JP2010500157A - 酸素含有化合物のオレフィンへの転化反応に用いられるミクロスフィア触媒及びその製造方法 - Google Patents

酸素含有化合物のオレフィンへの転化反応に用いられるミクロスフィア触媒及びその製造方法 Download PDF

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Abstract

本発明は、酸化ケイ素、酸化リン及び酸化アルミニウムを含んでなるか、或は、酸化ケイ素、酸化リン及び酸化アルミニウムを含むと共に、アルカリ土類金属酸化物及び遷移金属酸化物を含んでなる触媒であって、前記各成分の質量含有量が、酸化ケイ素2〜60%、酸化リン8〜50%、酸化アルミニウム20〜70%、アルカリ土類金属酸化物0〜10%、遷移金属酸化物0〜20%であり、かつ、各成分の質量含有量の和が100%であることを満たすことを特徴とする、酸素含有化合物のオレフィンへの転化反応に用いられるミクロスフィア触媒及びその製造方法に関する。触媒活性物質として、特定のシリコアルミノリン酸分子ふるい又は遷移金属を含有するシリコアルミノリン酸分子ふるい(例えば、SAPO−34)を用い、ほかの各酸化物分を含む原料及び造孔剤としての有機化合物(例えば、天然生成物セスバニア粉)と混合して、一定の固体含有量を有するスラリーを調製し、十分にコロイド化させた後、噴霧乾燥し高温で焼成することにより、磨耗指数が2より小さいミクロスフィア触媒を得ることができる。

Description

本発明は、触媒の技術分野に関し、具体的には、酸素含有化合物のオレフィンへの転化反応に用いられるミクロスフィア(micro sphere)触媒及びその製造方法、並び前記触媒の、酸素含有化合物を低級オレフィンへ転化させる反応における応用に関する。
エチレン、プロピレンは、石油化学工業において需要量が最も多く、用途が最も広い、2種の基本的な有機化学原料であり、「現代有機合成工業の母」と呼ばれている。エチレン、プロピレンなどの低級オレフィンの製造方法は、総じて以下の二つのタイプに分けられている。
一つのタイプは石油コースである。中国国内では、主に軽油クラッキング方法を用い、アメリカとエタン資源が豊かな他の国では、エタン高温転化方法によってエチレンを生産している。
他のタイプは非石油コースである。石炭、天然ガスなどのC資源で低級オレフィンを生産している。エチレン、プロピレンなどの低級オレフィンに対する需要量が日増しに増加し、応用分野が絶えず拡大していること、さらに石油資源の欠乏によるその価格の上昇につれて、非石油コースで低級オレフィンを製造する技術の開発は日増しに差し迫ってきている。最近の数十年で、石炭、天然ガスでエチレン、プロピレンを製造する研究及び開発は、中国国内外研究機構と国際的な大企業の技術の投入のホットスポットになっていた。その中で、天然ガス(又は石炭)からメタノールを製造する単系列、大規模工業化の技術は、すでに成熟している。したがって、メタノールからオレフィンを製造する技術が、非石油コースで低級オレフィンを製造するに際して、最も重要な技術になっている。
1977年、アメリカモービル(Mobil)会社が、メタノールのオレフィンへの転化反応(MTO)に用いられる触媒として、はじめてZSM−5ゼオライト分子ふるいを用い、画期的な成果を獲得した(US5367100)。ZSM−5ゼオライトは直管線形(straight pipe line shape)の孔道構造を有するメソ孔ゼオライトであり、その優れた形状選択作用により、高い軽質オレフィン収率を獲得できるが、酸性が余りに強く、エチレンの選択性をさらに向上させる必要がある。1984年、ユニオンカーバイド社(UCC)が、新規なシリコアルミノリン酸系分子ふるい(SAPO−n)(US4440871)を開発したが、このSAPO分子ふるいは結晶シリコアルミノリン酸塩であり、PO 、AlO 及びSiOの四面体で三次元骨格構造を構成している。