JP2003248983A

JP2003248983A - 情報記録方法及び情報記録装置並びに記録媒体

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Publication number: JP2003248983A
Application number: JP2002050766A
Authority: JP
Inventors: Osamu Kumasaka; 治熊坂; Masanori Kobayashi; 正規小林; Masami Sone; 正己曽根; Kenji Kamimura; 健二上村; Hiroyoshi Kaneda; 弘喜金田; Kazumi Kuriyama; 和巳栗山
Original assignee: Pioneer Electronic Corp
Current assignee: Pioneer Corp
Priority date: 2002-02-27
Filing date: 2002-02-27
Publication date: 2003-09-05
Anticipated expiration: 2022-02-27
Also published as: JP4080762B2

Abstract

(57)【要約】【課題】ピット長の短い記録ピットからでも良好な読取
信号波形を得ることができる記録媒体を製造する為の原
盤製造用の情報記録方法及び情報記録装置、並びにその
記録媒体を提供することを目的とする。【解決手段】基板上に形成されたレジスト層に、記録ピ
ットに対応したパルス信号に応じて露光ビームを照射す
るにあたり、照射すべき露光ビームの照射期間を上記パ
ルス信号のパルス幅に応じて調整しつつ、かかるパルス
信号に応じて上記露光ビームをトラックに沿った方向に
偏向する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、電子ビーム、レー
ザビーム等の露光ビームを用いた情報記録装置に関し、
特に、再生専用光ディスク、光磁気ディスク、相変化型
光ディスク、磁気ディスク等の記録媒体の原盤を製造す
る製造装置に用いられる情報記録装置、その情報記録方
法及び原盤から複製される光ディスク、磁気ディスク等
の記録媒体に関する。

【０００２】

【従来の技術】データの記録可能な光学式記録媒体とし
て、追記型のＤＶＤ−Ｒ（Digital Versatile Disc-Rec
ordable）や、書換可能型のＤＶＤ−ＲＷ（Digital Ver
satileDisc-ReWritable）など光ディスクがある。これ
ら光ディスクにおいては、ディスクの回転制御に用いら
れるウォブリング信号等の回転制御情報やデータ記録時
の位置検索などに必要なアドレス情報等の信号は、原盤
製造時において凹又は凸部であるトラック（グルーブト
ラック又はランドトラック）に予め記録される。

【０００３】上記の如き光ディスクを製造するにあた
り、先ず、トラックに沿った所定の凹凸パターンを原盤
に記録し、この原盤からディスクスタンパを形成する。
そして、該ディスクスタンパを用いて合成樹脂などを加
熱プレス加工または射出成形し、該パターンが原盤から
転写された記録面上を金属蒸着処理した後、透光性基板
などを形成する。該パターンの原盤への記録は、情報記
録装置によってなされる。情報記録装置は、原盤の記録
面を回転させつつ、レーザ光ビームを照射するヘッダを
適宜半径方向に送ることにより、レーザ光ビームの照射
スポットがほぼ等間隔のピッチで螺旋状又は同心円状の
トラック軌跡を描くように制御する。更に、その軌跡上
において、記録原盤の回転速度及び情報内容に応じてレ
ーザ光をオン／オフさせることにより原盤上に記録ピッ
トを記録していた。

【０００４】ところが、このようなレーザ光ビームを用
いた原盤のトラックカッティングすなわちマスタリング
では、レーザ光ビームのスポット径、波長及び対物レン
ズの開口数ＮＡによって記録分解能が制限される為、よ
り高密度化された記録媒体の製造が困難であった。そこ
で、レーザ光よりもスポット径が小さく、記録分解能の
向上を図ることが可能な電子ビーム露光を用いた原盤の
カッティングが検討されている。電子ビーム露光を用い
た原盤カッティングでは、原盤上に電子ビーム用のレジ
スト層を形成し、記録変調の施された情報データに応じ
てレジスタ層に電子ビームを照射する。この際、電子ビ
ームの照射された箇所に、記録ピットに対応した形状を
有する潜像が形成される。次に、潜像の形成された部分
のみを上記レジスト層から削除することによりマスクパ
ターンを作成する。そして、このマスクパターンを用い
ることにより記録ピットに対応した凸形状又は凹形状の
記録ピット列の形成されたスタンパを作成し、かかるス
タンパにより光ディスクを製造するのである。

