JP2002367178A - 情報記録装置及び情報記録方法並びに記録媒体 - Google Patents
情報記録装置及び情報記録方法並びに記録媒体Info
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Landscapes
- Optical Recording Or Reproduction (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 高速偏向を必要とせずに１つの露光ビームを
用いて、プリピット、グループなどのパターンを精度良
く作製する。 【解決手段】 トラック記録用の記録装置であって、デ
ータに応じて露光ビームの強度を変調する射出制御部
と、回転駆動部１７を原盤の１回転ごとに所定移動量だ
け移動させる移動制御部３０と、露光ビームを偏向して
そのスポットを第１露光開始位置から回転駆動部の移動
方向とは逆方向に逐次移動させ、原盤の所定回転におけ
る露光停止位置まで移動した時点で、スポットを第２露
光開始位置へ回転駆動部の移動方向に断続的に移動さ
せ、第２露光開始位置から逆方向に逐次移動させ、第１
露光開始位置に周期的に戻す偏向動作５５をなす偏向制
御部２５とを有する。
用いて、プリピット、グループなどのパターンを精度良
く作製する。 【解決手段】 トラック記録用の記録装置であって、デ
ータに応じて露光ビームの強度を変調する射出制御部
と、回転駆動部１７を原盤の１回転ごとに所定移動量だ
け移動させる移動制御部３０と、露光ビームを偏向して
そのスポットを第１露光開始位置から回転駆動部の移動
方向とは逆方向に逐次移動させ、原盤の所定回転におけ
る露光停止位置まで移動した時点で、スポットを第２露
光開始位置へ回転駆動部の移動方向に断続的に移動さ
せ、第２露光開始位置から逆方向に逐次移動させ、第１
露光開始位置に周期的に戻す偏向動作５５をなす偏向制
御部２５とを有する。
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、電子ビームなどの
露光ビームを用いた情報記録装置に関し、特に、再生専
用光ディスク、光磁気光ディスク、相変化型光ディスク
などのトラックを有する記録媒体の原盤を製造する製造
装置のための情報記録装置、その情報記録方法及び原盤
から複製される光ディスクなどの記録媒体に関する。
露光ビームを用いた情報記録装置に関し、特に、再生専
用光ディスク、光磁気光ディスク、相変化型光ディスク
などのトラックを有する記録媒体の原盤を製造する製造
装置のための情報記録装置、その情報記録方法及び原盤
から複製される光ディスクなどの記録媒体に関する。
【０００２】
【従来の技術】データの記録可能な光学式記録媒体とし
て、追記型のＤＶＤ−Ｒ（Digital Versatile Disc-Rec
ordable）や、書換可能型のＤＶＤ−ＲＷ（Digital Ver
satileDisc-ReWritable）などの光ディスクがある。こ
れら光ディスクにおいて、一般に、光ディスクの回転制
御に用いられるウォブリング信号など回転制御情報やデ
ータの記録時の位置検索などに必要なアドレス情報など
の信号は、原盤製造時に、予め凹又は凸部であるトラッ
ク（グルーブトラック又はランドトラック）に記録され
ている。
て、追記型のＤＶＤ−Ｒ（Digital Versatile Disc-Rec
ordable）や、書換可能型のＤＶＤ−ＲＷ（Digital Ver
satileDisc-ReWritable）などの光ディスクがある。こ
れら光ディスクにおいて、一般に、光ディスクの回転制
御に用いられるウォブリング信号など回転制御情報やデ
ータの記録時の位置検索などに必要なアドレス情報など
の信号は、原盤製造時に、予め凹又は凸部であるトラッ
ク（グルーブトラック又はランドトラック）に記録され
ている。
【０００３】これらの光ディスクは、信号に対応するト
ラックに沿った所定の凹凸パターンを原盤に記録し、記
録された原盤からディスクスタンパを形成し、該ディス
クスタンパを用いて合成樹脂などを加熱プレス加工また
は射出成形し、該パターンが原盤から転写された記録面
上を金属蒸着処理した後、透光性基板などが形成されて
得られる。該パターンの原盤への記録は、情報記録装置
によってなされ、原盤の記録面を回転させつつ、レーザ
光ビームを照射するヘッダを適宜半径方向に送ることに
より、レーザ光ビームの照射スポットがほぼ等間隔のピ
ッチで螺旋状又は同心円状のトラック軌跡を描くように
制御し、その軌跡上において、記録原盤の回転速度及び
情報内容に応じてレーザ光をオン／オフさせることによ
り原盤上に情報ピット又はグルーブを記録していた。
ラックに沿った所定の凹凸パターンを原盤に記録し、記
録された原盤からディスクスタンパを形成し、該ディス
クスタンパを用いて合成樹脂などを加熱プレス加工また
は射出成形し、該パターンが原盤から転写された記録面
上を金属蒸着処理した後、透光性基板などが形成されて
得られる。該パターンの原盤への記録は、情報記録装置
によってなされ、原盤の記録面を回転させつつ、レーザ
光ビームを照射するヘッダを適宜半径方向に送ることに
より、レーザ光ビームの照射スポットがほぼ等間隔のピ
ッチで螺旋状又は同心円状のトラック軌跡を描くように
制御し、その軌跡上において、記録原盤の回転速度及び
情報内容に応じてレーザ光をオン／オフさせることによ
り原盤上に情報ピット又はグルーブを記録していた。
【０００４】近年、ＤＶＤを越え、より高密度化された
記録媒体の研究開発が進められ、かかるトラックのピッ
チの極細化が望まれている。しかしながら、従来のレー
ザ光ビームを用いた原盤のトラックカッティングすなわ
ちマスタリングにおいては、記録用レーザ光ビームのス
ポット径がその波長と対物レンズの開口数ＮＡによって
記録分解能が制限される。
記録媒体の研究開発が進められ、かかるトラックのピッ
チの極細化が望まれている。しかしながら、従来のレー
ザ光ビームを用いた原盤のトラックカッティングすなわ
ちマスタリングにおいては、記録用レーザ光ビームのス
ポット径がその波長と対物レンズの開口数ＮＡによって
記録分解能が制限される。
【０００５】そこで、レーザ光よりもスポット径が小さ
く、記録分解能の向上を図ることが可能な電子ビーム露
光を用いた原盤のカッティングが検討されている。たと
えば、特開平１１−２８３２８３号において、レジスト
層を電子ビーム露光して潜像を形成する際に、電子ビー
ムを複数トラックにわたって交互に偏向動作させるとと
もに、それぞれのトラック上でパルス状に露光すべき箇
所においてのみレジスト層に電子ビームが入射するよう
に強度変調することにより、複数のトラックにわたって
同時に潜像の形成を行う原盤製造方法が示されている。
く、記録分解能の向上を図ることが可能な電子ビーム露
光を用いた原盤のカッティングが検討されている。たと
えば、特開平１１−２８３２８３号において、レジスト
層を電子ビーム露光して潜像を形成する際に、電子ビー
ムを複数トラックにわたって交互に偏向動作させるとと
もに、それぞれのトラック上でパルス状に露光すべき箇
所においてのみレジスト層に電子ビームが入射するよう
に強度変調することにより、複数のトラックにわたって
同時に潜像の形成を行う原盤製造方法が示されている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】かかる従来方法の場
合、パルス状に照射される電子ビームの偏向速度が高速
になりかつ電子ビームを細く収束するため、電子ビーム
がレジスト層で吸収されずに通り抜けてしまい、パルス
ごとの露光量が減少して分解能が低下するという問題が
あった。また、電子ビームパルスを連結させるために、
原盤現像後のグルーブなどの側面が滑らかに形成できな
い問題があった。さらに、１本の電子ビーム記録におい
てプリピット、グルーブなどの太さの異なる被照射ライ
ンを両立させて記録することはできない欠点があった。
合、パルス状に照射される電子ビームの偏向速度が高速
になりかつ電子ビームを細く収束するため、電子ビーム
がレジスト層で吸収されずに通り抜けてしまい、パルス
ごとの露光量が減少して分解能が低下するという問題が
あった。また、電子ビームパルスを連結させるために、
原盤現像後のグルーブなどの側面が滑らかに形成できな
い問題があった。さらに、１本の電子ビーム記録におい
てプリピット、グルーブなどの太さの異なる被照射ライ
ンを両立させて記録することはできない欠点があった。
【０００７】本発明は、上述した点に鑑みてなされたも
のであり、その目的は、高速偏向を必要とせずに１つの
露光ビームを用いて、プリピット、グルーブなどのパタ
ーンを精度良く作製可能な原盤製造用の情報記録装置及
びその方法並びに記録媒体を提供することにある。
のであり、その目的は、高速偏向を必要とせずに１つの
露光ビームを用いて、プリピット、グルーブなどのパタ
ーンを精度良く作製可能な原盤製造用の情報記録装置及
びその方法並びに記録媒体を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明の情報記録装置
は、レジスト層が形成された原盤を支持し回転させる回
転駆動部と、露光ビームを偏向自在に前記原盤上に照射
しスポットを形成する露光ビーム射出部と、前記回転駆
動部及び前記スポットを前記原盤の半径方向において相
対的に並進移動させる相対移動駆動部と、を備えたトラ
ック記録用の情報記録装置であって、記録すべきデータ
に応じて露光ビームの強度を変調する指令を前記露光ビ
ーム射出部に供給する射出制御部と、回転する原盤とと
もに前記回転駆動部を前記原盤の１回転ごとに所定移動
量だけ移動させる指令を前記相対移動駆動部に供給する
移動制御部と、強度変調された露光ビームを偏向してそ
のスポットを第１露光開始位置から前記回転駆動部の移
動方向とは逆方向に逐次移動させ、前記原盤の所定回転
における露光停止位置まで移動した時点で、前記スポッ
トを第２露光開始位置へ前記回転駆動部の移動方向に断
続的に移動させ前記第２露光開始位置から前記逆方向に
逐次移動させ、前記第１露光開始位置に周期的に戻す偏
向動作をなす指令を前記露光ビーム射出部に供給する偏
向制御部と、を有することを特徴とする。
は、レジスト層が形成された原盤を支持し回転させる回
転駆動部と、露光ビームを偏向自在に前記原盤上に照射
しスポットを形成する露光ビーム射出部と、前記回転駆
動部及び前記スポットを前記原盤の半径方向において相
対的に並進移動させる相対移動駆動部と、を備えたトラ
ック記録用の情報記録装置であって、記録すべきデータ
に応じて露光ビームの強度を変調する指令を前記露光ビ
ーム射出部に供給する射出制御部と、回転する原盤とと
もに前記回転駆動部を前記原盤の１回転ごとに所定移動
量だけ移動させる指令を前記相対移動駆動部に供給する
移動制御部と、強度変調された露光ビームを偏向してそ
のスポットを第１露光開始位置から前記回転駆動部の移
動方向とは逆方向に逐次移動させ、前記原盤の所定回転
における露光停止位置まで移動した時点で、前記スポッ
トを第２露光開始位置へ前記回転駆動部の移動方向に断
続的に移動させ前記第２露光開始位置から前記逆方向に
逐次移動させ、前記第１露光開始位置に周期的に戻す偏
向動作をなす指令を前記露光ビーム射出部に供給する偏
向制御部と、を有することを特徴とする。
【０００９】本発明の情報記録装置においては、前記原
盤の半径方向における前記原盤の１回転ごとの前記スポ
ットが移動する移動量は、前記回転駆動部の前記所定移
動量と等しい距離であることを特徴とする。本発明の情
報記録装置においては、前記回転駆動部の前記所定移動
量は前記原盤の１回転ごとの１トラックピッチの１／ｎ
進む（但し、ｎは整数）距離であり、前記原盤の１回転
ごとに前記スポットが移動する前記原盤の半径上の移動
量は１トラックピッチの１／ｎ進む（但し、ｎは整数）
距離であることを特徴とする。
盤の半径方向における前記原盤の１回転ごとの前記スポ
ットが移動する移動量は、前記回転駆動部の前記所定移
動量と等しい距離であることを特徴とする。本発明の情
報記録装置においては、前記回転駆動部の前記所定移動
量は前記原盤の１回転ごとの１トラックピッチの１／ｎ
進む（但し、ｎは整数）距離であり、前記原盤の１回転
ごとに前記スポットが移動する前記原盤の半径上の移動
量は１トラックピッチの１／ｎ進む（但し、ｎは整数）
距離であることを特徴とする。
【００１０】本発明の情報記録装置においては、前記露
光停止位置までの前記原盤の所定回転は整数回転である
ことを特徴とする。本発明の情報記録装置においては、
前記露光停止位置は前記第１露光開始位置から前記回転
駆動部の前記所定移動量と等しい距離の整数倍離れてい
ることを特徴とする。
