JP2003248981A - 微小往復振動偏向を加えたビームによる情報記録方法 - Google Patents

微小往復振動偏向を加えたビームによる情報記録方法

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JP2003248981A
JP2003248981A JP2002045795A JP2002045795A JP2003248981A JP 2003248981 A JP2003248981 A JP 2003248981A JP 2002045795 A JP2002045795 A JP 2002045795A JP 2002045795 A JP2002045795 A JP 2002045795A JP 2003248981 A JP2003248981 A JP 2003248981A
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Osamu Kumasaka
治 熊坂
Masanori Kobayashi
正規 小林
Masami Sone
正己 曽根
Kenji Kamimura
健二 上村
Hiroyoshi Kaneda
弘喜 金田
Kazumi Kuriyama
和巳 栗山
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Pioneer Electronic Corp
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 最適な形状のピットを精度良く作製可能な原
盤製造用の情報記録方法及び装置並びに情報記録媒体を
提供する。 【構成】 基板上に形成されたレジスト層に電子ビーム
を照射してトラックに沿って記録ピット列の潜像を形成
する情報記録方法であり、該電子ビームの照射を該トラ
ック方向に移動する際に、該トラック方向に対して交差
する方向に微小往復振動させて照射すると共に、該記録
ピットのピット長に応じて該微小往復振動の振動幅を調
整する。本発明による情報記録装置は、かかる情報記録
方法を実行する。本発明による情報記録媒体は、かかる
情報記録方法を用いて作製される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、電子ビーム、レー
ザビームなどの電子ビームを用いた情報記録装置に関
し、再生専用光ディスク、光磁気ディスク、相変化型デ
ィスク、磁気ディスクなどの記録ピット列を有する記録
媒体の原盤を製造するための製造装置に用いる情報記録
装置、その情報記録方法に従って原盤から複製される光
ディスク、磁気ディスクなどの記録媒体に関する。
【0002】
【従来の技術】データの記録可能な光学式記録媒体とし
て、追記型のDVD−R(Digital Versatile Disc-Rec
ordable)や、書換可能型のDVD−RW(Digital Ver
satileDisc-ReWritable)などの光ディスクがある。こ
れら光ディスクにおいて、光ディスクの回転制御に用い
られるウォブリング信号などの回転制御情報やデータの
記録時の位置検索などに必要なアドレス情報などを含む
情報信号は、通常、原盤製造時に予め設けられた凹又は
凸部であるトラック(グルーブトラック又はランドトラ
ック)に記録される。これらの光ディスクの製造は、先
ず、トラックに沿って記録信号に対応する所定の凹凸パ
ターンを原盤に記録し、該記録された原盤からディスク
スタンパを形成する。そして、該ディスクスタンパを用
いて合成樹脂などを加熱プレス加工または射出成形し、
該凹凸パターンが原盤から転写された記録面上を金属蒸
着処理して透光性基板などを形成することにより、一般
に供給される光ディスクが得られる。
【0003】該凹凸パターンの原盤への記録は、情報記
録装置によってなされる。原盤の記録面を回転させつ
つ、レーザ光ビームを照射するヘッドを適宜半径方向に
送ることにより、レーザ光ビームの照射スポットがほぼ
等間隔のピッチで螺旋状又は同心円状のトラック軌跡を
描くように制御され、その軌跡上において、記録原盤の
回転速度及び情報内容に応じてレーザ光をオン/オフさ
せることにより原盤上に情報ピット又はグルーブが形成
される。
【0004】近年、DVDを越え、より高密度化された
