JP2009021286A - 電力用半導体装置 - Google Patents

電力用半導体装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2009021286A
JP2009021286A JP2007180954A JP2007180954A JP2009021286A JP 2009021286 A JP2009021286 A JP 2009021286A JP 2007180954 A JP2007180954 A JP 2007180954A JP 2007180954 A JP2007180954 A JP 2007180954A JP 2009021286 A JP2009021286 A JP 2009021286A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
main electrode
case
universal guide
width
semiconductor device
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2007180954A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4858336B2 (ja
Inventor
Tatsuya Iwaasa
辰哉 磐浅
Yoshihisa Oguri
慶久 小栗
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP2007180954A priority Critical patent/JP4858336B2/ja
Publication of JP2009021286A publication Critical patent/JP2009021286A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4858336B2 publication Critical patent/JP4858336B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73251Location after the connecting process on different surfaces
    • H01L2224/73265Layer and wire connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/13Discrete devices, e.g. 3 terminal devices
    • H01L2924/1304Transistor
    • H01L2924/1305Bipolar Junction Transistor [BJT]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/13Discrete devices, e.g. 3 terminal devices
    • H01L2924/1304Transistor
    • H01L2924/1305Bipolar Junction Transistor [BJT]
    • H01L2924/13055Insulated gate bipolar transistor [IGBT]

Landscapes

  • Inverter Devices (AREA)

Abstract

【課題】本発明は、主電極の所定位置への固定を高精度かつ簡易に行う事が出来る電力用半導体装置に係り、半導体チップを搭載した絶縁基板等を囲繞するように備えられたケースに対して主電極の位置が固定された電力用半導体装置を提供する事を目的とする。
【解決手段】半導体チップと、前述の半導体チップを囲繞するケースと、前述の半導体チップと電気的に接続される主電極と、前述のケースの壁面又は前述のケースに取り付けられた部材の壁面に形成された突起部とを備え、前述の突起部は、幅が狭く形成された狭幅部と、前述の狭幅部よりは前述の突起部が支持される場所から離隔した部分に前述の狭幅部より幅の広く形成された広幅部とを備え、前述の突起部は弾性を有する材料で形成され、前述の主電極は前述の狭幅部と前述の広幅部とにより前述の主電極の一部が覆われるようにして固定される。
【選択図】図2

Description

本発明は、電力用半導体装置に係り、半導体チップを搭載した絶縁基板等を囲繞するように備えられたケースに対して主電極の位置が固定された電力用半導体装置に関するものである。
電力用半導体装置はその一部に、パワー半導体を備える半導体チップを搭載している。そして、半導体チップからの出力を外部負荷等へ伝送するための主電極を備える。主電極はワイヤーボンディング又ははんだ付け等で半導体チップの電極や絶縁基板上の配線パターンと接続される。特許文献1に開示される電力用半導体装置の主電極は、主電極に設けられた折り曲げ部が樹脂ケースと接触する構造となっている。この折り曲げ部は主電極が所定位置に挿入されるとストッパーの役割を果たし、主電極挿入方向と平行方向の主電極のがたつきを抑制する。特許文献1に開示の電力用半導体装置はこのようにして主電極の樹脂ケースへの搭載位置精度を向上させている。
特開平07-153906号公報 特開平07-153907号公報 特開平11-354662号公報
しかしながら特許文献1に開示される電力用半導体装置が備える主電極は、前述の折り曲げ部を作成するために特別の工程が必要である。これにより製造工程が複雑化する問題があった。さらに特許文献1に開示の電力用半導体装置は折り曲げ部だけでは依然としてケースへの固定が十分ではない。そのため、補足的に主電極固定のための工程が必要となる事が考えられる。また、特許文献1に開示される電力用半導体装置は主電極が位置精度良く配置され、またガタツキや傾斜などがない事を要するワイヤーボンディングによる接続が困難であるという問題もあった。
本発明は、上述のような課題を解決するためになされたもので、主電極の所定位置への固定を高精度かつ簡易に行う事が出来る電力用半導体装置を提供する事を目的とする。
本発明に係る電力用半導体装置は、半導体チップと、該半導体チップを囲繞するケースと、該半導体チップと電気的に接続される主電極と、該ケースの壁面又は該ケースに取り付けられた部材の壁面に形成された突起部とを備える。そして、該突起部は、幅が狭く形成された狭幅部と、該狭幅部よりは該突起部が支持される場所から離隔した部分に該狭幅部より幅の広く形成された広幅部とを備え、弾性を有する材料で形成され、該主電極は該狭幅部と該広幅部とにより該主電極の一部が覆われるようにして固定される。
本発明により電力用半導体装置の主電極のケースへの固定を高精度かつ簡易に行う事ができる。
実施の形態1
図1は本実施形態の電力用半導体装置の構成を説明するための図である。本実施形態の電力用半導体装置はベース板10を備える。ベース板10にはケース12が固定されている。ケース12は後述する電極等の固定及び同じく後述のチップなどの保護等を目的として配置されるものである。ケース12は型を用いて形成する方法である モールド形成により製造される。また、ケース12はベース板10と接する面(以後、ケース底面と称する)において開放部を有している。従ってベース板10のケース12と接する面は、その全面でケース12と接しておらず、ケース12と接しない領域を有する。さらに、ケース12はケース底面と平行な面であるケース上面においても開放部を有する。また、上述の構成を有するケース12は所定位置に制御端子14を備える。
ベース板10のケース12と接する面の内、ケース12と接しない領域には絶縁基板20が固定されている。この固定ははんだ付けで行われる事が一般的である。絶縁基板20上にはIGBT(insulated gate bipolar transistor)チップ16及びダイオードチップ18が固定されている。この固定もはんだ付けで行われる事が一般的である。IGBTチップ16及びダイオードチップ18はワイヤ22により所定位置との接続が取られている。さらに本実施形態の電力用半導体装置は前述のIGBTチップ18でスイッチングされた電流を伝送するための主電極24を備える。主電極24は、一端で所定の配線とはんだ付けにより接続されている。そして、配線上の都合から、主電極がはんだ付けされるべき端で分岐する形状をとり、分岐した複数の端ではんだ付けされることがある。また、主電極のはんだ付けされるべき端は他の部分と比べて幅が同等であったり太くなる形状を取る事もある。本実施形態では主電極が配線とはんだ付けされるべき端は一箇所であり、他の部分より幅が狭くなる構成としている。
また、主電極24は金属製である。主電極24の厚さは全体に渡って一定である。主電極24はケース12に対して3次元的にがたつき無く、かつ、所定の場所に位置精度良く搭載される事が望ましい。主電極24はその一部をケース12から伸びる突起部により固定されている。この突起を「ユニバーサルガイド26」と称する。
図2は図1に記載の電力用半導体装置のユニバーサルガイド26周辺を拡大した斜視図である。図2を用いて本発明の特徴の一つである、ユニバーサルガイド26による主電極24の固定方法について説明する。ユニバーサルガイド26はケース12に支持される突起物である。ケース12の壁面の内、ユニバーサルガイド26が形成されている面をユニバーサルガイド形成面72とする。ユニバーサルガイド26の中でもユニバーサルガイド形成面72に近い方の部分は幅が狭く形成されている。この部分を狭幅部82と称する。狭幅部82の幅は一定である。一方、ユニバーサルガイド26のユニバーサルガイド形成面72と離隔した部分には前述した狭幅部より幅が広く形成された部分を備える。この部分を広幅部27と称する。このように、ユニバーサルガイド26はユニバーサルガイド形成面72から近いほうにまず狭幅部82を備え、狭幅部82よりユニバーサルガイド形成面から離れた部分に広幅部27を備える。そして広幅部27は、狭幅部82と接続される部分でその幅が最大となり、狭幅部82との距離が離れるにつれてその幅を連続的に減じていく形状となっている。そのため、広幅部27はその一部に半円状の曲面を備える。
ユニバーサルガイド26はケース12をモールド形成した後、再度モールド形成する事により製造される。そして、ユニバーサルガイド26は弾性体で形成されている。ユニバーサルガイド26の材料となる弾性体としては、PPS(Poly-phenylene sulfide)やPBT(Polybutylene terephthalate)などが一例として挙げられる。これらの材料の構成物質については、その配合比を調整する事で所望の特性を有する弾性体を得る事ができる。
