JP2010135806A - ビーム記録方法及び装置 - Google Patents
ビーム記録方法及び装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010135806A JP2010135806A JP2009294793A JP2009294793A JP2010135806A JP 2010135806 A JP2010135806 A JP 2010135806A JP 2009294793 A JP2009294793 A JP 2009294793A JP 2009294793 A JP2009294793 A JP 2009294793A JP 2010135806 A JP2010135806 A JP 2010135806A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- recording
- deflection
- pit
- long
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
- G11B7/261—Preparing a master, e.g. exposing photoresist, electroforming
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y10/00—Nanotechnology for information processing, storage or transmission, e.g. quantum computing or single electron logic
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y40/00—Manufacture or treatment of nanostructures
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
- H01J37/317—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for changing properties of the objects or for applying thin layers thereon, e.g. for ion implantation
- H01J37/3174—Particle-beam lithography, e.g. electron beam lithography
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/20—Positioning, supporting, modifying or maintaining the physical state of objects being observed or treated
- H01J2237/202—Movement
- H01J2237/20214—Rotation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/30—Electron or ion beam tubes for processing objects
- H01J2237/304—Controlling tubes
- H01J2237/30472—Controlling the beam
- H01J2237/30483—Scanning
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/30—Electron or ion beam tubes for processing objects
- H01J2237/317—Processing objects on a microscale
- H01J2237/3175—Lithography
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Nanotechnology (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optical Recording Or Reproduction (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Optical Head (AREA)
- Rotational Drive Of Disk (AREA)
Abstract
【解決手段】露光ビームを偏向する偏向工程と、露光ビームの偏向によって潜像を形成する記録工程と、を有し、潜像パターンのうち、連続的な露光パターンである長ピットを形成する場合には、長ピットの一部を形成し、上記長ピットの一部を形成した回転の次以降の周期の回転で、上記長ピットの残部を形成する。ビーム偏向速度及び基板速度(線速度)を変化させるとともに、長いピット又はスペースを記録する必要が生じた場合にはビーム遮断を併用する。
【選択図】図3
Description
露光ビームを偏向する偏向工程と、
露光ビームの偏向によって潜像を形成する記録工程と、を有し、
潜像パターンのうち、連続的な1の露光パターンである長ピットを形成する場合には、長ピットの一部を形成し、上記長ピットの上記一部を形成した回転の次以降の周期の回転で、上記長ピットの残部を形成することを特徴としている。
露光ビームを偏向する偏向工程と、
露光ビームの偏向によって潜像を形成する記録工程と、を有し、
潜像パターンのうち、連続的な1の露光パターンである長ピットを形成する場合には、長ピットの一部を形成し、上記長ピットの上記一部を形成した回転の次以降の周期の回転で、上記長ピットの残部を形成することを特徴としている。
露光ビームを偏向する偏向手段と、
露光ビームの偏向によって潜像を形成する記録手段と、を有し、
潜像パターンのうち、連続的な1の露光パターンである長ピットを形成する場合には、長ピットの一部を形成し、上記長ピットの上記一部を形成した回転の次以降の周期の回転で、上記長ピットの残部を形成することを特徴としている。
上記偏向手段に露光ビームを偏向させるビーム偏向信号を生成するビーム偏向信号部と、
上記ブランキング手段に露光ビームをブランキングさせるブランキング信号を生成するブランキング信号生成部と、を有し、
上記潜像パターンのうち、連続的な1の露光パターンである長ピットを形成する場合には、上記長ピットの一部を形成した回転の次以降の周期の回転まで、露光ビームをブランキングさせることを特徴としている。
態に対しても適用が可能である。
Vbeam=Vsub−Vexp=(1−DI)/DI×Vexp
Vsub=2.22×Vexp、Vbeam=1.22×Vexp
となり、基板速度Vsub及びビーム偏向速度VbeamにはΔV=0.22Vexp(>0)が加えられる。すなわち、これらの速度を増加させるよう制御がなされる。
Vsub=1.82×Vexp、Vbeam=0.82×Vexp
となり、基板速度Vsub及びビーム偏向速度VbeamにはΔV=−0.18Vexp(<0)が加えられる。すなわち、これらの速度を減じるよう制御がなされる。
Claims (13)
- 基板を回転させつつ、基板上に形成されたレジスト層に露光ビームを照射することにより、少なくとも一部にスペースを含む潜像パターンが形成された基板を製造する製造方法であって、
前記露光ビームを偏向する偏向工程と、
