JP4080762B2 - 情報記録方法及び情報記録装置並びに記録媒体 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、電子ビーム、レーザビーム等の露光ビームを用いた情報記録装置に関し、特に、再生専用光ディスク、光磁気ディスク、相変化型光ディスク、磁気ディスク等の記録媒体の原盤を製造する製造装置に用いられる情報記録装置、その情報記録方法及び原盤から複製される光ディスク、磁気ディスク等の記録媒体に関する。
【０００２】
【従来の技術】
データの記録可能な光学式記録媒体として、追記型のＤＶＤ−Ｒ（Digital Versatile Disc-Recordable）や、書換可能型のＤＶＤ−ＲＷ（Digital Versatile Disc-ReWritable）など光ディスクがある。これら光ディスクにおいては、ディスクの回転制御に用いられるウォブリング信号等の回転制御情報やデータ記録時の位置検索などに必要なアドレス情報等の信号は、原盤製造時において凹又は凸部であるトラック（グルーブトラック又はランドトラック）に予め記録される。
【０００３】
上記の如き光ディスクを製造するにあたり、先ず、トラックに沿った所定の凹凸パターンを原盤に記録し、この原盤からディスクスタンパを形成する。そして、該ディスクスタンパを用いて合成樹脂などを加熱プレス加工または射出成形し、該パターンが原盤から転写された記録面上を金属蒸着処理した後、透光性基板などを形成する。該パターンの原盤への記録は、情報記録装置によってなされる。情報記録装置は、原盤の記録面を回転させつつ、レーザ光ビームを照射するヘッダを適宜半径方向に送ることにより、レーザ光ビームの照射スポットがほぼ等間隔のピッチで螺旋状又は同心円状のトラック軌跡を描くように制御する。更に、その軌跡上において、記録原盤の回転速度及び情報内容に応じてレーザ光をオン／オフさせることにより原盤上に記録ピットを記録していた。
【０００４】
ところが、このようなレーザ光ビームを用いた原盤のトラックカッティングすなわちマスタリングでは、レーザ光ビームのスポット径、波長及び対物レンズの開口数ＮＡによって記録分解能が制限される為、より高密度化された記録媒体の製造が困難であった。
そこで、レーザ光よりもスポット径が小さく、記録分解能の向上を図ることが可能な電子ビーム露光を用いた原盤のカッティングが検討されている。電子ビーム露光を用いた原盤カッティングでは、原盤上に電子ビーム用のレジスト層を形成し、記録変調の施された情報データに応じてレジスタ層に電子ビームを照射する。この際、電子ビームの照射された箇所に、記録ピットに対応した形状を有する潜像が形成される。次に、潜像の形成された部分のみを上記レジスト層から削除することによりマスクパターンを作成する。そして、このマスクパターンを用いることにより記録ピットに対応した凸形状又は凹形状の記録ピット列の形成されたスタンパを作成し、かかるスタンパにより光ディスクを製造するのである。
【０００５】
しかしながら、電子ビーム露光によって形成された潜像の形状は、形成させるべき記録ピットの長さが短い場合には、長い場合に比してそのピット幅(マーク幅)が狭くなってしまう。従って、電子ビーム露光によって作成されたスタンパを用いて製造された光ディスクからは、良好な読取信号波形が得られないという問題があった。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上述した点に鑑みてなされたものであり、ピット長の短い記録ピットからでも良好な読取信号波形を得ることができる記録媒体を製造する為の原盤製造用の情報記録方法及び情報記録装置、並びにその記録媒体を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
請求項１記載による情報記録方法は、記録ピットに対応したパルス信号に応じて基板上に形成されたレジスト層に露光ビームを照射することにより前記記録ピットに対応した潜像をトラックに沿って前記レジスト層に記録する情報記録方法であって、前記パルス信号のパルス幅に応じた期間に亘り前記露光ビームを前記レジスト層に照射する照射行程と、前記パルス信号に応じて前記露光ビームを前記トラックに沿った方向において偏向させることにより、前記露光ビームの照射によって前記レジスト層の表面に形成されたビームスポットと前記レジスト層との間の相対移動速度を調整する偏向行程と、を有し、前記偏向行程では、前記パルス信号における各パルスのエッジ部では前記パルスのパルス幅中央部に比して前記相対移動速度を低下させ、前記照射行程は、前記パルス幅が短いほど大なるオフセット期間を前記パルス幅に加算することにより前記露光ビームの照射期間を調整する照射期間調整行程を含む。
【０００８】
又、請求項５記載による情報記録装置は、原盤上に形成されたレジスト層の表面に露光ビームを照射することにより記録ピットに対応した潜像をトラックに沿って前記レジスト層に形成させる情報記録装置であって、前記原盤を回転駆動する回転駆動部と、前記記録ピットに対応したパルス信号のパルス幅が短いほど大なるオフセット期間を前記パルス幅に加算して得た期間に亘り前記露光ビームを前記レジスト層の表面に照射する露光ビーム射出部と、前記パルス信号のパルス幅に応じた偏向量にて前記露光ビームを前記トラックに沿った方向において偏向させることにより、前記露光ビームの照射によって前記レジスト層の表面に形成されたビームスポットと前記レジスト層との間の相対移動速度を調整するビーム偏向部と、を有し、前記ビーム偏向部は、前記パルス信号における各パルスのエッジ部では前記パルスのパルス中央部に比して前記相対移動速度を低くする。
【０００９】
又、請求項６記載による記録媒体は、トラックに沿って所定の記録ピット列が形成された原盤に基づいて複製された基板と前記基板上に形成された記録層とを有する記録媒体であって、レジスト層が形成されている前記原盤を回転させる行程と、前記記録ピットに対応したパルス信号のパルス幅が短いほど大なるオフセット期間を前記パルス幅に加算して得た期間に亘り露光ビームを前記レジスト層の表面に照射する露光ビーム射出行程と、前記記録ピットに対応したパルス信号のパルス幅に応じた偏向量にて前記露光ビームを前記トラックに沿った方向に偏向させることにより前記露光ビームの照射によって前記レジスト層の表面に形成されたビームスポットと前記レジスト層との間の相対移動速度を前記パルス信号における各パルスのエッジ部ではパルス幅中央部に比して低くなるように調整しつつ前記レジスト層上に照射することにより、前記記録ピット列に対応した潜像を前記レジスト層に形成させる情報記録行程と、前記レジスト層に形成された前記潜像を現像して前記レジスト層に記録マークを形成する現像行程と、前記記録マークの形成された前記レジスト層を転写することにより前記所定の記録ピット列が形成されたスタンパを製造する転写行程と、を経て複製されたことを特徴とする。