光停止位置までの前記原盤の所定回転は整数回転である
ことを特徴とする。本発明の情報記録装置においては、
前記露光停止位置は前記第１露光開始位置から前記回転
駆動部の前記所定移動量と等しい距離の整数倍離れてい
ることを特徴とする。
【００１１】本発明の情報記録装置においては、前記第
２露光開始位置は、前記第１露光開始位置に一致してい
ることを特徴とする。本発明の情報記録装置において
は、前記第２露光開始位置は前記露光停止位置から前記
第１露光開始位置を越えて前記回転駆動部の前記所定移
動量と等しい距離の整数倍離れていることを特徴とす
る。
２露光開始位置は、前記第１露光開始位置に一致してい
ることを特徴とする。本発明の情報記録装置において
は、前記第２露光開始位置は前記露光停止位置から前記
第１露光開始位置を越えて前記回転駆動部の前記所定移
動量と等しい距離の整数倍離れていることを特徴とす
る。
【００１２】本発明の情報記録装置においては、前記第
２露光開始位置は前記露光停止位置から前記第１露光開
始位置を越えて前記回転駆動部の前記所定移動量と等し
い距離の整数倍離れている位置を中心に前記スポットの
直径以内の範囲に存在する位置であることを特徴とす
る。本発明の情報記録装置においては、前記第２露光開
始位置は前記露光停止位置から前記第１露光開始位置を
越えて前記回転駆動部の前記所定移動量と等しい距離の
整数倍離れている位置を中心に前記スポットの直径を越
える範囲に存在し、かつ前記スポットの軌跡が前記スポ
ットに重複しないように互いに等距離で離間している位
置に存在することを特徴とする。
２露光開始位置は前記露光停止位置から前記第１露光開
始位置を越えて前記回転駆動部の前記所定移動量と等し
い距離の整数倍離れている位置を中心に前記スポットの
直径以内の範囲に存在する位置であることを特徴とす
る。本発明の情報記録装置においては、前記第２露光開
始位置は前記露光停止位置から前記第１露光開始位置を
越えて前記回転駆動部の前記所定移動量と等しい距離の
整数倍離れている位置を中心に前記スポットの直径を越
える範囲に存在し、かつ前記スポットの軌跡が前記スポ
ットに重複しないように互いに等距離で離間している位
置に存在することを特徴とする。
【００１３】本発明の情報記録装置においては、前記第
２露光開始位置から前記逆方向に逐次移動する前記スポ
ットが第２露光停止位置まで移動した時点で、前記スポ
ットを断続的に移動させ前記第１露光開始位置に周期的
に戻すことを特徴とする。本発明の情報記録装置におい
ては、前記露光ビーム射出部は、露光ビームとしての電
子ビームを射出することを特徴とする。
２露光開始位置から前記逆方向に逐次移動する前記スポ
ットが第２露光停止位置まで移動した時点で、前記スポ
ットを断続的に移動させ前記第１露光開始位置に周期的
に戻すことを特徴とする。本発明の情報記録装置におい
ては、前記露光ビーム射出部は、露光ビームとしての電
子ビームを射出することを特徴とする。
【００１４】本発明の情報記録方法は、原盤を回転させ
る回転駆動部と、偏向自在に露光ビームを前記原盤上に
照射しスポットを形成する露光ビーム射出部と、前記回
転駆動部及び前記スポットを前記原盤の半径方向におい
て相対的に並進移動させる相対移動駆動部と、を備えた
情報記録装置を用いて、トラックを記録するための凹凸
パターンの潜像を生成する情報記録方法であって、レジ
スト層が形成された原盤を回転させつつ、前記原盤を、
その１回転ごとに所定トラックピッチ数進む所定移動量
でその半径方向において逐次移動させるとともに、記録
すべきデータに応じて強度変調された露光ビームを偏向
してそのスポットを、第１露光開始位置から前記原盤の
移動方向とは逆方向に、移動させる行程と、前記原盤の
所定回転における露光停止位置まで移動した時点で、前
記スポットを第２露光開始位置へ前記回転駆動部の移動
方向に断続的に移動させる行程と、前記スポットを前記
第２露光開始位置から前記逆方向に逐次移動させ、前記
第１露光開始位置に周期的に戻す行程と、を含むことを
特徴とする。
る回転駆動部と、偏向自在に露光ビームを前記原盤上に
照射しスポットを形成する露光ビーム射出部と、前記回
転駆動部及び前記スポットを前記原盤の半径方向におい
て相対的に並進移動させる相対移動駆動部と、を備えた
情報記録装置を用いて、トラックを記録するための凹凸
パターンの潜像を生成する情報記録方法であって、レジ
スト層が形成された原盤を回転させつつ、前記原盤を、
その１回転ごとに所定トラックピッチ数進む所定移動量
でその半径方向において逐次移動させるとともに、記録
すべきデータに応じて強度変調された露光ビームを偏向
してそのスポットを、第１露光開始位置から前記原盤の
移動方向とは逆方向に、移動させる行程と、前記原盤の
所定回転における露光停止位置まで移動した時点で、前
記スポットを第２露光開始位置へ前記回転駆動部の移動
方向に断続的に移動させる行程と、前記スポットを前記
第２露光開始位置から前記逆方向に逐次移動させ、前記
第１露光開始位置に周期的に戻す行程と、を含むことを
特徴とする。
【００１５】本発明の情報記録方法においては、前記原
盤の半径方向における前記原盤の１回転ごとの前記スポ
ットが移動する移動量は、前記回転駆動部の前記所定移
動量と等しい距離であることを特徴とする。本発明の情
報記録方法においては、前記回転駆動部の前記所定移動
量は前記原盤の１回転ごとの１トラックピッチの１／ｎ
進む（但し、ｎは整数）距離であり、前記原盤の１回転
ごとに前記スポットが移動する前記原盤の半径上の移動
量は１トラックピッチの１／ｎ進む（但し、ｎは整数）
距離であることを特徴とする。
盤の半径方向における前記原盤の１回転ごとの前記スポ
ットが移動する移動量は、前記回転駆動部の前記所定移
動量と等しい距離であることを特徴とする。本発明の情
報記録方法においては、前記回転駆動部の前記所定移動
量は前記原盤の１回転ごとの１トラックピッチの１／ｎ
進む（但し、ｎは整数）距離であり、前記原盤の１回転
ごとに前記スポットが移動する前記原盤の半径上の移動
量は１トラックピッチの１／ｎ進む（但し、ｎは整数）
距離であることを特徴とする。
【００１６】本発明の情報記録方法においては、前記露
光停止位置までの前記原盤の所定回転は整数回転である
ことを特徴とする。本発明の情報記録方法においては、
前記露光停止位置は前記第１露光開始位置から前記回転
駆動部の前記所定移動量と等しい距離の整数倍離れてい
ることを特徴とする。
光停止位置までの前記原盤の所定回転は整数回転である
ことを特徴とする。本発明の情報記録方法においては、
前記露光停止位置は前記第１露光開始位置から前記回転
駆動部の前記所定移動量と等しい距離の整数倍離れてい
ることを特徴とする。
【００１７】本発明の情報記録方法においては、前記第
２露光開始位置は、前記第１露光開始位置に一致してい
ることを特徴とする。本発明の情報記録方法において
は、前記第２露光開始位置は前記露光停止位置から前記
第１露光開始位置を越えて前記回転駆動部の前記所定移
動量と等しい距離の整数倍離れていることを特徴とす
る。
２露光開始位置は、前記第１露光開始位置に一致してい
ることを特徴とする。本発明の情報記録方法において
は、前記第２露光開始位置は前記露光停止位置から前記
第１露光開始位置を越えて前記回転駆動部の前記所定移
動量と等しい距離の整数倍離れていることを特徴とす
る。
【００１８】本発明の情報記録方法においては、前記第
２露光開始位置は前記露光停止位置から前記第１露光開
始位置を越えて前記回転駆動部の前記所定移動量と等し
い距離の整数倍離れている位置を中心に前記スポットの
直径以内の範囲に存在する位置であることを特徴とす
る。本発明の情報記録方法においては、前記第２露光開
始位置は前記露光停止位置から前記第１露光開始位置を
越えて前記回転駆動部の前記所定移動量と等しい距離の
整数倍離れている位置を中心に前記スポットの直径を越
える範囲に存在し、かつ前記スポットの軌跡が前記スポ
ットに重複しないように互いに等距離で離間している位
置に存在することを特徴とする。
２露光開始位置は前記露光停止位置から前記第１露光開
始位置を越えて前記回転駆動部の前記所定移動量と等し
い距離の整数倍離れている位置を中心に前記スポットの
直径以内の範囲に存在する位置であることを特徴とす
る。本発明の情報記録方法においては、前記第２露光開
始位置は前記露光停止位置から前記第１露光開始位置を
越えて前記回転駆動部の前記所定移動量と等しい距離の
整数倍離れている位置を中心に前記スポットの直径を越
える範囲に存在し、かつ前記スポットの軌跡が前記スポ
ットに重複しないように互いに等距離で離間している位
置に存在することを特徴とする。
【００１９】本発明の情報記録方法においては、前記第
２露光開始位置から前記逆方向に逐次移動する前記スポ
ットが第２露光停止位置まで移動した時点で、前記スポ
ットを断続的に移動させ前記第１露光開始位置に周期的
に戻すことを特徴とする。本発明の情報記録方法におい
ては、前記露光ビーム射出部は、露光ビームとしての電
子ビームを射出することを特徴とする。
２露光開始位置から前記逆方向に逐次移動する前記スポ
ットが第２露光停止位置まで移動した時点で、前記スポ
ットを断続的に移動させ前記第１露光開始位置に周期的
に戻すことを特徴とする。本発明の情報記録方法におい
ては、前記露光ビーム射出部は、露光ビームとしての電
子ビームを射出することを特徴とする。
【００２０】本発明の記録媒体は、トラックに沿って所
定の凹凸パターンが形成された原盤を用いて複製された
基板と前記基板上に形成された記録層とを有する記録媒
体であって、レジスト層が形成された原盤を回転させつ
つ、前記原盤を、その１回転ごとに所定トラックピッチ
数進む所定移動量でその半径方向において常に移動させ
るとともに、強度変調された露光ビームを偏向してその
スポットを、第１露光開始位置から露光停止位置まで前
記原盤の移動方向とは逆方向に、前記原盤の半径上にて
移動させ、前記スポットを前記原盤の所定回転ごとに第
２露光開始位置に断続的に移動させ、前記スポットを、
前記露光停止位置から前記所定移動量で移動させ、前記
原盤の所定回転ごとに前記第１露光開始位置に周期的に
戻す行程からなる潜像の形成を行う情報記録工程と、前
記情報記録工程によりレジスト層に形成された潜像を現
像してレジスト層に凹凸パターンを形成する現像工程
と、前記現像工程によりレジスト層に形成された凹凸パ
ターンを転写することにより所定の凹凸パターンが形成
されたスタンパを製造する転写工程と、を経て複製され
て得られることを特徴とする。
定の凹凸パターンが形成された原盤を用いて複製された
基板と前記基板上に形成された記録層とを有する記録媒
体であって、レジスト層が形成された原盤を回転させつ
つ、前記原盤を、その１回転ごとに所定トラックピッチ
数進む所定移動量でその半径方向において常に移動させ
るとともに、強度変調された露光ビームを偏向してその
スポットを、第１露光開始位置から露光停止位置まで前
記原盤の移動方向とは逆方向に、前記原盤の半径上にて
移動させ、前記スポットを前記原盤の所定回転ごとに第
２露光開始位置に断続的に移動させ、前記スポットを、
前記露光停止位置から前記所定移動量で移動させ、前記
原盤の所定回転ごとに前記第１露光開始位置に周期的に
戻す行程からなる潜像の形成を行う情報記録工程と、前
記情報記録工程によりレジスト層に形成された潜像を現
像してレジスト層に凹凸パターンを形成する現像工程
と、前記現像工程によりレジスト層に形成された凹凸パ
ターンを転写することにより所定の凹凸パターンが形成
されたスタンパを製造する転写工程と、を経て複製され
て得られることを特徴とする。
【００２１】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を図面を参照
しつつ詳細に説明する。図１は、本発明の実施の形態の
情報記録装置である電子ビームレコーダ１０の概略ブロ
ック図である。電子ビームは大気雰囲気中では著しく減
衰する特性を有していることから、真空雰囲気中で電子
ビーム露光がなされる。よって、電子ビームレコーダ１
０は、原盤１５を回転及び並進駆動する駆動機構などが
真空雰囲気中で動作するようにそれらを収納する真空チ
ャンバ１１を備えている。真空チャンバ１１の原盤主面
の垂直上方には、電子ビームを射出する電子ビームカラ
ム部４０が設けられている。電子ビームレコーダ１０は
真空チャンバ１１の外部の制御装置をも含む。真空チャ
ンバ１１には真空ポンプ２８が接続されており、これに
よってチャンバ内を排気することによりチャンバ内部が
所定圧力の真空雰囲気となるように設定されている。真
空チャンバ１１は、エアーダンパなどの防振台（図示せ
ず）を介してフロアに設置され、外部からの振動の伝達
