CN110227354A - 一种多孔有机撑体/微孔杂化硅复合膜的制备方法 - Google Patents
一种多孔有机撑体/微孔杂化硅复合膜的制备方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN110227354A CN110227354A CN201910550279.3A CN201910550279A CN110227354A CN 110227354 A CN110227354 A CN 110227354A CN 201910550279 A CN201910550279 A CN 201910550279A CN 110227354 A CN110227354 A CN 110227354A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- support body
- organic support
- hybrid silicon
- composite membrane
- preparation
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 122
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 122
- 239000010703 silicon Substances 0.000 title claims abstract description 122
- 239000012528 membrane Substances 0.000 title claims abstract description 60
- 239000002131 composite material Substances 0.000 title claims abstract description 49
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims abstract description 40
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 88
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract description 30
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 15
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims abstract description 11
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 claims abstract description 11
- 229920001558 organosilicon polymer Polymers 0.000 claims abstract description 9
- 210000004379 membrane Anatomy 0.000 claims description 54
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 28
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 claims description 26
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 26
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 claims description 19
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 claims description 19
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 18
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 14
- PKDCQJMRWCHQOH-UHFFFAOYSA-N triethoxysilicon Chemical compound CCO[Si](OCC)OCC PKDCQJMRWCHQOH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 230000001476 alcoholic effect Effects 0.000 claims description 11
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 11
- 210000002469 basement membrane Anatomy 0.000 claims description 10