【００１０】
【発明の実施の形態】
本発明の実施の形態を図面を参照しつつ詳細に説明する。
図１は、本発明が適用された電子ビームレコーダ１０の概略ブロック図である。
電子ビームレコーダ１０は、原盤１５を回転及び並進駆動する駆動機構などが真空雰囲気中で動作するようにそれらを収納する真空チャンバ１１、電子ビームを射出する電子ビームカラム部４０、並びにこれら真空チャンバ１１及び電子ビームカラム部４０を制御する各種モジュール(後述する)から構成される。
【００１１】
真空チャンバ１１には真空ポンプ２８が接続されており、これによってチャンバ内を排気することによりチャンバ内部が所定圧力の真空雰囲気となるように設定されている。真空チャンバ１１は、エアーダンパなどの防振台（図示せず）を介してフロアに設置され、外部からの振動の伝達が抑制されている。原盤１５には例えばシリコン基板が用いられ、その主面上に電子ビーム用のレジスト層が設けられている。原盤１５は、スピンドルモータ１７によって回転駆動するターンテーブル１６上に載置される。スピンドルモータ１７は真空対応エアースピンドル構造の防磁モータを含む。スピンドルモータ１７は、スライダにより直線状に移動できる送りステージ（以下、単にステージという）１８に載置されている。ステージ１８は、ＤＣモータによってネジ送りする送り機構１９に結合され、スピンドルモータ１７及びターンテーブル１６を原盤１５の主面と平行な水平方向面内に移動する。半径センサ２０は、レーザ光をステージ１８に照射した際の反射光に基づいてステージ１８の位置を表す測長データを生成し、これを送り回転制御回路３０に供給する。送り回転制御部３０は、スピンドルモータ１７のエンコーダからの出力に基づいて、その回転のフィードバックサーボ制御を実施する。更に、送り回転制御部３０は、半径センサ２０から供給された上記測長データに基づいて送り機構１９を駆動してステージ１８の速度のフィードバックサーボ制御をなす。この際、送り回転制御部３０は、コントローラ２５から供給される所定のトラックピッチ情報、及び上記測長データに基づき、スピンドルモータ１７の回転数と送り機構１９の送り距離とが一定となるように制御する。又、送り回転制御部３０は、上記測長データに基づく原盤の位置データをコントローラ２５に供給する。コントローラ２５は、最終的に光ディスクに記録すべき情報データを担う記録ピットに対応した記録変調信号ＭＳを生成し、これを送り回転制御部３０から供給された原盤の位置データと共にビーム変調回路５２に供給する。さらに、コントローラ２５は、上記位置データ及び記録変調信号ＭＳに同期させた電子ビーム偏向信号をビーム偏向回路５５に供給する。この際、コントローラ２５及び送り回転制御部３０は、ステージ１８が原盤１５の１回転毎に所定トラックピッチずつ進むように送り機構１９を制御する。
【００１２】
又、真空チャンバ１１における電子ビームカラム部４０近傍の内壁には、原盤１５の主面の高さを光学的に検出する為のレーザ光源２２及び光検出器２３が設けられている。レーザ光源２２は、原盤１５の表面にレーザ光を照射する。光検出器２３は、この原盤１５の表面からの反射光を光電変換して得られた受光信号を高さ測定回路２４に供給する。高さ測定回路２４は、上記受光信号に基づいて原盤１５の主面の高さを測定し、その高さを表す高さデータをフォーカス制御回路５６に供給する。
【００１３】
電子ビームカラム部４０内には、上方から、電子銃４１、収束レンズ４２、ブランキング電極４３、オンオフ制御アパーチャ４４、ビーム偏向電極４５、フォーカス調整レンズ４６、及び対物レンズ４７が配置されている。
電子銃４１は、加速高圧電源５１が生成した数１０ＫｅＶの高電圧により加速された電子ビームを射出する。収束レンズ４２は、射出された電子ビームを収束し、これをブランキング電極４３、アパーチャ４４、ビーム偏向電極４５、フォーカス調整レンズ４６、対物レンズ４７及び電子ビーム射出口４９を介して原盤１５のレジスト層の表面に照射する。
【００１４】
この際、フォーカス制御回路５６は、上記高さ測定回路２４にて測定して得られた高さデータに基づいて、原盤１５のレジスト層の表面に電子ビームの焦点を合焦させるべく上記フォーカス調整レンズ４６を駆動する。かかるフォーカス調整により、レジスト層の表面上に電子ビームのビームスポットが形成される。
ビーム偏向電極４５は、互いに直交する対向配置された電極からなり、アパーチャ４４を介して供給された電子ビームを図２に示す如き原盤１５の表面におけるトラック方向Ｘ、及びディスク半径方向Ｙの２方向に独立して偏向可能に設けられている。ビーム偏向電極４５の２軸電極は、それぞれビーム偏向回路５５からのトラック方向偏向信号Ｘ（ｔ）及びディスク半径方向偏向信号Ｙ（ｔ）により制御され、電子ビームをそれぞれの軸方向に偏向させる。尚、ビーム偏向回路５５は、コントローラ２５から供給された記録変調信号ＭＳ、及び後述するビーム変調回路５２から供給されたブランキング信号ＢＬに基づいて上記トラック方向偏向信号Ｘ（ｔ）を生成する。更に、ビーム偏向回路５５は、ビームスポットを原盤１５の１回転ごとに１トラックピッチずつディスク半径方向に移動させるべきディスク半径方向偏向信号Ｙ（ｔ）を生成する。これによりビーム偏向電極４５は、上記ディスク半径方向偏向信号Ｙ（ｔ）に応じて電子ビームをディスク半径方向に偏向する。更に、ビーム偏向電極４５は、トラック方向偏向信号Ｘ（ｔ）に応じた分だけ電子ビームをトラック方向Ｘに偏向する。
【００１５】
又、上記ブランキング電極４３は、ビーム変調回路５２から供給されたブランキング信号ＢＬに応じて電子ビームのビーム軸を偏向させる。これにより、電子ビームがアパーチャ４４を通過してビーム偏向電極４５、フォーカス調整レンズ４６及び対物レンズ４７に導出される場合(以下、ビームオン状態と称する)と、アパーチャ４４で通過が阻止される場合(以下、ビームオフ状態と称する)とが生じる。この際、ビーム変調回路５２は、コントローラ２５から供給された記録変調信号ＭＳに応じて上記ブランキング信号ＢＬを生成するものである。又、記録変調信号ＭＳとは、光ディスクに記録すべき情報データに所定の記録変調処理を施して得られた信号である。従って、光ディスクに記録すべき情報データに応じて、交互に上述した如きビームオン状態及びビームオフ状態となり、ビームオン状態にある期間に限り原盤１５のレジスト層の表面に電子ビームが照射されるのである。これにより、スピンドルモータ１７によって回転される原盤１５のレジスト層の表面上には、図３に示す如く、電子ビームの照射された箇所のみに記録ピットに対応した潜像ＳＺの系列が螺旋状に形成される。
【００１６】
ここで、前述した如く電子ビームを原盤１５のレジスト層の表面に照射するにあたり、電子ビームレコーダ１０は、例えば図４に示す如き電子ビーム偏向制御を実施する。
