JP2002197733A - 光ディスク原盤の製造装置 - Google Patents
光ディスク原盤の製造装置Info
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- JP2002197733A JP2002197733A JP2000392665A JP2000392665A JP2002197733A JP 2002197733 A JP2002197733 A JP 2002197733A JP 2000392665 A JP2000392665 A JP 2000392665A JP 2000392665 A JP2000392665 A JP 2000392665A JP 2002197733 A JP2002197733 A JP 2002197733A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 プリピット及びグルーブを異なる幅で精度良
く作製可能な光ディスク原盤製造装置を提供する。 【解決手段】 電子ビームを射出する電子ビーム射出手
段と、電子ビームを第１データ信号に応じて変調して変
調電子ビームを生成する電子ビーム変調手段と、光ビー
ムを射出する光ビーム射出手段と、光ビームを第２デー
タ信号に応じて変調して変調光ビームを生成する光ビー
ム変調手段と、変調光ビームを基板に導くと共に変調電
子ビームの通過を許容する空間を備えた光学系と、を有
する。
く作製可能な光ディスク原盤製造装置を提供する。 【解決手段】 電子ビームを射出する電子ビーム射出手
段と、電子ビームを第１データ信号に応じて変調して変
調電子ビームを生成する電子ビーム変調手段と、光ビー
ムを射出する光ビーム射出手段と、光ビームを第２デー
タ信号に応じて変調して変調光ビームを生成する光ビー
ム変調手段と、変調光ビームを基板に導くと共に変調電
子ビームの通過を許容する空間を備えた光学系と、を有
する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、基板に信号記録ビ
ームを照射して光ディスク原盤を製造する製造装置に関
する。
ームを照射して光ディスク原盤を製造する製造装置に関
する。
【０００２】
【従来の技術】レーザビームの照射によって情報の書き
込みが可能な記録媒体として、色素記録層又は相変化記
録層を用いた光ディスクが知られている。このような光
ディスクには、同心円状又は螺旋状にグルーブが形成さ
れ、グルーブ間のランド部にはアドレス情報等に対応す
るプリピットが所定の間隔で形成されている。上記した
グルーブ及びプリピットを有する光ディスクを作製する
ための装置として、図１に示すような２つの記録レーザ
ビームを用いた光ディスク原盤製造装置が知られてい
る。
込みが可能な記録媒体として、色素記録層又は相変化記
録層を用いた光ディスクが知られている。このような光
ディスクには、同心円状又は螺旋状にグルーブが形成さ
れ、グルーブ間のランド部にはアドレス情報等に対応す
るプリピットが所定の間隔で形成されている。上記した
グルーブ及びプリピットを有する光ディスクを作製する
ための装置として、図１に示すような２つの記録レーザ
ビームを用いた光ディスク原盤製造装置が知られてい
る。
【０００３】かかる光ディスク原盤製造装置において
は、レーザ光源１から射出されたレーザビームはハーフ
ミラー２によって２つの記録レーザビームに分けられ
る。ハーフミラーによって反射された第１のレーザビー
ムは第１の光変調器３によって変調される。第１の光変
調器で変調されたレーザビームは偏光ミラー４によって
反射され、ミラー５及び対物レンズ６を介して光ディス
ク基板９に集光される。他方、ハーフミラー２を透過し
た第２のレーザビームは第２の光変調器７によって変調
される。第２の光変調器７で変調されたレーザビームは
λ／２波長板８を介して偏光ミラー４に入射し、第１の
被変調レーザビームと略同一光路を経由して基板９に集
光される。
は、レーザ光源１から射出されたレーザビームはハーフ
ミラー２によって２つの記録レーザビームに分けられ
る。ハーフミラーによって反射された第１のレーザビー
ムは第１の光変調器３によって変調される。第１の光変
調器で変調されたレーザビームは偏光ミラー４によって
反射され、ミラー５及び対物レンズ６を介して光ディス
ク基板９に集光される。他方、ハーフミラー２を透過し
た第２のレーザビームは第２の光変調器７によって変調