シリコアルミノリン酸系分子ふるいが出現した後、SAPO−17,SAPO−18,SAPO−34,SAPO−44などの細孔で酸性が適宜な分子ふるいはMTO反応に用いられてきた(US4499327)。これらの分子ふるいの口径は約0.43nmであり、良い形状選択性触媒である。その中で、SAPO−34分子ふるいは、適宜な酸性と孔道構造を有し、MTO反応において優れた触媒性能を示すので、目前の研究ホットスポットになっている。なお、遷移金属を上述の分子ふるい骨格に導いてなるMeAPSO分子ふるいもMTO反応において高い低級オレフィン選択性を示した(J.Mol.Catal.A160(2000)437、CN1108867、CN1108868、CN1111091、CN1108869、CN1132698、CN1108870)。
上述の分子ふるいは、良いMTO触媒性能を有しているが、直接に工業生産に応用することはできない。工業触媒と言えば、一般的に高い触媒性能を保持できるとともに、一定の強度、適宜な形状及び適当な粒径を有することが要求されている。メタノールのオレフィンへの転化反応における触媒も、必ず上述の条件を満たさなければならなく、上記の全ての条件を満たす場合のみに工業装置に応用できる。通常、メタノールのオレフィンへの転化反応においては、循環流動床操作模式を取っており、触媒は、適宜な粒度分布を有するミクロスフィア状を呈している。文献での報告から分かるように、ミクロスフィア触媒はいずれも分子ふるいのような活性物質と粘着剤からなり、粘着剤は活性物質を分散させ、触媒の強度を向上させる作用を起こしている。また、触媒中の非活性成分の存在は、分子ふるいを希釈して反応熱効果を低下させる作用も起こしている。たとえば、US5126298には、高強度クラッキング触媒の製造方法が開示されている。具体的に、異なる2種の粘土、ゼオライト分子ふるい及びリン含有化合物にてpH<3のスラリーを調製した後、噴霧乾燥することにより上記触媒を得ることが開示されている。US5248647には、SAPO−34分子ふるい、カオリナイト及びシリカゾルでスラリーを調製した後さらに噴霧乾燥する方法が開示されている。US6153552には、SAPO分子ふるい、無機酸化物ゾル及びリン含有化合物を混合して噴霧乾燥することによりSAPO分子ふるいを含むミクロスフィア触媒を製造する方法が開示されている。US6787501には、SAPO−34分子ふるい、粘着剤及び下層材料(substrate material)を噴霧乾燥して製造したメタノール転化用触媒が開示されている。CN01132533Aには、メタノールの転化に用いられる耐磨耗指数触媒の製造方法が開示されており、該方法では、触媒における分子ふるいの質量含量を低下させることにより触媒の磨耗指数を低下させる効果を得ていた。
これらのミクロスフィア触媒の製造についての文献報告では、いずれも使用原料の点から、適宜な製造条件を探索している。もし直接に、元素組成の点から触媒の製造方法を工夫すれば、研究ワークステーションを新たな高さに位置させることができ、より本質的な面から触媒の設計及び製造を行うことができると考えられるが、いままで、この方面での研究については、また発表された文献報道がない。
本発明は、酸素含有化合物のオレフィンへの転化反応に用いられるミクロスフィア触媒及びその製造方法を提供することを目的とする。
本発明の触媒は、酸化ケイ素、酸化リン及び酸化アルミニウムを含んでなるか、或は、酸化ケイ素、酸化リン及び酸化アルミニウムを含むと共に、アルカリ土類金属酸化物及び遷移金属酸化物を含んでなる触媒であって、前記各成分の質量含有量が、酸化ケイ素2〜60%、酸化リン8〜50%、酸化アルミニウム20〜70%、アルカリ土類金属酸化物0〜10%、遷移金属酸化物0〜20%であり、かつ、各成分の質量含有量の和が100%であることを満たすことを特徴としている。
本発明は、さらに以下のことを特徴とする。