前記露光ビームの偏向によって潜像を形成する記録工程と、を有し、
前記潜像パターンのうち、連続的な1の露光パターンである長ピットを形成する場合には、前記長ピットの一部を形成し、前記長ピットの前記一部を形成した回転の次以降の周期の回転で、前記長ピットの残部を形成することを特徴とする製造方法。 - 前記長ピットが所定長を超える場合には、前記基板が複数回回転する間を通じて前記長ピットを形成することを特徴とする請求項1に記載の製造方法。
- 前記残部が前記所定長を超える場合には、前記基板の複数回の周期の回転で、前記長ピットを前記複数回の分割により形成することを特徴とする請求項1に記載の製造方法。
- 前記長パターンの一部を形成した後、前記長パターンの前記残部を記録するタイミングまで前記露光ビームをブランキングさせることを特徴とする請求項1に記載の製造方法。
- 基板を回転させつつ、基板上に形成されたレジスト層に露光ビームを照射することにより、少なくとも一部にスペースを含む潜像パターンを前記基板に形成する記録方法であって、
前記露光ビームを偏向する偏向工程と、
前記露光ビームの偏向によって潜像を形成する記録工程と、を有し、
前記潜像パターンのうち、連続的な1の露光パターンである長ピットを形成する場合には、前記長ピットの一部を形成し、前記長ピットの前記一部を形成した回転の次以降の周期の回転で、前記長ピットの残部を形成することを特徴とする記録方法。 - 前記潜像パターンのうち、記録すべき前記長ピットが所定長を超える場合には、前記基板が複数回回転する間を通じて前記長ピットを形成することを特徴とする請求項5に記載の記録方法。
- 前記残部が前記所定長を超える場合には、前記基板の複数回の周期の回転で、前記長ピットを前記複数回の分割により形成することを特徴とする請求項5に記載の記録方法。
- 前記長パターンの一部を形成した後、前記長パターンの前記残部を記録するタイミングまで前記露光ビームをブランキングさせることを特徴とする請求項5に記載の記録方法。
- 基板を回転させつつ、基板上に形成されたレジスト層に露光ビームを照射することにより、少なくとも一部にスペースを含む潜像パターンを前記基板に形成させる記録装置であって、
前記露光ビームを偏向する偏向手段と、
前記露光ビームの偏向によって潜像を形成する記録手段と、を有し、
前記潜像パターンのうち、連続的な1の露光パターンである長ピットを形成する場合には、前記長ピットの一部を形成し、前記長ピットの前記一部を形成した回転の次以降の周期の回転で、前記長ピットの残部を形成することを特徴とする記録装置。 - 前記潜像パターンのうち、記録すべき前記長ピットが所定長を超える場合には、前記基板が複数回回転する間を通じて前記長ピットを形成することを特徴とする請求項9に記載の記録装置。
- 前記残部が前記所定長を超える場合には、前記基板の複数回の周期の回転で、前記長ピットを前記複数回の分割により形成することを特徴とする請求項9に記載の記録装置。
- 前記露光ビームを遮断するブランキング手段を有し、
前記長パターンの一部を形成した後、前記長ピットの残部を記録するタイミングまで前記露光ビームをブランキングさせることを特徴とする請求項9に記載の記録装置。 - 露光ビームを偏向させるビーム偏向手段、前記露光ビームを遮断させるブランキング手段、及び偏向された前記露光ビームによって潜像を形成させる記録手段とを有し、基板を回転させつつ基板上に形成されたレジスト層に、前記ビーム偏向手段により偏向された前記露光ビームを照射させて、少なくとも一部にスペースを含む潜像パターンを形成させる記録装置を制御する制御装置であって、
前記偏向手段に前記露光ビームを偏向させるビーム偏向信号を生成するビーム偏向信号部と、
前記ブランキング手段に前記露光ビームをブランキングさせるブランキング信号を生成するブランキング信号生成部と、を有し、
前記潜像パターンのうち、連続的な1の露光パターンである長ピットを形成する場合には、前記長ピットの一部を形成した回転の次以降の周期の回転まで、前記露光ビームをブランキングさせることを特徴とする制御装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009294793A JP4533457B2 (ja) | 2004-12-28 | 2009-12-25 | ビーム記録方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004379577 | 2004-12-28 | ||
JP2009294793A JP4533457B2 (ja) | 2004-12-28 | 2009-12-25 | ビーム記録方法及び装置 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006550634A Division JP4528308B2 (ja) | 2004-12-28 | 2005-11-22 | ビーム記録方法及び装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010135806A true JP2010135806A (ja) | 2010-06-17 |
JP4533457B2 JP4533457B2 (ja) | 2010-09-01 |
Family
ID=36614680
Family Applications (4)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006550634A Active JP4528308B2 (ja) | 2004-12-28 | 2005-11-22 | ビーム記録方法及び装置 |
JP2009294786A Expired - Fee Related JP4466975B1 (ja) | 2004-12-28 | 2009-12-25 | ビーム記録方法及び装置 |
JP2009294793A Expired - Fee Related JP4533457B2 (ja) | 2004-12-28 | 2009-12-25 | ビーム記録方法及び装置 |
JP2010088840A Active JP4801209B2 (ja) | 2004-12-28 | 2010-04-07 | ビーム記録方法及び装置 |
Family Applications Before (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006550634A Active JP4528308B2 (ja) | 2004-12-28 | 2005-11-22 | ビーム記録方法及び装置 |
JP2009294786A Expired - Fee Related JP4466975B1 (ja) | 2004-12-28 | 2009-12-25 | ビーム記録方法及び装置 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010088840A Active JP4801209B2 (ja) | 2004-12-28 | 2010-04-07 | ビーム記録方法及び装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7663124B2 (ja) |
JP (4) | JP4528308B2 (ja) |