【０００５】しかしながら、電子ビーム露光によって形
成された潜像の形状は、形成させるべき記録ピットの長
さが短い場合には、長い場合に比してそのピット幅(マ
ーク幅)が狭くなってしまう。従って、電子ビーム露光
によって作成されたスタンパを用いて製造された光ディ
スクからは、良好な読取信号波形が得られないという問
題があった。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上述した点
に鑑みてなされたものであり、ピット長の短い記録ピッ
トからでも良好な読取信号波形を得ることができる記録
媒体を製造する為の原盤製造用の情報記録方法及び情報
記録装置、並びにその記録媒体を提供することにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明による情報記録方
法は、記録ピットに対応したパルス信号に応じて基板上
に形成されたレジスト層に露光ビームを照射することに
より前記記録ピットに対応した潜像をトラックに沿って
前記レジスト層に記録する情報記録方法であって、前記
パルス信号のパルス幅に応じて前記露光ビームの照射期
間を調整する照射期間調整行程と、前記パルス信号に応
じて前記露光ビームを前記トラックに沿った方向におい
て偏向させる偏向行程と、を有する。

【０００８】又、本発明による情報記録装置は、原盤上
に形成されたレジスト層の表面に露光ビームを照射する
ことにより記録ピットに対応した潜像をトラックに沿っ
て前記レジスト層に形成させる情報記録装置であって、
前記原盤を回転駆動する回転駆動部と、前記記録ピット
に対応したパルス信号のパルス幅が短いほど大なるオフ
セット期間を前記パルス幅に加算して得た期間に亘り前
記露光ビームを前記レジスト層の表面に照射する露光ビ
ーム射出部と、前記パルス信号のパルス幅に応じた偏向
量にて前記露光ビームを前記トラックに沿った方向に偏
向するビーム偏向部と、を有する。

【０００９】又、本発明による記録媒体は、トラックに
沿って所定の記録ピット列が形成された原盤に基づいて
複製された基板と前記基板上に形成された記録層とを有
する記録媒体であって、レジスト層が形成されている前
記原盤を回転させると共に前記記録ピットに対応したパ
ルス信号のパルス幅に応じた偏向量にて露光ビームを前
記トラックに沿った方向に偏向させつつ前記レジスト層
上に照射することにより前記記録ピット列に対応した潜
像を前記レジスト層に形成させる情報記録行程と、前記
レジスト層に形成された前記潜像を現像して前記レジス
ト層に記録マークを形成する現像行程と、前記記録マー
クの形成された前記レジスト層を転写することにより前
記所定の記録ピット列が形成されたスタンパを製造する
転写行程と、を経て複製されたことを特徴とする。

【００１０】

【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を図面を参照
しつつ詳細に説明する。図１は、本発明の実施の形態の
情報記録装置である電子ビームレコーダ１０の概略ブロ
ック図である。電子ビームレコーダ１０は、原盤１５を
回転及び並進駆動する駆動機構などが真空雰囲気中で動
作するようにそれらを収納する真空チャンバ１１、電子
ビームを射出する電子ビームカラム部４０、並びにこれ
ら真空チャンバ１１及び電子ビームカラム部４０を制御
する各種モジュール(後述する)から構成される。