先ず、ビーム変調回路５２は、記録変調信号ＭＳ中において論理レベル１の期間、つまり、光ディスク上に記録すべき記録ピットのピット長に対応した期間が比較的長い場合には、この期間と同一の期間だけ論理レベル１を維持するブランキング信号ＢＬを生成する。一方、記録変調信号ＭＳ中において論理レベル１の期間が短い場合には、ビーム変調回路５２は、この期間を前後に所定期間だけ延ばしたものをブランキング信号ＢＬとして生成する。例えば、図４に示すように、ビーム変調回路５２は、論理レベル１の期間が最大となるパルス幅ＴMAXの記録変調信号ＭＳが供給されている期間中は、このパルス幅ＴMAXと同一期間だけ論理レベル１を維持するブランキング信号ＢＬを生成する。一方、論理レベル１の期間が最小となるパルス幅ＴMINの記録変調信号ＭＳが供給された場合には、ビーム変調回路５２は、以下の如きブランキング信号ＢＬを生成する。つまり、ビーム変調回路５２は、図４に示す如く、パルス幅ＴMINの記録変調信号ＭＳのフロントエッジタイミングを所定のオフセット期間ＯＦ1だけ早め、リアエッジタイミングをオフセット期間ＯＦ1だけ遅らせることにより論理レベル１となる期間を広げたブランキング信号ＢＬを生成するのである。又、上記パルス幅ＴMINより大でありパルス幅ＴMAXよりも小なるパルス幅ＴMIDの記録変調信号ＭＳが供給された場合には、ビーム変調回路５２は、以下の如きブランキング信号ＢＬを生成する。つまり、ビーム変調回路５２は、図４に示す如く、パルス幅ＴMIDの記録変調信号ＭＳのフロントエッジタイミングを所定のオフセット期間ＯＦ2(ＯＦ1＞ＯＦ2)だけ早め、リアエッジタイミングをオフセット期間ＯＦ2だけ遅らせることにより論理レベル１となる期間を広げたブランキング信号ＢＬを生成するのである。
【００１７】
この際、上記ブランキング信号ＢＬが論理レベル１である期間中に限り、ブランキング電極４３は、収束レンズ４２から供給された電子ビームをアパーチャ４４を通過せしめるように電子ビームを偏向する。つまり、この間、ビームオン状態となって原盤１５のレジスト層表面上に電子ビームが照射されるのである。すなわち、上記ブランキング信号ＢＬが論理レベル１である期間が、原盤１５のレジスト層に電子ビームが照射される照射期間となるのである。
【００１８】
一方、ビーム偏向回路５５は、上記ブランキング信号ＢＬが論理レベル１である期間中に限り、正電圧から負電圧(又は負電圧から正電圧)に徐々にレベルが推移するトラック方向偏向信号Ｘ(ｔ)を生成する。この際、ビーム偏向回路５５は、論理レベル１の期間の長い記録変調信号ＭＳが供給されている場合には、電圧推移幅、つまり振幅が小なるトラック方向偏向信号Ｘ(ｔ)を生成する。一方、論理レベル１の期間の短い記録変調信号ＭＳが供給されている場合には、ビーム偏向回路５５は、振幅が大なるトラック方向偏向信号Ｘ(ｔ)を生成する。つまり、ビーム偏向回路５５は、記録変調信号ＭＳにおいて論理レベル１の期間が短いほど大なる振幅で正電圧から負電圧(又は負電圧から正電圧)へと徐々にレベルが推移するトラック方向偏向信号Ｘ(ｔ)を生成するのである。例えば、図４において、論理レベル１の期間が最大となるパルス幅ＴMAXの記録変調信号ＭＳが供給されている期間中は、ビーム偏向回路５５は、振幅"０"、つまり０レベル一定のトラック方向偏向信号Ｘ(ｔ)を生成する。一方、図４に示す如く、論理レベル１の期間が最小となるパルス幅ＴMINの記録変調信号ＭＳが供給されている場合には、ビーム偏向回路５５は、ブランキング信号ＢＬが論理レベル１である期間中に亘り、正電圧Ｖ１から負電圧(−Ｖ１)へと電圧が推移するトラック方向偏向信号Ｘ(ｔ)を生成する。又、上記パルス幅ＴMINより大でありパルス幅ＴMAXよりも小なるパルス幅ＴMIDの記録変調信号ＭＳが供給された場合には、ビーム偏向回路５５は、ブランキング信号ＢＬが論理レベル１である期間中に亘り正電圧Ｖ２から負電圧(−Ｖ２)へと電圧推移するトラック方向偏向信号Ｘ(ｔ)を生成する。尚、Ｖ１はＶ２よりも高電圧である。
【００１９】
上述した如き電子ビーム偏向制御によれば、例えば、図４に示す如き論理レベル１の期間が最大となるパルス幅ＴMAXの記録変調信号ＭＳが供給された場合には、その期間中(時点ｔ１１〜時点ｔ１５)に亘り電子ビームが原盤１５のレジスト層表面に照射される。この間、図４に示すようにトラック方向偏向信号Ｘ(ｔ)の信号レベルは"０"である為、図５(ａ)に示す如く、時点ｔ１１〜時点ｔ１５に亘り、電子ビームカラム部４０の電子ビーム射出口４９からは、原盤１５の表面に対して垂直に電子ビームが照射される。この間(時点ｔ１１〜ｔ１５)、原盤１５はスピンドルモータ１７によって回転しているので、原盤１５のレジスト層上に形成されるビームスポットの位置はスピンドルモータ１７の回転方向とは反対方向、すなわち記録進行方向に移動して行く。よって、図４及び図５(ａ)中において斜線分にて示す如く、上記パルス幅ＴMAXと同一長を有する潜像ＳＺ１が原盤１５のレジスト層上に形成される。
【００２０】
一方、図４に示す如き論理レベル１の期間が最小となるパルス幅ＴMINの記録変調信号ＭＳが供給された場合には、かかる期間とその前後のオフセットオフセット期間ＯＦ1を含む期間中(時点ｔ１〜時点ｔ５)に亘り電子ビームが原盤１５のレジスト層表面に照射される。この時点ｔ１〜ｔ５の期間中においてトラック方向偏向信号Ｘ(ｔ)の信号レベルは、図４に示す如く、正電圧Ｖ１から負電圧(−Ｖ１)へと徐々に推移する。例えば、図４に示すように、時点ｔ１ではトラック方向偏向信号Ｘ(ｔ)の信号レベルは正電圧Ｖ１、時点ｔ２では正電圧(Ｖ１／２)、時点ｔ３では電圧"０"、時点ｔ４では負電圧(−Ｖ１／２)、時点ｔ５では負電圧(−Ｖ１)となる。この際、ビーム偏向電極４５は、上記トラック方向偏向信号Ｘ(ｔ)の信号レベルに応じた分だけ電子ビームをトラック方向Ｘに偏向する。よって、上記時点ｔ１では、正電圧Ｖ１に応じた角度θ１だけトラック方向Xに偏向された電子ビームが電子ビームカラム部４０の電子ビーム射出口４９から原盤１５のレジスト層表面に向けて照射される。すなわち、時点ｔ１では、図５(ｂ)に示す如くトラックに沿った方向Ｘにおける記録進行方向側に角度θ１だけ偏向された電子ビームが原盤１５のレジスト層表面に向けて照射されるのである。又、時点ｔ２では、正電圧(Ｖ１／２)に応じた角度θ２だけトラック方向Xに偏向された電子ビームが電子ビームカラム部４０の電子ビーム射出口４９から原盤１５のレジスト層表面に向けて照射される。すなわち、時点ｔ２では、図５(ｂ)に示す如くトラックに沿った方向Ｘにおける記録進行方向側に角度θ２だけ偏向された電子ビームが原盤１５のレジスト層表面に向けて照射されるのである。尚、角度θ２は角度θ１よりも小である。又、時点ｔ３では、図５(ｂ)に示す如く、電圧"０"に応じた角度、すなわち、レジスト層の表面に対して垂直に電子ビームが照射される。又、時点ｔ４では、負電圧(−Ｖ１／２)に応じた角度(−θ２)だけトラック方向Xに偏向された電子ビームが電子ビームカラム部４０の電子ビーム射出口４９から原盤１５のレジスト層表面に向けて照射される。すなわち、時点ｔ４では、図５(ｂ)に示す如くトラックに沿った方向Ｘにおける記録進行方向とは反対方向に角度θ２だけ偏向された電子ビームが原盤１５のレジスト層表面に向けて照射されるのである。又、時点ｔ５では、負電圧(−Ｖ１／２)に応じた角度(−θ１)だけトラック方向Xに偏向された電子ビームが電子ビームカラム部４０の電子ビーム射出口４９から原盤１５のレジスト層表面に向けて照射される。すなわち、時点ｔ５では、図５(ｂ)に示す如くトラックに沿った方向Ｘにおける記録進行方向とは反対方向に角度θ１だけ偏向された電子ビームが原盤１５のレジスト層表面に向けて照射されるのである。
