JP2010147954A - 音叉型圧電振動片および圧電デバイス - Google Patents

音叉型圧電振動片および圧電デバイス Download PDF

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Abstract

【課題】 音叉型圧電振動片を小型化した場合であっても、振動腕の先端部の周波数調整用の肉薄部を薄くすることにより、周波数調整用の肉薄部の金属膜のトリミングによって周波数が変化する量(周波数可変量)を大きくする。
【解決手段】 音叉型圧電振動片(20)は、圧電材からなる基部(23)と、この基部から第一厚さで平行に伸びる一対の振動腕(21)と、振動腕に形成された励振電極膜(33,34)と、第一厚さよりも薄い第二厚さで振動腕(21)の先端に形成された一対の周波数調整用の肉薄部(28)と、周波数調整用の肉薄部の少なくとも片面に形成された金属膜(18)と、を備える。
【選択図】 図5

Description

本発明は、圧電材料よりなる音叉型圧電振動片及びこの圧電振動片を有する圧電デバイスを製造する技術に関する。
従来、時計や家電製品、各種情報・通信機器やOA機器等の民生・産業用電子機器には、その電子回路のクロック源として圧電振動子、圧電振動片とICチップとを同一パッケージ内に封止した発振器やリアルタイムクロックモジュール等の圧電デバイスが広く使用されている。特に最近、これら圧電デバイスは、それを搭載する電子機器の小型化・薄型化に伴い、より一層の小型化・薄型化が要求されている。
ところで、近年の電子機器の小型化に伴って、この電子機器に用いられる圧電デバイスに小型化した音叉型圧電振動片が求められている。小型化した音叉型圧電振動片は一対の振動腕を有するが、その一対の振動腕の腕長さが短くなり、振動腕の幅が細くなっている。ところが、音叉型圧電振動片の周波数は音叉型圧電振動片の振動腕の長さの2乗に反比例するため、振動腕の長さを短くしてしまうと周波数が高くなってしまう。特許文献1によれば、振動腕の一定位置よりも先端側は腕幅を拡大している。振動腕の先端を重くすることによって、音叉型圧電振動片の周波数を下げている。
ところで、特許文献1は、これらの音叉型圧電振動片の振動腕の先端の周波数調整膜にレーザービームを照射して周波数調整膜の一部をトリミングすることによって周波数を調整することを開示している。例えば表面実装型(SMD)の音叉型圧電振動子が3.2mm×1.5mmサイズであると、その中に入れられる音叉型圧電振動片の振動腕の周波数調整膜の面積は例えば600μm×100μmである。小型化されたSMDの音叉型圧電振動子は2.0mm×1.2mmサイズとなり、その中に入れられる音叉型圧電振動片の振動腕の周波数調整膜の面積は、例えば400μm×60μmとなり当初の約1/2.5の面積に縮小している。
特開2005−354649号公報
しかしながら、水晶単結晶ウエハに多数の小型の音叉型圧電振動片を製造すると、振動腕の長さが短くなり振動腕の幅が細くなるため、個々の音叉型圧電振動片の周波数のバラツキが大きくなる。この周波数のバラツキを抑え又は無くし、所定の周波数にするため、レーザービームを照射して周波数調整膜の一部をトリミングする。しかし、音叉型圧電振動片の振動腕の周波数調整膜の面積が小さくなるために、調整膜の周波数可変量が小さく所定の周波数に調整できないことがある。
本発明の目的は、音叉型圧電振動片を小型化した場合であっても、振動腕の先端部の周波数調整用の肉薄部を薄くすることにより、周波数調整用の肉薄部の金属膜のトリミングによって周波数が変化する量(以下、周波数可変量と呼称する)を大きくする。この構成によって、水晶単結晶ウエハに多数の小型の音叉型圧電振動片を製造しても、それら小型の音叉型圧電振動片を所定の周波数に調整することができる。
第1の観点の音叉型圧電振動片は、圧電材からなる基部と、この基部から第一厚さで平行に伸びる一対の振動腕と、振動腕に形成された励振電極膜と、第一厚さよりも薄い第二厚さで振動腕の先端に形成された一対の周波数調整用の肉薄部と、周波数調整用の肉薄部の少なくとも片面に形成された金属膜と、を備える。
上記構成によれば、周波数可変量が大きくなる。音叉型圧電振動片が所定の周波数内に入っていない場合には周波数調整用の肉薄部の金属膜のトリミングを行うが、小型化が進んだ音叉型圧電振動片は周波数調整用の肉薄部が小さいため周波数を調整しきれない場合がある。第1の観点の構成により、小型化が進んだ音叉型圧電振動片であっても周波数を調整することができる。
第2の観点の音叉型圧電振動片は、励振電極膜の厚さと金属膜の厚さとが同じである。
すなわち、特に周波数調整用の肉薄部の金属膜を厚くしなくても周波数可変量が大きいため、周波数を調整することができる。
第3の観点の音叉型圧電振動片は、振動腕から肉薄部へ変更する変更点で振動腕の第一幅と肉薄部の第二幅とが異なっており、第二幅は第一幅よりも広い。
第4の観点の音叉型圧電振動片は、第3の観点において、肉薄部の第二幅が肉薄部の先端から変更点にかけて一定幅である。
第5の観点の音叉型圧電振動片は、第3の観点において、肉薄部の第二幅が肉薄部の先端から変更点にかけて幅が変更する。
第6の観点の音叉型圧電振動片は、第5の観点において、肉薄部の先端から変更点にかけて幅が金属膜の単位面積当たりの剥離に対する周波数可変量に対応している。
これらの観点により、周波数調整用の肉薄部の幅を調整することにより、振動腕の励振時の周波数や周波数可変量の範囲を調整できる。
第7の観点の音叉型圧電振動片は、第3の観点において、一対の肉薄部が励振時にぶつからないように、厚さ方向に異なった位置に一対の肉薄部が形成されている。
周波数調整用の肉薄部の幅を広くしたほうが周波数可変量の範囲を大きくできるが、隣同士の周波数調整用の肉薄部がぶつかってしまうおそれがある。第7の観点の構成により、周波数調整用の肉薄部の幅を広くしても隣同士の周波数調整用の肉薄部がぶつかるおそれが無い。