記録媒体の研究開発が進められ、かかるトラックのピッ
チの極細化が望まれている。例えば、赤色レーザ使用に
よるDVDでトラックピッチが0.74μであったもの
が、青色レーザ使用による高密度化DVDにおいては、
トラックピッチ0.3μ以下が要求されてきている。し
かしながら、従来のレーザ光ビームを用いた原盤のトラ
ックカッティング、即ちマスタリング工程では、記録用
レーザ光ビームのスポット径がその波長と対物レンズの
開口数NAとの制約により十分に小さくできず、結果と
して記録分解能が制限されていた。そこで、レーザ光よ
りもスポット径が小さく、記録分解能の向上を図ること
が可能な電子ビーム露光を用いた原盤のカッティング技
術が検討されている。例えば、特開平第11−2832
83号は、レジスト層を電子ビーム露光して潜像を形成
する際に、該電子ビームをパルス状に強度変調すること
で、所定の記録ピットの潜像を形成する原盤製造方法を
開示している。
【0005】このような強度変調された電子ビームによ
り得られる原盤上の記録ピットの形状は、ピット長の長
いものと短いものではピット幅が異なり、短いピットで
はピット幅が細く、長いピットではピット幅が太くなる
傾向がある。このピット幅の変動は、電子ビームがレジ
スト中で散乱し、基板で反射することに起因するものと
考えられている。
【0006】そこで、図1に示されるように、入力され
る記録信号のビット長が短くなるほど、露光時間を延長
することで、結果として得られるビット面積を大きくし
て、再生品質を確保することが行われている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、記録ピ
ットをより微細化して高密度化を進めていくと、かかる
露光時間の調整だけでは、最適なピット形状が得られ
ず、良好な再生信号が得られないという問題があった。
本発明は上述の問題を解決するためになされたものであ
り、最適な形状のピットを精度良く作製可能な原盤製造
用の情報記録方法及び装置並びに記録媒体を提供するこ
とである。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明による情報記録方
法は、基板上に形成されたレジスト層に電子ビームを照
射してトラックに沿って記録ピット列の潜像を形成する
情報記録方法であり、該電子ビームの照射を該トラック
方向に移動する際に、該トラック方向に対して交差する
方向に微小往復振動させて照射すると共に、該記録ピッ
トのピット長に応じて該微小往復振動の振動幅を調整す
ることを特徴とする。
【0009】本発明による情報記録装置は、レジスト層
が形成された原盤を支持し回転させる回転駆動部と、電
子ビームを偏向自在に該原盤上に照射する電子ビーム射
出部とを備え、記録ピット列の潜像を該回転する原盤の
トラック形成方向に沿って形成する情報記録装置であ
り、該記録ピットを形成すべきデータに応じて電子ビー
ムの強度を変調する指令を該電子ビーム射出部に供給す
る射出制御部と、該強度変調された電子ビームを該トラ
ック形成方向に対して交差する方向に微小往復運動させ
て照射すると共に、該記録ピットのピット長を応じて該
電子ビームの微小往復振動の振動幅を調整する指令を該
電子ビーム射出部に供給する偏向制御部とを備えること
を特徴とする。
【0010】本発明による情報記録媒体は、レジスト層
に記録ピット列が形成された原盤を用いて複製された基
板を含む情報記録媒体であり、該レジスト層が形成され
た原盤を支持し回転させつつ該記録ピットを形成すべき
データに応じて強度変調された電子ビームを、該回転の
トラック形成方向に対して交差する方向に微小往復振動
させて照射すると共に該記録ピットのピット長に応じて
該微小往復振動の振動幅を調整して該記録ピット列の潜
像を形成する情報記録工程と、該情報記録工程により形
成された該記録ピット列の潜像を現像して該レジスト層
に現像された記録ピット列を形成する現像工程と、該現
像工程により形成された該現像された記録ピット列を転
写することにより該記録ピット列が形成されるスタンパ
を製造する転写工程と、を経て複製されて得られること
を特徴とする。
【0011】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を図面を参照