触媒に用いられるケイ素源、アルミニウム源及びリン源は、SAPO分子ふるい又はMeAPSO分子ふるいに由来する。ケイ素源は、シリカゾルとカオリナイトの中から選ばれる1種又は2種の混合物に由来することもできる。アルミニウム源は、アルミナゾル、擬ベーマイト(pseudobochmite)、擬ベーマイト(pseudo boehmite)、カオリナイトの中から選ばれる1種又はこれらの混合物に由来することもできる。リン源は、リン酸、リン酸水素ジアンモニウム、リン酸水素アンモニウムの中から選ばれる1種又は2種の混合物に由来することもできる。アルカリ土類金属はカルシウム、ストロンチウム及びバリウムの酸化物、無機塩類または有機塩類の中から選ばれる1種又は任意の複数種の混合物に由来する。遷移金属はMeAPSO分子ふるい;チタン、バナジウム、クロム、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、銅、亜鉛、ジルコニウムなどの酸化物、無機塩類または有機塩類の中から選ばれる1種又は任意の複数種の混合物に由来するものである。
本発明は、さらに以下のことを特徴とする。
触媒活性物質として、SAPOとMeAPSO分子ふるいを用い、触媒中の酸化物質量含有量は、15〜50%である。分子ふるいは、SAPO−17、MeAPSO−17、SAPO−18、MeAPSO−18、SAPO−34、MeAPSO−34、SAPO−35、MeAPSO−35、SAPO−44、MeAPSO−44、SAPO−56、MeAPSO−56の中から選ばれる1種又は任意の複数種の混合物である。MeAPSO分子ふるいに含まれる金属は、チタン、バナジウム、クロム、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、銅、亜鉛、ジルコニウムなどの中から選ばれる1種又は任意の複数種の混合物である。一部のSAPO分子ふるいとMeAPSO分子ふるいの合成については、本出願人の査定特許CN1037334、CN1038125、CN1131845、CN1108867、CN1108868、CN1111091、CN1108869、CN1132698、CN1108870を参照。
本発明は、ミクロスフィア触媒の磨耗指数が2より小さく、ミクロスフィアの直径が2〜220nmの範囲にあることを特徴とする。
本発明による酸素含有化合物のオレフィンへの転化反応に用いられるミクロスフィア触媒の製造方法は、以下の製造工程を有することを特徴とする。
a)SAPOまたはMeAPSO分子ふるいと、造孔剤と、ほかのケイ素、リン、アルミニウム、アルカリ土類金属及び遷移金属を含む原料と、脱イオン水とを混合する工程;
但し、各成分の配合比率は以下の通りである(酸化物の質量比で)、
SiO/SAPO=0〜2.5 SiOはシリカゾルに由来する。
Al/SAPO=0〜4.5 Alは、アルミナゾル、擬ベーマイト(pseudobochmite)、擬ベーマイト(pseudo boehmite)の中から選ばれる1種又はこれらの混合物に由来する。
/SAPO=0〜3.0
T/SAPO=0〜5.0 Tはカオリナイトである。
AO/SAPO=0〜0.7 AOはアルカリ土類金属酸化物である。
MeO/SAPO=0〜1.3 MeOは遷移金属酸化物である。
O/SAPO=1.0〜37.0
b)工程a)により得たスラリーを撹拌し、コロイドミルでコロイド化させることにより、含まれている顆粒の直径を低下させる工程(ここで、コロイド化された後のスラリーに含まれる顆粒直径が20μmより小さく、90%の顆粒直径が10μmより小さく、70%の顆粒直径が5μmより小さい);
c)噴霧乾燥方法を利用して、工程b)により得たスラリーを乾燥し、ミクロスフィア状顆粒を製造する工程;
d)前記ミクロスフィア状顆粒を500〜800℃で焼成して、酸素含有化合物のオレフィンへの転化反応に用いられる触媒を得る工程。
前記の工程a)において加えた造孔剤は、天然セスバニア粉(sesbania power)またはデンプンであり、添加量は全無機酸化物の全体質量の0.01〜3%である。前記の工程c)において、前記噴霧乾燥装置は圧力式または遠心式である。