される。第２の光変調器７で変調されたレーザビームは
λ／２波長板８を介して偏光ミラー４に入射し、第１の
被変調レーザビームと略同一光路を経由して基板９に集
光される。
【０００４】上記した光ディスク原盤製造装置におい
て、第１の光変調器３は、例えば、プリピットを形成す
るためのプリピット形成信号に応じて第１のレーザビー
ムを変調する。また、第２の光変調器７は、例えば、グ
ルーブを形成するためのグルーブ形成信号に応じて第２
のレーザビームを変調する。かかる２つの記録レーザビ
ームを用いた光ディスク原盤製造装置では、プリピット
記録用のレーザビーム及びグルーブ記録用のレーザビー
ムのスポット径が同程度となってしまう。従って、例え
ば、プリピット記録用のレーザビームのスポット径をグ
ルーブ記録用のレーザビームのスポット径よりも小さく
して記録することが困難であった。
て、第１の光変調器３は、例えば、プリピットを形成す
るためのプリピット形成信号に応じて第１のレーザビー
ムを変調する。また、第２の光変調器７は、例えば、グ
ルーブを形成するためのグルーブ形成信号に応じて第２
のレーザビームを変調する。かかる２つの記録レーザビ
ームを用いた光ディスク原盤製造装置では、プリピット
記録用のレーザビーム及びグルーブ記録用のレーザビー
ムのスポット径が同程度となってしまう。従って、例え
ば、プリピット記録用のレーザビームのスポット径をグ
ルーブ記録用のレーザビームのスポット径よりも小さく
して記録することが困難であった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上述した点
に鑑みてなされたものであり、その目的とするところ
は、プリピット及びグルーブを異なる幅で精度良く作製
可能な光ディスク原盤製造装置を提供することにある。
に鑑みてなされたものであり、その目的とするところ
は、プリピット及びグルーブを異なる幅で精度良く作製
可能な光ディスク原盤製造装置を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明による光ディスク
原盤製造装置は、基板に電子ビームを照射してデータ信
号の記録を行い光ディスク原盤を製造する装置であっ
て、電子ビームを射出する電子ビーム射出手段と、電子
ビームを第１データ信号に応じて変調して変調電子ビー
ムを生成する電子ビーム変調手段と、光ビームを射出す
る光ビーム射出手段と、光ビームを第２データ信号に応
じて変調して変調光ビームを生成する光ビーム変調手段
と、変調光ビームを基板に導くと共に変調電子ビームの
通過を許容する空間を備えた光学系と、を有することを
特徴としている。
原盤製造装置は、基板に電子ビームを照射してデータ信
号の記録を行い光ディスク原盤を製造する装置であっ
て、電子ビームを射出する電子ビーム射出手段と、電子
ビームを第１データ信号に応じて変調して変調電子ビー
ムを生成する電子ビーム変調手段と、光ビームを射出す
る光ビーム射出手段と、光ビームを第２データ信号に応
じて変調して変調光ビームを生成する光ビーム変調手段
と、変調光ビームを基板に導くと共に変調電子ビームの
通過を許容する空間を備えた光学系と、を有することを
特徴としている。
【０００７】
【発明の実施の形態】本発明の実施例を図面を参照しつ
つ詳細に説明する。図２は、本発明の実施例である電子
ビームを用いた光ディスク原盤製造装置１０の構成を示
すブロック図である。まず、かかる光ディスク原盤の製
造工程の概要について以下に説明する。電子ビームは、
大気雰囲気中では著しく減衰する特性を有していること
から、真空雰囲気中で使用される。従って、電子銃や光
ディスク原盤を作製するための基板を載置したターンテ
ーブル等は真空雰囲気中に配される。
つ詳細に説明する。図２は、本発明の実施例である電子
ビームを用いた光ディスク原盤製造装置１０の構成を示
すブロック図である。まず、かかる光ディスク原盤の製
造工程の概要について以下に説明する。電子ビームは、
大気雰囲気中では著しく減衰する特性を有していること
から、真空雰囲気中で使用される。従って、電子銃や光
ディスク原盤を作製するための基板を載置したターンテ
ーブル等は真空雰囲気中に配される。
【０００８】光ディスク原盤の製造には、例えば、シリ
コン（Ｓｉ）基板が用いられる。シリコン基板は、その
主面上にレジストが塗布される。レジストが塗布された
基板は、光ディスク原盤製造装置内において回転駆動さ