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 claims description 10
- 239000003292 glue Substances 0.000 claims description 9
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 8
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 8
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 claims description 8
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 8
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 230000004048 modification Effects 0.000 claims description 6
- 238000012986 modification Methods 0.000 claims description 6
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 claims description 5
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 claims description 4
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 claims description 3
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims description 3
- ACTRVOBWPAIOHC-UHFFFAOYSA-N succimer Chemical compound OC(=O)C(S)C(S)C(O)=O ACTRVOBWPAIOHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 claims description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 2
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 claims description 2
- 238000013007 heat curing Methods 0.000 claims description 2
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 claims description 2
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 claims 1
- 238000010025 steaming Methods 0.000 claims 1
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 17
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 abstract description 5
- 238000000151 deposition Methods 0.000 abstract description 4
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 16
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 14
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 10
- 230000008569 process Effects 0.000 description 8
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 8
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 7
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 7
- 238000013019 agitation Methods 0.000 description 6
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 6
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 6
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 6
- 230000007717 exclusion Effects 0.000 description 6
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 6
- 230000008859 change Effects 0.000 description 5
- 230000008676 import Effects 0.000 description 5
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000007812 deficiency Effects 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 1
- 238000010612 desalination reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000008236 heating water Substances 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 239000002210 silicon-based material Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 238000010189 synthetic method Methods 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D67/00—Processes specially adapted for manufacturing semi-permeable membranes for separation processes or apparatus
- B01D67/0002—Organic membrane manufacture
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D69/00—Semi-permeable membranes for separation processes or apparatus characterised by their form, structure or properties; Manufacturing processes specially adapted therefor
- B01D69/12—Composite membranes; Ultra-thin membranes
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D71/00—Semi-permeable membranes for separation processes or apparatus characterised by the material; Manufacturing processes specially adapted therefor
- B01D71/06—Organic material
- B01D71/66—Polymers having sulfur in the main chain, with or without nitrogen, oxygen or carbon only
- B01D71/68—Polysulfones; Polyethersulfones
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
Abstract
本发明提供了一种多孔有机撑体/微孔杂化硅复合膜的制备方法,包括如下步骤:1)有机‑无机杂化硅聚合物溶胶的合成;(2)稀释杂化硅聚合物溶胶;(3)有机撑体/微孔杂化硅复合膜的制备;(4)盐酸蒸汽修饰。本发明所述的多孔有机撑体/微孔杂化硅复合膜的制备方法采用溶剂流散沉积技术结合低温盐酸蒸汽后修饰的方法,制备得到了技术尺度上可扩大的杂化硅TFC膜。
Description
技术领域
本发明属于膜分离领域,尤其是涉及多孔有机撑体/微孔杂化硅复合膜的制备方法。
背景技术
有机桥接二氧化硅是由硅网络中不同的有机桥接基团组成的一类新兴的纳米多孔材料,因其具有良好的物化及结构特性,如孔径、柔韧性、表面润湿性和化学稳定性,已成为气液与液体分离膜的候选材料。
传统的杂化硅膜大多是制作在在多孔平板或管状陶瓷支架上,昂贵的陶瓷支撑体、复杂的制造工艺和制膜的低重现性继续限制着它们的大规模工业化制造,而多孔有机支撑体以其低廉的成本、优良的性能和高的可加工性受到越来越多的关注。近年来,以有机撑体支撑的杂化硅TFC膜的制备方法得到了一些报道。例如,使用热扩展等离子体化学气相沉积法和溶胶-凝胶旋涂法,将有机-无机二氧化硅材料沉积到多孔有机撑体上。然而,等离子体沉积过程对器件和制备条件要求极高,而且杂化硅中的有机组分会被氧化降解,这削弱了杂化硅膜的稳定性。另一方面,溶胶-凝胶旋涂工艺由于不能制备大面积的膜,不适合大规模的工业应用。针对当前杂化硅复合膜合成方法的不足,我们采用一种溶剂流散沉积方法,结合低温盐酸蒸汽修饰,制备了多孔有机撑体支撑的杂化硅TFC膜,该方法具有制造工艺简单、成本低的优势,使用此方法合成的杂化硅具有良好的水热稳定性、柔韧性及脱盐性能。
