポリビニルアルコール、ポリビニルピロール、ポリビニルピロリドン、ヒドロキシプロピルセルロース、アクリル酸、ポリ（アクリル酸）、ポリエチレングリコール、ケン化ポリエチレン−酢酸ビニル共重合体、トリエチレングリコール、もしくはジエチレングリコールまたはそれらの混合物の少なくとも１つを含むことができる。１つの態様では、親水性高分子は、架橋されたポリビニルアルコールであり得る。

少なくとも１つの架橋剤は、本方法において、任意に提供される。すなわち、１つの態様では、親水性高分子は架橋された親水性高分子であり得る。さらなる態様では、親水性層は非架橋親水性高分子であり得る。

Ｆ．膜を使用する方法
ある態様では、本明細書に開示された膜は、例えば膜を通り抜けるとき、液体中に溶解、懸濁、または分散している溶質を除去することによって液体を浄化するための従来の濾過方法で使用できる。さらなる例では、その膜は、液体が膜を通過するとき、液体中に溶解、懸濁、または分散している溶質を保持することによって溶質を濃縮するのに使用できる。

１．液体の浄化
１つの態様では、本明細書に開示された膜（例えば、１３また１５）は、海水の淡水化、汽水の淡水化、地上水および地下水の浄化、冷却塔水硬度の除去、飲料水の軟水化、および超純水生産を含む逆浸透分離に使用することができる。

膜分離プロセスの実現可能性は、経時的な水フラックスおよび溶質保持における安定性により通常決定される。ファウリング、特に生物学的ファウリングは、膜の選択性を変えて、微生物の作用により直接に、または洗浄条件を増やすことにより間接的に膜劣化を引き起こす。これらの特性は、膜濾過設備の規模、総投資コスト、運転費用および維持費に直接的な影響を及ぼす。本明細書で開示された膜と方法を市販膜と脱塩法に適用することによって、本発明の膜の圧縮抵抗の改良による総合的な経費は、かなり削減できる。

膜１３は、第１面と第２面を有することができる。膜の第１面は、第１塩濃度を有する第１容積の第１溶液と第１圧力で接触させることができる。そして、膜の第２面は、第２塩濃度を有する第２容積の第２溶液と第２圧力で接触させることができる。第１溶液は、膜を介して第２溶液と流体連通することができる。次いで、第１塩濃度は、第２塩濃度よりも高くなり、その結果、膜を横切る浸透圧を発生させることができる。第１圧力は、浸透圧を克服するために第２圧力より十分に高くすることができ、その結果、第２容積を増加させて、第１容積を減少させる。

さらなる態様では、本明細書で開示された膜は、水以外の液体を含む逆浸透分離に使用することができる。例えば、膜は、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、またはブタノールを含むアルコール類から溶質を除去するのに使用できる。通常、適切な液体は、実質的に膜と反応しないか、または溶媒和しない液体から選択される。

２．溶質の濃縮
１つの態様では、本明細書で開示された膜およびフィルムは、液体（例えば、水または１つ以上のアルコール）から溶質（例えば、貴重な生成物）を回収する分離方法で使用できる。それにより回収された溶質は、化学的または生物学的な反応、スクリーニングアッセイ、または分離方法での生成物であって、例えば、薬学的に活性な薬剤、生理活性薬剤またはそれらの混合物であり得る。

１つの態様では、膜は、選択された粒子１８を提供し、含むことによって溶質を濃縮するのに使用できる。膜１３は、第１面と第２面を有する。膜の第１面は、第１圧力で第１溶質濃度を有する第１容積の第１混合物と接触させることができる。膜の第２面は、第２圧力で第２溶質濃度を有する第２容積の第２混合物と接触させることができる。そして不純物を回収することができる。第１混合物は、膜を介して第２溶液と流体連通することができ、そこでは第１不純物濃度は、第２不純物濃度より高く、それにより膜を横切る浸透圧を発生し、およびそこでは第１圧力は、浸透圧を克服するために第２圧力より十分に高く、その結果、第２容積を増加させて、第１容積を減少させる。

Ｇ．実験
以下の例は、当業者に、本明細書で開示された化合物、組成物、製品、装置、および／または方法がどのようにして製造、評価できるかについての完全な開示と記載を提供するために公表されるものであり、本発明者が発明と見なす範囲を限定する意図ではない。数字（例えば、量、温度など）に関して正確を期してはいるが、いくつかの誤りと逸脱は考慮されなければならない。特に明示しない限り、部は、重量部であり、温度は単位℃であり、周囲温度であり、圧力は、大気圧またはその近辺である。

１．膜の製造
数平均分子量７０，０００Ｄａのポリスルホン（ＰＳｆ）透明ビーズ（Ａｃｒｏｓ−Ｏｒｇａｎｉｃｓ、米国）、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）（試薬グレード、Ａｃｒｏｓ Ｏｒｇａｎｉｃｓ、米国）、および実験室調製脱イオン水を使用し、ポリスルホン支持体を形成した。この実施例では、合計１４の異なるナノ粒子が異なる出所から使用され、その詳細は図７ａと７ｂに示されるグラフで明らかにされている。異なる分子量（５万から３６万の範囲）を有するデキストランは、Ｍ／ｓ、Ｆｌｕｋａ、米国から取得した。

気密のガラス瓶中で、ＰＳｆビーズ１８ｇを７２ｍＬのＮＭＰに溶解させ、支持膜を製造する。ナノ複合体の場合、ポリスルホン高分子の添加前に様々なナノ粒子３．６ｇをＮＭＰに分散させた。次に、完全に溶解し、ドープ溶液が形成されるまで、溶液を数時間攪拌した。次いで、ドープ溶液をナイフの刃でガラスプレートに付着させた不織布（ＳｅｐＲＯ、Ｏｃｅａｎｓｉｄｅ、Ｃａｌｉｆｏｒｎｉａ）に広げた。ガラスプレートを、すぐに、室温に順応した脱塩水中に浸漬し、相反転を誘発させた。３０分後、不織布担持ポリスルホンとナノ複合体フィルムを水浴から取り出し、ガラスプレートから分離する。膜を脱塩水で徹底的に洗い、５℃に維持された実験室冷蔵庫に保存する。

２．親水性被膜の形成
ＰＶＡ被覆層１６は、基板（支持体１２上のフィルム１４）上に以下のように形成される。〜０．１重量％から１０重量％のＰＶＡ（２，０００から７０，０００超の範囲の分子量を有する）を有するＰＶＡ水溶液は、高分子を蒸留水／脱イオン水に溶解することにより調製することができる。ＰＶＡ粉末は、〜９０℃で〜５時間、攪拌することにより水に容易に溶解する。既に形成したポリアミド複合膜１０をＰＶＡ溶液と接触させ、沈着フィルム１６を一晩乾燥する。次に、膜１１を架橋剤（例えば、ジアルデヒドおよび２塩基酸）と触媒（例えば、〜２．４重量％酢酸）を含む溶液と約１秒間、接触（例えば、ＰＶＡ側１６から）させる。次いで、膜１１をオーブンにより、所定温度で所定期間、加熱する。ＰＶＡ溶液（ホルムアルデヒド、エチルアルコール、テトラヒドロフラン、塩化マンガン、およびシクロヘキサン）中の様々な架橋剤（グルタルアルデヒド、ＰＶＡ−グルタルアルデヒド混合物、パラホルムアルデヒド、ホルムアルデヒド、グリオキサール）および添加物を使用して、フィルム物性を改質するために、調製されたＰＶＡフィルムの加熱処理と組み合わせて既存の膜上にＰＶＡフィルムキャストを調製することできる。

３．膜の評価
次に、図６から図１９を一般的に参照すると、試験を選択されたナノ粒子が重合の過程で分散した多孔質支持膜について行った。供給液として１０ｍＭのＮａＣｌ電解液（〜５８５ｐｐｍ）を使用して、合計９つの膜をクロスフロー膜濾過システムで試験した。システムは、特に図８に示されているように、並列して２つの膜を同時に検査するように設計された。この設計要件を満たすために、２つの同じクロスフロー膜濾過ユニットが使用された。ユニットの両方は、流路の長さおよび幅がそれぞれ７６．２ｍｍと２５．４ｍｍの寸法を有するのに対し、流路高さは３．０ｍｍである。これらの流路の寸法は、各ユニットに対して０．００１９ｍ^２の有効膜面積を与える。印加圧力（ΔＰ）とクロスフロー速度は、一定に保たれ、圧力計（Ａｓｈｃｒｏｆｔ Ｄｕｒａｌｉｆｅ ０−１０００ｐｓｉｇ）とロータメータ（Ｋｉｎｇ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔ Ｃｏｍｐａｎｙ、ＵＳＡ）により監視された。フラックスは、ともにデジタル流量計（Ａｇｉｌｅｎｔ Ｏｐｔｉｆｌｏｗ １０００）により、および２分間間隔で透過容積を測定することによりリアルタイムで監視された。再循環冷温水機（Ｎｅｓｌａｂ ＲＴＥ−２１１）は、ポンプによるオフセット加熱を助け、温度を一定に保つのに使用された。