【００２１】
この間(時点ｔ１〜ｔ５)、原盤１５のレジスト層上に形成されるビームスポットの位置はスピンドルモータ１７の回転方向とは反対方向、すなわち記録進行方向に移動して行く。これにより、時点ｔ１〜時点ｔ５の期間に亘り、上記パルス幅ＴMINと同一長の領域内に電子ビームが照射され、このパルス幅ＴMINと同一長を有する潜像ＳＺ２が原盤１５のレジスト層上に形成される。
【００２２】
この際、図５(ｂ)に示す如き電子ビームの偏向制御では、電子ビームの照射期間内において、先ず、電子ビームをトラックに沿った記録進行方向に偏向し、徐々に偏向量を低下させて電子ビームを記録進行方向とは反対方向に徐々に偏向させて行く。これにより、電子ビームスポットがレジスト層の表面をトレースする際の相対的な移動速度が低下するので、図５(ａ)の場合に比して単位面積あたりの電子ビームの露光時間が増大する。よって、かかる電子ビームの偏向制御によれば、ピット長の短い記録ピットに対応した潜像の幅をピット長の長い記録ピットに対応した潜像の幅と同一幅にすることが可能となる。
【００２３】
図６は、上述した如き電子ビーム露光によってレジスト層に潜像を記録してからスタンパが製造されるまでの概略製造フローを示す図である。
先ず、情報記録行程Ｓ１では、上述した如き電子ビーム露光により、原盤１５のレジスト層に潜像を形成させる。すなわち、情報記録行程Ｓ１では、レジスト層が形成されている原盤１５を回転させつつ、記録変調信号ＭＳに応じてレジスト層の表面に電子ビームを照射する。この際、図４及び図５に示すように、露光ビームを、記録変調信号ＭＳのパルス幅に応じた偏向量にてトラックに沿った方向に偏向させつつ上記レジスト層に照射する。これにより、記録ピット列に対応した潜像をレジスト層に形成させる。
【００２４】
次の現像行程Ｓ２では、レジスト層に形成されている潜像を現像する。これにより、上記潜像の箇所にこの潜像と同一形態の記録マークが形成される。
次の転写行程Ｓ３では、現像行程Ｓ２によって記録マークの形成されたレジスト層を転写することにより、記録ピットの形成されたスタンパを製造する。
従って、かかるスタンパを用いて複製された光ディスク上にはピット長に関わらず、そのピット幅が均一な良好な形態を有する記録ピットが形成されることになる。
【００２５】
尚、ビーム偏向回路５５は、記録変調信号ＭＳ及びブランキング信号ＢＬに応じて図４に示す如き波形のトラック方向偏向信号Ｘ(ｔ)を生成するようにしているが、図４に代わり図７に示す如き波形のトラック方向偏向信号Ｘ(ｔ)を生成し、これをビーム偏向電極４５に供給することにより、より良好なエッジ形態を有する記録ピットを形成させることが可能となる。かかるトラック方向偏向信号Ｘ(ｔ)では、立ち下がり開始部ＤＳ及び立ち上がり開始部ＵＳでのレベル推移を急峻にしている。これにより、潜像ＳＺのエッジ部ＥＧに対する電子ビームの照射時間が図４に示すトラック方向偏向信号Ｘ(ｔ)を用いた場合に比して長くなり、このエッジ部ＥＧでの潜像の幅をより大にすることが可能となる。従って、図７に示すトラック方向偏向信号Ｘ(ｔ)に基づく電子ビーム露光によって作成されたスタンパを用いて製造された光ディスク上には、より良好なエッジ形態を有する記録ピットが形成されることになる。
【００２６】
【発明の効果】
上記したことから明らかなように、本発明によれば、ピット長の短い記録ピットからでも良好な読取信号波形を得ることができる光ディスクを複製することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明による電子ビームレコーダを示す概略ブロック図。
【図２】原盤１５の表面上におけるトラック方向Ｘ及びディスク半径方向Ｙを示す図である。
【図３】原盤１５のレジスト層に形成された潜像ＳＺの一例を示す図である。
【図４】記録変調信号ＭＳに基づいて生成されるブランキング信号ＢＬ及びトラック方向偏向信号Ｘ(ｔ)の一例を示す図である。
【図５】原盤１５のレジスト層への記録の様子を示す概略断面図である。
【図６】スタンパが製造されるまでの概略製造フローを示す図である。
【図７】トラック方向偏向信号Ｘ(ｔ)の他の一例を示す図である。
【符号の説明】
１０ 電子ビームレコーダ
１５ 原盤
１７ スピンドルモータ
２５ コントローラ
４０ 電子ビームカラム部
４５ ビーム偏向電極
４６ フォーカス調整レンズ
５２ ビーム変調回路
５５ ビーム偏向回路
【発明の属する技術分野】
本発明は、電子ビーム、レーザビーム等の露光ビームを用いた情報記録装置に関し、特に、再生専用光ディスク、光磁気ディスク、相変化型光ディスク、磁気ディスク等の記録媒体の原盤を製造する製造装置に用いられる情報記録装置、その情報記録方法及び原盤から複製される光ディスク、磁気ディスク等の記録媒体に関する。
【０００２】
【従来の技術】
データの記録可能な光学式記録媒体として、追記型のＤＶＤ−Ｒ（Digital Versatile Disc-Recordable）や、書換可能型のＤＶＤ−ＲＷ（Digital Versatile Disc-ReWritable）など光ディスクがある。これら光ディスクにおいては、ディスクの回転制御に用いられるウォブリング信号等の回転制御情報やデータ記録時の位置検索などに必要なアドレス情報等の信号は、原盤製造時において凹又は凸部であるトラック（グルーブトラック又はランドトラック）に予め記録される。
【０００３】
上記の如き光ディスクを製造するにあたり、先ず、トラックに沿った所定の凹凸パターンを原盤に記録し、この原盤からディスクスタンパを形成する。そして、該ディスクスタンパを用いて合成樹脂などを加熱プレス加工または射出成形し、該パターンが原盤から転写された記録面上を金属蒸着処理した後、透光性基板などを形成する。該パターンの原盤への記録は、情報記録装置によってなされる。情報記録装置は、原盤の記録面を回転させつつ、レーザ光ビームを照射するヘッダを適宜半径方向に送ることにより、レーザ光ビームの照射スポットがほぼ等間隔のピッチで螺旋状又は同心円状のトラック軌跡を描くように制御する。更に、その軌跡上において、記録原盤の回転速度及び情報内容に応じてレーザ光をオン／オフさせることにより原盤上に記録ピットを記録していた。
【０００４】