【００１１】真空チャンバ１１には真空ポンプ２８が接
続されており、これによってチャンバ内を排気すること
によりチャンバ内部が所定圧力の真空雰囲気となるよう
に設定されている。真空チャンバ１１は、エアーダンパ
などの防振台（図示せず）を介してフロアに設置され、
外部からの振動の伝達が抑制されている。原盤１５には
例えばシリコン基板が用いられ、その主面上に電子ビー
ム用のレジスト層が設けられている。原盤１５は、スピ
ンドルモータ１７によって回転駆動するターンテーブル
１６上に載置される。スピンドルモータ１７は真空対応
エアースピンドル構造の防磁モータを含む。スピンドル
モータ１７は、スライダにより直線状に移動できる送り
ステージ（以下、単にステージという）１８に載置され
ている。ステージ１８は、ＤＣモータによってネジ送り
する送り機構１９に結合され、スピンドルモータ１７及
びターンテーブル１６を原盤１５の主面と平行な水平方
向面内に移動する。半径センサ２０は、レーザ光をステ
ージ１８に照射した際の反射光に基づいてステージ１８
の位置を表す測長データを生成し、これを送り回転制御
回路３０に供給する。送り回転制御部３０は、スピンド
ルモータ１７のエンコーダからの出力に基づいて、その
回転のフィードバックサーボ制御を実施する。更に、送
り回転制御部３０は、半径センサ２０から供給された上
記測長データに基づいて送り機構１９を駆動してステー
ジ１８の速度のフィードバックサーボ制御をなす。この
際、送り回転制御部３０は、コントローラ２５から供給
される所定のトラックピッチ情報、及び上記測長データ
に基づき、スピンドルモータ１７の回転数と送り機構１
９の送り距離とが一定となるように制御する。又、送り
回転制御部３０は、上記測長データに基づく原盤の位置
データをコントローラ２５に供給する。コントローラ２
５は、最終的に光ディスクに記録すべき情報データを担
う記録ピットに対応した記録変調信号ＭＳを生成し、こ
れを送り回転制御部３０から供給された原盤の位置デー
タと共にビーム変調回路５２に供給する。さらに、コン
トローラ２５は、上記位置データ及び記録変調信号ＭＳ
に同期させた電子ビーム偏向信号をビーム偏向回路５５
に供給する。この際、コントローラ２５及び送り回転制
御部３０は、ステージ１８が原盤１５の１回転毎に所定
トラックピッチずつ進むように送り機構１９を制御す
る。

【００１２】又、真空チャンバ１１における電子ビーム
カラム部４０近傍の内壁には、原盤１５の主面の高さを
光学的に検出する為のレーザ光源２２及び光検出器２３
が設けられている。レーザ光源２２は、原盤１５の表面
にレーザ光を照射する。光検出器２３は、この原盤１５
の表面からの反射光を光電変換して得られた受光信号を
高さ測定回路２４に供給する。高さ測定回路２４は、上
記受光信号に基づいて原盤１５の主面の高さを測定し、
その高さを表す高さデータをフォーカス制御回路５６に
供給する。

【００１３】電子ビームカラム部４０内には、上方か
ら、電子銃４１、収束レンズ４２、ブランキング電極４
３、オンオフ制御アパーチャ４４、ビーム偏向電極４
５、フォーカス調整レンズ４６、及び対物レンズ４７が
配置されている。電子銃４１は、加速高圧電源５１が生
成した数１０ＫｅＶの高電圧により加速された電子ビー
ムを射出する。収束レンズ４２は、射出された電子ビー
ムを収束し、これをブランキング電極４３、アパーチャ
４４、ビーム偏向電極４５、フォーカス調整レンズ４
６、対物レンズ４７及び電子ビーム射出口４９を介して
原盤１５のレジスト層の表面に照射する。

【００１４】この際、フォーカス制御回路５６は、上記
高さ測定回路２４にて測定して得られた高さデータに基
づいて、原盤１５のレジスト層の表面に電子ビームの焦
点を合焦させるべく上記フォーカス調整レンズ４６を駆
動する。かかるフォーカス調整により、レジスト層の表
面上に電子ビームのビームスポットが形成される。ビー
ム偏向電極４５は、互いに直交する対向配置された電極
からなり、アパーチャ４４を介して供給された電子ビー
ムを図２に示す如き原盤１５の表面におけるトラック方
向Ｘ、及びディスク半径方向Ｙの２方向に独立して偏向
可能に設けられている。ビーム偏向電極４５の２軸電極
は、それぞれビーム偏向回路５５からのトラック方向偏
向信号Ｘ（ｔ）及びディスク半径方向偏向信号Ｙ（ｔ）
により制御され、電子ビームをそれぞれの軸方向に偏向
させる。尚、ビーム偏向回路５５は、コントローラ２５
から供給された記録変調信号ＭＳ、及び後述するビーム
変調回路５２から供給されたブランキング信号ＢＬに基
づいて上記トラック方向偏向信号Ｘ（ｔ）を生成する。
更に、ビーム偏向回路５５は、ビームスポットを原盤１
５の１回転ごとに１トラックピッチずつディスク半径方
向に移動させるべきディスク半径方向偏向信号Ｙ（ｔ）
を生成する。これによりビーム偏向電極４５は、上記デ
ィスク半径方向偏向信号Ｙ（ｔ）に応じて電子ビームを
ディスク半径方向に偏向する。更に、ビーム偏向電極４
５は、トラック方向偏向信号Ｘ（ｔ）に応じた分だけ電
子ビームをトラック方向Ｘに偏向する。

【００１５】又、上記ブランキング電極４３は、ビーム
変調回路５２から供給されたブランキング信号ＢＬに応
じて電子ビームのビーム軸を偏向させる。これにより、
電子ビームがアパーチャ４４を通過してビーム偏向電極
４５、フォーカス調整レンズ４６及び対物レンズ４７に
導出される場合(以下、ビームオン状態と称する)と、ア
パーチャ４４で通過が阻止される場合(以下、ビームオ
フ状態と称する)とが生じる。この際、ビーム変調回路
５２は、コントローラ２５から供給された記録変調信号
ＭＳに応じて上記ブランキング信号ＢＬを生成するもの
である。又、記録変調信号ＭＳとは、光ディスクに記録
すべき情報データに所定の記録変調処理を施して得られ
た信号である。従って、光ディスクに記録すべき情報デ
ータに応じて、交互に上述した如きビームオン状態及び
ビームオフ状態となり、ビームオン状態にある期間に限
り原盤１５のレジスト層の表面に電子ビームが照射され
るのである。これにより、スピンドルモータ１７によっ
て回転される原盤１５のレジスト層の表面上には、図３
に示す如く、電子ビームの照射された箇所のみに記録ピ
ットに対応した潜像ＳＺの系列が螺旋状に形成される。

【００１６】ここで、前述した如く電子ビームを原盤１
５のレジスト層の表面に照射するにあたり、本発明によ
る電子ビームレコーダ１０においては、図４に示す如き
電子ビーム偏向制御を実施する。先ず、ビーム変調回路
５２は、記録変調信号ＭＳ中において論理レベル１の期
間、つまり、光ディスク上に記録すべき記録ピットのピ
ット長に対応した期間が比較的長い場合には、この期間
と同一の期間だけ論理レベル１を維持するブランキング
信号ＢＬを生成する。一方、記録変調信号ＭＳ中におい
て論理レベル１の期間が短い場合には、ビーム変調回路
５２は、この期間を前後に所定期間だけ延ばしたものを
ブランキング信号ＢＬとして生成する。例えば、図４に
示すように、ビーム変調回路５２は、論理レベル１の期
間が最大となるパルス幅Ｔ_MAXの記録変調信号ＭＳが供
給されている期間中は、このパルス幅Ｔ_MAXと同一期間
だけ論理レベル１を維持するブランキング信号ＢＬを生
成する。一方、論理レベル１の期間が最小となるパルス
幅Ｔ_MINの記録変調信号ＭＳが供給された場合には、ビ
ーム変調回路５２は、以下の如きブランキング信号ＢＬ
を生成する。つまり、ビーム変調回路５２は、図４に示
す如く、パルス幅Ｔ_MINの記録変調信号ＭＳのフロント
エッジタイミングを所定のオフセット期間ＯＦ₁だけ早
め、リアエッジタイミングをオフセット期間ＯＦ₁だけ
遅らせることにより論理レベル１となる期間を広げたブ
ランキング信号ＢＬを生成するのである。又、上記パル
ス幅Ｔ_MI _Nより大でありパルス幅Ｔ_MAXよりも小なるパル
ス幅Ｔ_MIDの記録変調信号ＭＳが供給された場合には、
ビーム変調回路５２は、以下の如きブランキング信号Ｂ
Ｌを生成する。つまり、ビーム変調回路５２は、図４に
示す如く、パルス幅Ｔ_MIDの記録変調信号ＭＳのフロン
トエッジタイミングを所定のオフセット期間ＯＦ₂(ＯＦ
₁＞ＯＦ₂)だけ早め、リアエッジタイミングをオフセッ
ト期間ＯＦ₂だけ遅らせることにより論理レベル１とな
る期間を広げたブランキング信号ＢＬを生成するのであ
る。

【００１７】この際、上記ブランキング信号ＢＬが論理
レベル１である期間中に限り、ブランキング電極４３
は、収束レンズ４２から供給された電子ビームをアパー
チャ４４を通過せしめるように電子ビームを偏向する。
つまり、この間、ビームオン状態となって原盤１５のレ
ジスト層表面上に電子ビームが照射されるのである。す
なわち、上記ブランキング信号ＢＬが論理レベル１であ
る期間が、原盤１５のレジスト層に電子ビームが照射さ
れる照射期間となるのである。

【００１８】一方、ビーム偏向回路５５は、上記ブラン
キング信号ＢＬが論理レベル１である期間中に限り、正
電圧から負電圧(又は負電圧から正電圧)に徐々にレベル
が推移するトラック方向偏向信号Ｘ(ｔ)を生成する。こ
の際、ビーム偏向回路５５は、論理レベル１の期間の長
い記録変調信号ＭＳが供給されている場合には、電圧推
移幅、つまり振幅が小なるトラック方向偏向信号Ｘ(ｔ)
を生成する。一方、論理レベル１の期間の短い記録変調
信号ＭＳが供給されている場合には、ビーム偏向回路５
５は、振幅が大なるトラック方向偏向信号Ｘ(ｔ)を生成
する。つまり、ビーム偏向回路５５は、記録変調信号Ｍ
Ｓにおいて論理レベル１の期間が短いほど大なる振幅で
正電圧から負電圧(又は負電圧から正電圧)へと徐々にレ
ベルが推移するトラック方向偏向信号Ｘ(ｔ)を生成する
のである。例えば、図４において、論理レベル１の期間
が最大となるパルス幅Ｔ_MAXの記録変調信号ＭＳが供給
されている期間中は、ビーム偏向回路５５は、振幅"
０"、つまり０レベル一定のトラック方向偏向信号Ｘ
(ｔ)を生成する。一方、図４に示す如く、論理レベル１
の期間が最小となるパルス幅Ｔ_MINの記録変調信号ＭＳ
が供給されている場合には、ビーム偏向回路５５は、ブ
ランキング信号ＢＬが論理レベル１である期間中に亘
り、正電圧Ｖ１から負電圧(−Ｖ１)へと電圧が推移する
トラック方向偏向信号Ｘ(ｔ)を生成する。又、上記パル
ス幅Ｔ_MINより大でありパルス幅Ｔ_MAXよりも小なるパル
ス幅Ｔ_MIDの記録変調信号ＭＳが供給された場合には、
ビーム偏向回路５５は、ブランキング信号ＢＬが論理レ
ベル１である期間中に亘り正電圧Ｖ２から負電圧(−Ｖ
２)へと電圧推移するトラック方向偏向信号Ｘ(ｔ)を生
成する。尚、Ｖ１はＶ２よりも高電圧である。

【００１９】上述した如き電子ビーム偏向制御によれ
ば、例えば、図４に示す如き論理レベル１の期間が最大
となるパルス幅Ｔ_MAXの記録変調信号ＭＳが供給された
場合には、その期間中(時点ｔ１１〜時点ｔ１５)に亘り
電子ビームが原盤１５のレジスト層表面に照射される。
この間、図４に示すようにトラック方向偏向信号Ｘ(ｔ)
の信号レベルは"０"である為、図５(ａ)に示す如く、時
点ｔ１１〜時点ｔ１５に亘り、電子ビームカラム部４０
の電子ビーム射出口４９からは、原盤１５の表面に対し
て垂直に電子ビームが照射される。この間(時点ｔ１１
〜ｔ１５)、原盤１５はスピンドルモータ１７によって
回転しているので、原盤１５のレジスト層上に形成され
るビームスポットの位置はスピンドルモータ１７の回転
方向とは反対方向、すなわち記録進行方向に移動して行
く。よって、図４及び図５(ａ)中において斜線分にて示
す如く、上記パルス幅Ｔ_MAXと同一長を有する潜像ＳＺ
１が原盤１５のレジスト層上に形成される。

【００２０】一方、図４に示す如き論理レベル１の期間
が最小となるパルス幅Ｔ_MINの記録変調信号ＭＳが供給
された場合には、かかる期間とその前後のオフセットオ
フセット期間ＯＦ₁を含む期間中(時点ｔ１〜時点ｔ５)
に亘り電子ビームが原盤１５のレジスト層表面に照射さ
れる。この時点ｔ１〜ｔ５の期間中においてトラック方
向偏向信号Ｘ(ｔ)の信号レベルは、図４に示す如く、正
電圧Ｖ１から負電圧(−Ｖ１)へと徐々に推移する。例え
ば、図４に示すように、時点ｔ１ではトラック方向偏向
信号Ｘ(ｔ)の信号レベルは正電圧Ｖ１、時点ｔ２では正
電圧(Ｖ１／２)、時点ｔ３では電圧"０"、時点ｔ４では
負電圧(−Ｖ１／２)、時点ｔ５では負電圧(−Ｖ１)とな
る。この際、ビーム偏向電極４５は、上記トラック方向
偏向信号Ｘ(ｔ)の信号レベルに応じた分だけ電子ビーム
をトラック方向Ｘに偏向する。よって、上記時点ｔ１で
は、正電圧Ｖ１に応じた角度θ１だけトラック方向Xに
偏向された電子ビームが電子ビームカラム部４０の電子
ビーム射出口４９から原盤１５のレジスト層表面に向け
て照射される。すなわち、時点ｔ１では、図５(ｂ)に示
す如くトラックに沿った方向Ｘにおける記録進行方向側
に角度θ１だけ偏向された電子ビームが原盤１５のレジ
スト層表面に向けて照射されるのである。又、時点ｔ２
では、正電圧(Ｖ１／２)に応じた角度θ２だけトラック
方向Xに偏向された電子ビームが電子ビームカラム部４
０の電子ビーム射出口４９から原盤１５のレジスト層表
面に向けて照射される。すなわち、時点ｔ２では、図５
(ｂ)に示す如くトラックに沿った方向Ｘにおける記録進
行方向側に角度θ２だけ偏向された電子ビームが原盤１
５のレジスト層表面に向けて照射されるのである。尚、
角度θ２は角度θ１よりも小である。又、時点ｔ３で
は、図５(ｂ)に示す如く、電圧"０"に応じた角度、すな
わち、レジスト層の表面に対して垂直に電子ビームが照
射される。又、時点ｔ４では、負電圧(−Ｖ１／２)に応
じた角度(−θ２)だけトラック方向Xに偏向された電子
ビームが電子ビームカラム部４０の電子ビーム射出口４
９から原盤１５のレジスト層表面に向けて照射される。
すなわち、時点ｔ４では、図５(ｂ)に示す如くトラック
に沿った方向Ｘにおける記録進行方向とは反対方向に角
度θ２だけ偏向された電子ビームが原盤１５のレジスト
層表面に向けて照射されるのである。又、時点ｔ５で
は、負電圧(−Ｖ１／２)に応じた角度(−θ１)だけトラ
ック方向Xに偏向された電子ビームが電子ビームカラム
部４０の電子ビーム射出口４９から原盤１５のレジスト
層表面に向けて照射される。すなわち、時点ｔ５では、
図５(ｂ)に示す如くトラックに沿った方向Ｘにおける記
録進行方向とは反対方向に角度θ１だけ偏向された電子
ビームが原盤１５のレジスト層表面に向けて照射される
のである。

【００２１】この間(時点ｔ１〜ｔ５)、原盤１５のレジ
スト層上に形成されるビームスポットの位置はスピンド
ルモータ１７の回転方向とは反対方向、すなわち記録進
行方向に移動して行く。これにより、時点ｔ１〜時点ｔ
５の期間に亘り、上記パルス幅Ｔ_MINと同一長の領域内
に電子ビームが照射され、このパルス幅Ｔ_MINと同一長
を有する潜像ＳＺ２が原盤１５のレジスト層上に形成さ
れる。