しつつ詳細に説明する。図2は、本発明の実施例であ
り、情報記録装置である電子ビームレコーダ10の概略
を示している。電子ビームは大気雰囲気中では著しく減
衰する特性を有していることから、真空雰囲気中で電子
ビーム露光がなされる。よって、電子ビームレコーダ1
0は、原盤15を回転及び並進駆動する駆動機構などが
真空雰囲気中で動作するようにそれらを収納する真空チ
ャンバ11を備えている。真空チャンバ11の原盤主面
の垂直上方には、電子ビームを射出する電子ビームカラ
ム部40が設けられている。電子ビームレコーダ10は
真空チャンバ11の外部の制御装置をも含む。真空チャ
ンバ11には真空ポンプ28が接続されており、これに
よってチャンバ内を排気することによりチャンバ内部が
所定圧力の真空雰囲気となるように設定されている。真
空チャンバ11は、エアーダンパなどの防振台(図示せ
ず)を介してフロアに設置され、外部からの振動の伝達
が抑制されている。原盤15には例えばシリコン基板が
用いられ、その主面上に電子ビーム用レジスト層が設け
られている。これにより、回転する原盤15を水平方向
に並進駆動するとともに原盤15に照射された電子ビー
ムスポットの軌跡によって、プリピット、グルーブなど
の微小凹凸パターンのための潜像がレジスト層に螺旋状
に形成される。
【0012】図2に示される回転駆動部及び相対移動駆
動部について見ると、真空チャンバ11内において、原
盤15は、ターンテーブル16上に載置され、スピンド
ルモータ17によるターンテーブル16の回転駆動によ
り、その主面中心の垂直軸に関して回転される。スピン
ドルモータ17は、スライダにより直線状に移動できる
送りステージ(以下、単にステージという)18に載置
されている。スピンドルモータ17は、真空対応エアー
スピンドル構造等の防磁モータからなる。ステージ18
は、DCモータによってネジ送りする送り機構19に結
合され、スピンドルモータ17及びターンテーブル16
を原盤15の主面と平行な水平方向面内にて移動可能に
構成されている。
【0013】スピンドルモータ17及び送り機構19は
送り回転制御部30に接続されている。送り回転制御部
30は、スピンドルモータ17のエンコーダからの出力
に基づいて、その回転のフィードバックサーボ制御をす
るとともに、レーザ測長器を用いた半径センサ20から
の測長データを利用して送り機構19を駆動してステー
ジ18の速度のフィードバックサーボ制御をなす。送り
回転制御部30は、コントローラ25から供給される所
定のトラックピッチ及び測長データによって、スピンド
ルモータ17の回転数と送り機構19の送り距離とが一
定となるように制御する。なお、半径センサ20におい
て、真空チャンバ11側内壁には半径センサ20のレー
ザ光源20a及び光検出器20cが設けられ、ステージ
18にはレーザ光源からのレーザ光を反射する反射鏡2
0bが固定されている。
【0014】送り回転制御部30は、原盤の位置データ
をコントローラ25に出力する。コントローラ25は同
期クロックを発生するクロック同期回路を備え、送り回
転制御部30からの原盤の位置データの信号と、記録す
べきプリピット、グルーブなどに対応する変調記録信号
MSとを同期させ、かかる変調記録信号MSを後述のビ
ーム変調部52へ供給する。これにより、コントローラ
25及び送り回転制御部30は、送り機構19によっ
て、回転原盤とともにステージ18を、原盤の1回転ご
とに所定トラックピッチ数進む所定移動量で移動させ
る。コントローラ25は、位置データの信号及び変調記
録信号MSに電子ビーム偏向信号を同期させて後述のビ
ーム偏向部55へ出力する。
【0015】図2に示される電子ビーム射出部について
見ると、電子ビームカラム部40近傍の真空チャンバ1
1の内壁にはレーザ光源22及び光検出器23からなる
フォーカスセンサが原盤へのレーザ光入射面内に設けら
れ、原盤15の主面の高さを光学的に検出する。光検出
器23は受光信号を高さ検出部24に供給する。高さ検
出部24は該受光信号に基づいて原盤15の主面の高さ
データを検出して、フォーカシング部56へ送る。
【0016】真空チャンバ11上の電子ビームカラム部
40内には、上方から、電子銃41、収束レンズ42、
ブランキング電極43、オンオフ制御アパーチャ44、