发明内容
有鉴于此,本发明旨在提出一种多孔有机撑体/微孔杂化硅复合膜的制备方法,采用溶剂流散沉积技术结合低温盐酸蒸汽后修饰的方法,制备了在技术尺度上可扩大的杂化硅TFC膜。
为达到上述目的,本发明的技术方案是这样实现的:
一种多孔有机撑体/微孔杂化硅复合膜的制备方法,包括如下步骤
(1)有机-无机杂化硅聚合物溶胶的合成:将倍半硅氧烷单体与醇溶剂混合,进行水浴加热,在连续搅拌的条件下向其中加入去离子水和浓盐酸,反应完成得到杂化硅聚合物溶胶;
(2)稀释杂化硅聚合物溶胶:将所述的杂化硅聚合物溶胶冷却,按不同倍半硅氧烷单体浓度,将所述的杂化硅聚合物溶胶加入醇溶剂进行稀释;
(3)有机撑体/微孔杂化硅复合膜的制备:将多孔有机撑体固定在不锈钢板上,将已稀释的杂化硅聚合物溶胶沉积在有机撑体上,溶胶干燥后,形成薄膜,将薄膜加热固化,即得到多孔有机撑体/微孔杂化硅复合膜;
(4)盐酸蒸汽修饰:将步骤(3)中得到的多孔有机撑体/微孔杂化硅复合膜进行盐酸蒸汽处理。
进一步,所述的倍半硅氧烷单体为桥联结构的硅源前驱体,所述的桥联结构的硅源前驱体为1,2-二(三乙氧基硅基)乙烯(BTESEthy)、1,2-二(三乙氧基硅基)乙炔(BTESA)、1,2-二(三乙氧基硅基)乙烷(BTESE)或巯基丁二酸功能化修饰的1,2-双(三乙氧基硅基)乙烷(MSA modified BTESE)中的至少一种;优选的,所述的倍半硅氧烷单体为桥联结构的硅源前驱体,所述的桥联结构的硅源前驱体为1,2-二(三乙氧基硅基)乙烯、1,2-二(三乙氧基硅基)乙炔或巯基丁二酸功能化修饰的1,2-双(三乙氧基硅基)乙烷中的至少一种。
进一步,所述的步骤(1)中倍半硅氧烷单体、去离子水和盐酸的摩尔比为1:(5-240):(0.01-0.5);优选的,所述的步骤(1)中倍半硅氧烷单体、去离子水和盐酸的摩尔比为1:(60-240):(0.01-0.1)。
进一步,所述的步骤(1)中倍半硅氧烷单体的质量分数为5-10%;所述的步骤(1)中醇溶剂为甲醇、乙醇、异丙醇或正丙醇中的至少一种;所述的步骤(1)中水浴加热温度为25-60℃。倍半硅氧烷单体的质量分数为倍半硅氧烷单体、去离子水、盐酸和醇溶剂之和的5-10%。
进一步,所述的步骤(2)中杂化硅聚合物溶胶中倍半硅氧烷单体的浓度为1-5wt%。
进一步,所述的步骤(3)中有机撑体为多孔基膜;所述的多孔基膜为聚醚砜滤膜或聚砜滤膜中的一种;所述的有机撑体的孔径为2-20nm;所述的步骤(3)中不锈钢板尺寸为4cm×4cm-21cm×30cm。
进一步,所述的步骤(3)中沉积步骤采用流散沉积法,所述的流散沉积法的温度为7-13℃。
进一步,所述的步骤(3)中加热固化步骤的时间为10分钟,温度为60-150℃。
进一步,所述的步骤(4)中盐酸蒸汽处理步骤中的盐酸蒸汽为10-25%HCl水溶液生成的蒸汽;所述的盐酸蒸汽处理步骤的处理温度为40-60℃。
进一步,所述的步骤(2)中的醇溶剂与步骤(2)中的醇溶剂相同或不同。
相对于现有技术,本发明所述的多孔有机撑体/微孔杂化硅复合膜的制备方法具有以下优势:
(1)本发明所述的多孔有机撑体/微孔杂化硅复合膜的制备方法采用溶剂流散沉积技术结合低温盐酸蒸汽后修饰的方法,制备得到了技术尺度上可扩大的杂化硅TFC膜。
(2)本发明所述的多孔有机撑体/微孔杂化硅复合膜的制备方法的备、合成成本低,步骤简单,适合大规模工业生产。
(3)本发明所述的多孔有机撑体/微孔杂化硅复合膜的制备方法溶胶合成过程简单,对环境要求不苛刻。
(4)本发明所述的多孔有机撑体/微孔杂化硅复合膜的制备方法制备得到的膜具有良好的热稳定性、柔韧性与截盐性能。
附图说明
图1为本发明实施例中的杂化硅TFC膜的制备流程图;
图2为本发明实施例中的盐酸蒸汽处理的示意图;
图3为本发明实施例1-5中的杂化硅复溶胶水渗透率柱形图;
图4为本发明实施例1-5中的杂化硅复溶胶氯化钠截留率柱形图;
图5为本发明实施例6中的杂化硅TFC膜HCl蒸汽修饰前氯化钠截留率曲线图;
图6为本发明实施例3中的杂化硅TFC膜HCl蒸汽修饰后氯化钠截留率曲线图;。
图7为本发明实施例6中的杂化硅TFC膜HCl蒸汽修饰前水渗透率曲线图;
图8为本发明实施例3中的杂化硅TFC膜HCl蒸汽修饰后水渗透率曲线图。
具体实施方式
除有定义外,以下实施例中所用的技术术语具有与本发明所属领域技术人员普遍理解的相同含义。以下实施例中所用的试验试剂,如无特殊说明,均为常规生化试剂;所述实验方法,如无特殊说明,均为常规方法。
下面结合实施例及附图来详细说明本发明。
实施例1
一种多孔有机撑体/微孔杂化硅复合膜的制备方法,包括如下步骤
(1)有机-无机杂化硅聚合物溶胶的合成:向丙醇中加入BTESEthy,在连续搅拌的条件下向其中加入去离子水和浓盐酸,BTESEthy、去离子水和HCl的摩尔比为1:120:0.1,将混合后的溶液在60℃下磁力搅拌2小时,反应完成得到杂化硅聚合物溶胶;