本発明により製造されたミクロスフィア触媒は、酸素含有化合物のオレフィンへの転化反応に直接的に応用できる。
以下実施例によって本発明をより詳しく説明する。
実施例1(ケイ素−リン−アルミニウム系触媒)
2.0kgのシリカゾル(SiO含有量30wt%)と、0.94kgのカオリナイト(水分含有量15wt%、焼成した後固体中のSiO含有量53wt%、Al含有量45wt%)と、0.72kgのSAPO−34分子ふるい粉とを、この順に3kgの脱イオン水に加え、最後に10gのセスバニア粉(少量のエタノールで浸潤)を加えて、30分間撹拌した。最後に得られるスラリー中の顆粒直径の70%が5μmより小さくなる(粒度分布は丹東市百特儀器有限公司制BT−9300型レーザー粒度分布測定装置にて測定)ように、スラリー液をコロイドミルでコロイド化させた。スラリーを噴霧乾燥させ(圧力式噴霧乾燥装置)、得られた噴霧乾燥製品を650℃の空気中で4時間焼成して、酸素含有化合物のオレフィンへの転化反応に用いられるミクロスフィア触媒を得た。
実施例2(ケイ素−リン−アルミニウム系触媒)
3.0kgのアルミナゾル(Al含有量20wt%)と、0.94kgのカオリナイト(水分含有量15wt%、焼成した後固体中のSiO含有量53wt%、Al含有量45wt%)と、0.72kgのSAPO−34分子ふるい原粉とを、順に2kgの脱イオン水に加え、最後に15gのセスバニア粉(少量のエタノールで浸潤)を加えて、30分間撹拌した。最後に得られるスラリー中の顆粒直径の70%が5μmより小さくなる(粒度分布は丹東市百特儀器有限公司制BT−9300型レーザー粒度分布測定装置にて測定)ように、スラリー液をコロイドミルでコロイド化させた。スラリーを噴霧乾燥させ(圧力式噴霧乾燥装置)、得られた噴霧乾燥製品を650℃の空気中で4時間焼成して、酸素含有化合物のオレフィンへの転化反応に用いられるミクロスフィア触媒を得た。
実施例3(ケイ素−リン−アルミニウム系触媒)
1.69kgのリン酸(HPO含有量85wt%)と、9kgの脱イオン水と、2.95kgの擬ベーマイト(pseudobochmite)(Al含有量70wt%)とを混合し、30分間撹拌して、リン酸アルミニウムゲルを製造した。1.56kgのSAPO−34分子ふるい粉と、0.83kgのシリカゾル(含有量30wt%)と、10kgの脱イオン水とを混合して、20分間撹拌し、その後、前記のゲルに加えた。スラリー液において酸化物固体含有量は20wt%であった。最後に20gのセスバニア粉(少量のエタノールで浸潤)を加えて、30分間撹拌した。最後に得られるスラリー中の顆粒直径の70%が5μmより小さくなる(粒度分布は丹東市百特儀器有限公司制BT−9300型レーザー粒度分布測定装置にて測定)ように、スラリー液をコロイドミルでコロイド化させた。スラリーを噴霧乾燥させ(遠心式噴霧乾燥装置)、得られた噴霧乾燥製品を650℃の空気中で4時間焼成して、酸素含有化合物のオレフィンへの転化反応に用いられるミクロスフィア触媒を得た。
実施例4(ケイ素−リン−アルミニウム系触媒)
1.33kgのシリカゾル(SiO含有量30wt%)と、0.94kgのカオリナイト(水分含有量15wt%、焼成した後固体中のSiO含有量53wt%、Al含有量45wt%)と、0.72kgのSAPO−34分子ふるい原粉と、1.0kgのアルミナゾル(Al含有量20wt%)とを、順に1.72kgの脱イオン水に加え、最後に5gのセスバニア粉(少量のエタノールで浸潤)を加えて、30分間撹拌した。最後に得られるスラリー中の顆粒直径の70%が5μmより小さくなる(粒度分布は丹東市百特儀器有限公司制BT−9300型レーザー粒度分布測定装置にて測定)ように、スラリー液をコロイドミルでコロイド化させた。スラリーを噴霧乾燥させ(遠心式噴霧乾燥装置)、得られた噴霧乾燥製品を650℃の空気中で4時間焼成して、酸素含有化合物のオレフィンへの転化反応に用いられるミクロスフィア触媒を得た。