【００２２】この際、図５(ｂ)に示す如き電子ビームの
偏向制御では、電子ビームの照射期間内において、先
ず、電子ビームをトラックに沿った記録進行方向に偏向
し、徐々に偏向量を低下させて電子ビームを記録進行方
向とは反対方向に徐々に偏向させて行く。これにより、
電子ビームスポットがレジスト層の表面をトレースする
際の相対的な移動速度が低下するので、図５(ａ)の場合
に比して単位面積あたりの電子ビームの露光時間が増大
する。よって、かかる電子ビームの偏向制御によれば、
ピット長の短い記録ピットに対応した潜像の幅をピット
長の長い記録ピットに対応した潜像の幅と同一幅にする
ことが可能となる。

【００２３】図６は、上述した如き電子ビーム露光によ
ってレジスト層に潜像を記録してからスタンパが製造さ
れるまでの概略製造フローを示す図である。先ず、情報
記録行程Ｓ１では、上述した如き電子ビーム露光によ
り、原盤１５のレジスト層に潜像を形成させる。すなわ
ち、情報記録行程Ｓ１では、レジスト層が形成されてい
る原盤１５を回転させつつ、記録変調信号ＭＳに応じて
レジスト層の表面に電子ビームを照射する。この際、図
４及び図５に示すように、露光ビームを、記録変調信号
ＭＳのパルス幅に応じた偏向量にてトラックに沿った方
向に偏向させつつ上記レジスト層に照射する。これによ
り、記録ピット列に対応した潜像をレジスト層に形成さ
せる。

【００２４】次の現像行程Ｓ２では、レジスト層に形成
されている潜像を現像する。これにより、上記潜像の箇
所にこの潜像と同一形態の記録マークが形成される。次
の転写行程Ｓ３では、現像行程Ｓ２によって記録マーク
の形成されたレジスト層を転写することにより、記録ピ
ットの形成されたスタンパを製造する。従って、かかる
スタンパを用いて複製された光ディスク上にはピット長
に関わらず、そのピット幅が均一な良好な形態を有する
記録ピットが形成されることになる。

【００２５】尚、上記実施例においては、ビーム偏向回
路５５は、記録変調信号ＭＳ及びブランキング信号ＢＬ
に応じて図４に示す如き波形のトラック方向偏向信号Ｘ
(ｔ)を生成するようにしているが、その波形形態は図４
に示されるものに限定されるものではない。例えば、ビ
ーム偏向回路５５は、記録変調信号ＭＳ及びブランキン
グ信号ＢＬに応じて図７に示す如き波形のトラック方向
偏向信号Ｘ(ｔ)を生成し、これをビーム偏向電極４５に
供給する。かかるトラック方向偏向信号Ｘ(ｔ)では、立
ち下がり開始部ＤＳ及び立ち上がり開始部ＵＳでのレベ
ル推移を急峻にしている。これにより、潜像ＳＺのエッ
ジ部ＥＧに対する電子ビームの照射時間が図４に示すト
ラック方向偏向信号Ｘ(ｔ)を用いた場合に比して長くな
り、このエッジ部ＥＧでの潜像の幅をより大にすること
が可能となる。従って、図７に示すトラック方向偏向信
号Ｘ(ｔ)に基づく電子ビーム露光によって作成されたス
タンパを用いて製造された光ディスク上には、より良好
なエッジ形態を有する記録ピットが形成されることにな
る。

【００２６】

【発明の効果】上記したことから明らかなように、本発
明によれば、ピット長の短い記録ピットからでも良好な
読取信号波形を得ることができる光ディスクを複製する
ことが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による電子ビームレコーダを示す概略ブ
ロック図。

【図２】原盤１５の表面上におけるトラック方向Ｘ及び
ディスク半径方向Ｙを示す図である。

【図３】原盤１５のレジスト層に形成された潜像ＳＺの
一例を示す図である。

【図４】記録変調信号ＭＳに基づいて生成されるブラン
キング信号ＢＬ及びトラック方向偏向信号Ｘ(ｔ)の一例
を示す図である。

【図５】原盤１５のレジスト層への記録の様子を示す概
略断面図である。

【図６】スタンパが製造されるまでの概略製造フローを
示す図である。

【図７】トラック方向偏向信号Ｘ(ｔ)の他の一例を示す
図である。

【符号の説明】

１０電子ビームレコーダ１５原盤１７スピンドルモータ２５コントローラ４０電子ビームカラム部４５ビーム偏向電極４６フォーカス調整レンズ５２ビーム変調回路５５ビーム偏向回路