次に、再び特に図８を参照すると、試験された膜１３の様々な形状は、商業的に利用可能なポリアミド複合薄膜（ＰＡ−ＴＦＣ）および我々の研究室で作られたハンドカット膜の両方であった。２つの市販膜は、ＮＦ９０およびＮＦ２７０であった。ＮＦ９０は、目の粗い汽水逆浸透膜としての使用を意図するが、ＮＦ２７０は、ナノ濾過膜としての使用を意図する。ハンドカット膜は、ナノ複合体および純ポリスルホン支持体上に形成されたポリアミドの複合薄膜（ＰＡ−ＴＦＣ）であった。

７つの異なる膜が、試験用に作られた。ある膜は純ポリスルホンから作られ、ナノ複合支持膜として本明細書では記述される他の６つの膜は、後のセクションで記述される様々なナノ粒子を含有した。支持膜の製造は、気密のガラス瓶中、透明なビーズ形態のポリスルホン高分子（Ａｌｄｒｉｃｈ、ＵＳＡからのＭ、−２６，０００）にＮ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）溶媒（Ａｃｒｏｓ Ｏｒｇａｎｉｃｓ、ＵＳＡ）を添加して開始した。ナノ複合支持膜の場合、ポリスルホン高分子への添加前に様々なナノ粒子をＮＭＰに分散させた。次いで、完全に溶解するまで数時間、溶液を攪拌し、それによってドープ溶液を形成した。それから、ドープ溶液をナイフの刃でガラスプレートに付着させた不織布（ＳｅｐＲＯ、Ｏｃｅａｎｓｉｄｅ、Ｃａｌｉｆｏｒｎｉａ）に広げた。ガラスプレートを、すぐに、所望の室温に維持された脱塩水中に浸漬させた。直ちに相反転が始まり、数分後に不織支持布に担持されたポリスルホンは、ガラスプレートから分離される。次いで、膜を脱塩水で完全に洗浄し、使用するまで冷たい状態で保存する。

純ポリスルホンとナノ複合支持膜上にキャストされた複合薄膜は、上記したように調製され、界面重合を経て作られた。重合は、反応剤を含む２つの非混和性の溶媒の界面で起こる。試験された膜に関して、重合反応は、不織布担持ポリスルホンまたはナノ複合支持膜上、ｍ−フェニレンジアミン（ＭＰＤ）とトリメソイルクロリド（ＴＭＣ）（Ｓｉｇｍａ−Ａｌｄｒｉｃｈ、Ｃｉｔｙ、Ｓｔａｔｅ、ＵＳＡ）との間で起きた。支持膜は、１５秒間ＭＰＤの水溶液に浸した。次いで、過剰のＭＰＤ溶液は、エアナイフで支持膜のスキン表面から除去された。次に、支持膜を、ＴＭＣ（Ａｌｄｒｉｃｈ、ＵＳＡ）の有機溶液イソパラフィン系炭化水素（ＥｘｘｏｎＭｏｂｉｌ Ｉｓｏｐａｒ Ｇ、Ｇａｌｌａｄｅ Ｃｈｅｍｉｃａｌ，Ｉｎｃ．、Ｓａｎｔａ Ａｎａ、Ｃａｌｉｆｏｒｎｉａ）に１５秒間浸漬し、支持膜の表面にポリアミドの超薄膜の形成した。得られた複合体は、１０分間加熱硬化させ、脱イオン水で徹底的に洗浄し、試験実施まで脱イオン水に保存した。

ナノ複合支持膜の４つ（Ｍ１０４０、ＳＴ５０、ＳＴ２０Ｌ、ＳＴＺＬ）が、Ｎｉｓｓａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏ，Ｊａｐａｎによって供給された非多孔質の非晶質シリカナノ粒子を使用して作製された。これらの粒子のサイズおよび移動特性は、Ｚｅｔａ Ｐａｌｓ’ｓ Ｐａｒｔｉｃｌｅ Ｓｉｚｅ ＳｏｆｔｗａｒｅとＺｅｔａ Ｐｏｔｅｎｔｉａｌ Ａｎａｌｙｚｅｒ（Ｂｒｏｏｋｈａｖｅｎ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ）をそれぞれ使用して測定された。粒子径は、動的光散乱技術を使用して決定された。測定の前に、ｐＨは、ＨＣｌとＮａＯＨを使用して６に調整され、粒子は１０ｍＭ ＮａＣｌ溶液に分散させた。３つの測定がサイズおよび移動度の両方に対して行われ、次に平均化された。

次に、図７ｂを参照すると、他のナノ複合支持膜は、ＮａｎｏＳｃａｐｅ、Ｇｅｒｍａｎｙによって供給されたゼオライトナノ粒子を使用して製造された。ゼオライトは、両方とも自由に動くことができる大きなイオンや水の分子によって占められた空洞を囲い込む四面体骨格を有する結晶質アルミノケイ酸塩である。したがって、ゼオライトは、連結骨格、余分な骨格の陽イオン、吸着相、および分子運動のための細孔と空隙を有する開構造を有する。これらの膜で使用される特定のゼオライト（ＬＴＡやＯＭＬＴＡ）は、約４Åのオーダーの流路径を有する。これらの２つの粒子の移動径とさい度の特性は、上記したと同じ手順を用いて測定された。これらの２つのゼオライト間の主要な違いは、ＯＭＬＴＡは有機物質によって修飾されて、支持膜高分子との相容性が強力に改善されたことである。

ａ．圧縮実験
検討下の膜は、０．００１９ｍ^２の面積に切断され、１０ｍＭのＮａＣｌ供給溶液を用いて０ｐｓｉ、２５０ｐｓｉ、および５００ｐｓｉの圧力で静水圧縮された。クロスフロー膜濾過装置を、定常状態フラックスが流路における両方の膜に対して得られるまで、２５℃と０．２ｇｐｍで連続的に稼働させ、その後、膜を取り除いて乾燥機に保存した。フラックス測定は、３０分毎に記録されて、以下の式６で示されるように、膜抵抗を計算するのに使用された。

ここで、ΔＰは印加圧力であり、Δπは膜貫通浸透圧であり、μは溶液粘度であり、そしてＪは透過フラックスである。式６による浸透圧の項は、以下の式７を使用して計算された。

式７において、Ｒは一般ガス定数であり、Ｔは温度であり、ＣＰは濃度偏光係数であり、Ｃ_ｆは供給濃度であり、そしてＣ_ｐは透過濃度である。濃度偏光は、ナノ濾過および逆浸透操作で重要な係数であるので、それが考慮された。濃度偏光係数は、下記の式８を使用して計算された。

式８中、Ｒ_ｓは膜阻止率であり、ｋは質量移動係数である。ｋの値は、式９を用いて計算され、そして膜阻止率の計算は以下の段落で議論される。

式９において、Ｒｅはレイノルズ数であり、Ｓｃはシュミット数であり、Ｄは塩化ナトリウムの拡散率であり、そしてｄ_ｈは流路の高さの２倍である。

供給流れおよび透過流れの伝導度、ｐＨ、色、および濁度の測定は、各実験の始めと終わりに行われた。供給サンプルは、供給タンクから直接に取り、透過サンプルは、そうでなければ供給タンクの中にフィードバックされる管より回収された。伝導度およびｐＨの測定は、Ｆｉｓｈｅｒ ＳｃｉｅｎｔｉｆｉｃのＡＲ５０を使用して行われたが、色と濁度の測定は、Ｈａｃｈ ２１００ＡＮ濁度計を使用して行われた。これからの伝導度の値は、次に、下記の式１０による膜阻止率を計算するために使用された。

ここで、Ｒｓは伝導性阻止率であり、Ｃ_ｆは供給流れ伝導度であり、そしてＣ_ｐは透過流れ伝導度である。

ｂ．走査型電子顕微鏡
走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）は、支持膜構造および薄膜の表面形態学を調べるのに使用された。ＳＥＭでの使用のための膜サンプルの調製は、非常に重要である。ＳＥＭでの使用は、サンプルが電気的に伝導性であることを必要とする。これらの膜は伝導性でないので、アルゴンガスと電場を利用するスパッタコーターで伝導性を達成する。サンプルを真空にした部屋に入れて、次に、アルゴンガスを導入する。次いで、電場はアルゴンから電子を取り除くのに使用されて、それを正に帯電させる。次に、それは負の金箔に引きつけられて、箔の表面からの金原子と衝突する。金原子はそれからサンプルの表面に沈積して金の被膜を生成し、それに伝導性を与える。サンプルはまた、変形がないものでなければならない。この必要条件が満たされないと、劈開が膜サンプルの主要構造を示さない。これは、サンプルを凍結させて、それを液体窒素中で破壊することにより行うことができる。

ｃ．市販膜の結果
次に、また、図９と図１０を参照すると、ＮＦ９０とＮＦ２７０の膜が特性化された。接触角度、２乗平均平方根（ＲＭＳ）、表面積差（ＳＡＤ）およびゼータ電位のデータは、１０ｎＭのＮａＣｌ溶液を使って取られた。これらの値は、下記の表３で以下に示される。ＮＦ９０に対する純水接触角度は、ＮＦ２７０のそれより約１．５倍大きく、このことは、それがはるかに疎水性であることを意味する。膜が疎水性であればあるほど、流量はますます小さくなるであろう。したがって、ＮＦ９０は、ＮＦ２７０よりはるかに小さな初期フラックスを有するであろうと予想される。ＮＦ９０に対するＲＭＳとＳＡＤの値は、ともにＮＦ２７０に対するよりもはるかに大きい。このことは、ＮＦ２７０がＮＦ９０よりもはるかに平滑な表面を有することを示し、したがって、表面ファウリングの傾向はより小さい。ＮＦ９０は、ＮＦ２７０よりもより小さい絶対ゼータ電位を有する。このことは、ＮＦ２７０膜がより多くの電荷を有し、より強い静電反発力およびより大きなドナン阻止効果をもたらす。

次に、さらに図９と図１０を参照すると、ＮＦ９０とＮＦ２７０の膜が、１０ｍＭのＮａＣｌ供給溶液を使って、２５０ｐｓｉで試験された。ＮＦ２７０の初期フラックスは、ＮＦ９０のそれのほとんど２倍であった。これは、各膜の多孔性に起因することができる。ＮＦ２７０は、ナノ濾過膜としての使用を目的とするので、それはＮＦ９０膜に比べて、より大きな多孔率を有し、それは汽水逆浸透膜としての使用が意図される。フラックス減少は、図９中で見られるように、ＮＦ９０膜よりＮＦ２７０膜に対する方が明らかにはるかに大きく、２通りの方法で説明することができる。第１に、各々の膜を作るのに使用される材料は異なる。先に記述したように、ＮＦ２７０膜フィルムは、ピペラジン系ポリアミドであるのに対して、ＮＦ９０膜フィルムは、１，３−ジアミノベンゼン系ポリアミドから作られる。したがって、ＮＦ９０膜フィルムは、全芳香族の薄膜からできているのに対して、ＮＦ２７０膜フィルムは、部分的芳香族の薄膜とアジド環からできている。一般に、芳香環は、脂肪族化合物やアジド化合物よりもずっと堅固である。したがって、ＮＦ９０フィルムは、その全芳香族薄膜構造のために、本質的により堅固である。したがって、ＮＦ９０により、より小さい圧縮とより小さいフラックス低下を経験するであろう。第２に、フラックス低下は、支持膜内で起こる圧縮により観測される。膜は高圧にかけられるので、支持膜は構造が変化し始め、平均細孔径は減少して、膜を通過する流れを制限する。支持膜構造がその圧力で充分に圧縮されたとき、フラックスは定常状態値に達する。

次に、特に図１０を参照すると、各サンプル時間に対する抵抗が、プロットされる。抵抗値は、上に記述され示される一連のモデルでの標準ダルシー（Ｄａｒｃｙ）抵抗を使って算出された。ＮＦ９０膜は、ＮＦ２７０膜より約１．５倍大きい初期膜抵抗を有する。しかしながら、膜抵抗は、ＮＦ２７０膜の場合、はるかに急激に増加する。この傾向は、数学的に、そして物理的に説明することができる。式６で見られるように、膜抵抗はフラックスに逆比例する。上で議論したように、ＮＦ２７０についての膜フラックスは、初期ではより大きい。したがって、それは低い初期抵抗を有する。これらの同様の趣旨に従って、ＮＦ２７０は、フラックスのはるかに急激な変化を有するので、抵抗のより大きな変化を有するであろう。物理的に、示された挙動に対して２つの可能性のある理由があるが、両方とも内部のファウリングに関係する。第１に、上で説明したように、２つの膜の材料が異なる。ＮＦ９０膜は、その全芳香族の材料のためにより堅固であり、それゆえに、圧縮が少ない。したがって、流量経路は、経時的に制限されなく、フラックスの変化は小さく、言い換えると膜抵抗がより小さい変化である。第２に、ＮＦ２７０膜の孔隙率は、より大きい。これは、圧縮が経時的に起こるために、より多くのファウリングを提供する。より大きな圧縮は、膜を通る小さなフラックスと大きな膜抵抗とをもたらす。

次に、図１０〜１９を参照すると、膜と細孔の構造変化は、以下のＳＥＭ画像で明らかに見られる。

次に、図１１〜１９を参照すると、横断面のＳＥＭ画像は、新鮮で圧縮されたＮＦ９ＱとＮＦ２７０膜の両方から撮られた。両方の膜について分かるように、新鮮な膜のポリスルホン支持層は、対応する圧縮された膜より大いに厚い。支持層は物理的により小さくなり、したがって、より緻密となり、水への透過性がより小さくなる。ＮＦ２７０は、ＮＦ９０（５９．７μｍから４７．９μｍ）より大きな変化を厚み（５５．７から４２．６μｍ）で受けたように見えるが、厚みの量的変化は膜がサンプリングされたところに依存する。このことにより、使用されるＳＥＭプロセスの限界が注目される。この分析には、不確実性についての２つの大きな原因がある。第１に、膜がキャストされる基材は、きれいに凍結割断しない。これにより、鮮明なＳＥＭ画像を生成するのは困難になる。第２に、ＳＥＭ画像の正確な位置は、かなり任意的であるが、最もはっきりした画像を与えるように選択された。膜上の各位置は、わずかに異なる厚みを有するので、測定位置がその結果に影響を及ぼす。したがって、ＳＥＭ画像は、定性分析のためにのみ使うべきである。

下記の表４は、上記の議論を要約している。抵抗および厚みにおける変化は、％により示される。これらの値は、最終値から初期値を最終値で割ったものを引く標準方程式を使用して算出された。両方の計算された膜抵抗の変化は、ＮＦ９０に対するよりもＮＦ２７０に対しての方が大きい。抵抗の変化は、支持膜の内部のファウリングによって説明することができる。膜が圧縮を受けるにつれて、支持膜の構造は変わり、細孔は収縮を受ける。これは、膜を通過する水フラックスを抑制し、次により大きな膜抵抗をもたらす。

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ｄ．ナノ複合膜の結果
実験室でナノ複合膜を作るのに用いられるナノ粒子のサイズおよび移動度の特性は、下記表５に示される。シリカ粒子は、約３４ｎｍから１３０ｎｍのサイズの範囲である。ゼオライト粒子は、はるかに大きくて、約２５０ｎｍから３００ｎｍである。膜は質量スケールに基づいてキャストされ、ゼオライト粒子は、はるかに大きいので、支持膜の多孔質層を通るゼオライト粒子はより少ないであろうことが予想される。シリカ粒子のゼータ電位は、−８．９ｍＶから−２７ｍＶの範囲であるが、両方のゼオライト粒子は、約−１３ｍＶのゼータ電位を有する。ＳＴ５０粒子は、最小のゼータ電位測定値を有するので、ＳＴ５０ナノ粒子でドープされた膜は、最も小さく負に帯電されるであろうことが予測される。他のシリカ粒子は、すべて、−２６ｍＶから−２７ｍＶ付近にゼータ電位を有するが、ＳＴ−ＺＬはサイズが最大なので、最小の電荷密度を有し、その後にＭ１０４０とそれからＳＴ２０Ｌが続く。電荷密度が大きいほど、粒子の面積あたりの電荷はより大きくなり、従って、膜に加えられる電荷も大きくなる。このように、ＳＴ２０Ｌナノ粒子の添加は、Ｍ１０４０またはＳＴ−ＺＬの添加より、より負に荷電した膜をもたらすはずである。ＯＭＬＴＡとＬＴＡゼオライトは、ほぼ同じゼータ電位を有するので、ＬＴＡに対する有機的修飾は、粒子の電荷を有意には変えなかった。これらの２つの粒子の添加は、同様の電荷を有する膜を生成する。

ＳＴ５Ｏ−ＴＦＣ膜を除く、ナノ複合支持膜を有する複合薄膜（ＴＦＣ）のすべては、純粋なＴＦＣ膜、すなわち、純ポリスルホン支持膜を有するＴＦＣ膜より、わずかにより小さい水接触角を有する。これは、それらがわずかにより親水性であり、より高い初期フラックスを示すであろうことを意味する。ＳＴ５Ｏ−ＴＦＣ膜は、純粋な、またはドープされてないポリスルホン支持膜上で、ＴＦＣ膜より少し大きい接触角を有し、したがって、より疎水性であり、より低い初期フラックスを有するはずである。ゼータ電位は、ＴＦＣよりＬＴＡ−ＴＦＣに対して小さく、ＳＴ２０Ｌ粒子の添加でわずかにだけ大きくなるが、すべての他の粒子の添加によりはるかに大きくなる。ナノ粒子自体は負に帯電するので、その添加により膜はより負に帯電することになるであろう。ゼオライト粒子（ＬＴＡ）は、他のものよりはるかに大きいので、ポリスルホンとのより大きな界面相互作用を受ける。これらの界面相互作用は、ＬＴＡとポリスルホンの両方の挙動を変えることができ、より小さい電気化学的電位を有する膜をもたらす。しかしながら、これは、サイズが同様に大きいＯＭＬＴＡ粒子では起こらない。ＯＭＬＴＡ粒子を作るのに使用される有機修飾は、表面改質であるように見える。有機材料の表面への添加は、ポリスルホンに接触したときの界面化学とその反応を変え、ＯＭＬＴＡ−ＴＦＣとＬＴＡ−ＴＦＣの根本的に異なるゼータ電位を説明する。

次に、図６ａと図６ｂを参照すると、実験室で製造されたすべての７つの膜を、２５０および５００ｐｓｉ下で１０ｍＭのＮａＣｌ供給溶液を用いて試験した。２５０ｐｓｉでは、ＯＭＬＴＡ−ＴＦＣおよびＭ１０４０系ナノ複合体ＲＯ膜だけが、より大きな流量を有し、図６ａに示されるように、純ポリスルホン支持体系ＲＯ膜よりもより透過性であった。しかし、５００ｐｓｉでは、すべての７つのナノ複合膜が、図６ｂに示されるように、より大きな流量とより高い透過率を示す。上記したように、実験室で作られた膜は、逆浸透膜であると通常考えられ、高圧で通常操作することを意味する。比較的低い圧力で操作すると、得られたＲＯ膜（ナノ複合支持体上にキャストされた）のフラックス性能が、従来のＴＦＣ ＲＯ膜より小さくなる傾向となるように、膜へのナノ粒子の添加により、支持膜空隙構造が変えられる。しかしながら、より高い圧力では、支持膜中の空隙は、崩壊し、水の流量を制限する。ナノ粒子の添加は、支持膜中でマクロ空隙の数とサイズを減少させることにより、および空隙に堅い、圧縮できない材料を充填することによってこれと対抗し、その結果、圧縮に対するより大きな全体的な抵抗を提供する。これはフラックス低下の減少をもたらす。

次に、図７ａと７ｂを参照すると、膜抵抗は２５０と５００ｐｓｉの両方で経時的に増加する。２５０ｐｓｉでは、抵抗は最大から最低へ以下の様式で変動する：ＳＴ２０Ｌ−ＴＦＣ、ＳＴ５Ｏ−ＴＦＣ、ＳＴ−ＺＬ、ＬＴＡ−ＴＦＣ、ＴＦＣ、Ｍ１０４０、およびＯＭＬＴＡ−ＴＦＣ。５００ｐｓｉでの抵抗は、以下の通りに最大から最低へ変動するわずかに異なる傾向を示した：ＴＦＣ、ＳＴ−ＥＬ、Ｍ１０４０、ＳＴ２０Ｌ−ＴＦＣ、ＬＴＡ−ＴＦＣ、ＯＭＬＴＡ−ＴＦＣ、およびＳＴ５Ｏ−ＴＦＣ。膜または膜の表面電荷の親水性／疎水性に対する、測定された抵抗または抵抗における変化の間に存在する相関関係は、ほとんどまたは全く見られなかった。また、膜抵抗と添加されたナノ粒子径との間で相関関係は全く見られなかった。しかしながら、膜抵抗は、透過率に対して逆比例することが分かった。市販膜に関して、これは、数学的に、および物理的に両方で説明することができる。式６は、膜抵抗が逆にフラックスに関連するのを示しており、それは直接、透過率に関連する。物理的に、より透過性である膜は、より多くの、またはより大きなマクロ空隙を含む。これは、内部のファウリングと、したがって、より大きな膜抵抗のより大きな可能性を意味する。

純ポリスルホンＴＦＣと比べて、より高い膜抵抗に関して、２５０ｐｓｉでの多くのナノ複合体の劣った性能は、膜がキャストされた方法のためであるとすることができる。ＳＥＭ画像は、ナノ粒子の多くが膜表面の中にクラスタを形成することを示している。クラスタ化ナノ粒子は、従来の高分子システムよりさらに悪い特性を示すことがあると報告された。したがって、ナノ複合膜の膜抵抗を下げる１つの方法は、表面の至る所に粒子を分散させて、どんなクラスタ化も回避することである。

５００ｐｓｉで、すべてのナノ複合体は、低い膜抵抗を有することに関して、ＴＦＣ膜より良好な結果を出したことに留意する必要がある。より高い圧力では、膜の中の空隙は、崩壊し始め、水量を制限することがある。ナノ粒子の添加は、膜構造中でのマクロ空隙のサイズと数を減少させて、その結果、より多くの強度をそれに提供してこれに対抗する。結局、これは、膜構造内でのより少ない崩壊、水流に対してより少なく制限された経路、およびより小さい膜抵抗をもたらす。

図７ａと１１ｂに示されるように、２５０ｐｓｉと５００ｐｓｉの両方では、阻止率は、操作時間の開始から終了の間で増加する。この傾向の１つの例外は、２５０ｐｓｉでのＬＴＡ−ＴＦＣであり、そこでは膜が損なわれた。しかし、膜の阻止性能は、２５０ｐｓｉと５００ｐｓｉとの間では異なる。２５０ｐｓｉでは、最大阻止率から最低阻止率への順序は、以下の通りである：ＬＴＡ−ＴＦＣ、ＳＴ−ＺＬ、ＴＦＣ、ＯＭＬＴＡ−ＴＦＣ、ＳＴＳＯ−ＴＦＣ、ＳＴ２０Ｌ−ＴＦＣ、およびＭ１０４０。５００ｐｓｉでは、最大から最低への初期阻止率の順序は、ＳＴ５Ｏ−ＴＦＣ、ＴＦＣ、ＯＭＬＴＡ−ＴＦＣ、ＬＴＡ−ＴＦＣ、ＳＴ２０Ｌ−ＴＦＣ、ＳＴ−ＺＬ、およびＭ１０４０である。５００ｐｓｉにおけるＭ１０４０の阻止率は、いかなる他の膜よりも初期から最終的測定にかけて大いに急激に増加する。Ｍ１０４０粒子のＳＥＭ画像は、これらの粒子が、高分子マトリクス中でいかなる他のナノ粒子よりも多くの凝集体を形成する傾向があることを示している。高圧では、膜の細孔は崩壊するが、ＭＩ０４０粒子は分散性が小さいので、他の粒子の場合よりも、崩壊する多くの細孔および堅い領域の大きな面積がある。塩は、膜の制限された細孔またはＭ１０４０の粒子を通過できないので、阻止率は増加する。膜表面電荷または接触角に対して、阻止率または阻止率の変化の間に存在する相関関係は、ほとんどまたは全くみられなかった。また、阻止率と添加されたナノ粒子径との間で相関関係は全く見られなかった。しかし、表７で示されるように、膜抵抗の変化、フラックスの変化、および膜阻止率の間に非常に強い線形相関がある。フラックスが減少し、膜抵抗が増加するにつれて、膜阻止率は増加する。この傾向は機械学的に説明できる。先に議論したように、圧力下では、支持層は圧縮し、細孔を制約する。フラックスの減少と抵抗の増加を引き起こすのは、この制約である。同様に、孔径が、より小さくなるに従って、膜阻止率は改善する。

上記の表は、より高い圧力でのフラックス減少におけるナノ粒子補助剤の添加を示すが、この改善が増加した安定性の結果であるかどうかについての疑問がまだ残っている。新鮮で圧縮された膜の横断面ＳＥＭ画像は、以下の図に示される。正確な測定された厚みは、ＳＥＭ画像が撮られる位置に依存するが、これらの画像は、ナノ粒子を含む膜が圧縮後も相対的に同じ厚みで残ることを明らかに証明しているのに対して、純ポリスルホン膜は、厚みにおいてはるかに急激な変化を受ける。したがって、非晶質シリカおよびゼオライトナノ粒子の添加は、機械的な安定性の増加をもたらし、その結果、膜のより小さい物理的圧縮をもたらす。

次に、図１３ａ〜ｃから図１９ａ〜ｃ、特に図１３ａ〜ｃを一般的に参照すると、純ポリスルホンＴＦＣ膜のＳＥＭ画像が示されている。非圧縮ＳＥＭ画像は、予想通り、多くの直線状の非対称な細孔を有する膜を示す。２５０ｐｓｉで試験された膜に関する凍結割断は、完全にきれいではなかったが、この膜は非圧縮ＴＦＣ膜より明らかにさらに薄い。２５０ｐｓｉにおける細孔構造は、非圧縮膜と顕著に異なってはいないが、５００ｐｓｉで圧縮された膜は、新鮮な膜より明らかにより狭い多孔質構造を有する。

次に、特に図１４を参照すると、非圧縮ＳＴ２０Ｌ−ＴＦＣは、非圧縮ＴＦＣの構造と同様の構造を有する。２５０ｐｓｉと５００ｐｓｉの両方の運転圧力後では、純粋な膜と圧縮された膜の構造間には、実際に目立つ違いがあるわけではない。

次に、図１５を参照すると、ＬＴＡ粒子は、かなり大きく、図示されているように支持構造の全体に分散しているのを見ることができる。支持膜は、５００ｐｓｉの圧力後ではより大きく見えるが、これはＳＥＭ画像の位置の作用であって、特別な現象ではない。図１５の３つのすべての画像は、類似構造を有しているように見えて、ナノ粒子の添加が圧縮に起因する膜構造の変化を制限するであろうという仮説を支持している。もう一度、支持材ときれいに凍結割断できないことの課題が、これらの画像で明白である。

次に、図１６ａ−ｃを参照すると、図は、２５０ｐｓｉでの操作の後では、Ｍ１０４０膜は、曲がった、もはやまっすぐでない多孔質構造を有することを示している。しかし、これは５００ｐｓｉでの場合ではない。Ｍ１０４０粒子は、２５０ｐｓｉで試験された膜の内部に凝集物を形成した。上で議論したように、これは、膜構造を弱体化し、したがって、純粋なＴＦＣ膜に比べてより多くの構造的な損傷をもたらす。凝集は５００ｐｓｉで試験された膜での問題ではなく、それは他のナノ粒子でも全く同様のことが起こった。

次に、図１７を参照すると、ＳＴ５ＯＬ−ＴＦＣ膜のＳＥＭ画像が示されている。３つの支持構造は、非常に類似しているように見え、ナノ粒子の添加が圧縮効果を制限するのを助けるというその仮説を支持している。ナノ粒子は、画像に見ることができ、支持層の全体によく分散している。

次に、図１８を参照すると、ＳＴ−ＺＬ膜は、圧縮前および圧縮後に類似構造を維持しているように見える。新鮮な膜と圧縮された膜の両方の細孔は、直線状の細孔である。図１８ｂでのより大きな測定された厚さは、画像が膜上で撮られた位置の作用である。

次に、図１９を参照すると、ＯＭＬＴＡ−ＴＦＣのＳＥＭ画像が示されている。ＬＴＡ画像と同様に、ＯＭＬＴＡ粒子は、それらの巨大なサイズのために支持構造中に見ることができる。２５０ｐｓｉでの膜と非圧縮膜は、同じ構造を有する。５００ｐｓｉで圧縮された膜は、同じ膜構造を有するが、ＳＥＭ画像の調製過程で構造が損傷するので、わずかに異なるように見える。

ナノ粒子を含むすべての膜は、圧縮前と圧縮後で類似の構造を有しているように見えるが、ＴＦＣ画像は、顕著により小さい多孔質構造を示す。これはナノ粒子の添加が、圧縮を低減するのを助けるという仮説を支持する。
ｅ．結論
逆浸透は、現在および将来の水不足に対処する可能性を有するプロセスである。それは未開発の水源の処理と使用に備えるであろう。しかし、濃度分極、表面のファウリング、および内部のファウリングなどのある種の制約は、この技術の広いスケールの経済的な使用を妨げる。この研究は、支持膜に加える革新的なナノ粒子を使用して、内部のファウリングの影響を減らすことを試みる複合薄膜を生成する。以下の結論は、並列システムでのクロスフローの２つのセルでの膜試験に基づいてなされた：
１）純ポリスルホン膜と比較したとき、分散したナノ粒子の支持膜への添加は、加圧後に、より少ないフラックス減少をもたらす。

２）横断面ＳＥＭ画像は、ナノ粒子の支持膜への添加が物理的な圧縮への抵抗を増加させて、長期の非可逆的なファウリングに対抗するという仮説を強く支持する。

３）圧縮の前後の純ポリスルホン支持膜の横断面ＳＥＭは、空隙構造の変化を示すのに対して、薄膜のナノ複合体は、元の構造を維持する。
ナノ粒子は、純ポリスルホン膜のマクロ空隙を満たすので、圧縮がマクロ空隙の膜構造内での崩壊のために起こるという仮説を支持する。

この研究の結論には、多くの含みがある。この研究が膜業界において有することができる第１の主要な効果は、膜材料設計と製造にある。圧縮の影響を最小にするために、堅い材料が、将来的な膜を設計するために使用されるべきである。これらの膜の製造と生産の過程で、ミクロ／マクロ空隙の最小量を生成するプロセスが使用されるべきである。膜がキャストされる化学と構成を変えることは、生成する空隙量、したがって圧縮程度に関して大きな影響を及ぼす。

第２に、この研究は、現在の膜プロセス設計が理想的でないことを示す。現在、フラックスが低下するにつれて、圧力は増加し、より大きな内部のファウリングとより大きな圧力に対するさらにより大きな必要条件とを引き起こす。これは、さらに膜に損傷を与え、その寿命を減少させる。膜圧縮は、所定の圧力で横ばいになるので、より優れた溶液は、定圧で作動してフラックスを低下させるが、それがその定常状態値に達するまで、内部のファウリングが進行するにつれて、さらなる膜面積をオンラインで加えることができる。また、エネルギーコストが増加するので、圧力を絶えず増加させる期間、さらに膜面積を加えることはより経済的であり得る。

海水淡水化の主要な欠点はその経費コストである。ナノ複合体ＴＦＣ膜の使用、すなわち、ナノ複合支持層を有するＴＦＣ膜は、このコストをかなり削減するのを助けることができる。膜処理でコストにかかる最大要因は、エネルギー使用である。ＴＦＣ膜における支持層中のナノ複合体は、圧縮を低減するように見えるので、必要とされるエネルギーはより少なく、したがって、コストを削減する。ＴＦＣ膜でのナノ複合支持層は、海水淡水化を経済的にすることによって、水処理プロセスに革命をもたらすことができる。

４．圧縮メカニズムの評価
実験室スケールのクロスフロー膜濾過システムは、市販品およびナノ構造のＲＯ複合薄膜での圧縮メカニズムを評価するために構築された。温度を２５℃で一定に保ちながら、膜は様々な圧力で２４時間圧縮された。フラックスは、デジタルクロマトグラフィ流量計によって圧力の関数として測定された。０から６００ｐｓｉまでの範囲の圧力が試験された。脱イオン（ＤＩ）水が、必要な浸透圧を供給するために、ＭｇＳＯ_４の様々な濃度と共に使われた。標準ダーシー抵抗モデルを使用して、見かけの膜抵抗が、適切な範囲の印加圧力にわたる各膜に対して決定された。圧力と膜抵抗との関係は、各膜に特有であった。横断面ＳＥＭ画像は、圧縮膜および非圧縮膜の両方について撮られて、膜のサブ構造における物理的変化を決定した。ＳＥＭ画像とコゼニ−カルメン（Ｋｏｚｅｎｙ−Ｃａｒｍｅｎ）モデルと組み合わせて実験的に決定された膜抵抗の両方を使用して、ＲＯ膜が物理的に圧縮され、非可逆的にファウリングされるメカニズムを決定することができる。

例えば、ＲＯ海水淡水化の応用では、運転圧力は５０バールを超え、これは支持層膜を操作の最初の数日で初期の厚さの約５０％まで物理的に圧縮することをもたらす。その結果、膜の水透過率は、初期の値の約５０％に低下する。膜がＲＯ脱塩プロセスにおける全体的なエネルギー消費の５０％を担うことを考慮して、全体的なエネルギー消費は、膜圧縮により２５％増加し得る。

ナノ複合ポリスルホン支持体上に形成された複合薄膜のＲＯ膜は、３０バールを超える圧力では、透過率の損失が非常に少しであるか、または透過率の損失を全く示さないのに対して、純ポリスルホン支持体（すなわち、粒子がない）上に形成された同様に調製されたＴＦＣ膜は、同じ条件下で試験された場合、透過率の劇的な損失を示す。

５．ゼオライト系のナノ構造複合薄膜（ｎＴＦＣ）
ナノ構造複合薄膜（ｎＴＦＣ）は、界面重合により形成したナノ複合ポリスルホン微小多孔質膜上にハンドキャストされる。最初に、支持膜キャスティング溶液は、１８ｇのポリスルホン（ＰＳｆ）を７２ｍＬのＮ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）に溶解することにより調製される。ナノ複合体の場合、３．６ｇの様々なナノ粒子が、ポリスルホン高分子への添加の前にＮＭＰに分散した。純高分子とナノ複合体キャスティング溶液からの非対称膜は、相反転手法により製造された。合計１４の異なるナノ粒子が、これまで使用されたが、その詳細は上表に示される。

次のステップでは、支持膜は、トリエチルアミン（ＴＥＡ）、（＋）−１０−カンファースルホン酸（ＣＳＡ）、ラウリル硫酸ナトリウム（ＳＬＳ）、およびイソプロパノールのような他の添加物を含むｍ−フェニレンジアミン（ＭＰＤ）水溶液に１５秒間浸漬される。過剰なＭＰＤ溶液は、支持膜表面からカスタムメイドのエアナイフで強制的に押し出された実験室ガスを使用して除去される。それから、水性ＭＰＤ飽和支持膜を、３０℃でｉｓｏｐａｒ−Ｇ中のトリメソイルクロリド（ＴＭＣ）溶液に１５秒間浸漬し、複合膜を得る。得られた複合膜は、８２℃で１０分間、熱硬化させ、脱イオン水で徹底的に洗浄し、５℃で光を通さない容器に充填された脱イオン水中に保存された。

合成膜の分離性能は、全量濾過セル（ＨＰ４７５０ Ｓｔｉｒｒｅｄ Ｃｅｌｌ、 Ｓｔｅｒｌｉｔｅｃｈ Ｃｏｒｐ．、Ｋｅｎｔ、ＷＡ）を使用して、純水フラックスおよび脱塩により評価された。膜は、２２５ｐｓｉ圧力で４５分間、徹底的に洗浄された。次に、３０分かけて回収された純水容積を膜面積で割って透過フラックスを得た。それから、ＮａＣｌ溶液が、供給原料として使用され、透過サンプルが３０分後に回収された。続いて、膜は４５分間、加圧下、ＤＩ水で徹底的に洗浄された。

ハンドキャストされた膜の表面（ゼータ）電位は、未調整のｐＨ（〜５．８）における１０ｍＭ ＮａＣｌ溶液を用いて流動電位を測定することによって決定された。脱イオン水の静滴接触角は、接触角度計（ＤＳＡ１０、ＫＲｕＳＳ）に取り付けられた環境チャンバーで、合成膜の風乾サンプル上で測定された。平衡値は、左右の角度の定常状態平均であった。合成膜の表面の粗度は、ＡＦＭ（Ｎａｎｏｓｃｏｐｅ ＩＩＩａ、Ｄｉｇｉｔａｌ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ）で測定された。

上表を参照すると、有機修飾ＬＴＡ（ＯＤＬＴＡ）ナノ粒子系ｎＴＦＣ膜の透過率は、粒子がその中に分散している、純高分子ＴＦＣ系またはＬＴＡ系複合薄膜のどちらよりも実質的に高い。さらに、膜表面は、わずかにより親水性であり、より負に帯電している。

６．ナノ複合膜を使用する水の浄化
高分子膜を使用する水の浄化のための基本的な手順は、当業者に周知である。膜を使用する水の浄化ならびに純水フラックス、脱塩、濃度分極、およびファウリング現象を決定するための簡単な手順は、Ｅ．Ｍ．Ｖ．Ｈｏｅｋら、”Ｉｎｆｌｕｅｎｃｅ ｏｆ ｃｒｏｓｓ−ｆｌｏｗ ｍｅｍｂｒａｎｅ ｆｉｌｔｅｒ ｇｅｏｍｅｔｒｙ ａｎｄ ｓｈｅａｒ ｒａｔｅ ｏｎ ｃｏｌｌｏｉｄａｌ ｆｏｕｌｉｎｇ ｉｎ ｒｅｖｅｒｓｅ ｏｓｍｏｓｉｓ ａｎｄ ｎａｎｏｆｉｌｔｒａｔｉｏｎ ｓｅｐａｒａｔｉｏｎｓ、” Ｅｎｖｉｒｏｎｍｅｎｔａｌ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ Ｓｃｉｅｎｃｅ １９（２００２）３５７−３７２に記載されており、以下に要約される。特定の水サンプルを精製する膜の能力の簡単な特性化は、下記のステップ（ｄ）で説明される。
ａ．実験室スケールのクロスフロー膜フィルタ
適切な膜濾過ユニットは、最大６８９５ｋＰａ（１０００ｐｓｉ）までの運転圧力について評価された、市販のステンレス鋼製クロスフロー膜濾過（ＣＭＦ）ユニット（Ｓｅｐａ ＣＦ、Ｏｓｍｏｎｉｃｓ、Ｉｎｃ．；Ｍｉｎｎｅｔｏｎｋａ、ＭＮ）の修正または未修正版を含む。印加圧力（ΔＰ）は、一定に保たなければならず、圧力計（Ｃｏｌｅ−Ｐａｒｍｅｒ）によって監視されなければならず、そして、フラックスはデジタル流量計（Ｏｐｔｉｆｌｏｗ １０００、Ｈｕｍｏｎｉｃｓ；Ｒａｎｃｈｏ Ｃｏｒｄｏｖａ、ＣＡ）により、または単位時間あたり透過した水の容積を測定することにより、リアルタイムで監視すべきである。

ｂ．膜の流体力学的抵抗の測定
異なる膜の試験片は、膜の固有の流体力学的抵抗を決定するため、濾過実験ごとに一般に使われる。最初に、膜圧縮（および実験室スケールの再循環システム特有の他の未知の原因）によるどんなフラックス低下も分離するため、脱イオン（ＤＩ）水を約２５０ｐｓｉ（１７２４ｋＰａ）で最大２４時間循環させる。フラックスは、実験の期間、絶えず監視することができる。ＤＩ平衡の後、圧力は、高い２５０ｐｓｉから低い５０ｐｓｉへと５０ｐｓｉ（３４５ｋＰａ）の増分で変えることができ、フラックスは、毎分０．９５リットル（Ｌｐｍ）の供給流量で記録される。各圧力で、フラックスは、安定した性能を確実にするために、少なくとも３０分間は通常監視される。次に、クロスフローは、１．９０Ｌｐｍに増加することができ、フラックスは、５０ｐｓｉから２５０ｐｓｉまで５０ｐｓｉの増分で記録することができる。最後に、供給流量は、３．７９Ｌｐｍに設定することができ、フラックスは、５０ｐｓｉから２５０ｐｓｉまで５０ｐｓｉの増分で記録することができる。それから、各々のクロスフローと圧力で、安定したフラックス測定値の全ての平均は、印加圧力に対してプロットすることができる。最小２乗法線形回帰による純水フラックス対圧力データに適合した直線の傾きは、膜の流体力学的抵抗（Ｒ_ｍ）を提供する。純水フラックスに関して、供給流量の測定された影響は一般的にないが、その手順は回帰分析のために余分のデータポイントを提供する。供給物のｐＨ、濁度および伝導率は、恒常的な供給条件を確実にするために、純水フラックス実験の間、通常監視される。