WO (1) | WO2006070555A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011158851A1 (ja) | 2010-06-15 | 2011-12-22 | ソニーケミカル&インフォメーションデバイス株式会社 | 保護素子、及び、保護素子の製造方法 |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009015910A (ja) * | 2007-06-29 | 2009-01-22 | Toshiba Corp | 電子線描画方法 |
JP2009059458A (ja) * | 2007-09-04 | 2009-03-19 | Ricoh Co Ltd | ディスク原盤製造装置 |
JP4842288B2 (ja) * | 2008-02-26 | 2011-12-21 | 富士フイルム株式会社 | 電子ビーム描画方法、微細パターン描画システム、凹凸パターン担持体の製造方法および磁気ディスク媒体の製造方法 |
JP5273523B2 (ja) * | 2008-03-18 | 2013-08-28 | 株式会社リコー | 電子線描画方法 |
WO2010088683A1 (en) * | 2009-02-02 | 2010-08-05 | Doug Carson & Associate, Inc. | Media pre-write with track-aligned write beam deflection and write frequency adjustment |
JP5554620B2 (ja) * | 2010-04-14 | 2014-07-23 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 描画装置、描画方法および描画装置の異常診断方法 |
CN104412193B (zh) * | 2012-06-26 | 2017-03-08 | 株式会社日立高新技术 | 载物台装置以及试样观察装置 |
JP6353278B2 (ja) | 2014-06-03 | 2018-07-04 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | マルチ荷電粒子ビーム描画方法及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置 |
JP6694717B2 (ja) | 2016-01-25 | 2020-05-20 | デクセリアルズ株式会社 | 露光装置および露光方法 |
US10534115B1 (en) * | 2017-09-22 | 2020-01-14 | Facebook Technologies, Llc | Gray-tone electron-beam lithography |
US11220028B1 (en) | 2018-03-08 | 2022-01-11 | Facebook Technologies, Llc | Method of manufacture for thin, multi-bend optics by compression molding |
US10976483B2 (en) | 2019-02-26 | 2021-04-13 | Facebook Technologies, Llc | Variable-etch-depth gratings |
US11709422B2 (en) | 2020-09-17 | 2023-07-25 | Meta Platforms Technologies, Llc | Gray-tone lithography for precise control of grating etch depth |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6355935A (ja) * | 1986-08-27 | 1988-03-10 | Omron Tateisi Electronics Co | 電子ビ−ム描画装置 |
JPH11328744A (ja) * | 1998-04-04 | 1999-11-30 | Lg Electronics Inc | 光ディスク及びマスタ―ディスク製造方法及び装置 |
JP2000315637A (ja) * | 1999-04-28 | 2000-11-14 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 電子ビーム露光方法及び装置 |
JP2002288890A (ja) * | 2001-03-23 | 2002-10-04 | Fujitsu Ltd | ビーム照射方法及び装置並びに記録媒体作成方法 |
WO2003091805A1 (en) * | 2002-04-24 | 2003-11-06 | Obducat Ab | Method, device and computer program product for lithography |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5753938A (en) * | 1980-09-17 | 1982-03-31 | Toshiba Corp | Electron beam exposure apparatus |
DE68920281T2 (de) * | 1988-10-31 | 1995-05-11 | Fujitsu Ltd | Vorrichtung und Verfahren zur Lithographie mittels eines Strahls geladener Teilchen. |
JP2669727B2 (ja) * | 1991-03-20 | 1997-10-29 | 富士通株式会社 | 荷電粒子線露光装置、及び荷電粒子線露光方法 |
JP3107935B2 (ja) * | 1992-12-22 | 2000-11-13 | シャープ株式会社 | 光記録装置および光再生装置並びに光記録再生装置 |
US5654953A (en) * | 1994-09-21 | 1997-08-05 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Optical disk and method of manufacturing the same |
JPH11317352A (ja) * | 1998-03-02 | 1999-11-16 | Nikon Corp | 荷電粒子線露光装置 |
JP2000232053A (ja) * | 1999-02-09 | 2000-08-22 | Canon Inc | マスクパターン転写方法、該マスクパターン転写方法を用いたマスクパターン転写装置及びデバイス製造方法 |
JP2002006509A (ja) * | 2000-06-27 | 2002-01-09 | Sony Corp | 露光方法及び光ディスク原盤の製造方法 |
JP2002299232A (ja) * | 2001-04-03 | 2002-10-11 | Fujitsu Ltd | ビーム照射方法及び装置 |
JP2003022534A (ja) * | 2001-07-09 | 2003-01-24 | Sony Corp | 光記録媒体作製用原盤の製造方法 |
US6605811B2 (en) * | 2001-11-09 | 2003-08-12 | Elionix Inc. | Electron beam lithography system and method |