第8の観点の圧電デバイスは、上記いずれかの観点の音叉型圧電振動片と、圧電振動片を覆う蓋部と、圧電振動片を支えるベースと、を備える。
第9の観点の圧電フレームは、圧電材からなる基部の一端側から平行に伸びる第一厚さの一対の振動腕と、基部から振動腕に形成され、振動腕を励振する励振電極膜と、第一厚さよりも薄い第二厚さで振動腕の先端に形成された一対の周波数調整用の肉薄部と、周波数調整用の肉薄部の少なくとも片面に形成された金属膜と、一対の振動腕の両外側において基部の一端側から平行に伸びる一対の支持腕と、支持腕と接続されるとともに基部及び振動腕を囲む外枠部と、を備える。
第10の観点の音叉型圧電振動片の製造方法は、基部から第一厚さで平行に伸びる一対の振動腕を有する音叉型圧電振動片を製造する方法である。この方法は、音叉型圧電振動片の外形を音叉型圧電振動片の外形に対応する第一マスクを使って第一厚さの圧電ウエハを露光する第一露光工程と、振動腕の先端に形成される周波数調整用の肉薄部と振動腕の根元部に形成される溝部とを周波数調整用の肉薄部と溝部とに対応する第二マスクを使って圧電ウエハを露光する第二露光工程と、第一露光工程による圧電ウエハをエッチングする第一エッチング工程と、第二露光工程による圧電ウエハをエッチングする第二エッチング工程と、を備える。
上記構成によれば、振動腕の溝部を形成すると同時に薄い周波数調整用の肉薄部を形成することができる。特に作業工程を増やすことなく小型化が進んだ音叉型圧電振動片の周波数を調整することができる。
本発明の圧電振動片は、小型化してもCI値の劣化を抑え、優れた振動特性を備える。この圧電振動片を使った圧電デバイスは、小型化の要望に応えることができる。
以下、図面を参照しながら本発明の実施形態を説明する。
<第1音叉型水晶振動片20の構成>
<<実施形態1>>
図1(a)は、第1実施形態の第1音叉型水晶振動片20の全体構成を示した上面図であり、(b)は、(a)のA−A断面図である。(c)は、第1音叉型水晶振動片20の一対の振動腕21のB−B断面図である。第1音叉型水晶振動片20の母材は、Zカットに加工された水晶単結晶ウエハで形成されている。図1(a)に示すように、第1音叉型水晶振動片20は、第1基部23−1及び第2基部23−2から構成される基部23と、この第1基部23−1から図1において右方に向けて、二股に別れて平行に延びる一対の振動腕21を備えている。振動腕21の先端には、周波数調整用の肉薄部28を備える。基部23は水晶単結晶ウエハに第1音叉型水晶振動片20が一時的に連結した状態を維持するための連結部27が設けられている。
第1音叉型水晶振動片20は、たとえば32.768kHzで信号を発信する振動片で、極めて小型の振動片となっている。図1(a)において、先端部の周波数調整用の肉薄部28の長さL3は、従来の長さより長くなっている。例えば、振動腕21の先端部までの長さL2と周波数調整用の肉薄部28の長さL3とを合わせた長さは、1.20mmから1.50mmであり、基部23の長さL1は0.20mmから0.50mm程度であり、周波数調整用の肉薄部28の長さL3は0.40mmから0.45mmである。第1音叉型水晶振動片20の全体の長さL0が1.50mmから2.00mm程度である。第1基部23−1の幅W1は0.34mmから0.50mm、第2基部23−2の幅W2は0.40mmから0.60mm程度である。
図1(b)に示されるように、基部23の厚さD1及び振動腕21の厚さD4は、80μmから120μmであり、溝部底部の厚さD2は、20μmから30μmであり、先端の周波数調整用の肉薄部28の厚さD3は、20μmから80μmである。基部23の厚さD1は、振動腕21の厚さD4と同等である。振動腕21の先端の周波数調整用の肉薄部28の厚さD3は、溝部底部の厚さD2と同じ厚さにすることができる。
第1音叉型水晶振動片20の振動腕21の表裏面には、溝部24が形成されている。一本の振動腕21の表面に1つの溝部24が形成されており、振動腕21の裏面側にも同様に1つの溝部24が形成されている。つまり、一対の振動腕21には4箇所の溝部24が形成される。溝部24の深さは、振動腕21の厚さの約35〜45%である。溝部24の幅は、振動腕21の幅の約65〜85%である。85%以上にすると振動腕の強度が弱くなる。表裏面に溝部24があるため、図1(c)に示すように、溝部24の断面は、H型に形成されている。溝部24の長さは、振動腕21の先端部までの長さの70%から77%である。小型化が進むとCI値が上昇するので、溝部24はCI値を下げるために設けられている。
第1音叉型水晶振動片20の基部23は、その全体が板状に形成されている。また、第1基部23−1と第2基部23−2との間に切れ込み部(不図示)を形成してもよい。この切れ込み部を設けて、振動腕21が振動する際に垂直方向成分を有した振動が生じても、振動腕21の振動が第2基部23−1へ漏れる振動を緩和することができる。また、切れ込み部基部23の幅が狭くなっても、基部23の厚さが厚いので、製造途中において破損することが少なくなり、また、衝撃や振動にも強い。第1音叉型水晶振動片20の基部23には、連結部27が2箇所設けられている。連結部27は、水晶単結晶ウエハから、図1に示す音叉形状をフォトリソグラフィおよびウェットエッチングで形成する際に、水晶単結晶ウエハと第1音叉型水晶振動片20とを連結する部分である。
図1(a)に示されるように、第1音叉型水晶振動片20の基部23及び振動腕21には、第1基部電極31と第2基部電極32と第1励振電極33及び第2励振電極34とが形成されている。振動腕21の先端部には、周波数調整用の肉薄部28を備える。第1基部電極31及び第2基部電極32並びに第1励振電極33及び第2励振電極34並びに周波数調整用の肉薄部28の金属膜18は、同一厚さで形成され、150オングストローム〜700オングストロームのクロム(Cr)層の上に400オングストローム〜2000オングストロームの金(Au)層が形成された構成である。クロム(Cr)層の代わりに、チタン(Ti)層を使用してもよく、また金(Au)層の代わりに、銀(Ag)層を使用してもよい。周波数調整用の肉薄部28の金属膜18は第1音叉型水晶振動片20の周波数調整のために設けられる。図1(c)に示されるように、振動腕部21の溝部24には、第1励振電極33及び第2励振電極34並びに側面電極33、34が形成される。