ｃ．ＣＰ率と初期浸透圧低下の測定
膜の純水流体力学的抵抗が決定された後、濃度分極効果は、速度変動技術を使用して定量化することができる。濃度分極率は、膜面での阻止された溶質濃度をバルク溶質濃度によって割った比率である。１ＭのストックＮａＣｌ溶液の適切な量が、望ましい実験的イオン強度を提供するために、通常、供給タンクに加えられる。様々な印加圧力と供給流量を変更する順序は、一般的に先に述べたように繰り返される。供給速度と印加圧力の各々の組合せに対する膜全体の有効浸透圧低下（Δπ）は、一般的に、Ｊ＝Ａ（Δｐ−Δπ）（式中、Ｊは水フラックスであり、Δｐは印加圧力であり、そしてＡ＝１／Ｒ_ｍである）から決定される。供給および透過塩濃度は、直接測定できるので、膜濃度は、Δπ＝ｆ_ｏｓ（ｃ_ｍ−ｃ_ｐ）［式中、ｃ_ｍおよびｃ_ｐは、膜表面および透過液中の塩濃度であり、ｆ_ｏｓは、モル塩濃度を浸透圧（希釈濃度でＮａＣｌに対して〜２ＲＴ；Ｒ＝８．３２４Ｊ／ｍｏｌ・Ｋ、Ｔ＝絶対温度、Ｋ）に変換する係数である］から得られる。一旦、ｃ_ｐが分かれば、濃度分極率（ｃ_ｍ／ｃ_ｐ）は、直接に計算される。

ｄ．ファウリングによるフラックス低下の測定
塩水実験の終了後に、圧力およびクロスフローは、通常、調整されてファウリング実験のための所望の初期フラックスと壁剪断を生成する。安定性能（水フラックスと脱塩）が最低約６０分で達成された後に、モデルファウリング物質（例えば、有機体、細菌、コロイド）の分量を供給タンクに加えて、適切なファウリング物質供給濃度を提供する。真水（例えば、環境または工業サンプルからの「天然」水）を試験する予定の場合は、供給タンクとシステムは、供給タンクを試験水で満たす前に、通常、完全に空にされ、すすがれ、そして排水される。「真水」とは、浄化のために膜濾過プロセスにより浄化が考慮される水道施設または水源からの水のサンプルである。ファウリング物質の濃度は、天然のファウリング物質に依存して適切な分析手法（例えば、濁度、色、ＴＯＣ、または粒子数）により、供給物、未透過物および透過物において実験中に監視されなければならない。さらに、伝導率およびｐＨ測定は、一般的に、ファウリング実験の開始時、終了時、およびいくつかの時点で行われて脱塩率を監視し、供給溶液のイオン強度とｐＨが試験の間に変化しないことを確実にする。定圧での過渡フラックスは、定常フラックスを維持しながらリアルタイムで通常記録される。

本発明の範囲または精神から逸脱することなく、様々な修正と変更が本発明でなされ得ることは、当業者に明白であろう。本発明の他の態様は、本願で開示された発明の明細書および実施を考慮して、当業者には明らかとなるであろう。明細書と実施例は、例示のみとして考慮され、本発明の真の範囲と精神は以下の特許請求の範囲により示されることを意図するものである。

Claims (70)