実施例5(ケイ素−リン−アルミニウム系触媒)
0.29kgの擬ベーマイト(pseudobochmite)(含有量70wt%)と、0.71kgのカオリナイト(水分含有量15wt%、焼成した後固体中のSiO含有量53wt%、Al含有量45wt%)と、0.84kgのSAPO−34分子ふるい原粉と、2.5kgのアルミナゾル(Al含有量20wt%)とを、順に1.37kgの脱イオン水に加え、最後に10gの小麦デンプン(少量のエタノールで浸潤)を加えて、30分間撹拌した。最後に得られるスラリー中の顆粒直径の70%が5μmより小さくなる(粒度分布は丹東市百特儀器有限公司制BT−9300型レーザー粒度分布測定装置にて測定)ように、スラリー液をコロイドミルでコロイド化させた。スラリーを噴霧乾燥させ(遠心式噴霧乾燥装置)、得られた噴霧乾燥製品を650℃の空気中で4時間焼成して、酸素含有化合物のオレフィンへの転化反応に用いられるミクロスフィア触媒を得た。
実施例6(ケイ素−リン−アルミニウム系触媒)
1.0kgのシリカゾル(SiO含有量30wt%)と、0.94kgのカオリナイト(水分含有量15wt%、焼成した後固体中のSiO含有量53wt%、Al含有量45wt%)と、1.08kgのSAPO−34分子ふるい原粉とを、順に2.69kgの脱イオン水に加え、最後に10gのセスバニア粉(少量のエタノールで浸潤)を加えて、30分間撹拌した。最後に得られるスラリー中の顆粒直径の70%が5μmより小さくなる(粒度分布は丹東市百特儀器有限公司制BT−9300型レーザー粒度分布測定装置にて測定)ように、スラリー液をコロイドミルでコロイド化させた。スラリーを噴霧乾燥させ(圧力式噴霧乾燥装置)、得られた噴霧乾燥製品を650℃の空気中で4時間焼成して、酸素含有化合物のオレフィンへの転化反応に用いられるミクロスフィア触媒を得た。
実施例7(ケイ素−リン−アルミニウム−アルカリ金属系触媒)
0.67kgのシリカゾル(SiO含有量30wt%)と、0.71kgのカオリナイト(水分含有量15wt%、焼成した後固体中のSiO含有量53wt%、Al含有量45wt%)と、0.72kgのSAPO−34分子ふるい原粉と、2.5kgのアルミナゾル(Al含有量20wt%)とを、順に混合して撹拌した。0.2kgの硝酸ストロンチウム(SrO含有量49wt%)を0.2kgの脱イオン水に加え、撹拌して溶解し、その後、硝酸ストロンチウム溶液を前記の混合スラリー液に加え、最後に10gのセスバニア粉(少量のエタノールで浸潤)を加えて、30分間撹拌した。最後に得られるスラリー中の顆粒直径の70%が5μmより小さくなる(粒度分布は丹東市百特儀器有限公司制BT−9300型レーザー粒度分布測定装置にて測定)ように、スラリー液をコロイドミルでコロイド化させた。スラリーを噴霧乾燥させ(遠心式噴霧乾燥装置)、得られた噴霧乾燥製品を650℃の空気中で4時間焼成して、酸素含有化合物のオレフィンへの転化反応に用いられるミクロスフィア触媒を得た。
実施例8(ケイ素−リン−アルミニウム−遷移金属系触媒)
1.25kgの炭酸ジルコニウム(ZrO含有量40wt%)と、5kgの脱イオン水と、5kgのシリカゾル(SiO含有量30wt%)とを、順に混合して20分間撹拌した。1.76kgのカオリナイト(水分含有量15wt%、焼成した後固体中のSiO含有量53wt%、Al含有量45wt%)と、1.8kgのSAPO−34分子ふるいと、5kgの水とを、順に混合して20分間撹拌した。2種のスラリー液を混合して20分間撹拌した。最後に15gのセスバニア粉(少量のエタノールで浸潤)を加えて、30分間撹拌した。最後に得られるスラリー中の顆粒直径の70%が5μmより小さくなる(粒度分布は丹東市百特儀器有限公司制BT−9300型レーザー粒度分布測定装置にて測定)ように、スラリー液をコロイドミルでコロイド化させた。スラリーを噴霧乾燥させ(圧力式噴霧乾燥装置)、得られた噴霧乾燥製品を650℃の空気中で4時間焼成して、酸素含有化合物のオレフィンへの転化反応に用いられるミクロスフィア触媒を得た。