US6777695B2 (en) * | 2002-07-12 | 2004-08-17 | Varian Semiconductors Equipment Associates, Inc. | Rotating beam ion implanter |
JP3806076B2 (ja) * | 2002-08-19 | 2006-08-09 | 株式会社東芝 | 荷電粒子ビーム露光データ作成方法、半導体装置の製造方法及びプログラム |
JP4157072B2 (ja) * | 2004-04-09 | 2008-09-24 | 日立マクセル株式会社 | 情報記録媒体用原盤作成方法、情報記録媒体用の原盤照射装置及び情報記録媒体の製造方法 |
-
2005
- 2005-11-22 US US11/813,004 patent/US7663124B2/en active Active
- 2005-11-22 WO PCT/JP2005/021934 patent/WO2006070555A1/ja active Application Filing
- 2005-11-22 JP JP2006550634A patent/JP4528308B2/ja active Active
-
2009
- 2009-12-25 JP JP2009294786A patent/JP4466975B1/ja not_active Expired - Fee Related
- 2009-12-25 JP JP2009294793A patent/JP4533457B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2010
- 2010-04-07 JP JP2010088840A patent/JP4801209B2/ja active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6355935A (ja) * | 1986-08-27 | 1988-03-10 | Omron Tateisi Electronics Co | 電子ビ−ム描画装置 |
JPH11328744A (ja) * | 1998-04-04 | 1999-11-30 | Lg Electronics Inc | 光ディスク及びマスタ―ディスク製造方法及び装置 |
JP2000315637A (ja) * | 1999-04-28 | 2000-11-14 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 電子ビーム露光方法及び装置 |
JP2002288890A (ja) * | 2001-03-23 | 2002-10-04 | Fujitsu Ltd | ビーム照射方法及び装置並びに記録媒体作成方法 |
WO2003091805A1 (en) * | 2002-04-24 | 2003-11-06 | Obducat Ab | Method, device and computer program product for lithography |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011158851A1 (ja) | 2010-06-15 | 2011-12-22 | ソニーケミカル&インフォメーションデバイス株式会社 | 保護素子、及び、保護素子の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4528308B2 (ja) | 2010-08-18 |
JPWO2006070555A1 (ja) | 2008-06-12 |
JP2010146698A (ja) | 2010-07-01 |
WO2006070555A1 (ja) | 2006-07-06 |
US7663124B2 (en) | 2010-02-16 |
JP4466975B1 (ja) | 2010-05-26 |
JP4801209B2 (ja) | 2011-10-26 |
JP2010225263A (ja) | 2010-10-07 |
JP4533457B2 (ja) | 2010-09-01 |
US20080093562A1 (en) | 2008-04-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4533457B2 (ja) | ビーム記録方法及び装置 | |
US7473910B2 (en) | Electron beam lithography apparatus | |
JP4491512B2 (ja) | 形成方法、形成装置及び製造方法 | |
US6650611B1 (en) | Master disc manufacturing apparatus | |
JP5087679B2 (ja) | 電子ビーム装置 | |
JPWO2007116741A1 (ja) | 記録システム、記録装置及び記録制御信号生成装置 | |
JP5166400B2 (ja) | ビーム描画装置 | |
JP4481982B2 (ja) | 情報記録方法、および情報記録装置 | |
JPWO2007111261A1 (ja) | 電子ビーム記録装置及びビーム調整方法 | |
JP2012141249A (ja) | 回転制御装置及び回転制御方法 | |
JP3986867B2 (ja) | ディスク原盤製造装置 | |
JP2010117507A (ja) | 電子ビーム記録装置 | |
US20100102254A1 (en) | Electron beam apparatus | |
WO2010013348A1 (ja) | 電子ビーム記録装置及びその制御装置並びに制御方法 | |
JP2010205326A (ja) | 電子線描画装置、ステージ位置偏差算出方法及びパターン描画方法 | |
JP2004186481A (ja) | 情報記録媒体とその製造に使用する電子ビーム露光方法及び電子ビーム露光装置 | |
JP2006053969A (ja) | ディスク装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100409 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100608 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100611 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4533457 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130618 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130618 Year of fee payment: 3 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130618 Year of fee payment: 3 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130618 Year of fee payment: 3 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |