JPH08272104A - フォトレジストの露光方法及び装置 - Google Patents
フォトレジストの露光方法及び装置Info
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- JPH08272104A JPH08272104A JP7075368A JP7536895A JPH08272104A JP H08272104 A JPH08272104 A JP H08272104A JP 7075368 A JP7075368 A JP 7075368A JP 7536895 A JP7536895 A JP 7536895A JP H08272104 A JPH08272104 A JP H08272104A
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- Japan
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- photoresist
- focused beam
- light
- light beam
- scanning
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Optical Recording Or Reproduction (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
- Optical Head (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 光源１からの光を光変調器２で変調し、シリ
ンドリカルレンズ３で楕円形のスポット形状にして集光
レンズ５で集光し、ＸＹ方向に移動されるフォトレジス
ト基盤６上のフォトレジスト７に対して、楕円形のスポ
ットの短軸を集光ビーム走査方向に一致させて走査し、
露光を行う。 【効果】 集光ビーム走査方向の解像度を下げることな
く、集光ビームの送りピッチを広げた塗りつぶし露光を
行うことができる。
ンドリカルレンズ３で楕円形のスポット形状にして集光
レンズ５で集光し、ＸＹ方向に移動されるフォトレジス
ト基盤６上のフォトレジスト７に対して、楕円形のスポ
ットの短軸を集光ビーム走査方向に一致させて走査し、
露光を行う。 【効果】 集光ビーム走査方向の解像度を下げることな
く、集光ビームの送りピッチを広げた塗りつぶし露光を
行うことができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、フォトリソグラフィや
光ディスクのマスタリングに用いるフォトレジストの露
光方法及び露光装置に関する。
光ディスクのマスタリングに用いるフォトレジストの露
光方法及び露光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、フォトリソグラフィや光ディスク
の原盤即ちマスタを作製するマスタリングプロセスにお
いては、レーザ光等を集光した集光ビームをフォトレジ
スト上で走査させて、データを記録するようにフォトレ
ジストを照射する、いわゆる塗りつぶし露光を行う。こ
のとき、フォトレジスト上に照射される露光ビームのス
ポット形状は円形である。
の原盤即ちマスタを作製するマスタリングプロセスにお
いては、レーザ光等を集光した集光ビームをフォトレジ
スト上で走査させて、データを記録するようにフォトレ
ジストを照射する、いわゆる塗りつぶし露光を行う。こ
のとき、フォトレジスト上に照射される露光ビームのス
ポット形状は円形である。
【０００３】具体的には、図４に示すように、露光ビー
ムＰＢを集光レンズ５で集光して集光ビームＣＢを形成
し、この集光ビームＣＢをフォトレジスト７上に照射す
る。これにより、露光された領域ＰＡ1が形成されてい
く。
ムＰＢを集光レンズ５で集光して集光ビームＣＢを形成
し、この集光ビームＣＢをフォトレジスト７上に照射す
る。これにより、露光された領域ＰＡ1が形成されてい
く。
【０００４】このとき、フォトレジスト７上の集光ビー
ムＣＢのスポット形状ＳＰ1は円形である。また、フォ
トレジスト７上での集光ビーム走査方向はＸで示す矢印
の方向であり、この集光ビーム走査方向Ｘと垂直な方向
である集光ビーム送り方向はＹで示す矢印の方向であ
る。この集光ビーム走査方向の解像度は集光ビームの直
径によって決定され、また、集光ビーム送り方向の解像
度は集光ビームの送りピッチによって決定される。
ムＣＢのスポット形状ＳＰ1は円形である。また、フォ
トレジスト７上での集光ビーム走査方向はＸで示す矢印
の方向であり、この集光ビーム走査方向Ｘと垂直な方向
である集光ビーム送り方向はＹで示す矢印の方向であ
る。この集光ビーム走査方向の解像度は集光ビームの直
径によって決定され、また、集光ビーム送り方向の解像
度は集光ビームの送りピッチによって決定される。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上述のよう
に、円形のスポット形状の集光ビームを用いてフォトレ
ジストの露光を行う場合には、集光ビームの送りピッチ
を広げるほどフォトレジストの単位面積当たりの露光時
間は短くなって量産性は上がるが、この送りピッチを広
げてスポット径よりも大きくすると、塗りつぶし露光に
ならなくなる。
に、円形のスポット形状の集光ビームを用いてフォトレ
ジストの露光を行う場合には、集光ビームの送りピッチ
を広げるほどフォトレジストの単位面積当たりの露光時
間は短くなって量産性は上がるが、この送りピッチを広
げてスポット径よりも大きくすると、塗りつぶし露光に
ならなくなる。
【０００６】また、送りピッチが大きい状態で塗りつぶ
し露光を行うために、集光ビームの直径を単に大きくす
ると、集光ビームの走査方向の解像度が下がってしま
う。
し露光を行うために、集光ビームの直径を単に大きくす
ると、集光ビームの走査方向の解像度が下がってしま
う。
【０００７】従って、例えば、ディスク上の物理フォー
マットが凹凸で形成され、これを用いてデータの記録を
磁気的に行う磁気ディスクに対してデータ記録を行う際
には、集光ビームの走査方向となるトラック方向の単位
長さ当たりのデータ記録量を高密にすることができな
い。
マットが凹凸で形成され、これを用いてデータの記録を
磁気的に行う磁気ディスクに対してデータ記録を行う際
には、集光ビームの走査方向となるトラック方向の単位
長さ当たりのデータ記録量を高密にすることができな
い。
【０００８】そこで、本発明は上述の実情に鑑み、集光
ビームの走査方向の解像度を下げることなく、集光ビー
ムの送りピッチを広げることができるフォトレジストの
露光方法及び露光装置を提供するものである。
ビームの走査方向の解像度を下げることなく、集光ビー
ムの送りピッチを広げることができるフォトレジストの
露光方法及び露光装置を提供するものである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明に係るフォトレジ
ストの露光方法は、フォトレジスト上の集光ビームの楕
円形のスポットの短軸の方向を上記フォトレジスト上の
集光ビーム走査方向と一致させて、上記集光ビームを走
査させることにより上述した課題を解決する。
ストの露光方法は、フォトレジスト上の集光ビームの楕
円形のスポットの短軸の方向を上記フォトレジスト上の
集光ビーム走査方向と一致させて、上記集光ビームを走
査させることにより上述した課題を解決する。
【００１０】また、本発明に係るフォトレジストの露光
装置は、光を出射する光源と、上記光源からの出射光
を、フォトレジスト上でのスポット形状が楕円形となる
ように集光する光学手段と、上記光学手段からの楕円形
の集光ビームと上記フォトレジストとの相対的な位置を
検出し、上記集光ビームの楕円形のスポットの短軸の方
向を上記フォトレジスト上の集光ビーム走査方向と一致
させて、上記集光ビームを走査させる移動制御手段とを
有して成ることにより上述した課題を解決する。
装置は、光を出射する光源と、上記光源からの出射光
を、フォトレジスト上でのスポット形状が楕円形となる
ように集光する光学手段と、上記光学手段からの楕円形
の集光ビームと上記フォトレジストとの相対的な位置を
検出し、上記集光ビームの楕円形のスポットの短軸の方
向を上記フォトレジスト上の集光ビーム走査方向と一致
させて、上記集光ビームを走査させる移動制御手段とを
有して成ることにより上述した課題を解決する。
【００１１】
【作用】本発明においては、フォトレジスト上に集光さ
れる集光ビームのスポット形状を楕円形にして、上記集
光ビームの楕円形のスポットの短軸の方向を上記フォト
レジスト上の集光ビーム走査方向と一致させて、上記集
光ビームを走査させることにより、塗りつぶし露光を行
う。
れる集光ビームのスポット形状を楕円形にして、上記集
光ビームの楕円形のスポットの短軸の方向を上記フォト
レジスト上の集光ビーム走査方向と一致させて、上記集
光ビームを走査させることにより、塗りつぶし露光を行
う。
【００１２】
【実施例】以下、本発明の好ましい実施例について、図
面を参照しながら説明する。図１には、本発明に係るフ
ォトレジストの露光装置の一実施例の概略的な構成を示
す。
面を参照しながら説明する。図１には、本発明に係るフ
ォトレジストの露光装置の一実施例の概略的な構成を示
す。
【００１３】図１のフォトレジストの露光装置は、レー
ザ光等の光を出射する光源１、この光源からの出射光を
変調して集光し、この集光ビームのフォトレジスト７上
のスポット形状を楕円形とする光学手段、及び、上記集
光ビームが照射されるフォトレジスト７上の位置を検出
する原盤位置モニタ８と、光源１からの出射光の光変調
の制御を行う信号発生装置９とから成る移動制御手段か
ら構成される。また、上記光学手段は、光源１からの出
射光を変調する光変調器２、この変調された光ビームの
スポット形状を楕円形にするシリンドリカルレンズ３、
このシリンドリカルレンズ３からの楕円形の光ビームを
反射するミラー４、このミラー４で反射された光ビーム
を集光する集光レンズ５を備えて成るものである。
ザ光等の光を出射する光源１、この光源からの出射光を
変調して集光し、この集光ビームのフォトレジスト７上
のスポット形状を楕円形とする光学手段、及び、上記集
光ビームが照射されるフォトレジスト７上の位置を検出
する原盤位置モニタ８と、光源１からの出射光の光変調
の制御を行う信号発生装置９とから成る移動制御手段か
ら構成される。また、上記光学手段は、光源１からの出
射光を変調する光変調器２、この変調された光ビームの
スポット形状を楕円形にするシリンドリカルレンズ３、
このシリンドリカルレンズ３からの楕円形の光ビームを
反射するミラー４、このミラー４で反射された光ビーム
を集光する集光レンズ５を備えて成るものである。
【００１４】次に、このフォトレジストの露光装置の動
作について説明する。
作について説明する。
【００１５】上記光源１から出射されるレーザ光は、光
変調器２に入力される。この光変調器２では、記録光に
適するように入力されたレーザ光の変調を行う。この変
調されて出力される露光ビームは、シリンドリカルレン
ズ３によって、そのスポット形状が楕円形とされてミラ
ー４に反射された後、集光レンズ５によってフォトレジ
スト７上に焦点を合わせるように集光される。この集光
ビームによってフォトレジスト７が露光される。ここ
で、このフォトレジスト７はフォトレジスト基盤６の上
部に所定の厚さで塗布されて成るものである。
変調器２に入力される。この光変調器２では、記録光に
適するように入力されたレーザ光の変調を行う。この変
調されて出力される露光ビームは、シリンドリカルレン
ズ３によって、そのスポット形状が楕円形とされてミラ
ー４に反射された後、集光レンズ５によってフォトレジ
スト７上に焦点を合わせるように集光される。この集光
ビームによってフォトレジスト７が露光される。ここ
で、このフォトレジスト７はフォトレジスト基盤６の上
部に所定の厚さで塗布されて成るものである。
【００１６】上記フォトレジスト基盤６は、集光ビーム
走査方向Ｘ及びこの集光ビームの走査方向Ｘと垂直な方
向である集光ビーム送り方向Ｙに２次元的に移動制御さ
れる。この移動制御されたフォトレジスト基盤６上の集
光ビームの位置は、原盤位置モニタ８によってモニタさ
れ、このモニタされた位置情報は信号発生装置９に送ら
れる。この信号発生装置９では、送られた位置情報を用
いて光変調器２からの変調されたビーム光の出力のＯＮ
／ＯＦＦ制御を行い、２次元パターンの記録を行う。
走査方向Ｘ及びこの集光ビームの走査方向Ｘと垂直な方
向である集光ビーム送り方向Ｙに２次元的に移動制御さ
れる。この移動制御されたフォトレジスト基盤６上の集
光ビームの位置は、原盤位置モニタ８によってモニタさ
れ、このモニタされた位置情報は信号発生装置９に送ら
れる。この信号発生装置９では、送られた位置情報を用
いて光変調器２からの変調されたビーム光の出力のＯＮ
／ＯＦＦ制御を行い、２次元パターンの記録を行う。
【００１７】フォトレジストの露光時には、フォトレジ
スト基盤６は、先ず、集光ビーム走査方向Ｘにのみ移動