れるとともに、後述するように、情報データ信号によっ
て変調された電子ビーム及びレーザビームが照射され、
プリピット、グルーブなどの微小凹凸パターンの潜像が
螺旋状に形成される。
コン（Ｓｉ）基板が用いられる。シリコン基板は、その
主面上にレジストが塗布される。レジストが塗布された
基板は、光ディスク原盤製造装置内において回転駆動さ
れるとともに、後述するように、情報データ信号によっ
て変調された電子ビーム及びレーザビームが照射され、
プリピット、グルーブなどの微小凹凸パターンの潜像が
螺旋状に形成される。
【０００９】当該基板は、電子ビーム及びレーザビーム
による露光が終了した後、光ディスク原盤製造装置から
取り出され、現像処理が施される。次に、パターニング
及びレジスト除去の処理が行われ、基板上に微小な凹凸
パターンが形成される。パターン形成された基板の主面
には導電膜が形成され、電鋳処理が施されて光ディスク
原盤（スタンパ）が製造される。
による露光が終了した後、光ディスク原盤製造装置から
取り出され、現像処理が施される。次に、パターニング
及びレジスト除去の処理が行われ、基板上に微小な凹凸
パターンが形成される。パターン形成された基板の主面
には導電膜が形成され、電鋳処理が施されて光ディスク
原盤（スタンパ）が製造される。
【００１０】図２に示すように、光ディスク原盤製造装
置１０は、真空チャンバ１１、及び真空チャンバ１１内
に配された光ディスク基板を駆動する駆動装置、及び真
空チャンバ１１に取り付けられた電子光学系を含む電子
ビーム射出ヘッド部４０が設けられている。光ディスク
原盤用の光ディスク基板（以下、単にディスク基板と称
する）１５は、ターンテーブル１６上に載置されてい
る。ターンテーブル１６は、ディスク基板１５を回転駆
動する回転駆動装置であるスピンドルモータ１７によっ
てディスク基板主面の垂直軸に関して回転駆動される。
スピンドルモータ１７は送りステージ（以下、単にステ
ージと称する）１８内に収容されている。ステージ１８
は、移動駆動装置である送りモータ１９に結合され、ス
ピンドルモータ１７及びターンテーブル１６をディスク
基板１５の主面と平行な面内の所定方向に移動すること
ができるようになっている。ターンテーブル１６は誘電
体、例えば、セラミック等の材料からなり、ディスク基
板１５は静電チャッキング機構など（図示しない）によ
りターンテーブル１６上に保持されている。
置１０は、真空チャンバ１１、及び真空チャンバ１１内
に配された光ディスク基板を駆動する駆動装置、及び真
空チャンバ１１に取り付けられた電子光学系を含む電子
ビーム射出ヘッド部４０が設けられている。光ディスク
原盤用の光ディスク基板（以下、単にディスク基板と称
する）１５は、ターンテーブル１６上に載置されてい
る。ターンテーブル１６は、ディスク基板１５を回転駆
動する回転駆動装置であるスピンドルモータ１７によっ
てディスク基板主面の垂直軸に関して回転駆動される。
スピンドルモータ１７は送りステージ（以下、単にステ
ージと称する）１８内に収容されている。ステージ１８
は、移動駆動装置である送りモータ１９に結合され、ス
ピンドルモータ１７及びターンテーブル１６をディスク
基板１５の主面と平行な面内の所定方向に移動すること
ができるようになっている。ターンテーブル１６は誘電
体、例えば、セラミック等の材料からなり、ディスク基
板１５は静電チャッキング機構など（図示しない）によ
りターンテーブル１６上に保持されている。
【００１１】また、真空チャンバ１１には、ディスク基
板１５の主面の高さを検出するための光源２２、光検出
器２３及び高さ検出部２４が設けられている。光検出器
２３は、例えば、ポジションセンサやＣＣＤ（Charge C
oupled Device）などを含み、光源２２から射出され、
ディスク基板１５の表面で反射された光ビームを受光
し、受光信号を高さ検出部２４に供給する。高さ検出部
２４は、受光信号に基づいてディスク基板１５の主面の
高さを検出する。
板１５の主面の高さを検出するための光源２２、光検出
器２３及び高さ検出部２４が設けられている。光検出器
２３は、例えば、ポジションセンサやＣＣＤ（Charge C
oupled Device）などを含み、光源２２から射出され、
ディスク基板１５の表面で反射された光ビームを受光
し、受光信号を高さ検出部２４に供給する。高さ検出部
２４は、受光信号に基づいてディスク基板１５の主面の
高さを検出する。
【００１２】真空チャンバ１１は、エアーダンパなどの
防振台（図示しない）を介して設置され、外部からの振
動の伝達が抑制されている。また、真空チャンバ１１に
は、真空ポンプ２８が接続されており、これによってチ
ャンバ内を排気することによりチャンバ内部が所定圧力
の真空雰囲気となるように設定されている。また、スピ
ンドルモータ１７及び送りモータ１９を制御するための
駆動制御部３０が設けられている。駆動制御部３０は、
光ディスク原盤製造装置１０全体の制御をなすＣＰＵ２
５の制御の下で動作する。
防振台（図示しない）を介して設置され、外部からの振
動の伝達が抑制されている。また、真空チャンバ１１に
は、真空ポンプ２８が接続されており、これによってチ
ャンバ内を排気することによりチャンバ内部が所定圧力
の真空雰囲気となるように設定されている。また、スピ
ンドルモータ１７及び送りモータ１９を制御するための
駆動制御部３０が設けられている。駆動制御部３０は、
光ディスク原盤製造装置１０全体の制御をなすＣＰＵ２
５の制御の下で動作する。
【００１３】電子ビームを射出するための電子ビーム射
出ヘッド部４０には、電子銃４１、収束レンズ４２、ブ
ランキング電極４３、アパーチャ４４，電子ビーム偏向
電極４５、電子ビームのフォーカス調整をなすための電
子ビーム対物レンズ４７がこの順で電子ビーム射出ヘッ
ド部４０内に配置されている。電子ビーム射出ヘッド部
４０は、電子銃筒４８の先端に設けられた電子ビーム射
出口４９が真空チャンバ１１内の空間に向けられ、真空
チャンバ１１の天井面に取り付けられている。また、電
子ビーム射出口４９はターンテーブル１６上のディスク
基板１５の主面に近接した位置に向けて配置されてい
る。
出ヘッド部４０には、電子銃４１、収束レンズ４２、ブ
ランキング電極４３、アパーチャ４４，電子ビーム偏向
電極４５、電子ビームのフォーカス調整をなすための電
子ビーム対物レンズ４７がこの順で電子ビーム射出ヘッ
ド部４０内に配置されている。電子ビーム射出ヘッド部
４０は、電子銃筒４８の先端に設けられた電子ビーム射
出口４９が真空チャンバ１１内の空間に向けられ、真空
チャンバ１１の天井面に取り付けられている。また、電
子ビーム射出口４９はターンテーブル１６上のディスク
基板１５の主面に近接した位置に向けて配置されてい
る。
【００１４】電子銃４１は、加速高圧電源５１から供給
される高電圧が印加される陰極（図示しない）により、
例えば、数１０ＫｅＶに加速された電子ビームを射出す
る。収束レンズ４２は、射出された電子ビームを収束し
てアパーチャ４４へと導く。ブランキング駆動部５４
は、ＣＰＵ２５からのデータ信号（第１データ信号）に
基づいて動作し、ブランキング電極４３を制御してオン
・オフ制御により電子ビームの変調を行う。より詳細に
は、ブランキング電極４３間に電圧を印加して通過する
電子ビームを大きく偏向させる。これにより、電子ビー
ムはアパーチャ４４の絞り孔に収束されない状態となっ
て電子ビームがアパーチャ４４を通過するのを阻止し、
オフ状態とすることができる。
される高電圧が印加される陰極（図示しない）により、
例えば、数１０ＫｅＶに加速された電子ビームを射出す
る。収束レンズ４２は、射出された電子ビームを収束し
てアパーチャ４４へと導く。ブランキング駆動部５４
は、ＣＰＵ２５からのデータ信号（第１データ信号）に
基づいて動作し、ブランキング電極４３を制御してオン
・オフ制御により電子ビームの変調を行う。より詳細に
は、ブランキング電極４３間に電圧を印加して通過する
電子ビームを大きく偏向させる。これにより、電子ビー
ムはアパーチャ４４の絞り孔に収束されない状態となっ
て電子ビームがアパーチャ４４を通過するのを阻止し、
オフ状態とすることができる。
【００１５】ビーム偏向駆動部５５は、ＣＰＵ２５から
の制御信号に応答して、ビーム偏向電極４５に電圧を印
加して通過する電子ビームを偏向させる。これにより、
ディスク基板１５に対する電子ビームスポットの位置制
御を行う。フォーカス駆動部５６は、高さ検出部２４か
らの検出信号に基づいてディスク基板１５の主面に照射
される電子ビームスポットのフォーカス調整を行う。
の制御信号に応答して、ビーム偏向電極４５に電圧を印
加して通過する電子ビームを偏向させる。これにより、
ディスク基板１５に対する電子ビームスポットの位置制
御を行う。フォーカス駆動部５６は、高さ検出部２４か
らの検出信号に基づいてディスク基板１５の主面に照射
