JP4350471B2 - 電子ビーム描画方法および描画装置 - Google Patents
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Description
すなわち、半径r(mm)の時、基準角度位置12からt(sec)後の描画位置座標は、図4に示すように、(数1)で表される。
これに対し、第4の実施形態おける直動ステージ15は、描画中は停止することなく移動し続けるようにしたものである。直動ステージ15は、ピッチP(mm)、線速度をV(mm/s)、描画開始半径をr0(mm)とすると、時間t(sec)後の半径位置r(mm)が、(数7)となるように制御される。
2 試料室
3 測長器
4 電子銃
5 電子ビーム
6 電磁レンズ
7 電子ビームの軌跡
8 電磁レンズ
9 ブランキング電極
10 絞り
11 偏向器
12 基準角度位置
13 原盤
14 ターンテーブル
15 直動ステージ
16 モータ
17 スピンドルモータ
18 描画領域
21 横送りドライバ
22 スピンドルドライバ
23 ブランキングドライバ
24 偏向器ドライバ
25 フォーマッタ
26 回転送りパルス発生器
30 基材
35 特定角度位置
40 ガラス基板
41 PMMA
Claims (4)
- 回転する基材表面に対して、電子ビーム照射装置を半径方向に相対的に移動させて所定ピッチごとに電子ビームを照射して、前記基材表面にパターンを描画する電子ビーム描画方法において、電子ビーム照射可能領域の一部をパターン描画領域として設定し、電子ビームの照射位置が前記パターン描画領域を移動する間は、前記基材の回転を、基準角度位置の半径位置をr、基準角度位置での線速度をVとすると、基準角度位置の各半径位置での回転数がV/2πrになるように制御し、前記パターン描画領域内の全ての描画が前記基準角度位置に垂直になるように、前記電子ビームを回転中心から基準角度の方向の軸に対して平行な方向に偏向することを特徴とする電子ビーム描画方法。
- 回転する基材表面に対して、電子ビーム照射装置を半径方向に相対的に移動させて所定ピッチごとに電子ビームを照射して、前記基材表面にパターンを描画する電子ビーム描画方法において、電子ビーム照射可能領域の一部をパターン描画領域として設定し、電子ビームの照射位置が前記パターン描画領域を移動する間は、前記基材の回転を、基準角度位置の半径位置をr、基準角度位置での線速度をVとすると、基準角度位置の各半径位置での回転数がV/2πrになるように制御し、前記基準角度位置から所定時間後の前記電子ビームの位置と前記基準角度位置との距離が、前記パターン描画領域内の全ての半径位置において等しくなるように、前記電子ビームを回転中心から基準角度の方向の軸に対して垂直な方向に偏向することを特徴とする電子ビーム描画方法。
- 前記電子ビームを断続するための前記基準角度位置を複数有し、前記パターン描画領域を複数有することを特徴とする請求項1または2記載の電子ビーム描画方法。
- 基材を回転させながら、前記基材に電子ビームを照射してパターンを描画する電子ビーム描画装置であって、前記基材を回転させる回転ステージ機構と、前記基材を半径方向に移動させる直動ステージ機構と、前記回転ステージ機構の基準角度位置を検出する検出手段と、この基準角度位置における電子ビーム照射位置となる半径位置を検出し、検出された前記半径位置を基に回転数を可変する回転制御手段と、前記電子ビームを半径方向・回転方向に偏向させる偏向手段と、電子ビーム照射可能領域の一部に設定したパターン描画領域内において前記基準角度位置からの時間情報によって前記電子ビームを回転ステージの接線方向に描画する電子ビーム照射機構とを有することを特徴とする電子ビーム描画装置。
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