(2)稀释杂化硅聚合物溶胶:将所述的杂化硅聚合物溶胶冷却,然后加入丙醇稀释至BTESEthy质量分数为1.0wt%;
(3)有机撑体/微孔杂化硅复合膜的制备:将聚砜基膜固定在一个尺寸为21×30(A4size)厘米的不锈钢板上,在10±3℃温度条件下,将硅溶胶滴加在聚砜基膜表面,使溶胶在变面流散直至完全覆盖整个聚砜膜表面,静止1分钟后将多余溶胶从一测排除,待聚砜膜表面的溶胶完全干燥后,上述过程重复一次并将多余的溶胶从另一侧排除,待溶胶干燥后,将薄置于60-150℃的烘箱中加热固化10分钟,得到干燥的多孔有机撑体/微孔杂化硅复合膜;
(4)盐酸蒸汽修饰:将步骤(3)中得到的多孔有机撑体/微孔杂化硅复合膜放入玻璃容器内,将25%HCl溶液自然生成的蒸汽导入杂化硅TFC膜表面,处理2小时。
实施例2
一种多孔有机撑体/微孔杂化硅复合膜的制备方法,包括如下步骤
(1)有机-无机杂化硅聚合物溶胶的合成:向丙醇中加入BTESEthy,在连续搅拌的条件下向其中加入去离子水和浓盐酸,BTESEthy、去离子水和HCl的摩尔比为1:120:0.1,将混合后的溶液在25℃下磁力搅拌2小时,反应完成得到杂化硅聚合物溶胶;
(2)稀释杂化硅聚合物溶胶:将所述的杂化硅聚合物溶胶冷却,然后加入丙醇稀释至BTESEthy质量分数为2.0wt%;
(3)有机撑体/微孔杂化硅复合膜的制备:将聚砜基膜固定在一个尺寸为21×30(A4size)厘米的不锈钢板上,在10±3℃温度条件下,将硅溶胶滴加在聚砜基膜表面,使溶胶在变面流散直至完全覆盖整个聚砜膜表面,静止1分钟后将多余溶胶从一测排除,待聚砜膜表面的溶胶完全干燥后,上述过程重复一次并将多余的溶胶从另一侧排除,待溶胶干燥后,将薄置于60-150℃的烘箱中加热固化10分钟,得到干燥的多孔有机撑体/微孔杂化硅复合膜;
(4)盐酸蒸汽修饰:将步骤(3)中得到的多孔有机撑体/微孔杂化硅复合膜放入玻璃容器内,将25%HCl溶液自然生成的蒸汽导入杂化硅TFC膜表面,处理2小时。
实施例3
一种多孔有机撑体/微孔杂化硅复合膜的制备方法,包括如下步骤
(1)有机-无机杂化硅聚合物溶胶的合成:向丙醇中加入BTESE,在连续搅拌的条件下向其中加入去离子水和浓盐酸,BTESEthy、去离子水和HCl的摩尔比为1:120:0.1,将混合后的溶液在60℃下磁力搅拌2小时,反应完成得到杂化硅聚合物溶胶;
(2)稀释杂化硅聚合物溶胶:将所述的杂化硅聚合物溶胶冷却,然后加入丙醇稀释至BTESEthy质量分数为3.0wt%;
(3)有机撑体/微孔杂化硅复合膜的制备:将聚砜基膜固定在一个尺寸为21×30(A4size)厘米的不锈钢板上,在10±3℃温度条件下,将硅溶胶滴加在聚砜基膜表面,使溶胶在变面流散直至完全覆盖整个聚砜膜表面,静止1分钟后将多余溶胶从一测排除,待聚砜膜表面的溶胶完全干燥后,上述过程重复一次并将多余的溶胶从另一侧排除,待溶胶干燥后,将薄置于60-150℃的烘箱中加热固化10分钟,得到干燥的多孔有机撑体/微孔杂化硅复合膜;
(4)盐酸蒸汽修饰:将步骤(3)中得到的多孔有机撑体/微孔杂化硅复合膜放入玻璃容器内,将25%HCl溶液自然生成的蒸汽导入杂化硅TFC膜表面,处理2小时。
实施例4
一种多孔有机撑体/微孔杂化硅复合膜的制备方法,包括如下步骤
(1)有机-无机杂化硅聚合物溶胶的合成:向丙醇中加入BTESA,在连续搅拌的条件下向其中加入去离子水和浓盐酸,BTESEthy、去离子水和HCl的摩尔比为1:120:0.1,将混合后的溶液在25℃下磁力搅拌2小时,反应完成得到杂化硅聚合物溶胶;
(2)稀释杂化硅聚合物溶胶:将所述的杂化硅聚合物溶胶冷却,然后加入丙醇稀释至BTESEthy质量分数为4.0wt%;
(3)有机撑体/微孔杂化硅复合膜的制备:将聚砜基膜固定在一个尺寸为21×30(A4size)厘米的不锈钢板上,在10±3℃温度条件下,将硅溶胶滴加在聚砜基膜表面,使溶胶在变面流散直至完全覆盖整个聚砜膜表面,静止1分钟后将多余溶胶从一测排除,待聚砜膜表面的溶胶完全干燥后,上述过程重复一次并将多余的溶胶从另一侧排除,待溶胶干燥后,将薄置于60-150℃的烘箱中加热固化10分钟,得到干燥的多孔有机撑体/微孔杂化硅复合膜;
(4)盐酸蒸汽修饰:将步骤(3)中得到的多孔有机撑体/微孔杂化硅复合膜放入玻璃容器内,将25%HCl溶液自然生成的蒸汽导入杂化硅TFC膜表面,处理2小时。
实施例5
一种多孔有机撑体/微孔杂化硅复合膜的制备方法,包括如下步骤
(1)有机-无机杂化硅聚合物溶胶的合成:向丙醇中加入MSA modifiedBTESE,在连续搅拌的条件下向其中加入去离子水和浓盐酸,BTESEthy、去离子水和HCl的摩尔比为1:120:0.1,将混合后的溶液在25℃下磁力搅拌2小时,反应完成得到杂化硅聚合物溶胶;
(2)稀释杂化硅聚合物溶胶:将所述的杂化硅聚合物溶胶冷却,然后加入丙醇稀释至BTESEthy质量分数为5.0wt%;
