JP5273523B2 - 電子線描画方法 - Google Patents
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- 基板表面の照射位置へ向けて照射される電子線に対して、前記基板を所定のトラックに沿って所定速度で相対移動させることにより、前記基板表面を前記トラックに沿って露光し、前記トラックに沿って、描画に必要な露光量が異なる第1及び第2のパターンを交互に描画する電子線描画方法であって、
前記所定速度は、前記第1及び第2のパターンのうち、描画に必要な露光量が多い方に適した大きさに設定され、
前記照射位置に入射する前記電子線を前記基板が移動する第1方向へ前記所定速度で偏向させて、前記第1のパターンを描画する工程と、
前記第1のパターンの描画終了位置に入射する前記電子線を、前記第1方向と逆向きの第2方向と、前記第1方向と直交する第3方向と、該第3方向と逆向きの第4方向とに前記基板表面にパターンが形成されない速度で、前記第1のパターンの描画が終了してから前記第2のパターンの描画開始位置が前記照射位置に一致するまでの時間偏向させて、前記電子線を前記照射位置に入射させる工程と、
前記入射させる工程の後、前記照射位置に入射する前記電子線を前記第1方向へ前記所定速度で偏向させて、前記第2のパターンを描画する工程と、を含む電子線描画方法。 - 基板表面の照射位置へ向けて照射される電子線に対して、前記基板を所定のトラックに沿って所定速度で相対移動させることにより、前記基板表面を前記トラックに沿って露光し、前記トラックに沿って、描画に必要な露光量が異なる第1及び第2のパターンを交互に描画する電子線描画方法であって、
前記所定速度は、前記第1及び第2のパターンのうち、描画に必要な露光量が多い方に適した大きさに設定され、
前記照射位置に入射する前記電子線を前記基板が移動する第1方向へ前記所定速度で偏向させて、前記第1のパターンを描画する工程と、
前記第1のパターンの描画終了位置に入射する前記電子線をブランキングさせた状態で前記第1方向と逆向きの第2方向に、前記第1のパターンの描画が終了してから前記第2のパターンの描画開始位置が前記照射位置に一致するまでの時間偏向させて、前記電子線を前記照射位置に入射させる工程と、
前記入射させる工程の後、前記照射位置に入射する前記電子線を前記第1方向へ前記所定速度で偏向させて、前記第2のパターンを描画する工程と、を含む電子線描画方法。 - 基板表面の照射位置へ向けて照射される電子線に対して、前記基板を所定のトラックに沿って所定速度で相対移動させることにより、前記基板表面を前記トラックに沿って露光し、前記トラックに沿って、描画に必要な露光量が異なる第1及び第2のパターンを交互に複数のパターンを描画する電子線描画方法であって、
前記所定速度は、前記第1及び第2のパターンのうち、描画に必要な露光量が多い方に適した大きさに設定され、
前記照射位置に入射する前記電子線を前記基板が移動する第1方向へ前記所定速度で偏向させて、前記第1のパターンを描画する工程と、
前記第1のパターンの描画終了位置に入射する前記電子線を、前記第1のパターンの描画が終了してから前記第2のパターンの描画開始位置が前記照射位置に一致するまでの時間、前記第1方向と逆向きの第2方向に前記基板表面にパターンが形成されない速度で偏向させるとともにブランキングさせて、前記電子線を前記照射位置に入射させる工程と、
前記入射させる工程の後、前記照射位置に入射する前記電子線を前記第1方向へ前記所定速度で偏向させて、前記第2のパターンを描画する工程と、を含む電子線描画方法。 - 前記電子線のブランキングは、前記電子線が前記基板表面にパターンが形成されない速度で偏向されているときに行われることを特徴とする請求項3に記載の電子線描画方法。
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