図2(a)は、振動腕21の周波数調整用の肉薄部28の厚さD3と周波数可変量との関係を示す図である。縦軸に周波数調整用の肉薄部の金属膜のトリミングによって周波数が変化する量である周波数可変量を表記している。横軸に周波数調整用の肉薄部28の厚さを表記している。周波数調整用の肉薄部28の金属膜18の厚さと面積とを一定にして周波数調整用の肉薄部28の厚さD3を厚くすると周波数可変量が小さくなる直線関係にある。周波数調整用の肉薄部28の金属膜の厚さと面積とを一定にして、周波数調整用の肉薄部28の厚さD3を薄くする程周波数可変量が大きくなる。周波数調整用の肉薄部28の厚さD3が薄いほど周波数調整が容易になる。
つまり、図1で示された第1音叉型水晶振動片20は、周波数調整用の肉薄部28の厚さD3を薄くして、周波数調整用の肉薄部28の金属膜18の一部をトリミングされる。振動腕の周波数調整膜の面積が小さくても周波数可変量が大きいため、容易に所定の周波数に調整することができる。周波数調整用の肉薄部28の金属膜18は両面に形成されてもよいし、片面にのみ形成されてもよい。
図2(b)は、周波数調整用の肉薄部28の金属膜18の厚さと周波数可変量との関係を示す図である。縦軸に周波数可変量を表記している。横軸に周波数調整用の肉薄部28の金属膜18の厚さを表記している。周波数調整用の肉薄部28の金属膜18の厚さを厚くすると周波数可変量が大きくなる直線関係にある。周波数調整用の肉薄部28の金属膜18の厚さを厚くする程周波数可変量が大きくなる。
図1では特に示さなかったが、第1音叉型水晶振動片20の周波数調整用の肉薄部28に対して金属膜18を厚く形成すれば、振動腕の周波数調整膜の面積が小さくても周波数可変量が大きくできるため、容易に所定の周波数に調整することができる。
図3(a)は、周波数調整用の肉薄部28の幅と厚さとが一定の条件下で、周波数調整用の肉薄部28の金属膜18をトリミングした際に周波数可変量を示す図である。縦軸に周波数可変量(Hz)を表記している。横軸に周波数調整用の肉薄部28の先端からの距離(μm)を表記している。すなわち、周波数可変量は、周波数調整用の肉薄部28の先端ほど大きく、振動腕の基部に向かうほど指数関数的に小さくなることを示している。周波数調整は、周波数調整用の肉薄部28の幅方向に沿って金属膜18にレーザービームを照射して金属膜18の一部を蒸散、昇華させる。例えば、周波数調整用の肉薄部28の金属膜18の先端側を10μmトリミングすれば、周波数可変量は約600Hzであるが、周波数調整用の肉薄部28の金属膜18の基部側を10μmトリミングすると周波数可変量は約50Hzしか変化しない。
図3(b)は、図3(a)に描かれた曲線に基づき形成された周波数調整用の肉薄部28の部分拡大上面図である。周波数調整用の肉薄部28の外周部は、周波数調整用の肉薄部28の先端から振動腕21と周波数調整用の肉薄部28との変更点P1にかけて曲線になって形成される。この周波数調整用の肉薄部28の片側の曲線は図3(a)に示される曲線の半分の傾きになっている。すなわち周波数調整用の肉薄部の幅方向の長さが周波数可変量の逆数に比例し、周波数可変量と幅方向長さとをかけあわせたものが一定になっている。別言すれば図3(a)に示される曲線の周波数可変量を半分にしたグラフと周波数調整用の肉薄部28の片側の曲線と合致する。周波数調整用の肉薄部28の両側が同じ曲線になっているため、周波数調整用の肉薄部28の先端から一定幅Aずつ金属膜18をトリミングすれば、直線的に周波数を調整できる。小型の音叉型水晶振動片を直線的に周波数を調整することができれば、作業効率が上がる。
<第1水晶デバイス100の構成>
以下、本発明の各実施形態にかかる第1水晶デバイス100について、図面を参照して説明する。図4は、本発明の第一実施形態にかかる第1水晶デバイス100の概略図を示している。図4(a)は全体斜視図であり、(b)はガラス製の第1リッド5を取り外した上面図であり、(c)は第1水晶デバイス100のC−C断面図である。説明の都合上図1に描いた電極は省略している。
表面実装型の第1水晶デバイス100は、絶縁性のセラミックパッケージ60と第1音叉型水晶振動片20のパッケージを覆うガラス製の第1リッド5とからなる。第1リッド5は、ホウ珪酸ガラス及びソーダガラスなどから形成される。セラミックパッケージ60は、底面用セラミック層60a、枠用セラミック層60b及び台座60cから成る。セラミックパッケージ60は、酸化アルミニウム質の混練物からなるセラミックグリーンシートを成形して形成される複数の基板を積層し、焼結して形成されている。図4(b)に示されるように、これら複数のセラミック層60a〜60cから構成されたパッケージは、キャビティ54を形成し、このキャビティ54内に第1音叉型水晶振動片20を実装する。
第1音叉型水晶振動片20は、振動腕21および基部23に電極パターンを形成している。基部23の配線パターンは、導電性接着剤59と導通接続する接着領域31a、32aを有している。第1音叉型水晶振動片20は、底面用セラミック層60aと水平になるように導電性接着剤59で接着される。
台座60cの上面の一部には、第1音叉型水晶振動片20の接着領域31a、32aと導通を取る導通配線81が形成されている。セラミックパッケージ60の下面に形成された少なくとも2つの外部電極82は、不図示のプリント基板に表面実装された際の外部端子である。また、内部配線83は導通配線81、外部電極82を接続する電気的導通部である。枠セラミック層60bの上端には、接着剤58が設けられている。
セラミックパッケージ60は、第1音叉型水晶振動片20を収容した後に接着剤58を介して、透明なガラス製の第1リッド5を用いて接合されている。セラミックパッケージ60は、透明なガラス製の第1リッド5を用いているので、真空中で外部から周波数調整用の肉薄部28の金属膜18(図1参照)にレーザービームを照射して周波数調整用の肉薄部28の金属膜18の一部をトリミングされることで、質量削減方式により周波数の微調整を行うことができる。周波数の微調整と検査とを行い第1水晶デバイス100が完成する。
図5ないし図8は、振動腕21及び周波数調整用の肉薄部28の形状を変えた変形例である。第1音叉型水晶振動片20と異なる部分のみ符号が異なり、同じ部分には同じ符号を付している。第2音叉型水晶振動片20A及び第3音叉型水晶振動片20Bの断面図は、第1音叉型水晶振動片20(図1(b)参照)と同一であるので断面図を省略する。図8の第6音叉型水晶振動片20E及び第7音叉型水晶振動片20Fは、上面図を省略する。
図5(a)は、第1変形例の第2音叉型水晶振動片20Aの上面図である。第2音叉型水晶振動片20Aの振動腕21の周波数調整用の肉薄部28は、一定幅で幅広となりハンマー型の形状となっている。ハンマー型の形状部分は周波数調整用の肉薄部28の面積を大きくして、より大きい周波数可変量を得るために薄肉厚の周波数調整用の肉薄部28に形成される。一対の振動腕21は、表面、裏面及び側面に第1励振電極33、第2励振電極34が形成されており、先端部に周波数調整用の肉薄部28の金属膜18が形成されている。第1励振電極33は第1基部電極31につながっており、第2励振電極34は第2基部電極32につながっている。
図5(b)は、第2変形例の第3音叉型水晶振動片20Bの上面図である。図5(b)に示されるように基部23から延びる振動腕21は根元部26から徐々に幅狭になり、くびれ部の第1変更点P1に向かい徐々に幅狭になっている。振動腕21はくびれ部の第1変更点P1を過ぎると振動腕21の先端の第2変更点P2にかけて急激に幅広になり、第2変更点P2を過ぎると振動腕同士が互いに衝突しない幅で徐々に幅広になり薄肉厚の周波数調整用の肉薄部28を形成する。
振動腕21の幅広な根元部分からくびれ部の第1変更点P1にかけて細くなり先端にかけ広くなるため、振動腕21との周波数調整用の肉薄部28の面積比率が大きくなりより大きい周波数可変量を得られる。振動腕21にくびれ部を設けることは、振動腕21の幅をより狭くすることになり、薄肉厚の周波数調整用の肉薄部28との相乗効果が得られる。また、根元部分に集中していた応力が振動腕21の先端方向に移動することで、基部23への振動漏れが減少する。またくびれ部の第1変更点P1の幅を調節することでCI値を抑制しつつ、2次の高調波における発振の防止をすることができ、安定した基本波を発振することができる。
図6(a)は、第3変形例の第4音叉型水晶振動片20Cの斜視図である。図6(a)に示されるように基部23から延びる振動腕21の先端に周波数調整用の肉薄部28が形成されている。周波数調整用の肉薄部28の一方はZ方向から見て上半分の位置に形成され、周波数調整用の肉薄部28の他方は下半分の位置に形成されている。図5に示されたように周波数調整用の肉薄部28の幅を広くすると励振時に互いに中央側に曲がって衝突しやすくなる。そのため周波数調整用の肉薄部28の幅を広げる量には限界がある。しかし図6に示す周波数調整用の肉薄部28は上半分の位置と下半分の位置とに形成されているので、幅広い周波数調整用の肉薄部28が励振してもぶつからない。Z方向から見ると、励振時には幅広い周波数調整用の肉薄部28の一部が重なり合う状態になる。このため、第4音叉型水晶振動片20Cは、周波数調整用の肉薄部28の幅を広く形成することにより周波数調整面積を大きくすることができ、大きい周波数可変量が得ることができる。
図6(b)は、図6(a)の2点鎖線で囲んだ第4音叉型水晶振動片20CをY方向から見た周波数調整用の肉薄部28と振動腕21の模擬図である。但し、図6(b)には金属膜が描かれていない。
一対の振動腕21が励振時にともに矢印方向に振動し、中央側に曲がっている状態を点線で示している。周波数調整用の肉薄部28が最大に励振している際には、領域CRで示されるように周波数調整用の肉薄部28がZ方向から見て重なり合う状態になっている。周波数調整用の肉薄部28は上半分の位置と下半分の位置とに形成されていなければ、周波数調整用の肉薄部28は衝突してしまう。しかし、周波数調整用の肉薄部28は上半分の位置と下半分の位置とに形成されていることでぶつかることを避けることができる。
図7(a)は、第4変形例の第5音叉型水晶振動片20Dの上面図であり、(b)は、(a)のD−D断面図である。D−D断面図は振動腕21の溝部24ではない箇所の断面である。第5音叉型水晶振動片20Dの振動腕21の周波数調整用の肉薄部28は、一定幅で幅広となりハンマー型の形状となっている。
図7(b)に示されるように、基部23の厚さD1は、80μmから120μmであり、振動腕21の厚さD4は、40μmから80μmであり、先端の周波数調整用の肉薄部28の厚さD3は、20μmから50μmである。基部23の厚さD1は振動腕根元部上部26まで保たれ、振動腕21と基部23との間に段差が形成されている。また、振動腕21の厚さD4と周波数調整用の肉薄部28の厚さD3とは異なる厚さで、振動腕21と周波数調整用の肉薄部28との間に段差が形成されている。すなわち厚さD1> D4 >D3 の関係にある。基部23の厚さD1より薄肉厚の振動腕21及び周波数調整用の肉薄部28の形成により発振周波数を低くすることができるとともに大きな周波数可変量が得ることができる。
図8(a)は,第5変形例の第6音叉型水晶振動片20Eの断面図である。図7(a)と同様に、振動腕21の溝部24ではない箇所の断面の断面図である。第6音叉型水晶振動片20Eと第5音叉型水晶振動片20Dとの異なる点は、第6音叉型水晶振動片20Eが、振動腕21の厚さD4と周波数調整用の肉薄部28の厚さD3とが同じ厚さで形成されている点である。そして振動腕21の厚さD4及び周波数調整用の肉薄部28の厚さD3は基部23の厚さD1より薄く形成されている。第6音叉型水晶振動片20Eは、振動腕21の厚さD4が薄いため振動腕21の溝部24の溝深さが浅くなってしまうが、大きい周波数可変量が得ることができる。
図8(b)は,第6変形例の第7音叉型水晶振動片20Fの断面図である。図7(a)と同様に、振動腕21の溝部24ではない箇所の断面の断面図である。第7音叉型水晶振動片20Fは、基部23の厚さD1と振動腕21の厚さD4とが同じ厚さで形成されているが、振動腕21の途中から厚さD4が薄くなっている。振動腕21の途中から先端にかけての厚さD4は周波数調整用の肉薄部28の厚さD3と同じ厚さに形成されている。第7音叉型水晶振動片20Fは、振動腕21の溝部24の溝深さが確保できるためCI値も下げることができるとともに、大きい周波数可変量が得ることができる。
<第1水晶デバイス100の製造工程>
図9ないし図11は、図4に示したセラミックパッケージ型の第1水晶デバイス100を製造する工程を示したフローチャートである。
(水晶振動片の外形形成の工程)
図9は、図1で示された第1音叉型水晶振動片20の外形形成の工程のフローチャートである。
ステップS102では、水晶単結晶ウエハの全面に、耐蝕膜をスパッタリングもしくは蒸着などの手法により形成する。すなわち、圧電材料としての水晶単結晶ウエハを使用する場合に、金(Au)や銀(Ag)等を直接成膜することは困難なため、下地としてクロム(Cr)やチタン(Ti)等を使用する。つまり、この実施形態では、耐蝕膜としてクロム層の上に金層を重ねた金属膜を使用する。
ステップS104では、クロム層および金層が形成された水晶単結晶ウエハに、フォトレジスト膜を全面にスピンコートなどの手法で均一に塗布する。フォトレジスト膜としては、たとえば、ノボラック樹脂によるポジフォトレジストを使用できる。
次に、ステップS106では、第1露光工程で不図示の露光装置を用いて、不図示の第1フォトマスクを使って外形パターンをフォトレジスト膜が塗布された水晶単結晶ウエハに露光する。水晶単結晶ウエハの両面からウェットエッチングができるように水晶単結晶ウエハの両面に露光する。
ステップS108では、水晶単結晶ウエハのフォトレジスト膜を現像して、感光したフォトレジスト膜を除去する。さらに、フォトレジスト膜から露出した金層をたとえば、ヨウ素とヨウ化カリウムの水溶液を用いて、金層をエッチングする。次いで、金層が除去されて露出したクロム層を、たとえば硝酸第2セリウムアンモニウムと酢酸との水溶液でエッチングする。水溶液の濃度、温度および水溶液に浸している時間を調整して余分な箇所が侵食されないようにする。このようにして金属膜を除去する。
ステップS110では、第1エッチング工程でフッ酸溶液をエッチング液として、フォトレジスト膜および金属膜から露出した水晶単結晶ウエハを、第1音叉型水晶振動片20の外形になるようにウェットエッチングを行う。このウェットエッチングは、フッ酸溶液の濃度や種類、温度等により時間が変化する。
ステップS112では、不要となったフォトレジスト膜と金属膜を除去することによりに、第1音叉型水晶振動片20が形成される。ただし、水晶単結晶ウエハと第1音叉型水晶振動片20とは、連結部27で連結された状態であり、第1音叉型水晶振動片20は個々に切り取られていない。第1音叉型水晶振動片20の基部23には連結部27(図1参照)が形成されている。連結部27は、水晶単結晶ウエハと第1音叉型水晶振動片20とを連結して、複数の第1音叉型水晶振動片20を水晶単結晶ウエハ単位で同時に扱うことができるようにしている。
(溝部及び周波数調整用の肉薄部形成の工程)
図10は、振動腕21に溝部24及び周波数調整用の肉薄部28を形成する工程のフローチャートである。
ステップS114では、第1音叉型水晶振動片20を純水で洗浄し、第1音叉型水晶振動片20の全面に溝部24及び周波数調整用の肉薄部28を形成するための耐蝕膜を形成する。
ステップS116では、スプレーを使って全面にフォトレジスト膜を塗布する。第1音叉型水晶振動片20の形状が形成されているため、スプレーを使って側面にもフォトレジスト膜を塗布する。
ステップS118では、第2露光工程で溝部24及び周波数調整用の肉薄部28に対応した第2フォトマスクを用意して、溝部パターン及び周波数調整用の肉薄部28パターンをフォトレジスト膜が塗布された水晶単結晶ウエハに露光する。溝部24及び周波数調整用の肉薄部28は振動腕21の両面に形成する必要があるため第1音叉型水晶振動片20の両面を露光する。
ステップS120では、フォトレジスト膜を現像後、感光したフォトレジスト膜を除去する。さらに、フォトレジスト膜から露出した金層をエッチングする。次いで、金層が除去されて露出したクロム層をエッチングする。水溶液の濃度、温度および水溶液に浸している時間を調整して余分な箇所が侵食されないようにする。これで金属膜を除去することができる。
ステップS122では、第2エッチング工程で溝部24及び周波数調整用の肉薄部28のエッチングを行う。すなわち、溝部24及び周波数調整用の肉薄部28と対応したフォトレジスト膜から露出した水晶材料を、溝部24及び周波数調整用の肉薄部28の外形になるようにウェットエッチングを行う。溝部24及び周波数調整用の肉薄部28が貫通しないように途中でエッチングを終了するハーフエッチングを行う。
ステップS124では、不要となったフォトレジスト膜と金属膜とを除去する。溝部24及び周波数調整用の肉薄部28は、第2エッチング工程で同時に形成されている。
(電極の形成及びパッケージングの工程)
図11は、電極パターンおよびパッケージングの工程のフローチャートである。
