JP5232864B2 - 電子ビーム描画装置の制御装置及び制御方法並びに描画方法 - Google Patents
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Description
基板15がEBR本体部10にセットした後、使用者が、入出力部55によって同心円ラインを描かせるべき同心円ライン描画指令操作を行うと、フォーマッタ50は、メモリ53に格納されている同心円ライン描画プログラムに従った以下の如き制御を順次実行する。
使用者が、入出力部55によって同心円ラインを描かせるべき同心円ライン描画指令操作を行うと、フォーマッタ50は、メモリ53に格納されている同心円ライン描画プログラムに従った以下の如き制御を順次実行する。
Claims (10)
- 基板上に形成された初期パターンを被転写体に転写して、角を有する転写パターンを前記被転写体に形成するために、前記基板に電子ビームを照射して前記初期パターンを描画する電子ビーム描画装置の制御装置であって、
前記初期パターンを描画するための描画信号を発生する描画信号発生器と、
前記描画信号を前記電子ビーム描画装置に送信する送信手段と、を備え、
前記初期パターンは、前記転写パターンの角部分に相当する初期パターン角部と、前記転写パターンの角部分以外に相当する初期パターン非角部とを有し、
前記描画信号は、前記被転写体に形成されるべき前記転写パターンの角部分に対して、前記初期パターン角部が外側に突出するように描画させる信号であることを特徴とする制御装置。 - 前記転写パターンの角部分に対する前記初期パターン角部の形状の大きさの割合を、前記転写パターンの角部以外の部分に対する前記初期パターン非角部の形状の大きさの割合より大きくなるように描画させることで、前記初期パターン角部を、前記転写パターンの角部よりも外側に突出させることを特徴とする請求項1記載の制御装置。
- 前記初期パターン角部に照射される前記電子ビームのドーズ量が、前記初期パターン非角部に照射される前記電子ビームのドーズ量よりも大きくなるようにされることで、前記初期パターン角部を、前記転写パターンの角部よりも外側に突出させることを特徴とする請求項1記載の制御装置。
- 前記初期パターン角部に照射される前記電子ビームの照射回数を、前記初期パターン非角部に照射される前記電子ビームの照射回数よりも多くなるようにさせることで、前記初期パターン角部を、前記転写パターンの角部よりも外側に突出させることを特徴とする請求項3記載の制御装置。
- 前記初期パターン角部に照射される前記電子ビームの強度を、前記初期パターン非角部に照射される前記電子ビームの強度よりも大きくなるようにさせることで、前記初期パターン角部を、前記転写パターンの角部よりも外側に突出させることを特徴とする請求項3記載の制御装置。
- 基板上に形成された初期パターンを被転写体に転写して、角を有する転写パターンを前記被転写体に形成するために、前記基板に前記初期パターンを描画する描画方法であって、
前記初期パターンは、前記転写パターンの角部分に相当する初期パターン角部と、前記転写パターンの角部分以外に相当する初期パターン非角部とを有し、
前記被転写体に形成されるべき前記転写パターンの角部分に対して、前記初期パターン角部が外側に突出することを特徴とする描画方法。 - 前記転写パターンの角部分に対する前記初期パターン角部の形状の大きさの割合を、前記転写パターンの角部以外の部分に対する前記初期パターン非角部の形状の大きさの割合より大きくなるように描画させることで、前記初期パターン角部を、前記転写パターンの角部よりも外側に突出させることを特徴とする請求項6記載の描画方法。
- 前記基板に電子ビームを照射して前記初期パターンを描画するステップを有し、
前記初期パターン角部に照射される前記電子ビームのドーズ量が、前記初期パターン非角部に照射される前記電子ビームのドーズ量よりも大きくなるようにされることで、前記初期パターン角部を、前記転写パターンの角部よりも外側に突出させることを特徴とする請求項6記載の描画方法。 - 前記初期パターン角部に照射される前記電子ビームの照射回数を、前記初期パターン非角部に照射される前記電子ビームの照射回数よりも多くなるようにさせることで、前記初期パターン角部を、前記転写パターンの角部よりも外側に突出させることを特徴とする請求項8記載の描画方法。
- 前記初期パターン角部に照射される前記電子ビームの強度を、前記初期パターン非角部に照射される前記電子ビームの強度よりも大きくなるようにさせることで、前記初期パターン角部を、前記転写パターンの角部よりも外側に突出させることを特徴とする請求項8記載の描画方法。
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