される電子ビームスポットのフォーカス調整を行う。
【００１６】また、光ディスク原盤製造装置１０には、
さらに記録用のレーザビーム光学系が設けられている。
より詳細には、記録用レーザビームを射出するレーザ光
源６１、光変調器６２及び被変調レーザビームをディス
ク基板１５に導く光学系が設けられている。図２は、記
録用電子ビーム及びレーザビームを導くガイド手段の詳
細を示している。光変調器６２は、ＣＰＵ２５からのデ
ータ信号（第２データ信号）に基づいてレーザ光源６１
から射出されたレーザビームを変調する。被変調レーザ
ビームは、電子銃筒４８に設けられたレーザビーム透過
窓６５を経て電子銃筒４８内に導かれる。電子銃筒４８
内に導かれた被変調レーザビームは、光学ミラー６６に
よって反射され、光学対物レンズ６７により集光されて
ディスク基板１５に照射される。
さらに記録用のレーザビーム光学系が設けられている。
より詳細には、記録用レーザビームを射出するレーザ光
源６１、光変調器６２及び被変調レーザビームをディス
ク基板１５に導く光学系が設けられている。図２は、記
録用電子ビーム及びレーザビームを導くガイド手段の詳
細を示している。光変調器６２は、ＣＰＵ２５からのデ
ータ信号（第２データ信号）に基づいてレーザ光源６１
から射出されたレーザビームを変調する。被変調レーザ
ビームは、電子銃筒４８に設けられたレーザビーム透過
窓６５を経て電子銃筒４８内に導かれる。電子銃筒４８
内に導かれた被変調レーザビームは、光学ミラー６６に
よって反射され、光学対物レンズ６７により集光されて
ディスク基板１５に照射される。
【００１７】光学ミラー６６及び光学対物レンズ６７の
中央部には電子ビームが通過できる程度の小さな貫通孔
６６Ａ、６７Ａがそれぞれ設けられている。光学ミラー
６６によって反射された被変調レーザビームは、被変調
電子ビームと略同一経路を通過するように構成されてい
る。例えば、被変調レーザビーム及び被変調電子ビーム
が略同軸となるように、あるいは、被変調レーザビーム
及び被変調電子ビームがトラックピッチの１／２ずれる
ように構成してもよい。
中央部には電子ビームが通過できる程度の小さな貫通孔
６６Ａ、６７Ａがそれぞれ設けられている。光学ミラー
６６によって反射された被変調レーザビームは、被変調
電子ビームと略同一経路を通過するように構成されてい
る。例えば、被変調レーザビーム及び被変調電子ビーム
が略同軸となるように、あるいは、被変調レーザビーム
及び被変調電子ビームがトラックピッチの１／２ずれる
ように構成してもよい。
【００１８】上記した光ディスク原盤製造装置１０にお
いて、電子銃４１から射出された電子ビームは、プリピ
ットを形成するためのプリピット形成信号に応じたブラ
ンキング制御により変調される。他方、レーザ光源６１
から射出されたレーザビームは、グルーブを形成するた
めのグルーブ形成信号に応じて変調される。電子ビーム
のスポット径はレーザビームのスポット径よりも小さく
することが可能である。従って、上記したように構成す
ることにより、レーザビームによってグルーブを形成す
ると共に、電子ビームによってグルーブよりも幅の狭い
プリピットを精度良く形成することができる。また、上
記したように、被変調レーザビーム及び被変調電子ビー
ムは略同一経路によってディスク基板１５に照射される
ので、プリピット及びグルーブの相対的な位置精度も良
い。
いて、電子銃４１から射出された電子ビームは、プリピ
ットを形成するためのプリピット形成信号に応じたブラ
ンキング制御により変調される。他方、レーザ光源６１
から射出されたレーザビームは、グルーブを形成するた
めのグルーブ形成信号に応じて変調される。電子ビーム
のスポット径はレーザビームのスポット径よりも小さく
することが可能である。従って、上記したように構成す
ることにより、レーザビームによってグルーブを形成す
ると共に、電子ビームによってグルーブよりも幅の狭い
プリピットを精度良く形成することができる。また、上
記したように、被変調レーザビーム及び被変調電子ビー
ムは略同一経路によってディスク基板１５に照射される
ので、プリピット及びグルーブの相対的な位置精度も良
い。
【００１９】
【発明の効果】上記したことから明らかなように、本発
明によれば、プリピット及びグルーブを異なる幅で同時
に精度良く作製することができる。
明によれば、プリピット及びグルーブを異なる幅で同時
に精度良く作製することができる。
【図１】２つの記録レーザビームを用いた光ディスク原