実施例9(ケイ素−リン−アルミニウム−遷移金属系触媒)
1.33kgのシリカゾル(SiO含有量30wt%)と、0.82kgのカオリナイト(水分含有量15wt%、焼成した後固体中のSiO含有量53wt%、Al含有量45wt%)と、0.84kgのZnSAPO−34分子ふるい(酸化亜鉛含有量2wt%)と、1.0kgのアルミナゾル(Al含有量20wt%)とを、順に2.68kgの脱イオン水に加えて、20分間撹拌した。最後に5gのセスバニア粉(少量のエタノールで浸潤)を加えて、30分間撹拌した。最後に得られるスラリー中の顆粒直径の70%が5μmより小さくなる(粒度分布は丹東市百特儀器有限公司制BT−9300型レーザー粒度分布測定装置にて測定)ように、スラリー液をコロイドミルでコロイド化させた。スラリーを噴霧乾燥させ(遠心式噴霧乾燥装置)、得られた噴霧乾燥製品を650℃の空気中で4時間焼成して、酸素含有化合物のオレフィンへの転化反応に用いられるミクロスフィア触媒を得た。
実施例10(ケイ素−リン−アルミニウム−アルカリ土類金属−遷移金属系触媒)
0.5kgの炭酸ジルコニウム(ZrO含有量40wt%)と、3.19kgの脱イオン水と、1.67kgのシリカゾル(SiO含有量30wt%)と、0.71kgのカオリナイト(水分含有量15wt%、焼成した後固体中のSiO含有量53wt%、Al含有量45wt%)と、0.72kgのSAPO−34分子ふるいとを、順に混合して20分間撹拌した。0.21kgの硝酸ストロンチウム(SrO含有量49wt%)を1.0kgの脱イオン水に加え、撹拌して溶解し、その後、硝酸ストロンチウム溶液を前記の混合スラリー液に加えて、20分間撹拌した。最後に5gのセスバニア粉(少量のエタノールで浸潤)を加えて、30分間撹拌した。最後に得られるスラリー中の顆粒直径の70%が5μmより小さくなる(粒度分布は丹東市百特儀器有限公司制BT−9300型レーザー粒度分布測定装置にて測定)ように、スラリー液をコロイドミルでコロイド化させた。スラリーを噴霧乾燥させ(遠心式噴霧乾燥装置)、得られた噴霧乾燥製品を650℃の空気中で4時間焼成して、酸素含有化合物のオレフィンへの転化反応に用いられるミクロスフィア触媒を得た。
比較例1(ケイ素−リン−アルミニウム系触媒)
3.33kgのシリカゾル(SiO含有量30wt%)と、0.47kgのカオリナイト(水分含有量15wt%、焼成した後固体中のSiO含有量53wt%、Al含有量45wt%)と、0.72kgのSAPO−34分子ふるい原粉とを、順に3kgの脱イオン水に加え、最後に10gのセスバニア粉(少量のエタノールで浸潤)を加えて、30分間撹拌した。最後に得られるスラリー中の顆粒直径の70%が5μmより小さくなる(粒度分布は丹東市百特儀器有限公司制BT−9300型レーザー粒度分布測定装置にて測定)ように、スラリー液をコロイドミルでコロイド化させた。スラリーを噴霧乾燥させ(圧力式噴霧乾燥装置)、得られた噴霧乾燥製品を650℃の空気中で4時間焼成して、酸素含有化合物のオレフィンへの転化反応に用いられるミクロスフィア触媒を得た。
実施例11(ケイ素−リン−アルミニウム系触媒)
実施例1、2、3、4、5、6、7、8、10及び比較例における触媒の元素組成(X線蛍光分析法を採用して測定)と粒度分布(丹東市百特儀器有限公司制BT−9300型レーザー粒度分布測定装置にて測定)は表1に示した。表1から分かるように、比較例1のサンプルを除いて、別のサンプルの元素組成はいずれも本発明が保護を請求する触媒の元素組成範囲内にあった。
実施例1〜10で得られた触媒サンプルの磨耗指数を測定した結果、全てのサンプルの磨耗指数はいずれも1.5より小さかった。比較例1で得られた触媒サンプルの磨耗指数を測定した結果、磨耗指数は5であった。
磨耗指数の測定方法:約7gの触媒サンプルを内径2.5cm程度のグースネックチューブ(gooseneck tube)に入れ、この管中を、流速20L/minの湿空気を通過させて、流動環境を提供した。触媒から吹き出された触媒細粉を特製のフィルター・バッケに収集し、4時間にかけてテストを行った。触媒の初期入れ量の1時間あたりの平均損失質量パーセントによって磨耗指数を求めた。
比較例1のサンプルの高い磨耗指数は、あきらかに適宜でない元素組成と関係がある。本発明によれば、直接に元素組成の点からミクロスフィア触媒の設計を行い、触媒の製造初期に各原料成分の使用量について引導することができ、触媒の製造過程における盲目性を避けるので、低い磨耗指数を有するミクロスフィア触媒を獲得できる。
Figure 2010500157
実施例12
実施例1、2、3、4、8、10で得られた触媒について、メタノールを低級オレフィンへ転化させる(MTO)反応の評価を行った。
評価条件:10gのサンプルを量って、固定流動床反応器に入れ、先に、サンプルを、流速が40ml/minの窒素の存在下で550℃に加熱して、30分間活性化させた後、温度を500℃までに下げて化学反応させた。窒素の通過を中止させ、ミクロ・ポンプ(micro pump)で、40wt%のメタノール水溶液を、重量空間速度WHSV2.0h−1で投入した。反応生成物をオンライン・ガス・クロマトグラフで分析した。その結果は表2に示した通りである。
表2から分かるように、これらの触媒はメタノールをオレフィンへ転化させる反応においていずれも高い低級オレフィン選択性を示した。
Figure 2010500157

Claims (18)

  1. 酸化ケイ素、酸化リン及び酸化アルミニウムを含んでなるか、或は、酸化ケイ素、酸化リン及び酸化アルミニウムを含むと共に、アルカリ土類金属酸化物及び遷移金属酸化物を含んでなる触媒であって、前記各成分の質量含有量が、酸化ケイ素2〜60%、酸化リン8〜50%、酸化アルミニウム20〜70%、アルカリ土類金属酸化物0〜10%、遷移金属酸化物0〜20%であり、かつ、各成分の質量含有量の和が100%であることを特徴とする、酸素含有化合物のオレフィンへの転化反応に用いられるミクロスフィア触媒。
  2. 前記ミクロスフィアの直径が2〜220μmの範囲にあることを特徴とする、請求項1に記載のミクロスフィア触媒。
  3. 前記酸化ケイ素用のケイ素源、前記酸化アルミニウム用のアルミニウム源及び前記酸化リン用のリン源が、シリコアルミノリン酸SAPO分子ふるいまたは金属を含むシリコアルミノリン酸MeAPSO分子ふるいに由来するものであることを特徴とする、請求項1に記載のミクロスフィア触媒。
  4. 前記酸化ケイ素用のケイ素源が、シリカゾルとカオリナイトの中から選ばれる1種又は2種の混合物に由来するものであり、酸化ケイ素のミクロスフィア触媒における全質量含有量が5〜55%であることを特徴とする、請求項1に記載のミクロスフィア触媒。
  5. 前記酸化アルミニウム用のアルミニウム源が、アルミナゾル、擬ベーマイト(pseudobochmite)、擬ベーマイト(pseudo boehmite)、カオリナイトの中から選ばれる1種又はこれらの混合物に由来するものであり、酸化アルミニウムのミクロスフィア触媒における全質量含有量が25〜65%であることを特徴とする、請求項1に記載のミクロスフィア触媒。
  6. 前記酸化リン用のリン源が、リン酸、リン酸水素ジアンモニウム、リン酸水素アンモニウムの中から選ばれる1種又は2種の混合物に由来するものであり、酸化リンのミクロスフィア触媒における全質量含有量が10〜45%であることを特徴とする、請求項1に記載のミクロスフィア触媒。
  7. 前記アルカリ土類金属酸化物が、カルシウム、ストロンチウム又はバリウムの酸化物、無機塩類または有機塩類の中から選ばれる1種又は任意複数種の混合物に由来するものであり、アルカリ土類金属酸化物のミクロスフィア触媒における全質量含有量が0〜8%であることを特徴とする、請求項1に記載のミクロスフィア触媒。
