JP2009223199A - 電子線描画方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】電子線の入射位置を、基板の移動速度と同等の速度で第1方向へ移動させることで、第1のパターンの描画位置への露光量を確保し、第1のパターンの描画が終了すると、電子線の入射位置をパターンが描画されない速度で第2方向へ移動し、電子線の入射位置を第2のパターンの描画位置へ位置決めする。これらの動作を交互に繰り返すことで基板上に規則的なパターンを連続的に形成することができる。また、規則的なパターンが形成された後は、入射位置を、基板表面にパターンが形成されない速度で第1方向と直交する方向へ往復移動させながら、照射位置へ位置決めする。これにより、電子線の偏向量を発散させることなく連続してパターンを描画することが可能となる。
【選択図】図9
Description
基板表面にパターンが形成されない速度で偏向されることで所定時間かけて照射位置へ移動される。これにより、電子線は、偏向量がゼロとなった状態で基板に入射する。したがって、電子線の偏向量を発散させることなく連続してパターンを描画することが可能となる。
Claims (4)
- 基板表面の照射位置へ向けて照射される電子線に対して、前記基板を所定のトラックに沿って等速度で相対移動させることにより、前記基板表面を前記トラックに沿って露光し、前記トラックに沿って複数のパターンを描画するパターン描画方法であって、
前記電子線を、前記基板が移動する第1方向へ前記等速度で偏向させて、前記基板上の所定位置へ前記電子線を入射させる第1の工程と、
前記電子線を、前記第1方向と逆向きの第2方向へ前記基板表面にパターンが形成されない速度で偏向させて、前記第1のパターンの次に描画される第2のパターンの描画開始位置へ入射させる第2の工程とを交互に繰り返す露光工程と;
前記電子線を、前記第1方向と直交する第3方向と該第3方向と逆向きの第4方向とに、前記基板表面にパターンが形成されない速度で偏向させつつ、前記第2方向へ偏向させて、前記電子線を偏向量がゼロとなった状態で前記基板に入射させる移動工程と;を含むパターン描画方法。 - 基板表面の照射位置へ向けて照射される電子線に対して、前記基板を所定のトラックに沿って等速度で相対移動させることにより、前記基板表面を前記トラックに沿って露光し、前記トラックに沿って複数のパターンを描画するパターン描画方法であって、
前記電子線を、前記基板が移動する第1方向へ偏向させて、前記基板上の所定位置へ前記電子線を入射させる第1の工程と、
前記電子線を、前記第1方向と逆向きの第2方向へ前記基板表面にパターンが形成されない速度で偏向させて、前記第1のパターンの次に描画される第2のパターンの描画開始位置へ入射させる第2の工程とを交互に繰り返す露光工程と;
前記電子線を、所定時間かけて前記第2方向へ偏向させて、前記電子線を偏向量がゼロとなった状態で前記基板に入射させる移動工程と;
前記移動行程が行われる間に前記電子線をブランキングさせる工程と;を含むパターン描画方法。 - 基板表面の照射位置へ向けて照射される電子線に対して、前記基板を所定のトラックに沿って等速度で相対移動させることにより、前記基板表面を前記トラックに沿って露光し、前記トラックに沿って複数のパターンを描画するパターン描画方法であって、
前記電子線を、前記基板が移動する第1方向へ前記等速度で偏向させて、前記基板上の所定位置へ前記電子線を入射させる第1の工程と、
前記電子線を、前記第1方向と逆向きの第2方向へ前記基板表面にパターンが形成されない速度で偏向させて、前記第1のパターンの次に描画される第2のパターンの描画開始位置へ入射させる第2の工程とを交互に繰り返す露光工程と;
前記電子線を、所定時間かけて前記第2方向へ偏向させて、前記電子線を偏向量がゼロとなった状態で前記基板に入射させる移動工程と;
前記移動行程が行われる間に、前記電子線をブランキングさせ、前記基板にパターンが形成されない速度で前記電子線を偏向させる工程と;を含むパターン描画方法。 - 前記電子線のブランキングは、前記電子線が前記基板にパターンが形成されない速度で偏向されているときに行われることを特徴とする請求項3に記載のパターン描画方法。
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