(3)有机撑体/微孔杂化硅复合膜的制备:将聚砜基膜固定在一个尺寸为21×30(A4size)厘米的不锈钢板上,在10±3℃温度条件下,将硅溶胶滴加在聚砜基膜表面,使溶胶在变面流散直至完全覆盖整个聚砜膜表面,静止1分钟后将多余溶胶从一测排除,待聚砜膜表面的溶胶完全干燥后,上述过程重复一次并将多余的溶胶从另一侧排除,待溶胶干燥后,将薄置于60-150℃的烘箱中加热固化10分钟,得到干燥的多孔有机撑体/微孔杂化硅复合膜;
(4)盐酸蒸汽修饰:将步骤(3)中得到的多孔有机撑体/微孔杂化硅复合膜放入玻璃容器内,将25%HCl溶液自然生成的蒸汽导入杂化硅TFC膜表面,处理2小时。
实施例6
一种多孔有机撑体/微孔杂化硅复合膜的制备方法,包括如下步骤
(1)有机-无机杂化硅聚合物溶胶的合成:向丙醇中加入BTESE,在连续搅拌的条件下向其中加入去离子水和浓盐酸,BTESEthy、去离子水和HCl的摩尔比为1:120:0.1,将混合后的溶液在25℃下磁力搅拌2小时,反应完成得到杂化硅聚合物溶胶;
(2)稀释杂化硅聚合物溶胶:将所述的杂化硅聚合物溶胶冷却,然后加入丙醇稀释至BTESEthy质量分数为3.0wt%;
(3)有机撑体/微孔杂化硅复合膜的制备:将聚砜基膜固定在一个尺寸为21×30(A4size)厘米的不锈钢板上,在10±3℃温度条件下,将硅溶胶滴加在聚砜基膜表面,使溶胶在表面流散直至完全覆盖整个聚砜膜表面,静止1分钟后将多余溶胶从一测排除,待聚砜膜表面的溶胶完全干燥后,上述过程重复一次并将多余的溶胶从另一侧排除,待溶胶干燥后,将其置于60-150℃的烘箱中加热固化10分钟,得到干燥的多孔有机撑体/微孔杂化硅复合膜。
将实施例1-5中得到的多孔有机撑体/微孔杂化硅复合膜进行水渗透率与盐截留率的测定,结果如图3-4所示。
随着溶胶浓度的增加,杂化硅TFC膜的氯化钠截留率明显增加而水渗透率逐渐减小,证明了逐步形成完整、致密且无缺陷的杂化硅薄层层,当溶胶浓度为3.0wt%时,氯化钠截留率可达到98.5%,随着浓度进一步增加,氯化钠截留率增加不明显但水渗透率进一步降低,综合考虑盐截留率与水渗透率得出最佳涂层溶胶浓度为3.0wt%。
将实施例3和6中得到的多孔有机撑体/微孔杂化硅复合膜进行水渗透率与盐截留率的测定,结果如图5-8所示。
未进行盐酸蒸汽处理的杂化硅TFC膜,其氯化钠截留率仅为94%,表明杂化硅薄层不够致密,在进行HCl蒸汽处理后,其氯化钠截留率升高到98-99%,表明通过盐酸蒸汽后处理,使得杂化硅薄层发生进一步缩聚反应,使其杂化硅网络变得更致密,孔径更小,从而提高氯化钠截留率。
以上所述仅为本发明的较佳实施例而已,并不用以限制本发明,凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (10)
1.一种多孔有机撑体/微孔杂化硅复合膜的制备方法,其特征在于:包括如下步骤
(1)有机-无机杂化硅聚合物溶胶的合成:将倍半硅氧烷单体与醇溶剂混合,进行水浴加热,在连续搅拌的条件下向其中加入去离子水和浓盐酸,反应完成得到杂化硅聚合物溶胶;
(2)稀释杂化硅聚合物溶胶:将所述的杂化硅聚合物溶胶冷却,按不同倍半硅氧烷单体浓度,将所述的杂化硅聚合物溶胶加入醇溶剂进行稀释;
(3)有机撑体/微孔杂化硅复合膜的制备:将多孔有机撑体固定在不锈钢板上,将已稀释的杂化硅聚合物溶胶沉积在有机撑体上,溶胶干燥后,形成薄膜,将薄膜加热固化,即得到多孔有机撑体/微孔杂化硅复合膜;
(4)盐酸蒸汽修饰:将步骤(3)中得到的多孔有机撑体/微孔杂化硅复合膜进行盐酸蒸汽处理。
2.根据权利要求1所述的多孔有机撑体/微孔杂化硅复合膜的制备方法,其特征在于:所述的倍半硅氧烷单体为桥联结构的硅源前驱体,所述的桥联结构的硅源前驱体为1,2-二(三乙氧基硅基)乙烯、1,2-二(三乙氧基硅基)乙炔、1,2-二(三乙氧基硅基)乙烷或巯基丁二酸功能化修饰的1,2-双(三乙氧基硅基)乙烷中的至少一种;优选的,所述的倍半硅氧烷单体为桥联结构的硅源前驱体,所述的桥联结构的硅源前驱体为1,2-二(三乙氧基硅基)乙烯、1,2-二(三乙氧基硅基)乙炔或巯基丁二酸功能化修饰的1,2-双(三乙氧基硅基)乙烷中的至少一种。
3.根据权利要求1所述的多孔有机撑体/微孔杂化硅复合膜的制备方法,其特征在于:所述的步骤(1)中倍半硅氧烷单体、去离子水和盐酸的摩尔比为1:(5-240):(0.01-0.5);优选的,所述的步骤(1)中倍半硅氧烷单体、去离子水和盐酸的摩尔比为1:(60-240):(0.01-0.1)。
4.根据权利要求1所述的多孔有机撑体/微孔杂化硅复合膜的制备方法,其特征在于:所述的步骤(1)中倍半硅氧烷单体的质量分数为5-10%;所述的步骤(1)中醇溶剂为甲醇、乙醇、异丙醇或正丙醇中的至少一种;所述的步骤(1)中水浴加热温度为25-60℃。
5.根据权利要求1所述的多孔有机撑体/微孔杂化硅复合膜的制备方法,其特征在于:所述的步骤(2)中杂化硅聚合物溶胶中倍半硅氧烷单体的浓度为1-5wt%。
6.根据权利要求1所述的多孔有机撑体/微孔杂化硅复合膜的制备方法,其特征在于:所述的步骤(3)中有机撑体为多孔基膜;所述的多孔基膜为聚醚砜滤膜或聚砜滤膜中的一种;所述的有机撑体的孔径为2-20nm;所述的步骤(3)中不锈钢板尺寸为4cm×4cm-21cm×30cm。