盤製造装置の構成を示すブロック図である。
盤製造装置の構成を示すブロック図である。
【図２】本発明の実施例である電子ビームを用いた光デ
ィスク原盤製造装置の構成を示すブロック図である。
ィスク原盤製造装置の構成を示すブロック図である。
【図３】記録用の電子ビーム及びレーザビームを導くガ
イド手段の詳細を示すブロック図である。
イド手段の詳細を示すブロック図である。
１０ 光ディスク原盤製造装置 １１ 真空チャンバ １５ 光ディスク基板 ２５ ＣＰＵ ４０ 電子ビーム射出ヘッド部 ４１ 電子銃 ４３ ブランキング電極 ４５ 電子ビーム偏向電極 ４７ 電子ビーム対物レンズ ５４ ブランキング駆動部 ５６ フォーカス駆動部 ６１ 記録用レーザ光源 ６２ 光変調器 ６５ レーザビーム透過窓 ６６ 光学ミラー ６６Ａ，６７Ａ 貫通孔
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 金田 弘喜 山梨県甲府市大里町465番地 パイオニア 株式会社内 (72)発明者 曽根 正己 山梨県甲府市大里町465番地 パイオニア 株式会社内 (72)発明者 上村 健二 山梨県甲府市大里町465番地 パイオニア 株式会社内 (72)発明者 栗山 和巳 山梨県甲府市大里町465番地 パイオニア 株式会社内 Ｆターム(参考） 5D090 AA01 BB01 CC01 CC16 DD03 DD05 EE01 KK17 5D119 AA23 AA41 BA01 BB09 DA04 JA11 JA44 5D121 BB21 BB38
Claims (4)
- 【請求項１】 基板に電子ビームを照射してデータ信号
の記録を行い光ディスク原盤を製造する装置であって、 前記電子ビームを射出する電子ビーム射出手段と、 前記電子ビームを第１データ信号に応じて変調して変調
電子ビームを生成する電子ビーム変調手段と、 光ビームを射出する光ビーム射出手段と、 前記光ビームを第２データ信号に応じて変調して変調光
ビームを生成する光ビーム変調手段と、 前記変調光ビームを前記基板に導くと共に前記変調電子
ビームの通過を許容する空間を備えた光学系と、を有す
ることを特徴とする装置。 - 【請求項２】 前記光学系は、前記変調光ビームを集光
して前記基板に照射する光ビーム集光手段を有すること
を特徴とする請求項１記載の装置。 - 【請求項３】 前記光ビーム集光手段は、前記被変調電
子ビームを通過せしめる貫通孔を有することを特徴とす
る請求項２記載の装置。 - 【請求項４】 前記第１データ信号は光ディスク上にプ
リピットを形成するためのプリピット形成信号であり、
前記第２データ信号はグルーブを形成するためのグルー
ブ形成信号であることを特徴とする請求項１ないし３の
いずれか１に記載の装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000392665A JP2002197733A (ja) | 2000-12-25 | 2000-12-25 | 光ディスク原盤の製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000392665A JP2002197733A (ja) | 2000-12-25 | 2000-12-25 | 光ディスク原盤の製造装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002197733A true JP2002197733A (ja) | 2002-07-12 |
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ID=18858619
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000392665A Pending JP2002197733A (ja) | 2000-12-25 | 2000-12-25 | 光ディスク原盤の製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002197733A (ja) |
-
2000
- 2000-12-25 JP JP2000392665A patent/JP2002197733A/ja active Pending
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