ところが、このようなレーザ光ビームを用いた原盤のトラックカッティングすなわちマスタリングでは、レーザ光ビームのスポット径、波長及び対物レンズの開口数ＮＡによって記録分解能が制限される為、より高密度化された記録媒体の製造が困難であった。
そこで、レーザ光よりもスポット径が小さく、記録分解能の向上を図ることが可能な電子ビーム露光を用いた原盤のカッティングが検討されている。電子ビーム露光を用いた原盤カッティングでは、原盤上に電子ビーム用のレジスト層を形成し、記録変調の施された情報データに応じてレジスタ層に電子ビームを照射する。この際、電子ビームの照射された箇所に、記録ピットに対応した形状を有する潜像が形成される。次に、潜像の形成された部分のみを上記レジスト層から削除することによりマスクパターンを作成する。そして、このマスクパターンを用いることにより記録ピットに対応した凸形状又は凹形状の記録ピット列の形成されたスタンパを作成し、かかるスタンパにより光ディスクを製造するのである。
【０００５】
しかしながら、電子ビーム露光によって形成された潜像の形状は、形成させるべき記録ピットの長さが短い場合には、長い場合に比してそのピット幅(マーク幅)が狭くなってしまう。従って、電子ビーム露光によって作成されたスタンパを用いて製造された光ディスクからは、良好な読取信号波形が得られないという問題があった。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上述した点に鑑みてなされたものであり、ピット長の短い記録ピットからでも良好な読取信号波形を得ることができる記録媒体を製造する為の原盤製造用の情報記録方法及び情報記録装置、並びにその記録媒体を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
請求項１記載による情報記録方法は、記録ピットに対応したパルス信号に応じて基板上に形成されたレジスト層に露光ビームを照射することにより前記記録ピットに対応した潜像をトラックに沿って前記レジスト層に記録する情報記録方法であって、前記パルス信号のパルス幅に応じた期間に亘り前記露光ビームを前記レジスト層に照射する照射行程と、前記パルス信号に応じて前記露光ビームを前記トラックに沿った方向において偏向させることにより、前記露光ビームの照射によって前記レジスト層の表面に形成されたビームスポットと前記レジスト層との間の相対移動速度を調整する偏向行程と、を有し、前記偏向行程では、前記パルス信号における各パルスのエッジ部では前記パルスのパルス幅中央部に比して前記相対移動速度を低下させ、前記照射行程は、前記パルス幅が短いほど大なるオフセット期間を前記パルス幅に加算することにより前記露光ビームの照射期間を調整する照射期間調整行程を含む。
【０００８】
又、請求項５記載による情報記録装置は、原盤上に形成されたレジスト層の表面に露光ビームを照射することにより記録ピットに対応した潜像をトラックに沿って前記レジスト層に形成させる情報記録装置であって、前記原盤を回転駆動する回転駆動部と、前記記録ピットに対応したパルス信号のパルス幅が短いほど大なるオフセット期間を前記パルス幅に加算して得た期間に亘り前記露光ビームを前記レジスト層の表面に照射する露光ビーム射出部と、前記パルス信号のパルス幅に応じた偏向量にて前記露光ビームを前記トラックに沿った方向において偏向させることにより、前記露光ビームの照射によって前記レジスト層の表面に形成されたビームスポットと前記レジスト層との間の相対移動速度を調整するビーム偏向部と、を有し、前記ビーム偏向部は、前記パルス信号における各パルスのエッジ部では前記パルスのパルス中央部に比して前記相対移動速度を低くする。
【０００９】
又、請求項６記載による記録媒体は、トラックに沿って所定の記録ピット列が形成された原盤に基づいて複製された基板と前記基板上に形成された記録層とを有する記録媒体であって、レジスト層が形成されている前記原盤を回転させる行程と、前記記録ピットに対応したパルス信号のパルス幅が短いほど大なるオフセット期間を前記パルス幅に加算して得た期間に亘り露光ビームを前記レジスト層の表面に照射する露光ビーム射出行程と、前記記録ピットに対応したパルス信号のパルス幅に応じた偏向量にて前記露光ビームを前記トラックに沿った方向に偏向させることにより前記露光ビームの照射によって前記レジスト層の表面に形成されたビームスポットと前記レジスト層との間の相対移動速度を前記パルス信号における各パルスのエッジ部ではパルス幅中央部に比して低くなるように調整しつつ前記レジスト層上に照射することにより、前記記録ピット列に対応した潜像を前記レジスト層に形成させる情報記録行程と、前記レジスト層に形成された前記潜像を現像して前記レジスト層に記録マークを形成する現像行程と、前記記録マークの形成された前記レジスト層を転写することにより前記所定の記録ピット列が形成されたスタンパを製造する転写行程と、を経て複製されたことを特徴とする。
【００１０】
【発明の実施の形態】
本発明の実施の形態を図面を参照しつつ詳細に説明する。
図１は、本発明が適用された電子ビームレコーダ１０の概略ブロック図である。
電子ビームレコーダ１０は、原盤１５を回転及び並進駆動する駆動機構などが真空雰囲気中で動作するようにそれらを収納する真空チャンバ１１、電子ビームを射出する電子ビームカラム部４０、並びにこれら真空チャンバ１１及び電子ビームカラム部４０を制御する各種モジュール(後述する)から構成される。
【００１１】
真空チャンバ１１には真空ポンプ２８が接続されており、これによってチャンバ内を排気することによりチャンバ内部が所定圧力の真空雰囲気となるように設定されている。真空チャンバ１１は、エアーダンパなどの防振台（図示せず）を介してフロアに設置され、外部からの振動の伝達が抑制されている。原盤１５には例えばシリコン基板が用いられ、その主面上に電子ビーム用のレジスト層が設けられている。原盤１５は、スピンドルモータ１７によって回転駆動するターンテーブル１６上に載置される。スピンドルモータ１７は真空対応エアースピンドル構造の防磁モータを含む。スピンドルモータ１７は、スライダにより直線状に移動できる送りステージ（以下、単にステージという）１８に載置されている。ステージ１８は、ＤＣモータによってネジ送りする送り機構１９に結合され、スピンドルモータ１７及びターンテーブル１６を原盤１５の主面と平行な水平方向面内に移動する。半径センサ２０は、レーザ光をステージ１８に照射した際の反射光に基づいてステージ１８の位置を表す測長データを生成し、これを送り回転制御回路３０に供給する。送り回転制御部３０は、スピンドルモータ１７のエンコーダからの出力に基づいて、その回転のフィードバックサーボ制御を実施する。更に、送り回転制御部３０は、半径センサ２０から供給された上記測長データに基づいて送り機構１９を駆動してステージ１８の速度のフィードバックサーボ制御をなす。この際、送り回転制御部３０は、コントローラ２５から供給される所定のトラックピッチ情報、及び上記測長データに基づき、スピンドルモータ１７の回転数と送り機構１９の送り距離とが一定となるように制御する。又、送り回転制御部３０は、上記測長データに基づく原盤の位置データをコントローラ２５に供給する。コントローラ２５は、最終的に光ディスクに記録すべき情報データを担う記録ピットに対応した記録変調信号ＭＳを生成し、これを送り回転制御部３０から供給された原盤の位置データと共にビーム変調回路５２に供給する。さらに、コントローラ２５は、上記位置データ及び記録変調信号ＭＳに同期させた電子ビーム偏向信号をビーム偏向回路５５に供給する。この際、コントローラ２５及び送り回転制御部３０は、ステージ１８が原盤１５の１回転毎に所定トラックピッチずつ進むように送り機構１９を制御する。