ステップS126では、第1音叉型水晶振動片20を純水で洗浄し、第1音叉型水晶振動片20の全面に駆動電極としての励振電極などを形成するための金属膜を蒸着またはスパッタリング等の手法により形成する。
ステップS128では、全面にフォトレジストをスプレーにより塗布する。
ステップS130では、電極パターンと対応した不図示のフォトマスクを用意して、電極パターンをフォトレジスト膜が塗布された水晶単結晶ウエハに露光する。この電極パターンは第1音叉型水晶振動片20の両面に形成する必要があるため、第1音叉型水晶振動片20の両面を露光する。
ステップS132では、フォトレジスト膜を現像後、感光したフォトレジスト膜を除去する。残るフォトレジスト膜は電極パターンと対応したフォトレジスト膜になる。
次いで、電極となる金属膜のエッチングを行う。すなわち、電極パターンと対応したフォトレジスト膜から露出した金層をたとえば、ヨウ素とヨウ化カリウムの水溶液でエッチングし、次にクロム層をたとえば硝酸第2セリウムアンモニウムと酢酸との水溶液でエッチングする。
続いて、ステップS134でフォトレジスト膜を除去する。これらの工程を経て、第1音叉型水晶振動片20に基部電極31,32、励振電極33,34及び周波数調整用の肉薄部28の金属膜18などが正確な位置および電極幅で形成される。
ステップS136では、水晶単結晶ウエハ上に形成された個々の第1音叉型水晶振動片20の周波数を測定した後、周波数が公称目標周波数f0になるまで周波数調整用の肉薄部28の金属膜18にレーザービームを照射して金属膜の一部をトリミングする。水晶単結晶ウエハに多数の小型の第1音叉型水晶振動片20が製造され、個々の第1音叉型水晶振動片20の周波数のバラツキが大きくなることがある。このような場合でも、薄肉厚の周波数調整用の肉薄部28は周波数可変量が大きいので、それら第1音叉型水晶振動片20の周波数を公称目標周波数f0に近づけることができる。このため1枚の水晶単結晶ウエハから生産されるに第1音叉型水晶振動片20が多くなり歩留まりが向上する。周波数調整用の肉薄部28の金属膜18の厚さを特別に厚くする必要がないため、作業工数を増やす必要もなく、また、高価な金層を厚く形成する必要もないためコストダウンもできる。
ステップS138では、周波数調整された音叉型水晶振動片20の連結部27を折り、水晶単結晶ウエハから第1音叉型水晶振動片20を切り取る。
(パッケージングの工程)
これまでの工程により、電極が形成された第1音叉型水晶振動片20が得られた。ステップS140では、図2に示したセラミックパッケージ60の台座60cに導電性接着剤59を塗布する。そして第1音叉型水晶振動片20が実装される。具体的には、第1音叉型水晶振動片20の基部23の接着領域31a、32aが、塗布した導電性接着剤59の上に載置されて導電性接着剤59が仮硬化される。
ステップS142では、真空チャンバー内などに第1音叉型水晶振動片20を実装したセラミックパッケージ60を移し、接着剤58の上に第1リッド5が載置され、第1リッド5とセラミックパッケージ60とを接合する。真空チャンバー内などで導電性接着剤59を本硬化させて第1水晶デバイス100を形成する。
続いてステップS144で、第1水晶デバイス100は、第1音叉型水晶振動片20の振動腕21の周波数調整用の肉薄部28にレーザ光を照射して、周波数調整用の肉薄部28の金属膜を蒸散・昇華させ、周波数の微調整を行うことができる。最後に第1水晶デバイス100の駆動特性などの検査を行い、第1水晶デバイス100を完成させる。
<<実施形態2>>
図12は、第2実施形態である第8音叉型水晶振動片30を備えた水晶フレーム50である。図12(a)は、水晶フレーム50の全体構成を示した上面図であり、(b)は(a)のE−E断面図であり、(c)は(a)のF−F断面図である。第2実施形態である第1水晶フレーム50が、第1実施形態で示した第1音叉型水晶振動片20と大きく異なるところは、第8音叉型水晶振動片30が水晶外枠部29で囲まれている点である。第8音叉型水晶振動片30は支持腕22と接続部36とで支えられている。同じ部分には同じ符号を付し説明を省略する。
図12(a)に示されるように、水晶フレーム50は、基部23及び振動腕21からなる第8音叉型水晶振動片30と、水晶外枠部29と、支持腕22と、接続部36とから構成され、同じ厚さの水晶基板で一体に形成されている。第8音叉型水晶振動片30と外側に水晶外枠部29との間には空間部25が形成されている。水晶フレーム50は、水晶外枠部29と、基部23と、支持腕22と、接続部36とに第1基部電極31及び第2基部電極32を備える。第8音叉型水晶振動片30は、たとえば32.768kHzで信号を発振する振動片で、極めて小型の振動片となっている。
第8音叉型水晶振動片30の外形を規定する空間部25は水晶エッチングにより形成されている。一対の振動腕21は基部23の一端からY方向に延びており、振動腕21の表裏両面には振動腕の幅の40%から65%の幅の溝部24が形成されている。つまり、一対の振動腕21には、表裏合わせて4本の溝部24が形成されている。溝部24の断面は略H型に形成され、第8音叉型水晶振動片30のCI値を低下させる。
振動腕21の先端付近は一定幅で幅広となりハンマー型の形状となっている。ハンマー型の形状部分は周波数調整用の肉薄部28の面積を大きくしている。また、より大きい周波数可変量を得るために周波数調整用の肉薄部28は基部23の厚さD1より薄い肉厚D3で形成される。また、支持腕22、接続部36及び水晶外枠部29の厚さは基部23と同じ厚さD1である。
第8音叉型水晶振動片30の周波数調整用の肉薄部28の形状は、ハンマー型の形状ではなく、図1に示されたような振動腕21の幅と同じで一定幅、又は図3(b)もしくは図5(b)に示された形状でもよい。一対の振動腕21は、表面、裏面及び側面に第1励振電極33及び第2励振電極34が形成されており、第1励振電極33は第1基部電極31につながっており、第2励振電極34は第2基部電極32につながっている。