  8. 前記遷移金属酸化物が、MeAPSO分子ふるい;チタン、バナジウム、クロム、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、銅、亜鉛、ジルコニウムの酸化物、無機塩類または有機塩類の中から選ばれる1種又は任意複数種の混合物、に由来するものであり、遷移金属酸化物のミクロスフィア触媒における全質量含有量が0〜16%であることを特徴とする、請求項1に記載のミクロスフィア触媒。
  9. 前記ミクロスフィア触媒が、噴霧乾燥方法により乾燥、成形されてなるものであることを特徴とする、請求項1に記載のミクロスフィア触媒。
  10. 前記触媒の磨耗指数が2未満であることを特徴とする、請求項1に記載のミクロスフィア触媒。
  11. 前記触媒が、直接に酸素含有化合物のオレフィンへの転化反応に応用できることを特徴とする、請求項1に記載のミクロスフィア触媒。
  12. 前記のSAPO又はMeAPSO分子ふるいが触媒の活性成分であり、触媒中の酸化物質量含有量が、15〜50%であることを特徴とする、請求項3に記載のミクロスフィア触媒。
  13. 前記MeAPSO分子ふるいに含まれる金属が、チタン、バナジウム、クロム、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、銅、亜鉛、ジルコニウムの中から選ばれる1種又は任意複数種の混合物であることを特徴とする、請求項3に記載のミクロスフィア触媒。
  14. 前記のSAPO又はMeAPSO分子ふるいが、SAPO−17、MeAPSO−17、SAPO−18、MeAPSO−18、SAPO−34、MeAPSO−34、SAPO−44、MeAPSO−44、SAPO−35、MeAPSO−35、SAPO−56、MeAPSO−56の中から選ばれる1種又は任意複数種の混合物であることを特徴とする、請求項3に記載のミクロスフィア触媒。
  15. 以下の製造工程を含むことを特徴とする請求項1に記載のミクロスフィア触媒の製造方法。
    a)SAPO又はMeAPSO分子ふるいと、造孔剤と、他のケイ素、リン、アルミニウム、アルカリ土類金属及び遷移金属を含む原料と、脱イオン水とを混合する工程;
    但し、各成分の配合比率は以下の通りである(酸化物の質量比で)、
    SiO/SAPO=0〜2.5 SiOはシリカゾルに由来する。
    Al/SAPO=0〜4.5 Alは、アルミナゾル、擬ベーマイト(pseudobochmite)、擬ベーマイト(pseudo boehmite)の中から選ばれる1種又はこれらの混合物に由来する。
    /SAPO=0〜3.0
    T/SAPO=0〜5.0 Tはカオリナイトである。
    AO/SAPO=0〜0.7 AOはアルカリ土類金属酸化物である。
    MeO/SAPO=0〜1.3 MeOは遷移金属酸化物である。
    O/SAPO=1.0〜37.0
    b)工程a)により得たスラリーを撹拌し、コロイドミルでコロイド化させることにより、含まれている顆粒の直径を低下させる工程;
    その中で、コロイド化された後スラリーに含まれる顆粒直径が20μmより小さく、90%の顆粒直径が10μmより小さく、70%の顆粒直径が5μmより小さい。
    c)噴霧乾燥方法を利用して、工程b)により得たスラリーを乾燥し、ミクロスフィア状顆粒を製造する工程;
    d)前記ミクロスフィア状顆粒を500〜800℃で焼成して、酸素含有化合物のオレフィンへの転化反応に用いられる触媒を得る工程。
  16. 前記工程a)において加えた造孔剤が、天然セスバニア粉又はデンプンであることを特徴とする、請求項15に記載の製造方法。
  17. 前記工程a)において加えた造孔剤の量が、全無機酸化物の全体質量の0.01〜3%であることを特徴とする、請求項15に記載の製造方法。
  18. 前記の工程c)において用いた噴霧乾燥装置が、圧力式または遠心式であることを特徴とする、請求項15に記載の製造方法。
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