ビーム偏向電極45、フォーカス調整レンズ46、及び
対物レンズ47がこの順で配置されている。電子ビーム
カラム部40の先端に設けられた電子ビーム射出口49
は原盤15に向けられ、電子銃41から放出された電子
ビームがオンオフ制御用のアパーチャ44の開口部を通
過したとき、対物レンズ47によって電子ビームが収束
され原盤主面に入射し、その上に微細な電子ビームスポ
ットを形成するように構成される。
【0017】電子銃41は、加速高圧電源51からの数
10KeVの高電圧により加速された電子ビームを射出
する。収束レンズ42は、射出された電子ビームを収束
してアパーチャ44へと導く。ブランキング電極43は
ビーム変調部52により制御され、コントローラ25か
らの変調記録信号MSに基づき電子ビームの強度変調
(オンオフ制御)を行う。すなわち、ビーム変調部52
は変調信号をブランキング電極43に供給してブランキ
ング電極43間に電圧を印加し、通過する電子ビームを
大きく偏向させる。これにより、電子ビームのアパーチ
ャ44への通過を阻止してオフ状態とし、通過させてオ
ン状態とする。
【0018】ビーム偏向電極45は、互いに直交する軸
を通って対向して配置される2軸電極からなり、通過電
子ビームを原盤主面に平行な面において原盤の直径に平
行な軸とこれに直交する軸との2方向(X,Y)に独立
して偏向可能に設けられている。ビーム偏向電極45の
2軸電極は、それぞれビーム偏向部55からの半径方向
の偏向信号X(t)及び接線方向、即ちトラック方向の
偏向信号Y(t)により制御され、通過電子ビームをそ
れぞれの軸方向に偏向させる。
【0019】ビーム偏向部55は、コントローラ25か
らの電子ビーム偏向信号に基づき、かかるトラック方向
の偏向信号と半径方向の偏向信号とを生成する。該トラ
ック方向の偏向信号の出力は、偏向信号Y(t)として
ビーム偏向電極45に出力される。一方、半径方向の偏
向信号は、微小往復振動用偏向信号F(t)と合成され
て、偏向信号X(t)としてビーム偏向電極45に出力
される。更に、ビーム偏向部55は、半径センサ20か
らの測長データ及びスピンドルモータ17のエンコーダ
からの回転数データに基づいて残留誤差成分を検出して
偏向信号X(t),Y(t)を補正することで、原盤1
5主面上における電子ビームスポットの位置誤差補正を
なすことも可能である。
【0020】フォーカス調整レンズ46はフォーカシン
グ部56により制御され、フォーカシング部56は高さ
検出部24からの検出信号に基づいて、対物レンズ47
によって原盤15の主面に収束される電子ビームスポッ
トのフォーカス調整を行う。なお、加速高圧電源51及
びフォーカシング部56もコントローラ25からの制御
信号に基づいて動作する。
【0021】図3は、第1実施例において、図2に示さ
れる電子ビームレコーダのビーム偏向部55のより詳細
な構成を示している。ビーム偏向部55は、偏向主回路
81と、偏向信号合成回路86と、パルス幅検出回路8
2と、ブースト回路83aと、ゲート回路84と、微小
往復振動発振回路85とから構成される。偏向主回路8
1は、前述のようにコントローラ25からの電子ビーム
偏向信号に基づきビーム偏向電極45に印加されるため
の偏向信号X(t)、Y(t)を生成する。偏向信号合
成回路86は、偏向主回路81からの偏向信号X(t)
と微小往復振動用偏向信号F(t)との波形の合成、即
ち、X(t)に微小往復振動用偏向信号F(t)を加算
的に重畳する。パルス幅検出回路82は、コントローラ
25からの変調記録信号MSを受信してそのパルス幅、
すなわち、1T、2T、3T及び4Tの如き幅を検出し
て、その識別信号をゲート回路84に供給する。微小往
復振動発振回路85は、コントローラ25からの指定に
基づいた微小往復振動周期Tfに対応する周波数の微小
往復振動信号を連続して発生し、これをゲート回路84
に供給する。尚、微小往復振動の波形は、電子ビームを
高速に偏向し得る波形であれば良く、図3に例として示
されるような方形波形に限らず、鋸波等の三角波形、或
いは正弦波形でも良い。
【0022】ゲート回路84は、供給された微小往復振
動信号をパルス幅検出回路82により供給されるパルス
幅の識別信号に基づいて、これに合致又は若干長い時間
幅のバースト信号に該微小往復振動信号を成形し、これ
をブースト回路83aに供給する。ブースト回路83a
は、供給されたバースト信号をコントローラ25からの
指令に基づいた微小往復振動振幅Mfの大きさに増幅し
て微小往復振動用偏向信号F(t)として出力する。
【0023】尚、微小往復振動のためのビーム偏向は、
変調記録信号MSにより電子ビームの照射がオンオフ制
御されることから、常にオン状態とすることも可能であ
る。しかし、記録ピットの長さに応じて速やかにを微小
往復振動の振幅を偏向するためには本実施例のように微
小往復振動用偏向信号F(t)と変調記録信号MSとを
ほぼ同期させることが好ましい。
【0024】コントローラ25は、前述のように通常の
電子ビームのX軸及びY軸偏向のためのビーム偏向部5
5の制御を行うと共に、微小往復振動のための制御を行
う。この目的のために、コントローラ25は、微小往復
振動用偏向条件テーブルを有し、これに設定された偏向
条件に基づいてビーム偏向部55の微小往復振動用偏向
信号F(t)の出力を制御する。
【0025】図4は、図3に示される微小往復振動用偏
向条件テーブルの設定例を示している。ここで、変調記
録信号MSのパルス幅毎に、微小往復振動周期Tfと、
微小往復振動振幅Mfと、微小往復振動波形の端部を強
調処理、即ちエンハンス処理するか否かの指定情報と、
そのエンハンス処理の条件が設定される。エンハンス処
理条件としては、例えば、変調記録信号のパルス幅が
「3T」の場合に、微小往復振動周期をT/10とし、
微小往復振動振幅を「0.52μm」とし、端部のエン
ハンス処理を「YES」即ち「有り」とし、そのエンハ
ンス処理条件における振幅を「1.2」倍と指定し、更
に、エンハンス部分の幅をTを単位として「T/3」と
指定する例が示されている。又、微小往復振動の振幅M
fは、変調記録信号MSの値が3T、4T、5T及び6
Tと増大するに連れて、0.52μm、0.51μm、
0.50μm及び0.49μmと順次低減された振幅を
与えるようにした設定例を示している。かかる微小往復
振動用偏向条件テーブルの設定は、予め設定されている
必要があり、ピット形状の形成如何が電子ビームの特性
及び原盤レジスト層の特性に依存することから、事前に
実験により最適な条件に決定されている必要がある。
【0026】図5は、第1実施例の電子ビームレコーダ
により得られる電子ビームの軌跡の様子を説明してい
る。ここで、1つのピット70の内部において、電子ビ
ーム71のビームスポット72は、ピットの始端部から
終端部に至るまで往復運動する。かかる微小往復振動の
周期Tf及び振幅Mfは、ビーム偏向電極45に印加さ
れる偏向電圧により制御される。電子ビーム71のかか
る往復微小振動によるピット70の形成には、電子ビー
ムの原盤上におけるビーム強度の半値幅、即ち、スポッ
ト72の径がピット70の最短の長さ及び幅に比して十
分に小さいことが望ましい。又、微小往復振動周期Tf
は、ピット70の最短の長さに比して十分に短く設定さ
れる。
【0027】図6は、第1実施例において、記録変調信
号及び微小往復振動偏向信号に対応して得られる記録ピ
ットの形状を示している。ここで、記録変調信号MSの
例として、そのパルス幅が3T、4T、5T及び6Tで
あるパルス列を例として示している。これに応じて発生
される微小往復振動偏向信号F(t)は、記録変調信号
MSのパルス幅に合致したバースト長を有する。又、微
小往復振動偏向信号F(t)の振幅幅Mfについて見る
と、所望のピット長が短いピットは、所望のピット長が
長いピットの場合に比して大きくする。記録されるビッ
ト形状は、記録変調信号MSのパルス幅に依らずにほぼ
一定の幅を有すると共に、そのピット前後端の角部にお
いて曲率Rが小さく形成されている。
【0028】第1実施例によれば、照射される電子ビー
ムはトラック方向に交差する方向の振動とビット長に応
じた振幅とを有する微小往復振動を施されて照射され、
記録ピットの形状の幅が一定化する。かかる情報記録方
法及び情報記録装置により良好な再生特性を与えると共
に再生信号のジッターが改善された情報記録媒体を得る
ことができる。
【0029】図7は、第2実施例であり、図2に示され
る電子ビームレコーダ10のビーム偏向部55のより詳
細な構成を示している。ここで、ビーム偏向部55は、
偏向主回路81と、偏向信号合成回路86と、パルス幅
検出回路82と、ブースト・エンハンス回路83bと、
ゲート回路84と、微小往復振動発振回路85とから構
成される。ブースト・エンハンス回路83bは、第1実
施例におけるブースト回路83a(図3参照)に代えて
設けられるものであり、その他の回路は第1実施例の場
合と同様である。
【0030】ブースト・エンハンス回路83bは、ゲー
ト回路84から供給されたバースト信号をコントローラ
25からの指定に基づいた微小往復振動振幅Mfの大き
さに増幅する。ブースト・エンハンス回路83bは、更
に、パルス幅検出回路82により供給されるパルス幅の
識別信号及びコントローラ25からのエンハンス(強
調)指示に基づいて該増幅されたバースト状の微小往復
振動信号の始端部及び終端部を強調処理する。強調処理
された信号は、微小往復振動偏向信号F(t)として偏
向信号合成回路86に加えられる。偏向信号合成回路8
6は、微小往復振動偏向信号F(t)にX軸の偏向信号
に重畳して偏向信号X(t)を出力する。
【0031】ブースト・エンハンス回路83bによる強
調処理は、例えば、端部の頂上値から指数関数的に減衰
する波形、或いは、端部から一定時間幅部分のみの振幅
を増強する如き多様な形態が考えられる。強調量の値
は、微小往復振動の周期及び振幅の値と共に、予め、微
小往復振動用偏向条件テーブルに設定される必要がある
(図7参照)。これらの値の決定は、電子ビームの特性
及び原盤レジスト層の特性に依存することから、事前に
実験により最適な条件が決定されている必要がある。
尚、かかるピット端部における微小往復振動波形の端部
の強調処理は、バースト波形の始端部のみ、或いは終端
部のみとすることも可能である。
【0032】図8は、第2実施例において、記録変調信
号及び微小往復振動偏向信号に対応して得られる記録ピ
ットの形状を示している。ここで、記録変調信号MS
は、図4の場合と同様に、そのパルス幅が3T、4T、
5T及び6Tであるパルス列を例として示している。こ
れに応じて発生される微小往復振動偏向信号F(t)
は、記録変調信号MSのパルス幅に合致するバースト長
を有する。又、微小往復振動偏向信号F(t)の振幅幅
は、所望のピット長の短いピットでは、所望のピット長
が長いピットの場合に比して大きくされている。これは
第1実施例の場合と同様である。更に、微小往復振動偏
向信号F(t)の振幅幅は、その始端部及び終端部にお
いて、その振幅が強調された波形を与えられている。
尚、本図においては、微小往復振動偏向信号の波形は説
明の容易性からその包絡線の部分について表現し、微小
往復する部分は省略されている。この強調処理の結果と
して得られるピット形状は、その角部分の曲率Rが第1
実施例の場合より更に小さく形成され、1つのピットの
面積効率をより増大せしめて記録密度の向上が図られ
る。又、ピット形状の形が一定且つ安定した形状が期待
されることから、再生信号のジッターも改善されるもの
と期待される。
【0033】本発明による情報記憶媒体は、前述の実施
例における電子ビームレコーダにより製造され得る。か
かる製造工程は、情報記録工程と、現像工程と、転写工
程とからなる。情報記録工程は、レジスト層が形成され
た原盤を支持し回転させつつ、記録ピットを形成すべき
データに応じて強度変調された電子ビームを回転するト
ラック形成方向に照射する。この際に、電子ビームは、
該トラック形成方向に対して交差する方向に微小往復振
動されて照射されると共に、該記録ピットのピット長に
応じて該電子ビームの微小往復振動の振動幅が調整され
る。これにより、該所定の記録ピット列の潜像が原盤に
形成される。
【0034】現像工程は、該情報記録工程によりレジス
ト層に形成された所定の記録ピット列の潜像を現像して
レジスト層に所定の記録ピット列を形成する。転写工程
は、該現像工程によりレジスト層に形成された所定の記
録ピット列を転写することにより該所定の記録ピット列
が形成されたスタンパを製造する。この製造されたスタ
ンパを用いて、例えば、合成樹脂などを加熱プレス加工
または射出成形し、更に、該凹凸パターンが原盤から転
写された記録面上を金属蒸着処理して透光性基板などを
形成することによりDVD等の情報記録媒体が製造され
る。
【0035】尚、電子ビームによりレジスト層に露光を
行う場合が説明されたが、電子ビームに匹敵する小径ビ
ームスポットが得られる光レーザビームによりレジスト
層に露光を行う場合にも本発明を適用することが可能で
ある。
【0036】
【発明の効果】以上のように、本発明による情報記録方
法により最適な形状のピットを精度良く作製可能な原盤
製造用の情報記録方法が提供され、本発明による情報記
録装置に及び記録媒体に最適な形状のピット列を精度良
く作製する情報記録装置が提供され、これによりかかる
ピットを作製された情報記録媒体が提供される。
【図面の簡単な説明】
【図1】ピットの長さと幅との関係を説明している図で
ある。
【図2】電子ビームレコーダ全体の構成を示している正
面図である。
【図3】第1実施例において、図2に示される電子ビー
ムレコーダのビーム偏向部のより詳細な構成を示してい
るブロック図である。
【図4】第1及び第2実施例において、微小往復振動用
偏向条件テーブルの設定例を示している図である。
【図5】第1実施例の電子ビームレコーダにより得られ
る電子ビームの軌跡の様子を説明している説明図であ
る。
【図6】第1実施例において、記録変調信号及び微小往
復振動偏向信号に対応して得られる記録ピットの形状を
示している図である。
【図7】第2実施例において、図2に示される電子ビー
ムレコーダのビーム偏向部のより詳細な構成を示してい
るブロック図である。
【図8】第2実施例において、記録変調信号及び微小往
復振動偏向信号に対応して得られる記録ピットの形状を
示している図である。
【符号の説明】
10 電子ビームレコーダ 11 真空チャンバ 15 原盤 16 ターンテーブル 17 スピンドルモータ 18 ステージ 19 送り機構 20 半径センサ 25 コントローラ 30 送り回転制御部 40 電子ビームカラム部 45 ビーム偏向電極 55 ビーム偏向部 70 ピット 71 電子ビーム 72 ビームスポット 80 微小往復振動用偏向条件テーブル 81 偏向主回路 82 パルス幅検出回路 83a ブースト回路 83b ブースト・エンハンス回路 84 ゲート回路 85 微小往復振動発振回路 86 偏向信号合成回路
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 曽根 正己 山梨県甲府市大里町465番地 パイオニア 株式会社内 (72)発明者 上村 健二 山梨県甲府市大里町465番地 パイオニア 株式会社内 (72)発明者 金田 弘喜 山梨県甲府市大里町465番地 パイオニア 株式会社内 (72)発明者 栗山 和巳 山梨県甲府市大里町465番地 パイオニア 株式会社内 Fターム(参考) 5D090 AA01 BB01 CC01 EE02 FF11 KK10 KK17 5D121 BB21 BB38

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基板上に形成されたレジスト層に電子ビ
    ームを照射してトラックに沿って記録ピット列の潜像を
    形成する情報記録方法であって、 前記電子ビームの照射を前記トラック方向に移動する際
    に、前記トラック方向に対して交差する方向に微小往復
    振動させて照射すると共に、前記記録ピットのピット長
    に応じて前記微小往復振動の振動幅を調整することを特
    徴とする情報記録方法。
  2. 【請求項2】 前記微小往復振動の振動幅は、前記記録
    ピットのピット長が短い場合に、前記ピット長が長い場
    合に比して大きくすることを特徴とする請求項1記載の
    情報記録方法。
  3. 【請求項3】 前記微小往復振動の周期は、前記記録ピ
    ットのうちの最短ピット長以下であることを特徴とする
    請求項1記載の情報記録方法。
  4. 【請求項4】 前記記録ピットの始端部及び/又は終端
    部において、前記微小往復振動の振幅幅を前記記録ピッ
    トの中間部に比して大きくすることを特徴とする請求項
    1記載の情報記録方法。
  5. 【請求項5】 前記電子ビームの照射により得られる前
    記原盤上のスポットサイズが、前記原盤に形成されるべ
    き記録ピットの大きさに比してより小さいことを特徴と
    する請求項1乃至4何れか1記載の情報記録方法。
  6. 【請求項6】 レジスト層が形成された原盤を支持し回