一対の支持腕22は、基部23の一端から振動腕21が伸びる方向(Y方向)に伸びて接続部36と水晶外枠部29とに接続している。一対の支持腕22は、振動腕21の振動を外部へ振動漏れとして伝えづらくさせ、またパッケージ外部の温度変化、または衝撃の影響を受けづらくさせる効果を持っている。
図12(b)、(c)に示されるように、第8音叉型水晶振動片30の周波数調整用の肉薄部28の厚さD3と振動腕21の厚さD4とは、図1で説明した第1音叉型水晶振動片20と同様の厚さに形成されて同じ機能を備えている。また、厚さを薄く形成された周波数調整用の肉薄部28は、所定の周波数にするために周波数調整用の肉薄部28の長さを従来の長さより長くしている。
<第2水晶デバイス110の構成>
図13は、本発明の第2実施形態にかかる第2水晶デバイス110の概略図である。第2水晶デバイス110は、水晶フレーム50を用い、第2リッド10とベース40とを水晶単結晶ウエハで形成し、水晶フレーム50の水晶外枠部29を挟み込むように、その水晶外枠部29の下にベース40が接合され、水晶外枠部29の上に第2リッド10が接合されている。
図13(a)は、水晶単結晶ウエハで形成した第2リッド10の上面図である。(b)は第8音叉型水晶振動片30を有する水晶フレーム50の上面図であり、(c)は、水晶単結晶ウエハで形成したベース40の上面図である。(d)は(a)から(c)のG−G断面で第2水晶デバイス110重ね合わせる前の状態を示した概略断面図である。
図13(a)に示されるように第2リッド10は、リッド側凹部17を水晶フレーム50側の片面に有している。図13(b)は図12と同一であるので説明を省略する。
図13(c)に示されるように、ベース40は、ベース側凹部47を水晶フレーム50側の片面に有している。ベース40は、エッチングによりベース側凹部47を設ける際、同時に第1スルーホール41と第2スルーホール43と段差部49とを形成する。ベース40の表面には、第1接続電極42と第2接続電極44を形成する。
図13(c)、(d)に示されるように、第1スルーホール41及び第2スルーホール43は、その内面に金属膜15が形成され、その内面の金属膜15は、第1接続電極42と第2接続電極44とを同時にフォトリソグラフィ工程で作成される。内面の金属膜15はクロム(Cr)層の上に金(Au)層又は銀(Ag)層が形成される。ベース40は、底面にメタルライジングされた第1外部電極45及び第2外部電極46を備える。第1接続電極42は、第1スルーホール41を通じてベース40の底面に設けた第1外部電極45に接続する。第2接続電極44は、第2スルーホール43を通じてベース40の底面に設けた第2外部電極46に接続する。
水晶外枠部29の裏面に形成された第1基部電極31と第2基部電極32とは、それぞれベース40の表面の第1接続電極42及び第2接続電極44に接続する。つまり、第1基部電極31は第1外部電極45と電気的に接続し、第2基部電極32は第2外部電極46と電気的に接続している。
図13(d)の概略断面図で示されるように、第2水晶デバイス110は,図13(a)の第2リッド10と(b)の水晶フレーム50と(c)のベース40とを重ね合わせ、1個の水晶デバイスをシロキサン結合する図を示している。しかし実際の製造においては、1枚の水晶単結晶ウエハに数百から数千の水晶フレーム50と、1枚の水晶単結晶ウエハに数百から数千の第2リッド10と、1枚の水晶単結晶ウエハに数百から数千のベース40とを用意し、それらウエハ単位で接合して一度に数百から数千の第2水晶デバイス110を製造する。
第2リッド10及び水晶外枠部29並びにベース40は、シロキサン結合技術により接合するため接合面を鏡面状態にし、酸素含有雰囲気中で短波長の紫外線を照射して接合面を活性化させた状態で重ね合わせる。シロキサン結合は、電極の厚み(3000Åから4000Å)でさえ接合不良の原因となる。このため、水晶外枠部29の裏面に形成した第1基部電極31及び第2基部電極32と対向する面はその配線電極の厚み以上の窪みを形成する必要がある。つまり、接合面はシロキサン結合を阻害しないように、各電極の窪み及びその対向する面を形成する。
第2水晶デバイス110は,シロキサン結合終了後、第1スルーホール41及び第2スルーホール43の封止を行う。例えば、第1スルーホール41及び第2スルーホール43に封止材57の金・ゲルマニューム合金を載置し、約200°Cの真空中もしくは不活性ガス中のリフロー炉に保持し封止する。これにより、パッケージ内が真空になった又は不活性ガスで満たされた第2水晶デバイス110が形成される。
本発明の第2水晶デバイス110は、ベース40と水晶外枠部29とをシロキサン結合する前に周波数を調整する。周波数調整は、第8音叉型水晶振動片30の周波数を測定した後、周波数調整用の肉薄部28の金属膜18にレーザ光を照射して、周波数調整用の肉薄部28の金属膜を蒸散・昇華させ、周波数の微調整が行われる。
上記実施形態では、音叉型水晶振動片で説明してきたがこれに限定されることはなく、水晶以外にニオブ酸リチウム等の様々な圧電単結晶材料を用いることができる。