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者曽根正己山梨県甲府市大里町465番地パイオニア株式会社内 (72)発明者上村健二山梨県甲府市大里町465番地パイオニア株式会社内 (72)発明者金田弘喜山梨県甲府市大里町465番地パイオニア株式会社内 (72)発明者栗山和巳山梨県甲府市大里町465番地パイオニア株式会社内Ｆターム(参考） 5D090 AA01 BB01 CC01 EE01 KK05 KK17 5D121 BB21 BB38

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】記録ピットに対応したパルス信号に応じて
基板上に形成されたレジスト層に露光ビームを照射する
ことにより前記記録ピットに対応した潜像をトラックに
沿って前記レジスト層に記録する情報記録方法であっ
て、前記パルス信号のパルス幅に応じて前記露光ビームの照
射期間を調整する照射期間調整行程と、前記パルス信号に応じて前記露光ビームを前記トラック
に沿った方向において偏向させる偏向行程と、を有する
ことを特徴とする情報記録方法。
【請求項２】前記照射期間調整行程は、前記パルス幅が
短いほど大なるオフセット期間を前記パルス幅に加算し
て得た期間を前記露光ビームの前記照射期間とする行程
を含むことを特徴とする請求項１記載の情報記録方法。
【請求項３】前記偏向行程は、前記パルス信号のパルス
幅が短い場合には前記照射期間内において前記露光ビー
ムを前記トラックに沿った方向において偏向させること
により前記露光ビームによって前記レジスト層の表面に
形成されたビームスポット及び前記レジスト層間の相対
移動速度を低下させる行程を含むことを特徴とする請求
項１記載の情報記録方法。
【請求項４】前記偏向行程は、前記照射期間内において
前記露光ビームを前記トラックに沿った方向における記
録進行方向側に偏向した後、徐々に偏向量を低下させて
前記露光ビームを徐々に前記記録進行方向とは反対方向
に偏向させる行程を含むことを特徴とする請求項１記載
の情報記録方法。
【請求項５】前記偏向行程は、前記パルス信号のパルス
幅に応じて前記露光ビームを偏向する偏向量を調整する
行程を含むことを特徴とする請求項１又は４記載の情報
記録方法。
【請求項６】前記偏向行程は、前記露光ビームを前記ト
ラックに沿った方向において偏向させることにより前記
露光ビームの照射開始時点及び／又は照射終了時点では
その中間時点に比して前記露光ビームによって前記レジ
スト層の表面に形成されたビームスポット及び前記レジ
スト層の表面間の相対移動速度を低下させる行程を含む
ことを特徴とする請求項１記載の情報記録方法。
【請求項７】原盤上に形成されたレジスト層の表面に露
光ビームを照射することにより記録ピットに対応した潜
像をトラックに沿って前記レジスト層に形成させる情報
記録装置であって、前記原盤を回転駆動する回転駆動部と、前記記録ピットに対応したパルス信号のパルス幅が短い
ほど大なるオフセット期間を前記パルス幅に加算して得
た期間に亘り前記露光ビームを前記レジスト層の表面に
照射する露光ビーム射出部と、前記パルス信号のパルス幅に応じた偏向量にて前記露光
ビームを前記トラックに沿った方向において偏向させる
ビーム偏向部と、を有することを特徴とする情報記録装
置。
【請求項８】トラックに沿って所定の記録ピット列が形
成された原盤に基づいて複製された基板と前記基板上に
形成された記録層とを有する記録媒体であって、レジスト層が形成されている前記原盤を回転させると共
に前記記録ピットに対応したパルス信号のパルス幅に応
じた偏向量にて露光ビームを前記トラックに沿った方向
に偏向させつつ前記レジスト層上に照射することにより
前記記録ピット列に対応した潜像を前記レジスト層に形
成させる情報記録行程と、前記レジスト層に形成された前記潜像を現像して前記レ
ジスト層に記録マークを形成する現像行程と、前記記録マークの形成された前記レジスト層を転写する
ことにより前記所定の記録ピット列が形成されたスタン
パを製造する転写行程と、を経て複製されたことを特徴
とする記録媒体。