7.根据权利要求1所述的多孔有机撑体/微孔杂化硅复合膜的制备方法,其特征在于:所述的步骤(3)中沉积步骤采用流散沉积法,所述的流散沉积法的温度为7-13℃。
8.根据权利要求1所述的多孔有机撑体/微孔杂化硅复合膜的制备方法,其特征在于:所述的步骤(3)中加热固化步骤的时间为10分钟,温度为60-150℃。
9.根据权利要求1所述的多孔有机撑体/微孔杂化硅复合膜的制备方法,其特征在于:所述的步骤(4)中盐酸蒸汽处理步骤中的盐酸蒸汽为10-25%HCl水溶液生成的蒸汽;所述的盐酸蒸汽处理步骤的处理温度为40-60℃。
10.根据权利要求1所述的多孔有机撑体/微孔杂化硅复合膜的制备方法,其特征在于:所述的步骤(2)中的醇溶剂与步骤(2)中的醇溶剂相同或不同。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201910550279.3A CN110227354A (zh) | 2019-06-24 | 2019-06-24 | 一种多孔有机撑体/微孔杂化硅复合膜的制备方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201910550279.3A CN110227354A (zh) | 2019-06-24 | 2019-06-24 | 一种多孔有机撑体/微孔杂化硅复合膜的制备方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN110227354A true CN110227354A (zh) | 2019-09-13 |
Family
ID=67856471
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201910550279.3A Pending CN110227354A (zh) | 2019-06-24 | 2019-06-24 | 一种多孔有机撑体/微孔杂化硅复合膜的制备方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN110227354A (zh) |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20080237126A1 (en) * | 2006-10-27 | 2008-10-02 | Hoek Eric M V | Micro-and nanocomposite support structures for reverse osmosis thin film membranes |
CN106669430A (zh) * | 2016-11-21 | 2017-05-17 | 重庆云天化瀚恩新材料开发有限公司 | 纳米结构的有机‑无机杂化分子改性反渗透膜及制备方法 |
CN107570020A (zh) * | 2017-10-24 | 2018-01-12 | 四川中科兴业高新材料有限公司 | 一种聚芳硫醚砜复合分离膜及其制备方法 |
CN108854550A (zh) * | 2017-05-11 | 2018-11-23 | 苏州赛比膜分离科技有限公司 | 一种磺化聚醚砜/多孔聚砜有机膜支撑的无机微孔硅复合膜的应用 |
-
2019
- 2019-06-24 CN CN201910550279.3A patent/CN110227354A/zh active Pending
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20080237126A1 (en) * | 2006-10-27 | 2008-10-02 | Hoek Eric M V | Micro-and nanocomposite support structures for reverse osmosis thin film membranes |
CN106669430A (zh) * | 2016-11-21 | 2017-05-17 | 重庆云天化瀚恩新材料开发有限公司 | 纳米结构的有机‑无机杂化分子改性反渗透膜及制备方法 |
CN108854550A (zh) * | 2017-05-11 | 2018-11-23 | 苏州赛比膜分离科技有限公司 | 一种磺化聚醚砜/多孔聚砜有机膜支撑的无机微孔硅复合膜的应用 |
CN107570020A (zh) * | 2017-10-24 | 2018-01-12 | 四川中科兴业高新材料有限公司 | 一种聚芳硫醚砜复合分离膜及其制备方法 |
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
GENGHAO GONG,HIROKI NAGASAWA,MASAKOTO KANEZASHI,TOSHINORI TSURU: "《Tailoring the Separation Behavior of Polymer-Supported Organosilica Layered-Hybrid Membranes via Facile Post-Treatment Using HCl and HN3 Vapors》", 《ACS APPLIED MATERIALS & INTERFACES》 * |