(a)は、第1実施形態の第1音叉型水晶振動片20の全体構成を示した上面図である。(b)は、(a)のA−A断面図である。(c)は、第1音叉型水晶振動片20の一対の振動腕21のB−B断面図である。 (a)は、振動腕21の周波数調整用の肉薄部28の厚さD3と周波数可変量との関係を示す図である。(b)は、周波数調整用の肉薄部28の金属膜18の厚さと周波数可変量との関係を示す図である。 (a)は、周波数調整用の肉薄部28の金属膜18先端からの距離と周波数可変量との関係を示す図である。(b)は、(a)の結果に基づき形成された周波数調整用の肉薄部28の部分拡大上面図である。 (a)は、第1圧電デバイス100の全体斜視図である。 (b)は、第1リッド5を取り外した第1圧電デバイス100の上面図である。 (c)は、第1圧電デバイス100の断面図である。 (a)は、第2音叉型水晶振動片20Aの上面図である。 (b)は、第3音叉型水晶振動片20Bの上面図である。 (a)は、第4音叉型水晶振動片20Cの斜視図である。 (b)は、Y方向から見た周波数調整用の肉薄部28と振動腕21の模擬図である。 (a)は、第5音叉型水晶振動片20Dの上面図であり、 (b)は、(a)のD−D断面図である。 (a)は,第6音叉型水晶振動片20Eの上面図である。 (b)は,第7音叉型水晶振動片20Fの断面図である。 第1音叉型水晶振動片20の外形形成の工程のフローチャートである。 振動腕21に溝部24及び周波数調整用の肉薄部28を形成する工程のフローチャートである。 電極パターンおよびパッケージングの工程のフローチャートである。 (a)は、水晶フレーム50の全体構成を示した上面図である。 (b)は(a)のE−E断面図であり、(c)は(a)のF−F断面図である。 (a)は、水晶単結晶ウエハで形成したリッド10の上面図である。 (b)は、第8音叉型水晶振動片30を有する水晶フレーム50の上面図である。 (c)は、水晶単結晶ウエハで形成したベース40の上面図である。 (d)は、(a)から(c)のG−G断面で第2圧電デバイス110重ね合わせる前の状態を示した概略断面図である。
符号の説明
5 … 第1リッド
10 … 第2リッド
15 … 金属膜
17 … リッド用凹部
18 … 周波数調整用の肉薄部の金属膜
20、20A、20B、20C、20D、20E、20F、30 … 音叉型圧電振動片
21 … 振動腕、22 … 支持腕
23 … 基部、24 … 溝部
25 … 空間部、26 … 振動腕根元部
27 … 連結部
28 … 周波数調整用の肉薄部
29 … 水晶外枠部
31,32 … 基部電極
31a、32a …接着領域
33,34 … 励振電極
36 … 接続部
40 … ベース
41,43、80 … スルーホール
42,44 … 接続電極
45,46 … 外部電極
47 … ベース用凹部、49 … 段差部
50 … 水晶フレーム
54 … キャビティ、57 … 封止材
58 … 接着剤
59 … 導電性接着剤
60 … セラミックパッケージ
60a …底面用セラミック層、60b …枠用セラミック層、60c …台座
81 … 導通配線
82 … 外部電極
83 … 内部配線
100 … 第1水晶デバイス,110 … 第2水晶デバイス
D1 … 基部の厚さ
D2 … 溝部の厚さ
D3 … 周波数調整用の肉薄部の厚さ
D4 … 振動腕の厚さ
P1 … くびれ部の第1変更点
P2 … 第2変更点

Claims (10)

  1. 圧電材からなる基部と、
    この基部から第一厚さで平行に伸びる一対の振動腕と、
    前記振動腕に形成された励振電極膜と、
    前記第一厚さよりも薄い第二厚さで前記振動腕の先端に形成された一対の周波数調整用の肉薄部と、
    前記肉薄部の少なくとも片面に形成された金属膜と、
    を備えることを特徴とする音叉型圧電振動片。
  2. 前記励振電極膜の厚さと前記金属膜の厚さとが同じであることを特徴とする請求項1に記載の音叉型圧電振動片。
  3. 前記振動腕から前記肉薄部へ厚みの変化する変更点で前記振動腕の第一幅と前記肉薄部の第二幅とが異なっており、前記第二幅は前記第一幅よりも広いことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の音叉型圧電振動片。
  4. 前記肉薄部の第二幅は、前記肉薄部の先端から前記変更点にかけて一定幅であることを特徴とする請求項3に記載の音叉型圧電振動片。
  5. 前記肉薄部の第二幅は、前記肉薄部の先端から前記変更点にかけて幅が変更することを特徴とする請求項3に記載の音叉型圧電振動片。
  6. 前記肉薄部の先端から前記変更点にかけて幅は、前記金属膜の単位面積当たりの剥離に対する周波数可変量に対応していることを特徴とする請求項5に記載の音叉型圧電振動片。
  7. 前記一対の肉薄部が励振時にぶつからないように、厚さ方向に異なった位置に前記一対の肉薄部が形成されていることを特徴とする請求項3に記載の音叉型圧電振動片。
  8. 請求項1から請求項7のいずれか一項に記載の音叉型圧電振動片と、
    前記圧電振動片を覆う蓋部と、
    前記圧電振動片を支えるベースと、を備えることを特徴とする圧電デバイス。
  9. 圧電材からなる基部の一端側から平行に伸びる第一厚さの一対の振動腕と、
    前記基部から前記振動腕に形成され、前記振動腕を励振する励振電極膜と、
    前記第一厚さよりも薄い第二厚さで前記振動腕の先端に形成された一対の周波数調整用の肉薄部と、
    前記肉薄部の少なくとも片面に形成された金属膜と、
    前記一対の振動腕の両外側において前記基部の一端側から平行に伸びる一対の支持腕と、
    前記支持腕と接続されるとともに前記基部及び前記振動腕を囲む外枠部と、
    を備えることを特徴とする圧電フレーム。
  10. 基部から第一厚さで平行に伸びる一対の振動腕を有する音叉型圧電振動片を製造する音叉型圧電振動片の製造方法において、
    前記音叉型圧電振動片の外形を、前記音叉型圧電振動片の外形に対応する第一マスクを使って、前記第一厚さの圧電ウエハを露光する第一露光工程と、
    前記振動腕の先端に形成される周波数調整用の肉薄部と前記振動腕の根元部に形成される溝部とを、前記周波数調整用の肉薄部と溝部とに対応する第二マスクを使って、前記圧電ウエハを露光する第二露光工程と、
    前記第一露光工程による圧電ウエハをエッチングする第一エッチング工程と、
    前記第二露光工程による圧電ウエハをエッチングする第二エッチング工程と、
    を備えることを特徴とする音叉型圧電振動片の製造方法。
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