1. 多孔質高分子支持体；
   該多孔質高分子支持体上で重合している半透過性高分子フィルム；ならびに
   ミクロ粒子およびナノ粒子の範囲のサイズであって、該多孔質高分子支持体の少なくとも約１重量％の量で該多孔質高分子支持体中に分散している粒子；
   を含む、圧縮抵抗性複合薄膜。
2. 前記半透過性高分子フィルムが、液体に対して透過性であり、前記複合薄膜が、合理的な定常状態の透過流量に経時的に減少する液体の初期透過流量を示し、初期透過流量から定常状態の透過流量までの間の減少が、多孔質高分子支持体中に粒子を分散していない、ほかの点では類似の多孔質高分子支持体を有する類似の複合薄膜を通過する液体に対する初期透過流量から定常状態の透過流量までの間の減少よりも約１０％から約５０％少ない範囲である、請求項１に記載の膜。
3. 前記半透過性高分子フィルムが、界面重合している半透過性ポリアミドフィルムマトリクスを含む請求項１または２に記載の膜。
4. 前記粒子が、金属もしくは金属酸化物の粒子、非晶質もしくは結晶質の無機粒子、シリカ、アルミナ、粘土もしくはゼオライトの粒子またはカーボンブラック粒子の少なくとも１つの粒子を含む、請求項１から３のいずれかに記載の膜。
5. 前記粒子が無機質である、請求項１から４のいずれかに記載の膜。
6. 前記粒子が硬質である、請求項１から５のいずれかに記載の膜。
7. 前記粒子が少なくとも１つのゼオライトを含む、請求項１から６のいずれかに記載の膜。
8. 前記粒子がリンデＡ型（ＬＴＡ）ゼオライトを含む、請求項１から７のいずれかに記載の膜。
9. 前記膜が、約５００ｐｓｉで約２０％未満の圧縮抵抗を有する、請求項１から８のいずれかに記載の膜。
10. 高分子マトリクスフィルム上に架橋親水性被膜をさらに含む、請求項１から９のいずれかに記載の膜。
11. 示差走査熱量計を用いて測定したとき、前記粒子および前記支持体が共に、該粒子を含まない類似の支持体の溶融ピークと比較して、シフトした溶融ピークを形成する、請求項１から１０のいずれかに記載の膜。
12. 示差走査熱量計を用いて測定したとき、前記粒子および前記支持体が共に、該支持体高分子および該粒子に対する別々の溶融ピークではなく、合わせた溶融ピークを形成する、請求項１から１１のいずれかに記載の膜。
13. 前記膜が、前記多孔質支持体中に前記粒子を含まない膜よりも大きい圧縮抵抗を有する、請求項１から１２のいずれかに記載の膜。
14. 前記膜が、前記多孔質支持体中に前記粒子を含まない膜よりも少ない、フラックス減少の低下を有する、請求項１から１３のいずれかに記載の膜。
15. 前記ミクロ粒子または前記ナノ粒子が、金属および金属酸化物、非晶質もしくは結晶質の無機粒子、シリカ、アルミナ、粘土、ゼオライト、カーボンモレキュラーシーブ、またはカーボンブラックの少なくとも１つを含む、請求項１から１４のいずれかに記載の膜。
16. キャスト多孔質高分子支持体；
    該キャスト多孔質高分子支持体上で重合している半透過性高分子フィルム；ならびに
    ミクロ粒子およびナノ粒子の範囲のサイズであって、キャストする前、該高分子中に分散し、該多孔質高分子支持体を形成する粒子；
    を含む圧縮抵抗性複合薄膜であって、該高分子への該粒子の分散により、該粒子を含まない類似のキャスト支持体よりも、得られた多孔質支持体の圧縮を使用の過程で減少させる複合薄膜。
17. 前記圧縮抵抗性膜が、約５００ｐｓｉで初期透過流量から定常状態の透過流量までの間で約２０％未満の厚さの減少を示す、請求項１６に記載の膜。
18. 前記半透過性高分子フィルムが、半透過性の界面重合しているポリアミドマトリクスを含む、請求項１６または１７に記載の膜。
19. 前記粒子が、少なくとも１つのゼオライトを含む、請求項１６から１８のいずれかに記載の膜。
20. 前記膜が、前記粒子を含まない、ほかの点では類似の多孔質高分子支持体を有する類似の膜の極限強さより大きな極限強さを示すように該粒子が選択される、請求項１６から１９のいずれかに記載の膜。
21. 前記膜が、前記多孔質支持体中に前記粒子を含まない膜よりも少ない、フラックス減少の低下を有する、請求項１６から２０のいずれかに記載の膜。
22. 高分子マトリクスフィルム上に架橋親水性被膜をさらに含む、請求項１６から２１のいずれかに記載の膜。
23. 前記ミクロ粒子または前記ナノ粒子が、金属および金属酸化物、非晶質もしくは結晶質の無機粒子、シリカ、アルミナ、粘土、ゼオライト、カーボンモレキュラーシーブ、またはカーボンブラックの少なくとも１つを含む、請求項１６から２２のいずれかに記載の膜。
24. 前記粒子が、無機質である、請求項１６から２３のいずれかに記載の膜。
25. 前記粒子が硬質である、請求項１６から２４のいずれかに記載の膜。
26. 前記粒子が、少なくとも１つのゼオライトを含む、請求項１６から２５のいずれかに記載の膜。
27. 前記粒子が、リンデＡ型（ＬＴＡ）ゼオライトを含む、請求項１６から２６のいずれかに記載の膜。
28. 示差走査熱量計を用いて測定したとき、前記粒子および前記支持体が共に、該粒子を含まない類似の支持体の溶融ピークと比較して、シフトした溶融ピークを形成する、請求項１６から２７のいずれかに記載の膜。
29. 示差走査熱量計を用いて測定したとき、前記粒子および前記支持体が共に、該支持体高分子および該粒子に対する別々の溶融ピークではなく、合わせた溶融ピークを形成する、請求項１６から２８のいずれかに記載の膜。
30. 第１材料のより低い定常状態流量で一般的な定常状態条件に経時的に減少する初期流量において第１圧力で第１材料に透過性である圧縮抵抗性複合薄膜であって、
    該第１材料に透過性である高分子支持体；
    該高分子支持体上で重合し、該第１材料に透過性である半透過性高分子フィルム；ならびに
    ミクロ粒子およびナノ粒子の範囲のサイズであって、該高分子支持体中に分散している粒子；
    を含み、該膜の初期流量から定常流量までの間の減少が、該粒子を多孔質高分子支持体中に分散していない、類似の高分子支持体を有する複合膜の初期流量から定常状態流量までの間の減少よりも少ない、複合薄膜。
31. 前記半透過性高分子フィルムが、界面重合しているポリアミドマトリクスを含む、請求項３０に記載の膜。
32. 前記高分子支持体が、前記粒子なしの類似の高分子支持体よりも大きな極限強さを示すように該粒子が選択される、請求項３０または３１に記載の膜。
33. 示差走査熱量計を用いて測定したとき、前記粒子および前記支持体が共に、該粒子を含まない類似の支持体の溶融ピークと比較して、シフトした溶融ピークを形成する、請求項３０から３２のいずれかに記載の膜。
34. 示差走査熱量計を用いて測定したとき、前記粒子および前記支持体が共に、該支持体高分子および該粒子に対する別々の溶融ピークではなく、合わせた溶融ピークを形成する、請求項３０から３３のいずれかに記載の膜。
35. 前記膜が、前記多孔質支持体中に前記粒子を含まない膜よりも大きな圧縮抵抗を有する、請求項３０から３４のいずれかに記載の膜。
36. 前記膜が、前記多孔質支持体中に前記粒子を含まない膜よりも少ない、フラックス減少の低下を有する、請求項３０から３５のいずれかに記載の膜。
37. 前記膜が、約５００ｐｓｉで約２０％未満の圧縮抵抗を有する、請求項３０から３６のいずれかに記載の膜。
38. 高分子マトリクスフィルム上に架橋親水性被膜をさらに含む、請求項３０から３７のいずれかに記載の膜。
39. 前記ミクロ粒子または前記ナノ粒子が、金属および金属酸化物、非晶質もしくは結晶質の無機粒子、シリカ、アルミナ、粘土、ゼオライト、カーボンモレキュラーシーブ、またはカーボンブラックの少なくとも１つを含む、請求項３０から３８のいずれかに記載の膜。
40. 前記粒子が、無機質である、請求項３０から３９のいずれかに記載の膜。
41. 前記粒子が、硬質である、請求項３０から４０のいずれかに記載の膜。
42. 前記粒子が、少なくとも１つのゼオライトを含む、請求項３０から４１のいずれかに記載の膜。
43. 前記粒子が、リンデＡ型（ＬＴＡ）ゼオライトを含む、請求項３０から４２のいずれかに記載の膜。
44. 高分子マトリクスフィルムを、キャスト多孔質高分子支持体中に分散しているミクロ粒子およびナノ粒子の範囲のサイズの粒子を有するキャスト多孔質高分子支持体上で重合させることを含む、圧縮抵抗性複合薄膜を製造する方法であって、該粒子が、半透膜の経時的な透過流量特性を改善するように選択される、製造方法。
45. 前記膜が、前記キャスト多孔質高分子支持体中に粒子を含まない類似の膜の同時間のフラックス低下よりも約１０％から約５０％少ない経時的なフラックス低下を示す、請求項４４に記載の方法。
46. 前記粒子が、結晶構造を有する、請求項４４または４５に記載の方法。
47. 前記粒子が、少なくとも１つのゼオライトを含む、請求項４４から４６のいずれかに記載の方法。
48. 前記多孔質高分子支持体が、ある濃度での粒子および高分子の液体への分散液からキャストされ、この場合、該分散液は、実質的な該高分子の析出および実質的な該粒子の凝集を示さない、請求項４４から４７のいずれかに記載の方法。
49. 前記膜が、前記多孔質支持体中に前記粒子を含まない膜よりも大きな圧縮抵抗を有する、請求項４４から４８のいずれかに記載の方法。
50. 前記膜が、前記多孔質支持体中に前記粒子を含まない膜よりも少ない、フラックス減少の低下を有する、請求項４４から４９のいずれかに記載の方法。
51. 前記膜が、約５００ｐｓｉで約２０％未満の圧縮抵抗を有する、請求項４４から５０のいずれかに記載の方法。
52. 重合が、ポリアミドマトリクスを界面重合させることを含む、請求項４４から５１のいずれかに記載の方法。
53. 前記高分子マトリクスフィルム上に架橋親水性被膜を積層させることをさらに含む、請求項４４から５２のいずれかに記載の方法。
54. 前記ミクロ粒子または前記ナノ粒子が、金属および金属酸化物、非晶質もしくは結晶質の無機粒子、シリカ、アルミナ、粘土、ゼオライト、カーボンモレキュラーシーブ、またはカーボンブラックの少なくとも１つを含む、請求項４４から５３のいずれかに記載の方法。
55. 前記粒子が、無機質である、請求項４４から５４のいずれかに記載の方法。
56. 前記粒子が、硬質である、請求項４４から５５のいずれかに記載の方法。
57. 前記粒子が、少なくとも１つのゼオライトを含む、請求項４４から５６のいずれかに記載の方法。
58. 前記粒子が、リンデＡ型（ＬＴＡ）ゼオライトを含む、請求項４４から５７のいずれかに記載の方法。
59. 圧縮抵抗性複合薄膜を使用して水を浄化する方法であって、
    膜の第１面に半透過性高分子マトリクスフィルムとその反対面に、多孔質高分子支持体中に分散している、ミクロ粒子およびナノ粒子の範囲のサイズの粒子を有する多孔質高分子支持体とを有する膜を提供する工程であって、膜への印加圧力に経時的に応えて、該粒子が分散している該多孔質高分子支持体の圧縮特性を変更するように、該粒子が選択される、工程；
    該膜の第１面上で少なくとも１つの溶質を有する水溶液に圧力を印加する工程；ならびに
    該膜の第２面上で浄化された水を回収する工程；
    を含む、方法。
60. 前記膜が、前記粒子を含まない類似の膜での同時間の水フラックス低下よりも約１０％から約５０％少ない水フラックス低下を経時的に示す、請求項５９に記載の方法。
61. 前記粒子が、金属粒子、金属酸化物粒子、非晶質無機粒子、結晶質無機粒子、シリカ粒子、アルミナ粒子、粘土粒子、ゼオライト粒子またはカーボンブラック粒子のうちの少なくとも１つを含む、請求項５９または６０に記載の方法。
62. 前記多孔質高分子支持体を溶融したとき、示差走査熱量計を用いて測定した場合、該多孔質高分子支持体中の高分子および前記粒子に対する別々の溶融ピークではなく、単一の溶融ピークを有するか、または１つ以上の融点を示し、その１つ以上の融点が、それぞれ、該高分子の融点よりも高いことを示す、請求項５９から６１のいずれかに記載の方法。
63. 前記膜が、前記多孔質支持体中に前記粒子を含まない膜よりも大きい圧縮抵抗を有する、請求項５９から６２のいずれかに記載の方法。
64. 前記膜が、前記多孔質支持体中に前記粒子を含まない膜よりも少ない、フラックス減少の低下を有する、請求項５９から６３のいずれかに記載の方法。
65. 前記高分子マトリクスフィルムが、界面重合しているポリアミドマトリクスである請求項５９から６４のいずれかに記載の方法。
66. 前記膜が、前記高分子マトリクスフィルム上に架橋親水性被膜をさらに含む、請求項５９から６５のいずれかに記載の方法。
67. 前記粒子が、無機質である、請求項５９から６６のいずれかに記載の方法。
68. 前記粒子が、硬質である、請求項５９から６７のいずれかに記載の方法。
69. 前記粒子が、少なくとも１つのゼオライトを含む、請求項５９から６８のいずれかに記載の方法。
70. 前記粒子が、リンデＡ型（ＬＴＡ）ゼオライトを含む、請求項５９から６９のいずれかに記載の方法。