される。このとき、集光ビームとフォトレジスト基盤６
との相対位置を原盤位置モニタ８でモニタする。このモ
ニタされたフォトレジスト基盤６の位置情報は、信号発
生装置９に送られる。この信号発生装置９では、送られ
た位置情報を参照し、光変調器２に対して変調された光
ビームの出力のＯＮ／ＯＦＦ制御を行う。これにより、
この集光ビーム走査方向Ｘにおけるフォトレジストの露
光が終了した後には、集光ビーム送り方向Ｙに集光ビー
ムの長軸の長さ以下の距離だけ移動させて、集光ビーム
走査方向Ｘへの露光を行う。
スト基盤６は、先ず、集光ビーム走査方向Ｘにのみ移動
される。このとき、集光ビームとフォトレジスト基盤６
との相対位置を原盤位置モニタ８でモニタする。このモ
ニタされたフォトレジスト基盤６の位置情報は、信号発
生装置９に送られる。この信号発生装置９では、送られ
た位置情報を参照し、光変調器２に対して変調された光
ビームの出力のＯＮ／ＯＦＦ制御を行う。これにより、
この集光ビーム走査方向Ｘにおけるフォトレジストの露
光が終了した後には、集光ビーム送り方向Ｙに集光ビー
ムの長軸の長さ以下の距離だけ移動させて、集光ビーム
走査方向Ｘへの露光を行う。
【００１８】このように、集光ビーム走査方向Ｘ及び集
光ビーム送り方向Ｙへの移動制御を繰り返すことによ
り、いわゆる走査型塗りつぶし露光方法によってフォト
レジスト７全体に任意のパターンが露光される。
光ビーム送り方向Ｙへの移動制御を繰り返すことによ
り、いわゆる走査型塗りつぶし露光方法によってフォト
レジスト７全体に任意のパターンが露光される。
【００１９】この走査型塗りつぶし露光方法は、具体的
には図２に示すように、露光ビームＰＢが集光レンズ５
で集光された集光ビームＧＢによって露光されたフォト
レジスト７上のスポット領域ＳＰ2の短軸の方向を、集
光ビーム走査方向Ｘと一致するように設定することによ
り、露光された領域ＰＡ1が形成されていく。
には図２に示すように、露光ビームＰＢが集光レンズ５
で集光された集光ビームＧＢによって露光されたフォト
レジスト７上のスポット領域ＳＰ2の短軸の方向を、集
光ビーム走査方向Ｘと一致するように設定することによ
り、露光された領域ＰＡ1が形成されていく。
【００２０】このとき、図３に示すように、集光ビーム
走査方向Ｘの解像度を下げることなく、集光ビーム送り
方向Ｙの解像度を必要限度内で下げることができ、広い
送りピッチで塗りつぶし露光を行うことができる。ま
た、単位面積当たりの露光時間を短くすることができ
る。
走査方向Ｘの解像度を下げることなく、集光ビーム送り
方向Ｙの解像度を必要限度内で下げることができ、広い
送りピッチで塗りつぶし露光を行うことができる。ま
た、単位面積当たりの露光時間を短くすることができ
る。
【００２１】ところで、上記実施例では、２次元のＸＹ
座標を用いたＸＹ座標型走査露光装置について説明した
が、本発明の他の実施例として、フォトレジスト基盤６
を回転させながら露光するｒθ座標型走査露光装置にお
いても、フォトレジスト基盤上で集光ビームの短軸方向
がフォトレジストの回転方向と一致するように設定すれ
ば、解像度を下げることなく、塗りつぶし露光を行うこ
とができる。
座標を用いたＸＹ座標型走査露光装置について説明した
が、本発明の他の実施例として、フォトレジスト基盤６
を回転させながら露光するｒθ座標型走査露光装置にお
いても、フォトレジスト基盤上で集光ビームの短軸方向
がフォトレジストの回転方向と一致するように設定すれ
ば、解像度を下げることなく、塗りつぶし露光を行うこ
とができる。
【００２２】よって、ディスク上の物理フォーマットが
凹凸で形成され、これを用いてデータの記録を磁気的に
行う磁気ディスク等に対して、集光ビームの走査方向と
なるトラック方向の単位長さ当たりのデータ記録量を下
げることなく、高速にデータの記録を行うことができ
る。
凹凸で形成され、これを用いてデータの記録を磁気的に
行う磁気ディスク等に対して、集光ビームの走査方向と
なるトラック方向の単位長さ当たりのデータ記録量を下
げることなく、高速にデータの記録を行うことができ
る。
【００２３】
【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明に係るフォトレジストの露光方法は、フォトレジスト
上の集光ビームの楕円形のスポットの短軸の方向を上記
フォトレジスト上の集光ビーム走査方向と一致させて、
上記集光ビームを走査させることにより、集光ビーム走
査方向の解像度を下げることなく、集光ビームの送りピ
ッチを広げることができ、単位面積当たりの露光時間を
短くすることができる。
明に係るフォトレジストの露光方法は、フォトレジスト
上の集光ビームの楕円形のスポットの短軸の方向を上記
フォトレジスト上の集光ビーム走査方向と一致させて、
上記集光ビームを走査させることにより、集光ビーム走
査方向の解像度を下げることなく、集光ビームの送りピ
ッチを広げることができ、単位面積当たりの露光時間を
短くすることができる。
【００２４】また、本発明に係るフォトレジストの露光
装置は、光を出射する光源と、上記光源からの出射光
を、フォトレジスト上でのスポット形状が楕円形となる
ように集光する光学手段と、上記光学手段からの楕円形
の集光ビームと上記フォトレジストとの相対的な位置を
検出し、上記集光ビームの楕円形のスポットの短軸の方
向を上記フォトレジスト上の集光ビーム走査方向と一致
させて、上記集光ビームを走査させる移動制御手段とを
有して成ることにより、集光ビーム走査方向の解像度を
下げることなく、集光ビームの送りピッチを広げること
ができ、単位面積当たりの露光時間を短くすることがで
きる。よって、フォトレジストの露光中に発生する、温
度ドリフトや振動等の外乱の影響を受けにくくなり、ダ
ストの付着による欠陥が減少するので、歩留まりを向上
させることができる。
装置は、光を出射する光源と、上記光源からの出射光
を、フォトレジスト上でのスポット形状が楕円形となる
ように集光する光学手段と、上記光学手段からの楕円形
の集光ビームと上記フォトレジストとの相対的な位置を
検出し、上記集光ビームの楕円形のスポットの短軸の方
向を上記フォトレジスト上の集光ビーム走査方向と一致
させて、上記集光ビームを走査させる移動制御手段とを
有して成ることにより、集光ビーム走査方向の解像度を
下げることなく、集光ビームの送りピッチを広げること
ができ、単位面積当たりの露光時間を短くすることがで
きる。よって、フォトレジストの露光中に発生する、温
度ドリフトや振動等の外乱の影響を受けにくくなり、ダ
ストの付着による欠陥が減少するので、歩留まりを向上
させることができる。
【図１】本発明に係るフォトレジストの露光装置の概略
的な構成図である。
的な構成図である。
【図２】フォトレジストの露光方法を説明するための図
である。
である。
【図３】楕円形の光ビームによる露光を示す図である。
【図４】円形の光ビームによる露光を示す図である。
１ 光源 ２ 光変調器 ３ シリンドリカルレンズ ４ ミラー ５ 集光レンズ ６ フォトレジスト基盤 ７ フォトレジスト ８ 原盤位置モニタ ９ 信号発生装置
Claims (4)
- 【請求項１】 光源からの出射光を集光した集光ビーム
をフォトレジストに照射して露光するフォトレジストの
露光方法において、 上記フォトレジスト上の集光ビームの楕円形のスポット
の短軸の方向を上記フォトレジスト上の集光ビーム走査
方向と一致させて、上記集光ビームを走査させることを
特徴とするフォトレジストの露光方法。 - 【請求項２】 シリンドリカルレンズを用いて上記楕円
形の集光ビームを形成することを特徴とする請求項１記
載のフォトレジストの露光方法。 - 【請求項３】 光を出射する光源と、 上記光源からの出射光を、フォトレジスト上でのスポッ
ト形状が楕円形となるように集光する光学手段と、 上記光学手段からの楕円形の集光ビームと上記フォトレ
ジストとの相対的な位置を検出し、上記集光ビームの楕
円形のスポットの短軸の方向を上記フォトレジスト上の
集光ビーム走査方向と一致させて、上記集光ビームを走
査させる移動制御手段とを有して成ることを特徴とする
フォトレジストの露光装置。 - 【請求項４】 上記光学手段では、シリンドリカルレン
ズを用いて上記楕円形の集光ビームを形成することを特
徴とする請求項３記載のフォトレジストの露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7075368A JPH08272104A (ja) | 1995-03-31 | 1995-03-31 | フォトレジストの露光方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7075368A JPH08272104A (ja) | 1995-03-31 | 1995-03-31 | フォトレジストの露光方法及び装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08272104A true JPH08272104A (ja) | 1996-10-18 |
Family
ID=13574215
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7075368A Withdrawn JPH08272104A (ja) | 1995-03-31 | 1995-03-31 | フォトレジストの露光方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08272104A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005101487A1 (en) * | 2004-04-19 | 2005-10-27 | Eo Technics Co., Ltd. | Laser processing apparatus |
| JP2010118683A (ja) * | 2005-07-20 | 2010-05-27 | Asml Netherlands Bv | ピクセルグリッド描画と組み合わせた連続光ビームを使用するリソグラフィ装置およびデバイス製造方法 |
| JP2017535821A (ja) * | 2014-11-27 | 2017-11-30 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | 複数の個々に制御可能な書込ヘッドを含むリソグラフィ装置 |
-
1995
- 1995-03-31 JP JP7075368A patent/JPH08272104A/ja not_active Withdrawn
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005101487A1 (en) * | 2004-04-19 | 2005-10-27 | Eo Technics Co., Ltd. | Laser processing apparatus |
| US7688492B2 (en) | 2004-04-19 | 2010-03-30 | Eo Technics Co., Ltd. | Laser processing apparatus |
| JP2010118683A (ja) * | 2005-07-20 | 2010-05-27 | Asml Netherlands Bv | ピクセルグリッド描画と組み合わせた連続光ビームを使用するリソグラフィ装置およびデバイス製造方法 |
| JP2017535821A (ja) * | 2014-11-27 | 2017-11-30 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | 複数の個々に制御可能な書込ヘッドを含むリソグラフィ装置 |
| US11003090B2 (en) | 2014-11-27 | 2021-05-11 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Lithography apparatus comprising a plurality of individually controllable write heads |
| JP2021152683A (ja) * | 2014-11-27 | 2021-09-30 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | 複数の個々に制御可能な書込ヘッドを含むリソグラフィ装置 |
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| Date | Code | Title | Description |
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| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
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