【００１２】
又、真空チャンバ１１における電子ビームカラム部４０近傍の内壁には、原盤１５の主面の高さを光学的に検出する為のレーザ光源２２及び光検出器２３が設けられている。レーザ光源２２は、原盤１５の表面にレーザ光を照射する。光検出器２３は、この原盤１５の表面からの反射光を光電変換して得られた受光信号を高さ測定回路２４に供給する。高さ測定回路２４は、上記受光信号に基づいて原盤１５の主面の高さを測定し、その高さを表す高さデータをフォーカス制御回路５６に供給する。
【００１３】
電子ビームカラム部４０内には、上方から、電子銃４１、収束レンズ４２、ブランキング電極４３、オンオフ制御アパーチャ４４、ビーム偏向電極４５、フォーカス調整レンズ４６、及び対物レンズ４７が配置されている。
電子銃４１は、加速高圧電源５１が生成した数１０ＫｅＶの高電圧により加速された電子ビームを射出する。収束レンズ４２は、射出された電子ビームを収束し、これをブランキング電極４３、アパーチャ４４、ビーム偏向電極４５、フォーカス調整レンズ４６、対物レンズ４７及び電子ビーム射出口４９を介して原盤１５のレジスト層の表面に照射する。
【００１４】
この際、フォーカス制御回路５６は、上記高さ測定回路２４にて測定して得られた高さデータに基づいて、原盤１５のレジスト層の表面に電子ビームの焦点を合焦させるべく上記フォーカス調整レンズ４６を駆動する。かかるフォーカス調整により、レジスト層の表面上に電子ビームのビームスポットが形成される。
ビーム偏向電極４５は、互いに直交する対向配置された電極からなり、アパーチャ４４を介して供給された電子ビームを図２に示す如き原盤１５の表面におけるトラック方向Ｘ、及びディスク半径方向Ｙの２方向に独立して偏向可能に設けられている。ビーム偏向電極４５の２軸電極は、それぞれビーム偏向回路５５からのトラック方向偏向信号Ｘ（ｔ）及びディスク半径方向偏向信号Ｙ（ｔ）により制御され、電子ビームをそれぞれの軸方向に偏向させる。尚、ビーム偏向回路５５は、コントローラ２５から供給された記録変調信号ＭＳ、及び後述するビーム変調回路５２から供給されたブランキング信号ＢＬに基づいて上記トラック方向偏向信号Ｘ（ｔ）を生成する。更に、ビーム偏向回路５５は、ビームスポットを原盤１５の１回転ごとに１トラックピッチずつディスク半径方向に移動させるべきディスク半径方向偏向信号Ｙ（ｔ）を生成する。これによりビーム偏向電極４５は、上記ディスク半径方向偏向信号Ｙ（ｔ）に応じて電子ビームをディスク半径方向に偏向する。更に、ビーム偏向電極４５は、トラック方向偏向信号Ｘ（ｔ）に応じた分だけ電子ビームをトラック方向Ｘに偏向する。
【００１５】
又、上記ブランキング電極４３は、ビーム変調回路５２から供給されたブランキング信号ＢＬに応じて電子ビームのビーム軸を偏向させる。これにより、電子ビームがアパーチャ４４を通過してビーム偏向電極４５、フォーカス調整レンズ４６及び対物レンズ４７に導出される場合(以下、ビームオン状態と称する)と、アパーチャ４４で通過が阻止される場合(以下、ビームオフ状態と称する)とが生じる。この際、ビーム変調回路５２は、コントローラ２５から供給された記録変調信号ＭＳに応じて上記ブランキング信号ＢＬを生成するものである。又、記録変調信号ＭＳとは、光ディスクに記録すべき情報データに所定の記録変調処理を施して得られた信号である。従って、光ディスクに記録すべき情報データに応じて、交互に上述した如きビームオン状態及びビームオフ状態となり、ビームオン状態にある期間に限り原盤１５のレジスト層の表面に電子ビームが照射されるのである。これにより、スピンドルモータ１７によって回転される原盤１５のレジスト層の表面上には、図３に示す如く、電子ビームの照射された箇所のみに記録ピットに対応した潜像ＳＺの系列が螺旋状に形成される。
【００１６】
ここで、前述した如く電子ビームを原盤１５のレジスト層の表面に照射するにあたり、電子ビームレコーダ１０は、例えば図４に示す如き電子ビーム偏向制御を実施する。
先ず、ビーム変調回路５２は、記録変調信号ＭＳ中において論理レベル１の期間、つまり、光ディスク上に記録すべき記録ピットのピット長に対応した期間が比較的長い場合には、この期間と同一の期間だけ論理レベル１を維持するブランキング信号ＢＬを生成する。一方、記録変調信号ＭＳ中において論理レベル１の期間が短い場合には、ビーム変調回路５２は、この期間を前後に所定期間だけ延ばしたものをブランキング信号ＢＬとして生成する。例えば、図４に示すように、ビーム変調回路５２は、論理レベル１の期間が最大となるパルス幅ＴMAXの記録変調信号ＭＳが供給されている期間中は、このパルス幅ＴMAXと同一期間だけ論理レベル１を維持するブランキング信号ＢＬを生成する。一方、論理レベル１の期間が最小となるパルス幅ＴMINの記録変調信号ＭＳが供給された場合には、ビーム変調回路５２は、以下の如きブランキング信号ＢＬを生成する。つまり、ビーム変調回路５２は、図４に示す如く、パルス幅ＴMINの記録変調信号ＭＳのフロントエッジタイミングを所定のオフセット期間ＯＦ1だけ早め、リアエッジタイミングをオフセット期間ＯＦ1だけ遅らせることにより論理レベル１となる期間を広げたブランキング信号ＢＬを生成するのである。又、上記パルス幅ＴMINより大でありパルス幅ＴMAXよりも小なるパルス幅ＴMIDの記録変調信号ＭＳが供給された場合には、ビーム変調回路５２は、以下の如きブランキング信号ＢＬを生成する。つまり、ビーム変調回路５２は、図４に示す如く、パルス幅ＴMIDの記録変調信号ＭＳのフロントエッジタイミングを所定のオフセット期間ＯＦ2(ＯＦ1＞ＯＦ2)だけ早め、リアエッジタイミングをオフセット期間ＯＦ2だけ遅らせることにより論理レベル１となる期間を広げたブランキング信号ＢＬを生成するのである。
【００１７】
この際、上記ブランキング信号ＢＬが論理レベル１である期間中に限り、ブランキング電極４３は、収束レンズ４２から供給された電子ビームをアパーチャ４４を通過せしめるように電子ビームを偏向する。つまり、この間、ビームオン状態となって原盤１５のレジスト層表面上に電子ビームが照射されるのである。すなわち、上記ブランキング信号ＢＬが論理レベル１である期間が、原盤１５のレジスト層に電子ビームが照射される照射期間となるのである。