GENGHAO GONG,HIROKI NAGASAWA,MSAKOTO KANEZASHI,TOSHINORI TSURE: "《Facile and Scalable Flow-Induced Deposition of Organosilica on Porous Polymer Supports for Reverse Osmosis Desalination》", 《ACS APPLIED MATERIALS & INTERFACES》 * |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Gao et al. | Fabrication of TiO2/EP super-hydrophobic thin film on filter paper surface | |
Hozumi et al. | Fluoroalkylsilane monolayers formed by chemical vapor surface modification on hydroxylated oxide surfaces | |
EP2155620B1 (en) | Preparation of super water repellent surface | |
Zhang et al. | High-adhesive superhydrophobic litchi-like coatings fabricated by in-situ growth of nano-silica on polyethersulfone surface | |
CN110433662B (zh) | 一种膜蒸馏用超双疏聚砜膜的制备方法 | |
CN108854571B (zh) | 一种利用超声雾化沉积法制备分离膜的方法 | |
CN110697649B (zh) | 一种提高超疏水表面水下空气层稳定性的方法 | |
Kon et al. | Preparation of patterned zinc oxide films by breath figure templating | |
Huang et al. | PH-driven phase separation: Simple routes for fabricating porous TiO2 film with superhydrophilic and anti-fog properties | |
CN110041533B (zh) | 一种离子液体配体置换法制备功能化金属有机骨架材料的方法 | |
CN113713634B (zh) | 金属有机框架和共价有机框架复合膜及制备和应用 | |
CN111542550B (zh) | 聚合物刷形成用基体和该基体的制造方法以及该方法中使用的前体液 | |
CN102153769B (zh) | 一种超疏水聚甲基丙烯酸甲酯薄膜的制备方法 | |
CN108445166B (zh) | 一种三维多孔石墨烯超薄膜及其制备方法 | |
CN108299827A (zh) | 一种耐用pdms仿生超疏水膜的制备方法 | |
KR20140022491A (ko) | 초발수성 코팅용액 조성물 및 코팅 조성물의 제조방법 | |
CN110227354A (zh) | 一种多孔有机撑体/微孔杂化硅复合膜的制备方法 | |
KR101198644B1 (ko) | 투수성이 개선된 폴리술폰계 내오염성 막 및 그의 제조방법 | |
KR101767236B1 (ko) | 나노다공성 고분자 멤브레인 및 그 제조방법 | |
CN106925141B (zh) | 一种隔氧光引发水凝胶复合膜的制备方法 | |
CN109925897B (zh) | 一种磺酸基官能化改性的芳香族桥架有机硅杂化膜的制备方法及应用 | |
CN115109492B (zh) | 一种亲水性抗冰涂层的制备方法 | |
CN114307698B (zh) | 负载银-离子液体的共价有机框架膜及其制备和应用 | |
Mishra et al. | A review on superhydrophobic materials and coating techniques | |
Hongwei et al. | Fabrication and characterization of electrospun sulfonated poly (phthalazinone ether ketone) mats as potential matrix of reinforced proton exchange membranes |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication | ||
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20190913 |