    転させる回転駆動部と、電子ビームを偏向自在に前記原
    盤上に照射する電子ビーム射出部とを備え、記録ピット
    列の潜像を前記回転する原盤のトラック形成方向に沿っ
    て形成する情報記録装置であって、 前記記録ピットを形成すべきデータに応じて電子ビーム
    の強度を変調する指令を前記電子ビーム射出部に供給す
    る射出制御部と、 前記強度変調された電子ビームを前記トラック形成方向
    に対して交差する方向に微小往復運動させて照射すると
    共に、前記記録ピットのピット長を応じて前記電子ビー
    ムの微小往復振動の振動幅を調整する指令を前記電子ビ
    ーム射出部に供給する偏向制御部と、 を備えることを特徴とする情報記録装置。
  7. 【請求項7】 前記微小往復振動の振動幅は、前記記録
    ピットのピット長が短い場合に、前記ピット長が長い場
    合に比して大きくすることを特徴とする請求項6記載の
    情報記録装置。
  8. 【請求項8】 前記微小往復振動の周期は、前記記録ピ
    ットのうちの最短ピット長以下であることを特徴とする
    請求項6記載の情報記録装置。
  9. 【請求項9】 前記記録ピットの始端部及び/又は終端
    部において、前記微小往復振動の振幅幅を前記記録ピッ
    トの中間部に比して大きくすることを特徴とする請求項
    6記載の情報記録装置。
  10. 【請求項10】 前記電子ビームの照射により得られる
    前記原盤上のスポットサイズが、前記原盤に形成される
    べき記録ピットの大きさに比してより小さいことを特徴
    とする請求項6乃至9何れか1記載の情報記録装置。
  11. 【請求項11】 レジスト層に記録ピット列が形成され
    る原盤を用いて複製された基板を含む情報記録媒体であ
    って、 前記レジスト層が形成された原盤を支持し回転させつつ
    前記記録ピットを形成すべきデータに応じて強度変調さ
    れた電子ビームを、前記回転のトラック形成方向に対し
    て交差する方向に微小往復振動させて照射すると共に前
    記記録ピットのピット長に応じて前記微小往復振動の振
    動幅を調整して前記記録ピット列の潜像を形成する情報
    記録工程と、 前記情報記録工程により形成された前記記録ピット列の
    潜像を現像して前記レジスト層に現像された記録ピット
    列を形成する現像工程と、 前記現像工程により形成された前記現像された記録ピッ
    ト列を転写することにより前記記録ピット列が形成され
    るスタンパを製造する転写工程と、 を経て複製されて得られることを特徴とする情報記録媒
    体。
JP2002045795A 2002-02-22 2002-02-22 微小往復振動偏向を加えたビームによる情報記録方法 Pending JP2003248981A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8031436B2 (en) 2008-02-26 2011-10-04 Fujifilm Corporation Electron beam writing method for magnetic recording medium
US8030625B2 (en) 2008-03-13 2011-10-04 Fujifilm Corporation Electron beam writing method, fine pattern writing system, method for manufacturing uneven pattern carrying substrate, and method for manufacturing magnetic disk medium

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US8031436B2 (en) 2008-02-26 2011-10-04 Fujifilm Corporation Electron beam writing method for magnetic recording medium
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