【００１８】
一方、ビーム偏向回路５５は、上記ブランキング信号ＢＬが論理レベル１である期間中に限り、正電圧から負電圧(又は負電圧から正電圧)に徐々にレベルが推移するトラック方向偏向信号Ｘ(ｔ)を生成する。この際、ビーム偏向回路５５は、論理レベル１の期間の長い記録変調信号ＭＳが供給されている場合には、電圧推移幅、つまり振幅が小なるトラック方向偏向信号Ｘ(ｔ)を生成する。一方、論理レベル１の期間の短い記録変調信号ＭＳが供給されている場合には、ビーム偏向回路５５は、振幅が大なるトラック方向偏向信号Ｘ(ｔ)を生成する。つまり、ビーム偏向回路５５は、記録変調信号ＭＳにおいて論理レベル１の期間が短いほど大なる振幅で正電圧から負電圧(又は負電圧から正電圧)へと徐々にレベルが推移するトラック方向偏向信号Ｘ(ｔ)を生成するのである。例えば、図４において、論理レベル１の期間が最大となるパルス幅ＴMAXの記録変調信号ＭＳが供給されている期間中は、ビーム偏向回路５５は、振幅"０"、つまり０レベル一定のトラック方向偏向信号Ｘ(ｔ)を生成する。一方、図４に示す如く、論理レベル１の期間が最小となるパルス幅ＴMINの記録変調信号ＭＳが供給されている場合には、ビーム偏向回路５５は、ブランキング信号ＢＬが論理レベル１である期間中に亘り、正電圧Ｖ１から負電圧(−Ｖ１)へと電圧が推移するトラック方向偏向信号Ｘ(ｔ)を生成する。又、上記パルス幅ＴMINより大でありパルス幅ＴMAXよりも小なるパルス幅ＴMIDの記録変調信号ＭＳが供給された場合には、ビーム偏向回路５５は、ブランキング信号ＢＬが論理レベル１である期間中に亘り正電圧Ｖ２から負電圧(−Ｖ２)へと電圧推移するトラック方向偏向信号Ｘ(ｔ)を生成する。尚、Ｖ１はＶ２よりも高電圧である。
【００１９】
上述した如き電子ビーム偏向制御によれば、例えば、図４に示す如き論理レベル１の期間が最大となるパルス幅ＴMAXの記録変調信号ＭＳが供給された場合には、その期間中(時点ｔ１１〜時点ｔ１５)に亘り電子ビームが原盤１５のレジスト層表面に照射される。この間、図４に示すようにトラック方向偏向信号Ｘ(ｔ)の信号レベルは"０"である為、図５(ａ)に示す如く、時点ｔ１１〜時点ｔ１５に亘り、電子ビームカラム部４０の電子ビーム射出口４９からは、原盤１５の表面に対して垂直に電子ビームが照射される。この間(時点ｔ１１〜ｔ１５)、原盤１５はスピンドルモータ１７によって回転しているので、原盤１５のレジスト層上に形成されるビームスポットの位置はスピンドルモータ１７の回転方向とは反対方向、すなわち記録進行方向に移動して行く。よって、図４及び図５(ａ)中において斜線分にて示す如く、上記パルス幅ＴMAXと同一長を有する潜像ＳＺ１が原盤１５のレジスト層上に形成される。
【００２０】
一方、図４に示す如き論理レベル１の期間が最小となるパルス幅ＴMINの記録変調信号ＭＳが供給された場合には、かかる期間とその前後のオフセットオフセット期間ＯＦ1を含む期間中(時点ｔ１〜時点ｔ５)に亘り電子ビームが原盤１５のレジスト層表面に照射される。この時点ｔ１〜ｔ５の期間中においてトラック方向偏向信号Ｘ(ｔ)の信号レベルは、図４に示す如く、正電圧Ｖ１から負電圧(−Ｖ１)へと徐々に推移する。例えば、図４に示すように、時点ｔ１ではトラック方向偏向信号Ｘ(ｔ)の信号レベルは正電圧Ｖ１、時点ｔ２では正電圧(Ｖ１／２)、時点ｔ３では電圧"０"、時点ｔ４では負電圧(−Ｖ１／２)、時点ｔ５では負電圧(−Ｖ１)となる。この際、ビーム偏向電極４５は、上記トラック方向偏向信号Ｘ(ｔ)の信号レベルに応じた分だけ電子ビームをトラック方向Ｘに偏向する。よって、上記時点ｔ１では、正電圧Ｖ１に応じた角度θ１だけトラック方向Xに偏向された電子ビームが電子ビームカラム部４０の電子ビーム射出口４９から原盤１５のレジスト層表面に向けて照射される。すなわち、時点ｔ１では、図５(ｂ)に示す如くトラックに沿った方向Ｘにおける記録進行方向側に角度θ１だけ偏向された電子ビームが原盤１５のレジスト層表面に向けて照射されるのである。又、時点ｔ２では、正電圧(Ｖ１／２)に応じた角度θ２だけトラック方向Xに偏向された電子ビームが電子ビームカラム部４０の電子ビーム射出口４９から原盤１５のレジスト層表面に向けて照射される。すなわち、時点ｔ２では、図５(ｂ)に示す如くトラックに沿った方向Ｘにおける記録進行方向側に角度θ２だけ偏向された電子ビームが原盤１５のレジスト層表面に向けて照射されるのである。尚、角度θ２は角度θ１よりも小である。又、時点ｔ３では、図５(ｂ)に示す如く、電圧"０"に応じた角度、すなわち、レジスト層の表面に対して垂直に電子ビームが照射される。又、時点ｔ４では、負電圧(−Ｖ１／２)に応じた角度(−θ２)だけトラック方向Xに偏向された電子ビームが電子ビームカラム部４０の電子ビーム射出口４９から原盤１５のレジスト層表面に向けて照射される。すなわち、時点ｔ４では、図５(ｂ)に示す如くトラックに沿った方向Ｘにおける記録進行方向とは反対方向に角度θ２だけ偏向された電子ビームが原盤１５のレジスト層表面に向けて照射されるのである。又、時点ｔ５では、負電圧(−Ｖ１／２)に応じた角度(−θ１)だけトラック方向Xに偏向された電子ビームが電子ビームカラム部４０の電子ビーム射出口４９から原盤１５のレジスト層表面に向けて照射される。すなわち、時点ｔ５では、図５(ｂ)に示す如くトラックに沿った方向Ｘにおける記録進行方向とは反対方向に角度θ１だけ偏向された電子ビームが原盤１５のレジスト層表面に向けて照射されるのである。
【００２１】
この間(時点ｔ１〜ｔ５)、原盤１５のレジスト層上に形成されるビームスポットの位置はスピンドルモータ１７の回転方向とは反対方向、すなわち記録進行方向に移動して行く。これにより、時点ｔ１〜時点ｔ５の期間に亘り、上記パルス幅ＴMINと同一長の領域内に電子ビームが照射され、このパルス幅ＴMINと同一長を有する潜像ＳＺ２が原盤１５のレジスト層上に形成される。
【００２２】
この際、図５(ｂ)に示す如き電子ビームの偏向制御では、電子ビームの照射期間内において、先ず、電子ビームをトラックに沿った記録進行方向に偏向し、徐々に偏向量を低下させて電子ビームを記録進行方向とは反対方向に徐々に偏向させて行く。これにより、電子ビームスポットがレジスト層の表面をトレースする際の相対的な移動速度が低下するので、図５(ａ)の場合に比して単位面積あたりの電子ビームの露光時間が増大する。よって、かかる電子ビームの偏向制御によれば、ピット長の短い記録ピットに対応した潜像の幅をピット長の長い記録ピットに対応した潜像の幅と同一幅にすることが可能となる。
【００２３】
図６は、上述した如き電子ビーム露光によってレジスト層に潜像を記録してからスタンパが製造されるまでの概略製造フローを示す図である。