が抑制されている。原盤１５には例えばシリコン基板が
用いられ、その主面上に電子ビーム用レジスト層が設け
られている。
しつつ詳細に説明する。図１は、本発明の実施の形態の
情報記録装置である電子ビームレコーダ１０の概略ブロ
ック図である。電子ビームは大気雰囲気中では著しく減
衰する特性を有していることから、真空雰囲気中で電子
ビーム露光がなされる。よって、電子ビームレコーダ１
０は、原盤１５を回転及び並進駆動する駆動機構などが
真空雰囲気中で動作するようにそれらを収納する真空チ
ャンバ１１を備えている。真空チャンバ１１の原盤主面
の垂直上方には、電子ビームを射出する電子ビームカラ
ム部４０が設けられている。電子ビームレコーダ１０は
真空チャンバ１１の外部の制御装置をも含む。真空チャ
ンバ１１には真空ポンプ２８が接続されており、これに
よってチャンバ内を排気することによりチャンバ内部が
所定圧力の真空雰囲気となるように設定されている。真
空チャンバ１１は、エアーダンパなどの防振台（図示せ
ず）を介してフロアに設置され、外部からの振動の伝達
が抑制されている。原盤１５には例えばシリコン基板が
用いられ、その主面上に電子ビーム用レジスト層が設け
られている。
【００２２】回転原盤を水平方向に並進駆動するととも
に原盤に照射された電子ビームスポットの軌跡によっ
て、プリピット、グルーブなどの微小凹凸パターンのた
めの潜像がレジスト層に螺旋状に形成される。 ＜回転駆動部及び相対移動駆動部＞図１に示すように、
真空チャンバ１１内において、原盤１５がターンテーブ
ル１６上に載置され、これをスピンドルモータ１７によ
って回転駆動する。原盤はその主面中心の垂直軸に関し
て回転駆動される。スピンドルモータ１７は真空対応エ
アースピンドル構造の防磁モータを含む。スピンドルモ
ータ１７は、スライダにより直線状に移動できる送りス
テージ（以下、単にステージという）１８に載置されて
いる。
に原盤に照射された電子ビームスポットの軌跡によっ
て、プリピット、グルーブなどの微小凹凸パターンのた
めの潜像がレジスト層に螺旋状に形成される。 ＜回転駆動部及び相対移動駆動部＞図１に示すように、
真空チャンバ１１内において、原盤１５がターンテーブ
ル１６上に載置され、これをスピンドルモータ１７によ
って回転駆動する。原盤はその主面中心の垂直軸に関し
て回転駆動される。スピンドルモータ１７は真空対応エ
アースピンドル構造の防磁モータを含む。スピンドルモ
ータ１７は、スライダにより直線状に移動できる送りス
テージ（以下、単にステージという）１８に載置されて
いる。
【００２３】ステージ１８は、ＤＣモータによってネジ
送りする送り機構１９に結合され、スピンドルモータ１
７及びターンテーブル１６を原盤１５の主面と平行な水
平方向面内にて移動可能に構成されている。スピンドル
モータ１７及び送り機構１９は送り回転制御部３０に接
続されている。送り回転制御部３０は、スピンドルモー
タ１７のエンコーダからの出力に基づいて、その回転の
フィードバックサーボ制御をするとともに、レーザ測長
器を用いた半径センサ２０からの測長データを利用して
送り機構１９を駆動してステージ１８の速度のフィード
バックサーボ制御をなす。送り回転制御部３０は、コン
トローラ２５から供給される所定のトラックピッチ及び
測長データによって、スピンドルモータ１７の回転数と
送り機構１９の送り距離とが一定となるように制御す
る。なお、半径センサ２０において、真空チャンバ１１
側内壁には半径センサ２０のレーザ光源２０ａ及び光検
出器２０ｃが設けられ、ステージ１８にはレーザ光源か
らのレーザ光を反射する反射鏡２０ｂが固定されてい
る。
送りする送り機構１９に結合され、スピンドルモータ１
７及びターンテーブル１６を原盤１５の主面と平行な水
平方向面内にて移動可能に構成されている。スピンドル
モータ１７及び送り機構１９は送り回転制御部３０に接
続されている。送り回転制御部３０は、スピンドルモー
タ１７のエンコーダからの出力に基づいて、その回転の
フィードバックサーボ制御をするとともに、レーザ測長
器を用いた半径センサ２０からの測長データを利用して
送り機構１９を駆動してステージ１８の速度のフィード
バックサーボ制御をなす。送り回転制御部３０は、コン
トローラ２５から供給される所定のトラックピッチ及び
測長データによって、スピンドルモータ１７の回転数と
送り機構１９の送り距離とが一定となるように制御す
る。なお、半径センサ２０において、真空チャンバ１１
側内壁には半径センサ２０のレーザ光源２０ａ及び光検
出器２０ｃが設けられ、ステージ１８にはレーザ光源か
らのレーザ光を反射する反射鏡２０ｂが固定されてい
る。
【００２４】送り回転制御部３０は、原盤の位置データ
をコントローラ２５に出力する。コントローラ２５は同
期クロックを発生するクロック同期回路を備え、送り回
転制御部３０からの原盤の位置データの信号と、記録す
べきプリピット、グルーブなどに対応する変調信号と、
を同期させ、かかる変調信号を後述のビーム変調部５２
へ供給する。これにより、コントローラ２５及び送り回
転制御部３０は、送り機構１９によって、回転原盤とと
もにステージ１８を、原盤の１回転ごとに所定トラック
ピッチ数進む所定移動量で移動させる。
をコントローラ２５に出力する。コントローラ２５は同
期クロックを発生するクロック同期回路を備え、送り回
転制御部３０からの原盤の位置データの信号と、記録す
べきプリピット、グルーブなどに対応する変調信号と、
を同期させ、かかる変調信号を後述のビーム変調部５２
へ供給する。これにより、コントローラ２５及び送り回
転制御部３０は、送り機構１９によって、回転原盤とと
もにステージ１８を、原盤の１回転ごとに所定トラック
ピッチ数進む所定移動量で移動させる。
【００２５】さらに、コントローラ２５は、位置データ
の信号及び変調信号に、電子ビーム偏向信号を同期さ
せ、かかる電子ビーム偏向信号を後述のビーム偏向部５
５へ出力する。 ＜露光ビーム射出部＞電子ビームカラム部４０近傍の真
空チャンバ１１の内壁にはレーザ光源２２及び光検出器
２３からなるフォーカスセンサが原盤へのレーザ光入射
面内に設けられ、原盤１５の主面の高さを光学的に検出
する。光検出器２３は受光信号を高さ検出部２４に供給
する。高さ検出部２４は受光信号に基づいて原盤１５の
主面の高さデータを検出して、フォーカシング部５６へ
送る。
の信号及び変調信号に、電子ビーム偏向信号を同期さ
せ、かかる電子ビーム偏向信号を後述のビーム偏向部５
５へ出力する。 ＜露光ビーム射出部＞電子ビームカラム部４０近傍の真
空チャンバ１１の内壁にはレーザ光源２２及び光検出器
２３からなるフォーカスセンサが原盤へのレーザ光入射
面内に設けられ、原盤１５の主面の高さを光学的に検出
する。光検出器２３は受光信号を高さ検出部２４に供給
する。高さ検出部２４は受光信号に基づいて原盤１５の
主面の高さデータを検出して、フォーカシング部５６へ
送る。
【００２６】真空チャンバ１１上の電子ビームカラム部
４０内には、上方から、電子銃４１、収束レンズ４２、
ブランキング電極４３、オンオフ制御アパーチャ４４、
ビーム偏向電極４５、フォーカス調整レンズ４６、及び
対物レンズ４７がこの順で配置されている。電子ビーム
カラム部４０の先端に設けられた電子ビーム射出口４９
は原盤１５に向けられ、電子銃４１から放出された電子
ビームがオンオフ制御用のアパーチャ４４の開口部を通
過したとき、対物レンズ４７によって電子ビームが収束
され原盤主面に入射し、その上に微細な電子ビームスポ
ットを形成するように構成される。
４０内には、上方から、電子銃４１、収束レンズ４２、
ブランキング電極４３、オンオフ制御アパーチャ４４、
ビーム偏向電極４５、フォーカス調整レンズ４６、及び
対物レンズ４７がこの順で配置されている。電子ビーム
カラム部４０の先端に設けられた電子ビーム射出口４９
は原盤１５に向けられ、電子銃４１から放出された電子
ビームがオンオフ制御用のアパーチャ４４の開口部を通
過したとき、対物レンズ４７によって電子ビームが収束
され原盤主面に入射し、その上に微細な電子ビームスポ
ットを形成するように構成される。
【００２７】電子銃４１は、加速高圧電源５１からの数
１０ＫｅＶの高電圧により加速された電子ビームを射出
する。収束レンズ４２は、射出された電子ビームを収束
してアパーチャ４４へと導く。ブランキング電極４３は
ビーム変調部５２により制御され、コントローラ２５か
らの変調信号に基づき電子ビームの強度変調（オンオフ
制御）を行う。すなわち、ビーム変調部５２は変調信号
をブランキング電極４３に供給してブランキング電極４
３間に電圧を印加し、通過する電子ビームを大きく偏向
させる。これにより、電子ビームのアパーチャ４４への
通過を阻止してオフ状態とし、通過させてオン状態とす
る。
１０ＫｅＶの高電圧により加速された電子ビームを射出
する。収束レンズ４２は、射出された電子ビームを収束
してアパーチャ４４へと導く。ブランキング電極４３は
ビーム変調部５２により制御され、コントローラ２５か
らの変調信号に基づき電子ビームの強度変調（オンオフ
制御）を行う。すなわち、ビーム変調部５２は変調信号
をブランキング電極４３に供給してブランキング電極４
３間に電圧を印加し、通過する電子ビームを大きく偏向
させる。これにより、電子ビームのアパーチャ４４への
通過を阻止してオフ状態とし、通過させてオン状態とす
る。
【００２８】ビーム偏向電極４５は互いに直交する対向
配置された電極からなり、通過電子ビームを原盤主面に
平行な面において原盤の直径に平行な軸とこれに直交す
る軸との２方向（Ｘ，Ｙ）に独立して偏向可能に設けら
れている。ビーム偏向電極４５の２軸電極は、それぞれ
ビーム偏向部５５からの半径偏向信号Ｘ（ｔ）及び接線
偏向信号Ｙ（ｔ）により制御され、通過電子ビームをそ
れぞれの軸方向に偏向させる。ビーム偏向部５５は、コ
ントローラ２５からの電子ビーム偏向信号に基づき偏向
信号Ｘ（ｔ），Ｙ（ｔ）を生成し、これらによりビーム
偏向電極４５によって、たとえば半径偏向信号に応じて
通過電子ビームを偏向し、そのスポットを原盤の１回転
ごとに所定トラックピッチ数進む所定移動量で原盤半径
上で移動させる。さらに、ビーム偏向部５５は、半径セ
ンサ２０からの測長データ及びスピンドルモータ１７の
エンコーダからの回転数データに基づいて残留誤差成分
を補正して偏向信号Ｘ（ｔ），Ｙ（ｔ）を生成してお
り、原盤１５主面上における電子ビームスポットの位置
制御をも行う。このように射出制御部のビーム変調部５
２は、記録すべきデータに応じて露光ビームの強度を変
調する指令を露光ビーム射出部のビーム偏向電極４５に
供給する。
配置された電極からなり、通過電子ビームを原盤主面に
平行な面において原盤の直径に平行な軸とこれに直交す
る軸との２方向（Ｘ，Ｙ）に独立して偏向可能に設けら
れている。ビーム偏向電極４５の２軸電極は、それぞれ
ビーム偏向部５５からの半径偏向信号Ｘ（ｔ）及び接線
偏向信号Ｙ（ｔ）により制御され、通過電子ビームをそ
れぞれの軸方向に偏向させる。ビーム偏向部５５は、コ
ントローラ２５からの電子ビーム偏向信号に基づき偏向
信号Ｘ（ｔ），Ｙ（ｔ）を生成し、これらによりビーム
偏向電極４５によって、たとえば半径偏向信号に応じて
通過電子ビームを偏向し、そのスポットを原盤の１回転
ごとに所定トラックピッチ数進む所定移動量で原盤半径
上で移動させる。さらに、ビーム偏向部５５は、半径セ
ンサ２０からの測長データ及びスピンドルモータ１７の
エンコーダからの回転数データに基づいて残留誤差成分
を補正して偏向信号Ｘ（ｔ），Ｙ（ｔ）を生成してお
り、原盤１５主面上における電子ビームスポットの位置
制御をも行う。このように射出制御部のビーム変調部５
２は、記録すべきデータに応じて露光ビームの強度を変
調する指令を露光ビーム射出部のビーム偏向電極４５に
供給する。
【００２９】フォーカス調整レンズ４６はフォーカシン
グ部５６により制御され、フォーカシング部５６は高さ
検出部２４からの検出信号に基づいて、対物レンズ４７
によって原盤１５の主面に収束される電子ビームスポッ
トのフォーカス調整を行う。なお、加速高圧電源５１及
びフォーカシング部５６もコントローラ２５からの制御
信号に基づいて動作する。 ＜第１実施形態＞本発明における光ディスクの情報記録
装置を用いて、プリピット及びグループの潜像を回転原
盤上に螺旋状に配列するように記録する方法について以
下に詳述する。
グ部５６により制御され、フォーカシング部５６は高さ
検出部２４からの検出信号に基づいて、対物レンズ４７
によって原盤１５の主面に収束される電子ビームスポッ
トのフォーカス調整を行う。なお、加速高圧電源５１及
びフォーカシング部５６もコントローラ２５からの制御
信号に基づいて動作する。 ＜第１実施形態＞本発明における光ディスクの情報記録
装置を用いて、プリピット及びグループの潜像を回転原
盤上に螺旋状に配列するように記録する方法について以
下に詳述する。
【００３０】ビーム偏向部５５は、偏向信号をビーム偏
向電極４５に供給して電子ビームを偏向して、図２に示
すように、そのビームスポットＳを、原盤の１回転で進
むトラックピッチＴを基準（Ｔ＝１）とした下記式を満
たす移動量ＳＲ［トラックピッチ数／回転］で、原盤１
５の半径上にて第１露光開始位置Ａから露光停止位置Ｂ
までステージ１８の移動方向Ｄとは逆方向Ｃ（内周側か
ら外周方向へ）に移動させる。
向電極４５に供給して電子ビームを偏向して、図２に示
すように、そのビームスポットＳを、原盤の１回転で進
むトラックピッチＴを基準（Ｔ＝１）とした下記式を満
たす移動量ＳＲ［トラックピッチ数／回転］で、原盤１
５の半径上にて第１露光開始位置Ａから露光停止位置Ｂ
までステージ１８の移動方向Ｄとは逆方向Ｃ（内周側か
ら外周方向へ）に移動させる。
【００３１】
【数１】｜ＳＲ｜＝｜ＣＲ｜ 上記式中、ＣＲは原盤の１回転ごとにトラックピッチ数
進むステージ１８の移動量［トラックピッチ数／回転］
を示す。すなわち、原盤の１回転ごとにスポットＳが移
動する原盤の半径上の移動量ＳＲは、ステージ１８の回
転駆動部の所定移動量ＣＲと等しい距離である。ＳＲと
ＣＲと間に差分があると、電子ビームの走査範囲が限ら
れているので、かかる差分が一定トラックピッチで露光
工程を行う妨げになる。なお、図２は、原盤がその１回
転で１／２トラックピッチ進んで、ビームスポットＳが
１／２トラックピッチ進んだ状態の例を示す。これによ
って、原盤の１回転ごとに１トラックピッチの距離で螺
旋状の潜像が形成される。
進むステージ１８の移動量［トラックピッチ数／回転］
を示す。すなわち、原盤の１回転ごとにスポットＳが移
動する原盤の半径上の移動量ＳＲは、ステージ１８の回
転駆動部の所定移動量ＣＲと等しい距離である。ＳＲと
ＣＲと間に差分があると、電子ビームの走査範囲が限ら
れているので、かかる差分が一定トラックピッチで露光
工程を行う妨げになる。なお、図２は、原盤がその１回
転で１／２トラックピッチ進んで、ビームスポットＳが
１／２トラックピッチ進んだ状態の例を示す。これによ
って、原盤の１回転ごとに１トラックピッチの距離で螺
旋状の潜像が形成される。
【００３２】具体的には、図３に示すように、回転原盤
１５がその１回転ごとに１／２トラックピッチＴ／２だ
け方向Ｄに移動している間に、電子ビームスポットＳを
反対方向Ｃの第１露光開始位置Ａから外周方向へＴ／２
移動した時点で、スポットＳが露光停止位置Ｂに達し、
ここでスポットＳを第２露光開始位置として第１露光開
始位置Ａへ断続的に移動すなわちジャンプさせかつ、原
盤の１回転ごとに周期的に戻す。このように、図１に示
すコントローラ２５及びビーム偏向部５５すなわち偏向
制御部は、かかる偏向動作を半径偏向信号に応じてビー
ム偏向電極４５によって実行させる。なお、第１露光開
始位置Ａ及び露光停止位置Ｂは原盤でなく電子ビームカ
ラム部４０の位置に基づいている。
１５がその１回転ごとに１／２トラックピッチＴ／２だ
け方向Ｄに移動している間に、電子ビームスポットＳを
反対方向Ｃの第１露光開始位置Ａから外周方向へＴ／２
移動した時点で、スポットＳが露光停止位置Ｂに達し、
ここでスポットＳを第２露光開始位置として第１露光開
始位置Ａへ断続的に移動すなわちジャンプさせかつ、原
盤の１回転ごとに周期的に戻す。このように、図１に示
すコントローラ２５及びビーム偏向部５５すなわち偏向
制御部は、かかる偏向動作を半径偏向信号に応じてビー
ム偏向電極４５によって実行させる。なお、第１露光開
始位置Ａ及び露光停止位置Ｂは原盤でなく電子ビームカ
ラム部４０の位置に基づいている。
【００３３】図１に示す送り回転制御部３０は、図４
（ａ）に示す原盤の回転とステージ送り量との関係を満
たすように、送り機構１９に、原盤の１回転当たり所定
移動量Ｔ／２だけ移動させる指令を供給する。同時に、
ビーム偏向部５５は、図４（ｂ）に示す原盤の回転とビ
ーム偏向量との関係を満たすように、すなわち、スポッ
トを第１露光開始位置Ａからステージ送りと逆方向の外
周方向へ１回転当たり所定移動量Ｔ／２だけ逐次移動さ
せ、１回転目のＴ／２の露光停止位置Ｂで次の第２露光
開始位置すなわち第１露光開始位置Ａへ周期的に内周方
向へ戻し、そこから外周方向へ同様に逐次移動させるよ
うに、偏向動作をなす鋸歯状波形の指令をビーム偏向電
極４５に供給する。さらに、図４（ａ）及び（ｂ）に示
す関係と同期して、図４（ｃ）に示す原盤の回転とビー
ム強度との関係を満たすように、ビーム変調部５２は、
第１回転中すべてにグルーブ露光のためにレジスト層が
感応するビーム強度を保ち、第２回転中にプリピットデ
ータに応じてパルス変調したビーム強度とし、第３回転
中すべてにグルーブ露光のためにレジスト層が感応する
ビーム強度を保つようなブランキング指令をビーム偏向
電極４５に供給する。
（ａ）に示す原盤の回転とステージ送り量との関係を満
たすように、送り機構１９に、原盤の１回転当たり所定
移動量Ｔ／２だけ移動させる指令を供給する。同時に、
ビーム偏向部５５は、図４（ｂ）に示す原盤の回転とビ
ーム偏向量との関係を満たすように、すなわち、スポッ
トを第１露光開始位置Ａからステージ送りと逆方向の外
周方向へ１回転当たり所定移動量Ｔ／２だけ逐次移動さ
せ、１回転目のＴ／２の露光停止位置Ｂで次の第２露光
開始位置すなわち第１露光開始位置Ａへ周期的に内周方
向へ戻し、そこから外周方向へ同様に逐次移動させるよ
うに、偏向動作をなす鋸歯状波形の指令をビーム偏向電
極４５に供給する。さらに、図４（ａ）及び（ｂ）に示
す関係と同期して、図４（ｃ）に示す原盤の回転とビー
ム強度との関係を満たすように、ビーム変調部５２は、
第１回転中すべてにグルーブ露光のためにレジスト層が
感応するビーム強度を保ち、第２回転中にプリピットデ
ータに応じてパルス変調したビーム強度とし、第３回転
中すべてにグルーブ露光のためにレジスト層が感応する
ビーム強度を保つようなブランキング指令をビーム偏向
電極４５に供給する。
【００３４】かかる一連の変調ビームスポットの偏向動
作にしたがって、原盤のレジスト層には、図５に示すよ
うに、第１回転中にスポットＳの露光移動による軌跡で
グルーブ潜像Ｇが形成され、第２回転中にプリピットデ
ータに応じたランドプリピット潜像Ｐが形成され、第３
回転中に１回転の露光軌跡の後に正確に接続されたグル
ーブ潜像Ｇが形成される。かかる動作を原盤全体に施
し、潜像形成を行う情報記録工程が完了する。
作にしたがって、原盤のレジスト層には、図５に示すよ
うに、第１回転中にスポットＳの露光移動による軌跡で
グルーブ潜像Ｇが形成され、第２回転中にプリピットデ
ータに応じたランドプリピット潜像Ｐが形成され、第３
回転中に１回転の露光軌跡の後に正確に接続されたグル
ーブ潜像Ｇが形成される。かかる動作を原盤全体に施
し、潜像形成を行う情報記録工程が完了する。
【００３５】潜像がレジスト層に形成された露光記録原
盤を現像装置に装着し、これを現像して潜像部分を除去
してレジスト層に凹凸パターンを形成し、現像された原
盤を得る。かかる実施例では、一定移動するスライダ上
の回転原盤に対して、電子ビームのオンオフ制御と偏向
動作を同期させることにより、電子ビーム露光期間をグ
ルーブ期間とプリピット期間とに分けこれらを交互繰り
返すことにより、電子ビーム露光の連結が精度よく達成
されるために、原盤現像後のグルーブなどの側面が滑ら
かに形成できようになる。
盤を現像装置に装着し、これを現像して潜像部分を除去
してレジスト層に凹凸パターンを形成し、現像された原
盤を得る。かかる実施例では、一定移動するスライダ上
の回転原盤に対して、電子ビームのオンオフ制御と偏向
動作を同期させることにより、電子ビーム露光期間をグ
ルーブ期間とプリピット期間とに分けこれらを交互繰り
返すことにより、電子ビーム露光の連結が精度よく達成
されるために、原盤現像後のグルーブなどの側面が滑ら
かに形成できようになる。
【００３６】次に、現像原盤をポストベークで定着させ
た後、レジスト層上にニッケル又は銀などの導電膜をス
パッタリング又は蒸着などによって形成し、レジスト層
に形成された凹凸パターンを転写する。次に、例えばニ
ッケル電鋳によりニッケルスタンパを形成して、該スタ
ンパを基板から分離して、ニッケルスタンパを得る。該
スタンパによって、例えば射出成形法や、いわゆる２Ｐ
法などにより、同一の所定プリ情報を有した樹脂光ディ
スク基板のレプリカが作成される。
た後、レジスト層上にニッケル又は銀などの導電膜をス
パッタリング又は蒸着などによって形成し、レジスト層
に形成された凹凸パターンを転写する。次に、例えばニ
ッケル電鋳によりニッケルスタンパを形成して、該スタ
ンパを基板から分離して、ニッケルスタンパを得る。該
スタンパによって、例えば射出成形法や、いわゆる２Ｐ
法などにより、同一の所定プリ情報を有した樹脂光ディ
スク基板のレプリカが作成される。
【００３７】このようにして得られた光ディスク基板上
に、例えば保護膜、相変化材料媒体層、保護膜、反射膜
を順次積層し、接着層により他の基板に貼り合わせ、光
ディスクが作成される。 ＜第２実施形態＞第１実施形態では、第２露光開始位置
を第１露光開始位置に一致させてグルーブ露光期間とプ
リピット露光期間を交互に繰り返して、ランドグルーブ
を設けＴ／２でランドプリピットを形成しているが、さ
らに、本発明によれば、グルーブ内にプリピットを形成
した、いわゆるグルーブプリピット方式の光ディスクを
製造することもできる。すなわち、電子ビームスポット
の第２露光開始位置を、前回の露光停止位置から第１露
光開始位置を越えて回転原盤の所定移動量Ｔ／２と等し
い距離だけ離れて、ジャンプさせて、グルーブ内にプリ
ピット潜像を形成できる。
に、例えば保護膜、相変化材料媒体層、保護膜、反射膜
を順次積層し、接着層により他の基板に貼り合わせ、光
ディスクが作成される。 ＜第２実施形態＞第１実施形態では、第２露光開始位置
を第１露光開始位置に一致させてグルーブ露光期間とプ
リピット露光期間を交互に繰り返して、ランドグルーブ
を設けＴ／２でランドプリピットを形成しているが、さ
らに、本発明によれば、グルーブ内にプリピットを形成
した、いわゆるグルーブプリピット方式の光ディスクを
製造することもできる。すなわち、電子ビームスポット
の第２露光開始位置を、前回の露光停止位置から第１露
光開始位置を越えて回転原盤の所定移動量Ｔ／２と等し
い距離だけ離れて、ジャンプさせて、グルーブ内にプリ
ピット潜像を形成できる。
【００３８】具体的には、図６に示すように、第１回転
中、回転原盤１５がその１回転ごとにＴ／２だけ方向Ｄ
に移動している間に、電子ビームスポットＳを第１露光
開始位置Ａから外周方向Ｃへ逐次移動させ、Ｔ／２離れ
た露光停止位置Ｂに達した時点で、ここでスポットＳを
内周方向の第２露光開始位置Ｂ１（第１露光開始位置Ａ
を越えてＴ／２と等しい距離の位置）へジャンプさせ、
第２回転中は第２露光開始位置Ｂ１から外周方向へ１回
転当たりＴ／２だけスポットＳを逐次移動させ、原盤の
第１回転中の軌跡をなぞる。第２回転中の最後では、露
光開始及び停止位置が一致しているのでスポットが元の
位置に戻る。次に、第３回転にわたってビームを逐次移
動させ、この動作を周期的に繰り返す。
中、回転原盤１５がその１回転ごとにＴ／２だけ方向Ｄ
に移動している間に、電子ビームスポットＳを第１露光
開始位置Ａから外周方向Ｃへ逐次移動させ、Ｔ／２離れ
た露光停止位置Ｂに達した時点で、ここでスポットＳを
内周方向の第２露光開始位置Ｂ１（第１露光開始位置Ａ
を越えてＴ／２と等しい距離の位置）へジャンプさせ、
第２回転中は第２露光開始位置Ｂ１から外周方向へ１回
転当たりＴ／２だけスポットＳを逐次移動させ、原盤の
第１回転中の軌跡をなぞる。第２回転中の最後では、露
光開始及び停止位置が一致しているのでスポットが元の
位置に戻る。次に、第３回転にわたってビームを逐次移
動させ、この動作を周期的に繰り返す。
【００３９】図１に示す送り回転制御部３０は、図７
（ａ）に示す原盤の回転とステージ送り量との関係を満
たすように、送り機構１９に、原盤の１回転当たり所定
移動量Ｔ／２だけ移動させる指令を供給する。同時に、
ビーム偏向部５５は、図７（ｂ）に示す原盤の回転とビ
ーム偏向量との関係を満たすように、すなわち、スポッ
トを第１露光開始位置Ａからステージ送りと逆方向の外
周方向へ１回転当たり所定移動量Ｔ／２だけ逐次移動さ
せ、１回転目のＴ／２の露光停止位置Ｂで次の第２露光
開始位置Ｂ１へ内周方向へ戻し、そこから２回転目の外
周方向へ同割合で逐次移動させその最後で第１露光開始
位置Ａに戻るように、偏向動作をなす鋸歯状波形の指令
をビーム偏向電極４５に供給する。さらに、図７（ａ）
及び（ｂ）に示す関係と同期して、図７（ｃ）に示す原
盤の回転とビーム強度との関係を満たすように、ビーム
変調部５２は、第１回転中すべてにグルーブ露光のため
にレジスト層が感応するビーム強度を保ち、第２回転中
にプリピットデータに応じてパルス変調したビーム強度
とし、第３回転中すべてにグルーブ露光のためにレジス
ト層が感応するビーム強度を保つようなブランキング指
令をビーム偏向電極４５に供給する。
（ａ）に示す原盤の回転とステージ送り量との関係を満
たすように、送り機構１９に、原盤の１回転当たり所定
移動量Ｔ／２だけ移動させる指令を供給する。同時に、
ビーム偏向部５５は、図７（ｂ）に示す原盤の回転とビ
ーム偏向量との関係を満たすように、すなわち、スポッ
トを第１露光開始位置Ａからステージ送りと逆方向の外
周方向へ１回転当たり所定移動量Ｔ／２だけ逐次移動さ
せ、１回転目のＴ／２の露光停止位置Ｂで次の第２露光
開始位置Ｂ１へ内周方向へ戻し、そこから２回転目の外
周方向へ同割合で逐次移動させその最後で第１露光開始
位置Ａに戻るように、偏向動作をなす鋸歯状波形の指令
をビーム偏向電極４５に供給する。さらに、図７（ａ）
及び（ｂ）に示す関係と同期して、図７（ｃ）に示す原
盤の回転とビーム強度との関係を満たすように、ビーム
変調部５２は、第１回転中すべてにグルーブ露光のため
にレジスト層が感応するビーム強度を保ち、第２回転中
にプリピットデータに応じてパルス変調したビーム強度
とし、第３回転中すべてにグルーブ露光のためにレジス
ト層が感応するビーム強度を保つようなブランキング指
令をビーム偏向電極４５に供給する。
【００４０】かかる一連の変調ビームスポットの偏向動
作によって、原盤のレジスト層には、図８に示すよう
に、第１回転中にスポットＳの露光移動による軌跡でグ
ルーブ潜像Ｇが形成され、第２回転中にプリピットデー
タに応じたランドプリピット潜像Ｐがグルーブ潜像Ｇの
軌跡内に重ねて形成され、第３回転中に１回転の露光軌
跡の後に正確に接続されたグルーブ潜像Ｇが形成され
る。かかる動作を原盤全体に施し、潜像形成を行う情報
記録工程が完了する。 ＜第３実施形態＞上記実施形態では、回転駆動部の所定
移動量は原盤の１回転ごと１／２トラックピッチＴ／２
だけとしているが、かかる原盤の移動量はこれに限定さ
れず。原盤の移動量はその１トラックピッチの１／ｎ進
む（但し、ｎは整数）距離であればよく、同時にスポッ
トの移動量も原盤の１回転ごとその半径上にて、１トラ
ックピッチの１／ｎ進む（但し、ｎは整数）距離とす
る。これにより、２重螺旋などのトラック潜像を形成で
きる。
作によって、原盤のレジスト層には、図８に示すよう
に、第１回転中にスポットＳの露光移動による軌跡でグ
ルーブ潜像Ｇが形成され、第２回転中にプリピットデー
タに応じたランドプリピット潜像Ｐがグルーブ潜像Ｇの
軌跡内に重ねて形成され、第３回転中に１回転の露光軌
跡の後に正確に接続されたグルーブ潜像Ｇが形成され
る。かかる動作を原盤全体に施し、潜像形成を行う情報
記録工程が完了する。 ＜第３実施形態＞上記実施形態では、回転駆動部の所定
移動量は原盤の１回転ごと１／２トラックピッチＴ／２
だけとしているが、かかる原盤の移動量はこれに限定さ
れず。原盤の移動量はその１トラックピッチの１／ｎ進
む（但し、ｎは整数）距離であればよく、同時にスポッ
トの移動量も原盤の１回転ごとその半径上にて、１トラ
ックピッチの１／ｎ進む（但し、ｎは整数）距離とす
る。これにより、２重螺旋などのトラック潜像を形成で
きる。
【００４１】具体的には、図９に示すように、回転原盤
１５がその１回転ごとに１／３トラックピッチＴ／３だ
け方向Ｄに移動している間に、電子ビームスポットＳを
反対方向Ｃの第１露光開始位置Ａから外周方向へＴ／３
移動した時点で、スポットＳが露光停止位置Ｂに達し、
ここでスポットＳを第２露光開始位置として第１露光開
始位置Ａへ断続的に移動させ、原盤の１回転ごとに周期
的に戻す。
１５がその１回転ごとに１／３トラックピッチＴ／３だ
け方向Ｄに移動している間に、電子ビームスポットＳを
反対方向Ｃの第１露光開始位置Ａから外周方向へＴ／３
移動した時点で、スポットＳが露光停止位置Ｂに達し、
ここでスポットＳを第２露光開始位置として第１露光開
始位置Ａへ断続的に移動させ、原盤の１回転ごとに周期
的に戻す。
【００４２】図１に示す送り回転制御部３０は、図１０
（ａ）に示す原盤の回転とステージ送り量との関係を満
たすように、送り機構１９に、原盤の１回転当たり所定
移動量Ｔ／３だけ移動させる指令を供給する。同時に、
ビーム偏向部５５は、図１０（ｂ）に示す原盤の回転と
ビーム偏向量との関係を満たすように、すなわち、スポ
ットを第１露光開始位置Ａからステージ送りと逆方向の
外周方向へ１回転当たり所定移動量Ｔ／３だけ逐次移動
させ、１回転目のＴ／３の露光停止位置Ｂで次の第２露
光開始位置すなわち第１露光開始位置Ａへ周期的に内周
方向へ戻し、そこから外周方向へ同様に逐次移動させる
ように、偏向動作をなす鋸歯状波形の指令をビーム偏向
電極４５に供給する。さらに、図１０（ａ）及び（ｂ）
に示す関係と同期して、図１０（ｃ）に示す原盤の回転
とビーム強度との関係を満たすように、すなわちジャン
プ時だけビーム強度をゼロとするように、変調部５２
は、第１、２及び３回転中すべてにグルーブ露光のため
にレジスト層が感応するビーム強度を保つようなブラン
キング指令をビーム偏向電極４５に供給する。
（ａ）に示す原盤の回転とステージ送り量との関係を満
たすように、送り機構１９に、原盤の１回転当たり所定
移動量Ｔ／３だけ移動させる指令を供給する。同時に、
ビーム偏向部５５は、図１０（ｂ）に示す原盤の回転と
ビーム偏向量との関係を満たすように、すなわち、スポ
ットを第１露光開始位置Ａからステージ送りと逆方向の
外周方向へ１回転当たり所定移動量Ｔ／３だけ逐次移動
させ、１回転目のＴ／３の露光停止位置Ｂで次の第２露
光開始位置すなわち第１露光開始位置Ａへ周期的に内周
方向へ戻し、そこから外周方向へ同様に逐次移動させる
ように、偏向動作をなす鋸歯状波形の指令をビーム偏向
電極４５に供給する。さらに、図１０（ａ）及び（ｂ）
に示す関係と同期して、図１０（ｃ）に示す原盤の回転
とビーム強度との関係を満たすように、すなわちジャン
プ時だけビーム強度をゼロとするように、変調部５２
は、第１、２及び３回転中すべてにグルーブ露光のため
にレジスト層が感応するビーム強度を保つようなブラン
キング指令をビーム偏向電極４５に供給する。
【００４３】かかる一連の変調ビームスポットの偏向動
作を原盤全体に施して、原盤のレジスト層には、図１１
に示すように、奇数回転中のスポットＳの露光移動によ
るでグルーブ潜像Ｇと偶数回転中のグルーブ潜像Ｇとが
平行となった新たなトラックピッチ２Ｔ／３の２重螺旋
グルーブ潜像が形成され、情報記録工程が完了する。 ＜第４実施形態＞さらに、本発明によれば、グルーブ幅
をビームスポット幅より拡大した光ディスクを製造する
ことができる。この場合、第２露光開始位置Ｂ１は、露
光停止位置Ｂから第１露光開始位置Ａを越えて回転駆動
部の所定移動量例えばＴ／２と等しい距離の整数倍離れ
ている位置を中心にスポットＳの直径以内の範囲に存在
する位置に設定する。
作を原盤全体に施して、原盤のレジスト層には、図１１
に示すように、奇数回転中のスポットＳの露光移動によ
るでグルーブ潜像Ｇと偶数回転中のグルーブ潜像Ｇとが
平行となった新たなトラックピッチ２Ｔ／３の２重螺旋
グルーブ潜像が形成され、情報記録工程が完了する。 ＜第４実施形態＞さらに、本発明によれば、グルーブ幅
をビームスポット幅より拡大した光ディスクを製造する
ことができる。この場合、第２露光開始位置Ｂ１は、露
光停止位置Ｂから第１露光開始位置Ａを越えて回転駆動
部の所定移動量例えばＴ／２と等しい距離の整数倍離れ
ている位置を中心にスポットＳの直径以内の範囲に存在
する位置に設定する。
【００４４】具体的には、図１２に示すように、第１回
転中、回転原盤１５がその１回転ごとにＴ／２だけ方向
Ｄに移動している間に、電子ビームスポットＳを第１露
光開始位置Ａから外周方向Ｃへ逐次移動させ、Ｔ／２離
れた露光停止位置Ｂに達した時点で、ここでスポットＳ
を内周方向の第２露光開始位置Ｂ１（第１露光開始位置
Ａを越えてＴ／２−αと等しい距離の位置（なお、αは
スポットＳの直径未満））へジャンプさせ、第２回転中
は第２露光開始位置Ｂ１から外周方向へ１回転当たりＴ
／２だけスポットＳを逐次移動させ、原盤の第１回転中
の潜像軌跡に部分的に重複するようにトレースする。第
２回転中の最後では、すなわち、第２露光開始位置Ｂ１
から外周方向へ逐次移動するスポットが第２露光停止位
置Ｂ２（第１露光開始位置Ａからαだけ外周方向へ変移
した位置）まで移動した時点では、スポットＳをジャン
プさせ、第１露光開始位置Ａに周期的に戻す。次に、第
３回転にわたってビームを逐次移動させ、この動作を周
期的に繰り返す。
転中、回転原盤１５がその１回転ごとにＴ／２だけ方向
Ｄに移動している間に、電子ビームスポットＳを第１露
光開始位置Ａから外周方向Ｃへ逐次移動させ、Ｔ／２離
れた露光停止位置Ｂに達した時点で、ここでスポットＳ
を内周方向の第２露光開始位置Ｂ１（第１露光開始位置
Ａを越えてＴ／２−αと等しい距離の位置（なお、αは
スポットＳの直径未満））へジャンプさせ、第２回転中
は第２露光開始位置Ｂ１から外周方向へ１回転当たりＴ
／２だけスポットＳを逐次移動させ、原盤の第１回転中
の潜像軌跡に部分的に重複するようにトレースする。第
２回転中の最後では、すなわち、第２露光開始位置Ｂ１
から外周方向へ逐次移動するスポットが第２露光停止位
置Ｂ２（第１露光開始位置Ａからαだけ外周方向へ変移
した位置）まで移動した時点では、スポットＳをジャン
プさせ、第１露光開始位置Ａに周期的に戻す。次に、第
３回転にわたってビームを逐次移動させ、この動作を周
期的に繰り返す。
【００４５】図１に示す送り回転制御部３０は、図１３
（ａ）に示す原盤の回転とステージ送り量との関係を満
たすように、送り機構１９に、原盤の１回転当たり所定
移動量Ｔ／２だけ移動させる指令を供給する。同時に、
ビーム偏向部５５は、図１３（ｂ）に示す原盤の回転と
ビーム偏向量との関係を満たすように、すなわち、スポ
ットを第１露光開始位置Ａからステージ送りと逆方向の
外周方向へ１回転当たり所定移動量Ｔ／２だけ逐次移動
させ、１回転目のＴ／２の露光停止位置Ｂで次の第２露
光開始位置Ｂ１（所定移動量Ｔ／２から変移αだけ短い
位置）へ内周方向へジャンプで戻し、そこから２回転目
の外周方向へ同割合で逐次移動させその最後で、変移α
分だけ内周方向へジャンプし第１露光開始位置Ａに戻る
ように、偏向動作をなす鋸歯状波形の指令をビーム偏向
電極４５に供給する。さらに、図１３（ａ）及び（ｂ）
に示す関係と同期して、図１３（ｃ）に示す原盤の回転
とビーム強度との関係を満たすように、すなわちジャン
プ時だけビーム強度をゼロとするように、変調部５２
は、第１、２及び３回転中すべてにグルーブ露光のため
にレジスト層が感応するビーム強度を保つようなブラン
キング指令をビーム偏向電極４５に供給する。
（ａ）に示す原盤の回転とステージ送り量との関係を満
たすように、送り機構１９に、原盤の１回転当たり所定
移動量Ｔ／２だけ移動させる指令を供給する。同時に、
ビーム偏向部５５は、図１３（ｂ）に示す原盤の回転と
ビーム偏向量との関係を満たすように、すなわち、スポ
ットを第１露光開始位置Ａからステージ送りと逆方向の
外周方向へ１回転当たり所定移動量Ｔ／２だけ逐次移動
させ、１回転目のＴ／２の露光停止位置Ｂで次の第２露
光開始位置Ｂ１（所定移動量Ｔ／２から変移αだけ短い
位置）へ内周方向へジャンプで戻し、そこから２回転目
の外周方向へ同割合で逐次移動させその最後で、変移α
分だけ内周方向へジャンプし第１露光開始位置Ａに戻る
ように、偏向動作をなす鋸歯状波形の指令をビーム偏向
電極４５に供給する。さらに、図１３（ａ）及び（ｂ）
に示す関係と同期して、図１３（ｃ）に示す原盤の回転
とビーム強度との関係を満たすように、すなわちジャン
プ時だけビーム強度をゼロとするように、変調部５２
は、第１、２及び３回転中すべてにグルーブ露光のため
にレジスト層が感応するビーム強度を保つようなブラン
キング指令をビーム偏向電極４５に供給する。
【００４６】かかる一連の変調ビームスポットの偏向動
作を原盤全体に施して、原盤のレジスト層には、図１４
に示すように、たとえば変移αをスポットＳの直径の１
／２とすると、スポットＳの直径の１．５倍の幅のグル
ーブ潜像Ｇが形成され、情報記録工程が完了する。 ＜第５実施形態＞上記実施形態ではグルーブ露光期間と
プリピット露光期間を１回転ごとに設ける構成としてい
るが、これらは１回転ごとに限定されない。すなわち、
第１露光開始位置Ａから露光停止位置Ｂまでの原盤の回
転は整数回転であればよく、さらに、続く第２露光開始
位置から次の露光停止位置までの原盤の回転も整数回転
とすることができる。
作を原盤全体に施して、原盤のレジスト層には、図１４
に示すように、たとえば変移αをスポットＳの直径の１
／２とすると、スポットＳの直径の１．５倍の幅のグル
ーブ潜像Ｇが形成され、情報記録工程が完了する。 ＜第５実施形態＞上記実施形態ではグルーブ露光期間と
プリピット露光期間を１回転ごとに設ける構成としてい
るが、これらは１回転ごとに限定されない。すなわち、
第１露光開始位置Ａから露光停止位置Ｂまでの原盤の回
転は整数回転であればよく、さらに、続く第２露光開始
位置から次の露光停止位置までの原盤の回転も整数回転
とすることができる。
【００４７】具体的には、図１５に示すように、第１及
び第２回転中、回転原盤１５がその１回転ごとにＴ／２
だけ方向Ｄに移動している間に、電子ビームスポットＳ
を第１露光開始位置Ａから外周方向Ｃへ逐次移動させ、
Ｔ離れた露光停止位置Ｂに達した時点で、ここでスポッ
トＳを内周方向の第２露光開始位置Ｂ１（第１露光開始
位置Ａを越えてＴ／２に等しい距離の位置）へジャンプ
させ、次の第３及び第４回転中は第２露光開始位置Ｂ１
から外周方向へ１回転当たりＴ／２だけスポットＳを逐
次移動させる。第４回転中の最後では、すなわち、スポ
ットが第２露光停止位置Ｂ２（第１露光開始位置Ａから
Ｔ／２だけ外周方向へ変移した位置）まで移動した時点
では、スポットＳをジャンプさせ、第１露光開始位置Ａ
に周期的に戻す。次に、この動作を原盤の４回転ごと周
期的に繰り返す。
び第２回転中、回転原盤１５がその１回転ごとにＴ／２
だけ方向Ｄに移動している間に、電子ビームスポットＳ
を第１露光開始位置Ａから外周方向Ｃへ逐次移動させ、
Ｔ離れた露光停止位置Ｂに達した時点で、ここでスポッ
トＳを内周方向の第２露光開始位置Ｂ１（第１露光開始
位置Ａを越えてＴ／２に等しい距離の位置）へジャンプ
させ、次の第３及び第４回転中は第２露光開始位置Ｂ１
から外周方向へ１回転当たりＴ／２だけスポットＳを逐
次移動させる。第４回転中の最後では、すなわち、スポ
ットが第２露光停止位置Ｂ２（第１露光開始位置Ａから
Ｔ／２だけ外周方向へ変移した位置）まで移動した時点
では、スポットＳをジャンプさせ、第１露光開始位置Ａ
に周期的に戻す。次に、この動作を原盤の４回転ごと周
期的に繰り返す。
【００４８】図１に示す送り回転制御部３０は、図１６
（ａ）に示す原盤の回転とステージ送り量との関係を満
たすように、送り機構１９に、原盤の１回転当たり所定
移動量Ｔ／２だけ移動させる指令を供給する。同時に、
ビーム偏向部５５は、図１６（ｂ）に示す原盤の回転と
ビーム偏向量との関係を満たすように、すなわち、スポ
ットを第１露光開始位置Ａからステージ送りと逆方向の
外周方向へ１回転当たり所定移動量Ｔ／２だけ逐次移動
させ、２回転目のＴの露光停止位置Ｂで次の第２露光開
始位置Ｂ１（第１露光開始位置ＡからＴ／２だけ変移し
た位置）へ内周方向へジャンプで戻し、そこから３回転
目の外周方向へ同割合で逐次移動させ、４回転最後で、
Ｔ／２変移分だけ内周方向へジャンプし第１露光開始位
置Ａに戻るように、偏向動作をなす鋸歯状波形の指令を
ビーム偏向電極４５に供給する。さらに、図１６（ａ）
及び（ｂ）に示す関係と同期して、ビーム変調部５２
は、第１，２，５，６．．．回転中すべてにグルーブ露
光のためにレジスト層が感応するビーム強度を保ち、第
３，４，７，８．．．回転中にプリピットデータに応じ
てパルス変調したビーム強度とするような、２回転周期
のブランキング指令をビーム偏向電極４５に供給する。
（ａ）に示す原盤の回転とステージ送り量との関係を満
たすように、送り機構１９に、原盤の１回転当たり所定
移動量Ｔ／２だけ移動させる指令を供給する。同時に、
ビーム偏向部５５は、図１６（ｂ）に示す原盤の回転と
ビーム偏向量との関係を満たすように、すなわち、スポ
ットを第１露光開始位置Ａからステージ送りと逆方向の
外周方向へ１回転当たり所定移動量Ｔ／２だけ逐次移動
させ、２回転目のＴの露光停止位置Ｂで次の第２露光開
始位置Ｂ１（第１露光開始位置ＡからＴ／２だけ変移し
た位置）へ内周方向へジャンプで戻し、そこから３回転
目の外周方向へ同割合で逐次移動させ、４回転最後で、
Ｔ／２変移分だけ内周方向へジャンプし第１露光開始位
置Ａに戻るように、偏向動作をなす鋸歯状波形の指令を
ビーム偏向電極４５に供給する。さらに、図１６（ａ）
及び（ｂ）に示す関係と同期して、ビーム変調部５２
は、第１，２，５，６．．．回転中すべてにグルーブ露
光のためにレジスト層が感応するビーム強度を保ち、第
３，４，７，８．．．回転中にプリピットデータに応じ
てパルス変調したビーム強度とするような、２回転周期
のブランキング指令をビーム偏向電極４５に供給する。
【００４９】かかる一連の変調ビームスポットの偏向動
作を原盤全体に施して、上記第１実施形態と同様、図５
に示すような、グルーブ潜像Ｇとその間にランドプリピ
ット潜像Ｐが形成された記録原盤が作製される。この第
５実施形態では第１実施形態よりもグルーブ潜像Ｇのつ
なぎ目が少なくなるので、製造歩留まりが向上する。 ＜第６実施形態＞上記実施形態では、電子ビームスポッ
トの第２露光開始位置を、前回の露光停止位置から第１
露光開始位置を越えて回転原盤の所定移動量Ｔ／２と等
しい距離だけジャンプさせてグルーブを形成している
が、さらに、本発明によれば、ジャンプさせた位置を、
回転原盤の所定移動量Ｔ／２と等しい距離の整数倍ｎＴ
／２（但し、ｎは整数）離れた位置として、グルーブ潜
像を原盤の複数回の回転にわたって形成して、連結して
トラック記録を可能とする。また、露光停止位置は第１
露光開始位置から回転駆動部の所定移動量と等しい距離
の整数倍離れていることが好ましい。これらにより、グ
ルーブ潜像Ｇのつなぎ目が更に少なくなるので、製造歩
留まりが向上する。
作を原盤全体に施して、上記第１実施形態と同様、図５
に示すような、グルーブ潜像Ｇとその間にランドプリピ
ット潜像Ｐが形成された記録原盤が作製される。この第
５実施形態では第１実施形態よりもグルーブ潜像Ｇのつ
なぎ目が少なくなるので、製造歩留まりが向上する。 ＜第６実施形態＞上記実施形態では、電子ビームスポッ
トの第２露光開始位置を、前回の露光停止位置から第１
露光開始位置を越えて回転原盤の所定移動量Ｔ／２と等
しい距離だけジャンプさせてグルーブを形成している
が、さらに、本発明によれば、ジャンプさせた位置を、
回転原盤の所定移動量Ｔ／２と等しい距離の整数倍ｎＴ
／２（但し、ｎは整数）離れた位置として、グルーブ潜
像を原盤の複数回の回転にわたって形成して、連結して
トラック記録を可能とする。また、露光停止位置は第１
露光開始位置から回転駆動部の所定移動量と等しい距離
の整数倍離れていることが好ましい。これらにより、グ
ルーブ潜像Ｇのつなぎ目が更に少なくなるので、製造歩
留まりが向上する。
【００５０】具体的には、図１７に示すように、第１、
第２及び第３回転中、回転原盤１５がその１回転ごとに
Ｔ／２だけ方向Ｄに移動している間に、電子ビームスポ
ットＳを第１露光開始位置Ａから外周方向Ｃへ逐次移動
させ、３Ｔ／２離れた露光停止位置Ｂに達した時点で、
ここでスポットＳを内周方向の第２露光開始位置Ｂ１
（第１露光開始位置Ａを越えて２Ｔ／２に等しい距離の
位置）へジャンプさせ、次の第４、第５及び第６回転中
は第２露光開始位置Ｂ１から外周方向へ１回転当たりＴ
／２だけスポットＳを逐次移動させる。第６回転中の最
後では、すなわち、スポットが第２露光停止位置Ｂ２
（第１露光開始位置ＡからＴ／２だけ外周方向へ変移し
た位置）まで移動した時点では、スポットＳをジャンプ
させ、第１露光開始位置Ａに周期的に戻す。次に、この
動作を原盤の６回転ごと周期的に繰り返す。
第２及び第３回転中、回転原盤１５がその１回転ごとに
Ｔ／２だけ方向Ｄに移動している間に、電子ビームスポ
ットＳを第１露光開始位置Ａから外周方向Ｃへ逐次移動
させ、３Ｔ／２離れた露光停止位置Ｂに達した時点で、
ここでスポットＳを内周方向の第２露光開始位置Ｂ１
（第１露光開始位置Ａを越えて２Ｔ／２に等しい距離の
位置）へジャンプさせ、次の第４、第５及び第６回転中
は第２露光開始位置Ｂ１から外周方向へ１回転当たりＴ
／２だけスポットＳを逐次移動させる。第６回転中の最
後では、すなわち、スポットが第２露光停止位置Ｂ２
（第１露光開始位置ＡからＴ／２だけ外周方向へ変移し
た位置）まで移動した時点では、スポットＳをジャンプ
させ、第１露光開始位置Ａに周期的に戻す。次に、この
動作を原盤の６回転ごと周期的に繰り返す。
【００５１】図１に示す送り回転制御部３０は、図１８
（ａ）に示す原盤の回転とステージ送り量との関係を満
たすように、送り機構１９に、原盤の１回転当たり所定
移動量Ｔ／２だけ移動させる指令を供給する。同時に、
ビーム偏向部５５は、図１８（ｂ）に示す原盤の回転と
ビーム偏向量との関係を満たすように、すなわち、スポ
ットを第１露光開始位置Ａからステージ送りと逆方向の
外周方向へ１回転当たり所定移動量Ｔ／２だけ逐次移動
させ、３回転目の３Ｔ／２の露光停止位置Ｂで次の第２
露光開始位置Ｂ１（第１露光開始位置Ａから２Ｔ／２だ
け変移した位置）へ内周方向へジャンプで戻し、そこか
ら４回転目の外周方向へ同割合で逐次移動させ、６回転
最後で、Ｔ／２だけ内周方向へジャンプし第１露光開始
位置Ａに戻るように、偏向動作をなす鋸歯状波形の指令
をビーム偏向電極４５に供給する。さらに、図１６
（ａ）及び（ｂ）に示す関係と同期して、ビーム変調部
５２は、第１，２，３，７，８，９．．．回転中すべて
にグルーブ露光のためにレジスト層が感応するビーム強
度を保ち、第４，５，６，１０，１１，１２．．．回転
中にプリピットデータに応じてパルス変調したビーム強
度とするような、３回転周期のブランキング指令をビー
ム偏向電極４５に供給する。
（ａ）に示す原盤の回転とステージ送り量との関係を満
たすように、送り機構１９に、原盤の１回転当たり所定
移動量Ｔ／２だけ移動させる指令を供給する。同時に、
ビーム偏向部５５は、図１８（ｂ）に示す原盤の回転と
ビーム偏向量との関係を満たすように、すなわち、スポ
ットを第１露光開始位置Ａからステージ送りと逆方向の
外周方向へ１回転当たり所定移動量Ｔ／２だけ逐次移動
させ、３回転目の３Ｔ／２の露光停止位置Ｂで次の第２
露光開始位置Ｂ１（第１露光開始位置Ａから２Ｔ／２だ
け変移した位置）へ内周方向へジャンプで戻し、そこか
ら４回転目の外周方向へ同割合で逐次移動させ、６回転
最後で、Ｔ／２だけ内周方向へジャンプし第１露光開始
位置Ａに戻るように、偏向動作をなす鋸歯状波形の指令
をビーム偏向電極４５に供給する。さらに、図１６
（ａ）及び（ｂ）に示す関係と同期して、ビーム変調部
５２は、第１，２，３，７，８，９．．．回転中すべて
にグルーブ露光のためにレジスト層が感応するビーム強
度を保ち、第４，５，６，１０，１１，１２．．．回転
中にプリピットデータに応じてパルス変調したビーム強
度とするような、３回転周期のブランキング指令をビー
ム偏向電極４５に供給する。
【００５２】かかる一連の変調ビームスポットの偏向動
作を原盤全体に施して、上記第１及び第５実施形態と同
様、図５に示すような、グルーブ潜像Ｇとその間にラン
ドプリピット潜像Ｐが形成された記録原盤が作製され
る。 ＜第７実施形態＞上記第３実施形態では、原盤の移動量
のトラックピッチを変化させることにより、光ディスク
のトラック密度をさらに高めた２重螺旋のトラック潜像
を形成している。これに加えて、露光開始点を潜像軌跡
が重複しないように変化させて、多重螺旋のトラック潜
像を形成できる。
作を原盤全体に施して、上記第１及び第５実施形態と同
様、図５に示すような、グルーブ潜像Ｇとその間にラン
ドプリピット潜像Ｐが形成された記録原盤が作製され
る。 ＜第７実施形態＞上記第３実施形態では、原盤の移動量
のトラックピッチを変化させることにより、光ディスク
のトラック密度をさらに高めた２重螺旋のトラック潜像
を形成している。これに加えて、露光開始点を潜像軌跡
が重複しないように変化させて、多重螺旋のトラック潜
像を形成できる。
【００５３】具体的には、図１９に示すように、第１回
転で、回転原盤１５がその１回転ごとに１／２トラック
ピッチＴ／２だけ方向Ｄに移動し、電子ビームスポット
Ｓを反対方向Ｃの第１露光開始位置Ａから外周方向へＴ
／２移動した時点（露光停止位置Ｂ）で、スポットＳを
第２露光開始位置Ｂ１（第１露光開始位置Ａを越えてＴ
／６変移した位置）へ４Ｔ／６の割合でジャンプさせ、
第２回転中は第２露光開始位置Ｂ１から外周方向へ１回
転当たりＴ／２だけスポットＳを逐次移動させ、その最
後（Ｂ２）では、スポットＳを第３露光開始位置Ｂ３
（第１露光開始位置Ａを越えて２Ｔ／６変移した位置）
へ４Ｔ／６の割合でジャンプさせ、第３回転中は第３露
光開始位置Ｂ３から外周方向へ１回転当たりＴ／２だけ
スポットＳを逐次移動させ、その最後（Ｂ４）では、ス
ポットＳを第４露光開始位置Ｂ５（第１露光開始位置Ａ
を越えて３Ｔ／６変移した位置）へ４Ｔ／６の割合でジ
ャンプさせ、第４露光開始位置Ｂ５から外周方向へ逐次
移動させ、第１露光開始位置Ａに周期的に戻す。この動
作を周期的に繰り返すことにより、３重螺旋のグルーブ
潜像が記録できる。
転で、回転原盤１５がその１回転ごとに１／２トラック
ピッチＴ／２だけ方向Ｄに移動し、電子ビームスポット
Ｓを反対方向Ｃの第１露光開始位置Ａから外周方向へＴ
／２移動した時点（露光停止位置Ｂ）で、スポットＳを
第２露光開始位置Ｂ１（第１露光開始位置Ａを越えてＴ
／６変移した位置）へ４Ｔ／６の割合でジャンプさせ、
第２回転中は第２露光開始位置Ｂ１から外周方向へ１回
転当たりＴ／２だけスポットＳを逐次移動させ、その最
後（Ｂ２）では、スポットＳを第３露光開始位置Ｂ３
（第１露光開始位置Ａを越えて２Ｔ／６変移した位置）
へ４Ｔ／６の割合でジャンプさせ、第３回転中は第３露
光開始位置Ｂ３から外周方向へ１回転当たりＴ／２だけ
スポットＳを逐次移動させ、その最後（Ｂ４）では、ス
ポットＳを第４露光開始位置Ｂ５（第１露光開始位置Ａ
を越えて３Ｔ／６変移した位置）へ４Ｔ／６の割合でジ
ャンプさせ、第４露光開始位置Ｂ５から外周方向へ逐次
移動させ、第１露光開始位置Ａに周期的に戻す。この動
作を周期的に繰り返すことにより、３重螺旋のグルーブ
潜像が記録できる。
【００５４】別の観点からすれば、上記第４実施形態と
は異なり、第２露光開始位置に続く露光開始位置Ｂ１，
Ｂ３，Ｂ５は対応する露光停止位置Ｂから第１露光開始
位置Ａを越えて回転原盤の所定移動量Ｔ／２と等しい距
離の整数倍離れている位置を中心にスポットＳの直径を
越える範囲に存在し、かつスポットＳの軌跡がスポット
に重複しないように互いに等距離で離間している位置に
存在することで、密度の高いグルーブ潜像が記録でき
る。 ＜第８実施形態＞さらに上記第４実施形態の変形例とし
ては、プリピットを有するランド及びグルーブを備えた
光ディスクであって、その半径方向におけるプリピット
幅が、その半径方向におけるグルーブの幅より小さい原
盤が製造できる。
は異なり、第２露光開始位置に続く露光開始位置Ｂ１，
Ｂ３，Ｂ５は対応する露光停止位置Ｂから第１露光開始
位置Ａを越えて回転原盤の所定移動量Ｔ／２と等しい距
離の整数倍離れている位置を中心にスポットＳの直径を
越える範囲に存在し、かつスポットＳの軌跡がスポット
に重複しないように互いに等距離で離間している位置に
存在することで、密度の高いグルーブ潜像が記録でき
る。 ＜第８実施形態＞さらに上記第４実施形態の変形例とし
ては、プリピットを有するランド及びグルーブを備えた
光ディスクであって、その半径方向におけるプリピット
幅が、その半径方向におけるグルーブの幅より小さい原
盤が製造できる。
【００５５】図２０に示すように、原盤の第１及び第２
回転では上記第４実施形態と同様に、潜像を記録して、
第３回転では、２回転目最後の変移αの露光停止位置か
ら１／２αの変移だけ内周方向へジャンプで戻し、そこ
から３回転目の外周方向へ同割合で逐次移動させその最
後で、残り１／２α変移分だけ内周方向へジャンプし第
１露光開始位置Ａに戻るように、偏向動作をなす。これ
により、新たなトラック中心（１／２α変移）のプリピ
ット幅がグルーブ幅より小さい原盤が製造できる。
回転では上記第４実施形態と同様に、潜像を記録して、
第３回転では、２回転目最後の変移αの露光停止位置か
ら１／２αの変移だけ内周方向へジャンプで戻し、そこ
から３回転目の外周方向へ同割合で逐次移動させその最
後で、残り１／２α変移分だけ内周方向へジャンプし第
１露光開始位置Ａに戻るように、偏向動作をなす。これ
により、新たなトラック中心（１／２α変移）のプリピ
ット幅がグルーブ幅より小さい原盤が製造できる。
【００５６】なお、本発明では、電子ビーム照射器を用
いて真空チャンバ内で原盤の記録面上に電子ビームを照
射することにより、ピットを形成するように構成した
が、レーザ発生器、光変調器、２次元光偏向器、ミラ
ー、対物レンズを備えたレーザ照射器によって記録面上
にレーザビームをスポット照射することによりピットを
記録しても良い。
いて真空チャンバ内で原盤の記録面上に電子ビームを照
射することにより、ピットを形成するように構成した
が、レーザ発生器、光変調器、２次元光偏向器、ミラ
ー、対物レンズを備えたレーザ照射器によって記録面上
にレーザビームをスポット照射することによりピットを
記録しても良い。
【００５７】
【発明の効果】上記したことから明らかなように、本発
明によれば、１つの露光ビームにより、従来の複数のレ
ーザ光を用いた露光装置によって形成されていた潜像と
同様な潜像を、複数の露光ビームを用いることなく、形
成可能となる。
明によれば、１つの露光ビームにより、従来の複数のレ
ーザ光を用いた露光装置によって形成されていた潜像と
同様な潜像を、複数の露光ビームを用いることなく、形
成可能となる。
【図１】本発明による電子ビームを用いた電子ビームレ
コーダを示す概略ブロック図。
コーダを示す概略ブロック図。
【図２】本発明による電子ビームレコーダ内における原
盤への記録の様子を示す概略斜視図。
盤への記録の様子を示す概略斜視図。
【図３】本発明による実施形態の電子ビームレコーダ内
における原盤への記録の様子を示す概略断面図。
における原盤への記録の様子を示す概略断面図。
【図４】本発明による実施形態の電子ビームレコーダ内
における原盤の送り動作、ビーム偏向動作、ビーム記録
信号を説明するグラフ図。
における原盤の送り動作、ビーム偏向動作、ビーム記録
信号を説明するグラフ図。
【図５】本発明による実施形態の電子ビームレコーダ内
における原盤の潜像の形成を説明する拡大部分平面図。
における原盤の潜像の形成を説明する拡大部分平面図。
【図６】本発明による他の実施形態の電子ビームレコー
ダ内における原盤への記録の様子を示す概略断面図。
ダ内における原盤への記録の様子を示す概略断面図。
【図７】本発明による他の実施形態の電子ビームレコー
ダ内における原盤の送り動作、ビーム偏向動作、ビーム
記録信号を説明するグラフ図。
ダ内における原盤の送り動作、ビーム偏向動作、ビーム
記録信号を説明するグラフ図。
【図８】本発明による他の実施形態の電子ビームレコー
ダ内における原盤の潜像の形成を説明する拡大部分平面
図。
ダ内における原盤の潜像の形成を説明する拡大部分平面
図。
【図９】本発明による他の実施形態の電子ビームレコー
ダ内における原盤への記録の様子を示す概略断面図。
ダ内における原盤への記録の様子を示す概略断面図。
【図１０】本発明による他の実施形態の電子ビームレコ
ーダ内における原盤の送り動作、ビーム偏向動作、ビー
ム記録信号を説明するグラフ図。
ーダ内における原盤の送り動作、ビーム偏向動作、ビー
ム記録信号を説明するグラフ図。
【図１１】本発明による他の実施形態の電子ビームレコ
ーダ内における原盤の潜像の形成を説明する拡大部分平
面図。
ーダ内における原盤の潜像の形成を説明する拡大部分平
面図。
【図１２】本発明による他の実施形態の電子ビームレコ
ーダ内における原盤への記録の様子を示す概略断面図。
ーダ内における原盤への記録の様子を示す概略断面図。
【図１３】本発明による他の実施形態の電子ビームレコ
ーダ内における原盤の送り動作、ビーム偏向動作、ビー
ム記録信号を説明するグラフ図。
ーダ内における原盤の送り動作、ビーム偏向動作、ビー
ム記録信号を説明するグラフ図。
【図１４】本発明による他の実施形態の電子ビームレコ
ーダ内における原盤の潜像の形成を説明する拡大部分平
面図。
ーダ内における原盤の潜像の形成を説明する拡大部分平
面図。
【図１５】本発明による他の実施形態の電子ビームレコ
ーダ内における原盤への記録の様子を示す概略断面図。
ーダ内における原盤への記録の様子を示す概略断面図。
【図１６】本発明による他の実施形態の電子ビームレコ
ーダ内における原盤の送り動作、ビーム偏向動作、ビー
ム記録信号を説明するグラフ図。
ーダ内における原盤の送り動作、ビーム偏向動作、ビー
ム記録信号を説明するグラフ図。
【図１７】本発明による他の実施形態の電子ビームレコ
ーダ内における原盤への記録の様子を示す概略断面図。
ーダ内における原盤への記録の様子を示す概略断面図。
【図１８】本発明による他の実施形態の電子ビームレコ
ーダ内における原盤の送り動作、ビーム偏向動作、ビー
ム記録信号を説明するグラフ図。
ーダ内における原盤の送り動作、ビーム偏向動作、ビー
ム記録信号を説明するグラフ図。
【図１９】本発明による他の実施形態の電子ビームレコ
ーダ内における原盤への記録の様子を示す概略断面図。
ーダ内における原盤への記録の様子を示す概略断面図。
【図２０】本発明による他の実施形態の電子ビームレコ
ーダ内における原盤の潜像の形成を説明する拡大部分平
面図。
ーダ内における原盤の潜像の形成を説明する拡大部分平
面図。
１０ 電子ビームレコーダ １１ 真空チャンバ １５ 原盤 １６ ターンテーブル １７ スピンドルモータ １８ ステージ １９ 送り機構 ２０ 半径センサ ２５ コントローラ ３０ 送り回転制御部 ４０ 電子ビームカラム部 ４５ ビーム偏向電極 ５５ ビーム偏向部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０１Ｊ 37/305 Ｈ０１Ｊ 37/305 Ｂ ５Ｆ０５６ Ｈ０１Ｌ 21/027 Ｈ０１Ｌ 21/30 ５４１Ｊ (72)発明者 金田 弘喜 山梨県甲府市大里町465番地 パイオニア 株式会社内 (72)発明者 曽根 正己 山梨県甲府市大里町465番地 パイオニア 株式会社内 (72)発明者 上村 健二 山梨県甲府市大里町465番地 パイオニア 株式会社内 (72)発明者 栗山 和巳 山梨県甲府市大里町465番地 パイオニア 株式会社内 Ｆターム(参考） 2H097 AA03 AB07 BA10 BB01 CA16 LA20 5C033 GG03 5C034 BB04 5D090 AA01 BB01 BB03 BB05 CC01 FF11 HH01 5D121 BB01 BB21 BB38 5F056 AA02 BA02 CB11 CD20
Claims (23)
- 【請求項１】 レジスト層が形成された原盤を支持し回
転させる回転駆動部と、露光ビームを偏向自在に前記原
盤上に照射しスポットを形成する露光ビーム射出部と、
前記回転駆動部及び前記スポットを前記原盤の半径方向
において相対的に並進移動させる相対移動駆動部と、を
備えたトラック記録用の情報記録装置であって、 記録すべきデータに応じて露光ビームの強度を変調する
指令を前記露光ビーム射出部に供給する射出制御部と、 回転する原盤とともに前記回転駆動部を前記原盤の１回
転ごとに所定移動量だけ移動させる指令を前記相対移動
駆動部に供給する移動制御部と、 強度変調された露光ビームを偏向してそのスポットを第
１露光開始位置から前記回転駆動部の移動方向とは逆方
向に逐次移動させ、前記原盤の所定回転における露光停
止位置まで移動した時点で、前記スポットを第２露光開
始位置へ前記回転駆動部の移動方向に断続的に移動させ
前記第２露光開始位置から前記逆方向に逐次移動させ、
前記第１露光開始位置に周期的に戻す偏向動作をなす指
令を前記露光ビーム射出部に供給する偏向制御部と、を
有することを特徴とする装置。 - 【請求項２】 前記原盤の半径方向における前記原盤の
１回転ごとの前記スポットが移動する移動量は、前記回
転駆動部の前記所定移動量と等しい距離であることを特
徴とする請求項１記載の装置。 - 【請求項３】 前記回転駆動部の前記所定移動量は前記
原盤の１回転ごとの１トラックピッチの１／ｎ進む（但
し、ｎは整数）距離であり、前記原盤の１回転ごとに前
記スポットが移動する前記原盤の半径上の移動量は１ト
ラックピッチの１／ｎ進む（但し、ｎは整数）距離であ
ることを特徴とする請求項１記載の装置。 - 【請求項４】 前記露光停止位置までの前記原盤の所定
回転は整数回転であることを特徴とする請求項１記載の
装置。 - 【請求項５】 前記露光停止位置は前記第１露光開始位
置から前記回転駆動部の前記所定移動量と等しい距離の
整数倍離れていることを特徴とする請求項１記載の装
置。 - 【請求項６】 前記第２露光開始位置は、前記第１露光
開始位置に一致していることを特徴とする請求項１記載
の装置。 - 【請求項７】 前記第２露光開始位置は前記露光停止位
置から前記第１露光開始位置を越えて前記回転駆動部の
前記所定移動量と等しい距離の整数倍離れていることを
特徴とする請求項１記載の装置。 - 【請求項８】 前記第２露光開始位置は前記露光停止位
置から前記第１露光開始位置を越えて前記回転駆動部の
前記所定移動量と等しい距離の整数倍離れている位置を
中心に前記スポットの直径以内の範囲に存在する位置で
あることを特徴とする請求項１記載の装置。 - 【請求項９】 前記第２露光開始位置は前記露光停止位
置から前記第１露光開始位置を越えて前記回転駆動部の
前記所定移動量と等しい距離の整数倍離れている位置を
中心に前記スポットの直径を越える範囲に存在し、かつ
前記スポットの軌跡が前記スポットに重複しないように
互いに等距離で離間している位置に存在することを特徴
とする請求項１記載の装置。 - 【請求項１０】 前記第２露光開始位置から前記逆方向
に逐次移動する前記スポットが第２露光停止位置まで移
動した時点で、前記スポットを断続的に移動させ前記第
１露光開始位置に周期的に戻すことを特徴とする請求項
１記載の装置。 - 【請求項１１】 前記露光ビーム射出部は、露光ビーム
としての電子ビームを射出することを特徴とする請求項
１記載の装置。 - 【請求項１２】 原盤を回転させる回転駆動部と、偏向
自在に露光ビームを前記原盤上に照射しスポットを形成
する露光ビーム射出部と、前記回転駆動部及び前記スポ
ットを前記原盤の半径方向において相対的に並進移動さ
せる相対移動駆動部と、を備えた情報記録装置を用い
て、トラックを記録するための凹凸パターンの潜像を生
成する情報記録方法であって、 レジスト層が形成された原盤を回転させつつ、前記原盤
を、その１回転ごとに所定トラックピッチ数進む所定移
動量でその半径方向において逐次移動させるとともに、
記録すべきデータに応じて強度変調された露光ビームを
偏向してそのスポットを、第１露光開始位置から前記原
盤の移動方向とは逆方向に、移動させる行程と、 前記原盤の所定回転における露光停止位置まで移動した
時点で、前記スポットを第２露光開始位置へ前記回転駆
動部の移動方向に断続的に移動させる行程と、 前記スポットを前記第２露光開始位置から前記逆方向に
逐次移動させ、前記第１露光開始位置に周期的に戻す行
程と、を含むことを特徴とする方法。 - 【請求項１３】 前記原盤の半径方向における前記原盤
の１回転ごとの前記スポットが移動する移動量は、前記
回転駆動部の前記所定移動量と等しい距離であることを
特徴とする請求項１２記載の方法。 - 【請求項１４】 前記回転駆動部の前記所定移動量は前
記原盤の１回転ごとの１トラックピッチの１／ｎ進む
（但し、ｎは整数）距離であり、前記原盤の１回転ごと
に前記スポットが移動する前記原盤の半径上の移動量は
１トラックピッチの１／ｎ進む（但し、ｎは整数）距離
であることを特徴とする請求項１２記載の方法。 - 【請求項１５】 前記露光停止位置までの前記原盤の所
定回転は整数回転であることを特徴とする請求項１２記
載の方法。 - 【請求項１６】 前記露光停止位置は前記第１露光開始
位置から前記回転駆動部の前記所定移動量と等しい距離
の整数倍離れていることを特徴とする請求項１２記載の
方法。 - 【請求項１７】 前記第２露光開始位置は、前記第１露
光開始位置に一致していることを特徴とする請求項１２
記載の方法。 - 【請求項１８】 前記第２露光開始位置は前記露光停止
位置から前記第１露光開始位置を越えて前記回転駆動部
の前記所定移動量と等しい距離の整数倍離れていること
を特徴とする請求項１２記載の方法。 - 【請求項１９】 前記第２露光開始位置は前記露光停止
位置から前記第１露光開始位置を越えて前記回転駆動部
の前記所定移動量と等しい距離の整数倍離れている位置
を中心に前記スポットの直径以内の範囲に存在する位置
であることを特徴とする請求項１２記載の方法。 - 【請求項２０】 前記第２露光開始位置は前記露光停止
位置から前記第１露光開始位置を越えて前記回転駆動部
の前記所定移動量と等しい距離の整数倍離れている位置
を中心に前記スポットの直径を越える範囲に存在し、か
つ前記スポットの軌跡が前記スポットに重複しないよう
に互いに等距離で離間している位置に存在することを特
徴とする請求項１２記載の方法。 - 【請求項２１】 前記第２露光開始位置から前記逆方向
に逐次移動する前記スポットが第２露光停止位置まで移
動した時点で、前記スポットを断続的に移動させ前記第
１露光開始位置に周期的に戻すことを特徴とする請求項
１２記載の方法。 - 【請求項２２】 前記露光ビーム射出部は、露光ビーム
としての電子ビームを射出することを特徴とする請求項
１２記載の方法。 - 【請求項２３】 トラックに沿って所定の凹凸パターン
が形成された原盤を用いて複製された基板と前記基板上
に形成された記録層とを有する記録媒体であって、 レジスト層が形成された原盤を回転させつつ、前記原盤
を、その１回転ごとに所定トラックピッチ数進む所定移
動量でその半径方向において常に移動させるとともに、
強度変調された露光ビームを偏向してそのスポットを、
第１露光開始位置から露光停止位置まで前記原盤の移動
方向とは逆方向に、前記原盤の半径上にて移動させ、前
記スポットを前記原盤の所定回転ごとに第２露光開始位
置に断続的に移動させ、前記スポットを、前記露光停止
位置から前記所定移動量で移動させ、前記原盤の所定回
転ごとに前記第１露光開始位置に周期的に戻す行程から
なる潜像の形成を行う情報記録工程と、 前記情報記録工程によりレジスト層に形成された潜像を
現像してレジスト層に凹凸パターンを形成する現像工程
と、 前記現像工程によりレジスト層に形成された凹凸パター
ンを転写することにより所定の凹凸パターンが形成され
たスタンパを製造する転写工程と、を経て複製されて得
られることを特徴とする記録媒体。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001175959A JP2002367178A (ja) | 2001-06-11 | 2001-06-11 | 情報記録装置及び情報記録方法並びに記録媒体 |
| EP02012712A EP1267340A3 (en) | 2001-06-11 | 2002-06-07 | Information recording apparatus and method for recording information and information recording medium |
| US10/165,953 US7203144B2 (en) | 2001-06-11 | 2002-06-11 | Information recording apparatus and method for recording information patterns with a deflecting beam irradiated to a recording medium |
| US11/652,676 US7336585B2 (en) | 2001-06-11 | 2007-01-12 | Information recording apparatus and method for recording information and information recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001175959A JP2002367178A (ja) | 2001-06-11 | 2001-06-11 | 情報記録装置及び情報記録方法並びに記録媒体 |
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Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005086143A1 (ja) * | 2004-03-04 | 2005-09-15 | Pioneer Corporation | 情報記録方法、および情報記録装置 |
| JP2008059685A (ja) * | 2006-08-31 | 2008-03-13 | Ricoh Co Ltd | 描画方法及び描画装置、並びに情報記録媒体 |
| US7473910B2 (en) | 2004-03-23 | 2009-01-06 | Pioneer Corporation | Electron beam lithography apparatus |
| JP2009525559A (ja) * | 2006-01-30 | 2009-07-09 | スリーディーシーディー，エルエルシー | 光学的に可変なデバイスをマスタリングするシステム、該システムを用いて物を真正認証する方法、及び結果物 |
| JP2009223155A (ja) * | 2008-03-18 | 2009-10-01 | Fujifilm Corp | 電子ビーム描画方法、電子ビーム描画装置、凹凸パターン担持体および磁気ディスク媒体 |
| US7738213B2 (en) | 2005-06-10 | 2010-06-15 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Magnetic disk medium, reticle and magnetic recording and reproducing apparatus |
| US8405923B2 (en) | 2008-08-01 | 2013-03-26 | Pioneer Corporation | Electron beam recording apparatus, controller for the same, and method for controlling same |
-
2001
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Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005086143A1 (ja) * | 2004-03-04 | 2005-09-15 | Pioneer Corporation | 情報記録方法、および情報記録装置 |
| JPWO2005086143A1 (ja) * | 2004-03-04 | 2008-01-24 | パイオニア株式会社 | 情報記録方法、および情報記録装置 |
| JP4481982B2 (ja) * | 2004-03-04 | 2010-06-16 | パイオニア株式会社 | 情報記録方法、および情報記録装置 |
| US7965606B2 (en) | 2004-03-04 | 2011-06-21 | Pioneer Corporation | Information recording method and information recording apparatus |
| US7473910B2 (en) | 2004-03-23 | 2009-01-06 | Pioneer Corporation | Electron beam lithography apparatus |
| US7738213B2 (en) | 2005-06-10 | 2010-06-15 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Magnetic disk medium, reticle and magnetic recording and reproducing apparatus |
| JP2009525559A (ja) * | 2006-01-30 | 2009-07-09 | スリーディーシーディー，エルエルシー | 光学的に可変なデバイスをマスタリングするシステム、該システムを用いて物を真正認証する方法、及び結果物 |
| JP2008059685A (ja) * | 2006-08-31 | 2008-03-13 | Ricoh Co Ltd | 描画方法及び描画装置、並びに情報記録媒体 |
| JP2009223155A (ja) * | 2008-03-18 | 2009-10-01 | Fujifilm Corp | 電子ビーム描画方法、電子ビーム描画装置、凹凸パターン担持体および磁気ディスク媒体 |
| US8405923B2 (en) | 2008-08-01 | 2013-03-26 | Pioneer Corporation | Electron beam recording apparatus, controller for the same, and method for controlling same |
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