先ず、情報記録行程Ｓ１では、上述した如き電子ビーム露光により、原盤１５のレジスト層に潜像を形成させる。すなわち、情報記録行程Ｓ１では、レジスト層が形成されている原盤１５を回転させつつ、記録変調信号ＭＳに応じてレジスト層の表面に電子ビームを照射する。この際、図４及び図５に示すように、露光ビームを、記録変調信号ＭＳのパルス幅に応じた偏向量にてトラックに沿った方向に偏向させつつ上記レジスト層に照射する。これにより、記録ピット列に対応した潜像をレジスト層に形成させる。
【００２４】
次の現像行程Ｓ２では、レジスト層に形成されている潜像を現像する。これにより、上記潜像の箇所にこの潜像と同一形態の記録マークが形成される。
次の転写行程Ｓ３では、現像行程Ｓ２によって記録マークの形成されたレジスト層を転写することにより、記録ピットの形成されたスタンパを製造する。
従って、かかるスタンパを用いて複製された光ディスク上にはピット長に関わらず、そのピット幅が均一な良好な形態を有する記録ピットが形成されることになる。
【００２５】
尚、ビーム偏向回路５５は、記録変調信号ＭＳ及びブランキング信号ＢＬに応じて図４に示す如き波形のトラック方向偏向信号Ｘ(ｔ)を生成するようにしているが、図４に代わり図７に示す如き波形のトラック方向偏向信号Ｘ(ｔ)を生成し、これをビーム偏向電極４５に供給することにより、より良好なエッジ形態を有する記録ピットを形成させることが可能となる。かかるトラック方向偏向信号Ｘ(ｔ)では、立ち下がり開始部ＤＳ及び立ち上がり開始部ＵＳでのレベル推移を急峻にしている。これにより、潜像ＳＺのエッジ部ＥＧに対する電子ビームの照射時間が図４に示すトラック方向偏向信号Ｘ(ｔ)を用いた場合に比して長くなり、このエッジ部ＥＧでの潜像の幅をより大にすることが可能となる。従って、図７に示すトラック方向偏向信号Ｘ(ｔ)に基づく電子ビーム露光によって作成されたスタンパを用いて製造された光ディスク上には、より良好なエッジ形態を有する記録ピットが形成されることになる。
【００２６】
【発明の効果】
上記したことから明らかなように、本発明によれば、ピット長の短い記録ピットからでも良好な読取信号波形を得ることができる光ディスクを複製することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明による電子ビームレコーダを示す概略ブロック図。
【図２】原盤１５の表面上におけるトラック方向Ｘ及びディスク半径方向Ｙを示す図である。
【図３】原盤１５のレジスト層に形成された潜像ＳＺの一例を示す図である。
【図４】記録変調信号ＭＳに基づいて生成されるブランキング信号ＢＬ及びトラック方向偏向信号Ｘ(ｔ)の一例を示す図である。
【図５】原盤１５のレジスト層への記録の様子を示す概略断面図である。
【図６】スタンパが製造されるまでの概略製造フローを示す図である。
【図７】トラック方向偏向信号Ｘ(ｔ)の他の一例を示す図である。
【符号の説明】
１０ 電子ビームレコーダ
１５ 原盤
１７ スピンドルモータ
２５ コントローラ
４０ 電子ビームカラム部
４５ ビーム偏向電極
４６ フォーカス調整レンズ
５２ ビーム変調回路
５５ ビーム偏向回路
Claims (6)
- 記録ピットに対応したパルス信号に応じて基板上に形成されたレジスト層に露光ビームを照射することにより前記記録ピットに対応した潜像をトラックに沿って前記レジスト層に記録する情報記録方法であって、
前記パルス信号のパルス幅に応じた期間に亘り前記露光ビームを前記レジスト層に照射する照射行程と、
前記パルス信号に応じて前記露光ビームを前記トラックに沿った方向において偏向させることにより、前記露光ビームの照射によって前記レジスト層の表面に形成されたビームスポットと前記レジスト層との間の相対移動速度を調整する偏向行程と、を有し、
前記偏向行程では、前記パルス信号における各パルスのエッジ部では前記パルスのパルス幅中央部に比して前記相対移動速度を低下させ、
前記照射行程は、前記パルス幅が短いほど大なるオフセット期間を前記パルス幅に加算することにより前記露光ビームの照射期間を調整する照射期間調整行程を含むことを特徴とする情報記録方法。 - 前記偏向行程は、前記パルス信号のパルス幅が短い場合に限り前記露光ビームの偏向動作を実行することを特徴とする請求項１記載の情報記録方法。
- 前記偏向行程は、前記照射期間内において前記露光ビームを前記トラックに沿った方向における記録進行方向側に偏向した後、徐々に偏向量を低下させて前記露光ビームを徐々に前記記録進行方向とは反対方向に偏向させる行程を含むことを特徴とする請求項１記載の情報記録方法。
- 前記偏向行程は、前記パルス信号のパルス幅に応じて前記露光ビームを偏向する偏向量を調整する行程を含むことを特徴とする請求項１又は３記載の情報記録方法。
- 原盤上に形成されたレジスト層の表面に露光ビームを照射することにより記録ピットに対応した潜像をトラックに沿って前記レジスト層に形成させる情報記録装置であって、
前記原盤を回転駆動する回転駆動部と、
前記記録ピットに対応したパルス信号のパルス幅が短いほど大なるオフセット期間を前記パルス幅に加算して得た期間に亘り前記露光ビームを前記レジスト層の表面に照射する露光ビーム射出部と、
前記パルス信号のパルス幅に応じた偏向量にて前記露光ビームを前記トラックに沿った方向において偏向させることにより、前記露光ビームの照射によって前記レジスト層の表面に形成されたビームスポットと前記レジスト層との間の相対移動速度を調整するビーム偏向部と、を有し、
前記ビーム偏向部は、前記パルス信号における各パルスのエッジ部では前記パルスのパルス幅中央部に比して前記相対移動速度を低くすることを特徴とする情報記録装置。 - トラックに沿って所定の記録ピット列が形成された原盤に基づいて複製された基板と前記基板上に形成された記録層とを有する記録媒体であって、
レジスト層が形成されている前記原盤を回転させる行程と、
前記記録ピットに対応したパルス信号のパルス幅が短いほど大なるオフセット期間を前記パルス幅に加算して得た期間に亘り露光ビームを前記レジスト層の表面に照射する露光ビーム射出行程と、
前記記録ピットに対応したパルス信号のパルス幅に応じた偏向量にて前記露光ビームを前記トラックに沿った方向に偏向させることにより前記露光ビームの照射によって前記レジスト層の表面に形成されたビームスポットと前記レジスト層との間の相対移動速度を前記パルス信号における各パルスのエッジ部ではパルス幅中央部に比して低くなるように調整しつつ前記レジスト層上に照射することにより、前記記録ピット列に対応した潜像を前記レジスト層に形成させる情報記録行程と、
前記レジスト層に形成された前記潜像を現像して前記レジスト層に記録マークを形成する現像行程と、
前記記録マークの形成された前記レジスト層を転写することにより前記所定の記録ピット列が形成されたスタンパを製造する転写行程と、を経て複製されたことを特徴とする記録媒体。
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