ユニバーサルガイド26と隣接する他のユニバーサルガイド26(以後、隣接ユニバーサルガイドと称する)は、以下のように配置される。すなわち、隣接ユニバーサルガイド26は、ユニバーサルガイド26の狭幅部82と、隣接ユニバーサルガイドの狭幅部82との最短距離が、主電極24における狭幅部と接する部分の幅と等しくなるように配置される。また、隣接ユニバーサルガイドは、ユニバーサルガイド26の狭幅部82の側面と、隣接ユニバーサルガイドの狭幅部82の側面とが対向し相互に平行となるように配置される。ここで、主電極24の側面を主電極側面部80とする。そして主電極24の両側にある主電極側面部80の一方は、ユニバーサルガイド26の狭幅部82側面と接し、他方の主電極側面部80は隣接ユニバーサルガイドの狭幅部82の側面と接する。主電極24は上述した二つの狭幅部82の側面により挟まれるように配置される。故に主電極24は左右方向に固定されている。ここで、左右方向とは図2に記載されている座標軸に「左右方向」と記載される方向の事を指す。以後、前後方向、上下方向と記載した場合も図2の座標軸に従うものとする。なお、この座標軸は図2に記載されたユニバーサルガイド26等の図面との関係において定義されるものである。他の図面において左右方向、前後方向、上下方向と記載した場合もこの関係は維持されるものとする。
ユニバーサルガイド形成面72には、ユニバーサルガイド形成面72と接するように配置されるステップ31が形成されている。ステップ31はケース12の一部である。ステップ31はステップ上面32を備える。ステップ31はさらに、ステップ上面32に対して溝を形成している主電極ガイド用溝30を備える。主電極24は主電極ガイド用溝30と嵌合するように配置される。ここで、主電極ガイド用溝30の幅は主電極24の、主電極ガイド用溝に嵌合されるべき部分の幅と一致する。そのため、上述の隣り合うユニバーサルガイド狭幅部による主電極の固定に加え、さらに主電極ガイド用溝30は主電極24の左右方向の動きを固定することになり、その固定状態をより一層強固かつ安定的なものとすることができる。なお、主電極ガイド用溝30は主電極24をケース12に装着する際にも、簡易かつ高精度の主電極固定に有益なものであるが詳細については後述する。
以後図3について説明する。なお、図2の主電極24はその幅が一定ではないが、図3においては説明の便宜上、主電極24の幅は一定でありその幅は主電極ガイド用溝30の幅と一致するものとする。この前提のもとでは図2の平面図、正面図はそれぞれ図4、5のように表される。図4、5において一点鎖線で記載されているA-Aについての矢示図が図3である。図3では、主電極24の上下方向及び前後方向の固定について説明する。
まず主電極24の上下方向の固定について説明する。ここで、広幅部27の底面(以後、広幅部底面29と称する)から主電極ガイド用溝30の底面であるガイド用溝底面11までの最短距離を「広幅部―溝底面間距離」とする。本実施形態では前述の「広幅部―溝底面間距離」と「主電極24の厚さ」とが一致する。そして主電極24の主電極ガイド用溝30に嵌合する部分は広幅部底面29とガイド用溝底面11との間に配置される。このため、主電極24の主電極ガイド用溝30に嵌合する部分は広幅部底面29とガイド用溝底面11とにより上下方向の動きが制限される。このようにして主電極24は上下方向に固定される。
次に本実施形態の主電極24の前後方向の固定について図3を用いて説明する。前述した広幅部27の、ユニバーサルガイド形成面72と対向する面を広幅部対向面56と定義する。広幅部対向面56とユニバーサルガイド形成面72との距離を「広幅部―ガイド形成面間距離」とする。本実施形態では前述の「広幅部―ガイド形成面間距離」と「主電極24の厚さ」とが一致する。主電極24は広幅部ガイド対向面56とユニバーサルガイド形成面72との間に組み込まれるように配置されている。より具体的に説明すると以下のようになる。主電極24のうち、主電極のユニバーサルガイド形成面72と接触すべき面は第一接触面70である。この第一接触面70がユニバーサルガイド形成面72と接触する。さらに、主電極の第一接触面70と対向する面は第二接触面54である。第二接触面54は広幅部対向面56と接触する。このため主電極24は前後方向に固定されるように配置されている。上述してきたように主電極24はケース12に対して左右方向、上下方向、前後方向に固定されている。
図6−10は本実施形態の主電極24のケース12への取り付け方法について説明するための図である。図6、8、9は平面図である。また、図7は図6のB1-B1で示される矢示図である。図10は図9のB-Bで示される矢示図である。まず、主電極24は主電極ガイド用溝30に嵌合される。そして前述の嵌合を維持したまま、ユニバーサルガイド形成面72に向かう方向にスライドされる。主電極24の挿入方向は図6、7において矢印で示されている方向である。上述のように主電極24が挿入されていくと、主電極24はユニバーサルガイド26の広幅部27に接触する。主電極24がユニバーサルガイド26の広幅部27に接触後も主電極24をユニバーサルガイド形成面72に向かう方向に押し込まれ続けると、ユニバーサルガイド26に主電極24挿入方向と垂直方向の力がかかる。ユニバーサルガイド26は前述した通り弾性体で形成されているから一定以上の力が加わると変形する。図8においては、ユニバーサルガイド26が主電極24から主電極24挿入方向と垂直方向に力を受けて変形している様子が表されている。ユニバーサルガイド26の広幅部27と隣接ユニバーサルガイドの広幅部27との距離が主電極24の幅、すなわち主電極ガイド用溝30の幅と同等の幅となるまでユニバーサルガイド26と隣接ユニバーサルガイドとが変形すると主電極はユニバーサルガイド形成面72方向にスライドを続ける。
図9、10は主電極24がユニバーサルガイド形成面72に接触した時点での平面図とそのB-B矢示図である。図10に示されるように主電極24の第一接触面70がユニバーサルガイド形成面72と接触した時点で主電極24の挿入は終了する。前述した通り、主電極24は広幅部対向面56とユニバーサルガイド形成面72とにより挟まれるように固定される。この固定が行われると、ユニバーサルガイド26には力がかからないから、ユニバーサルガイド26は変形前の位置に戻る。このように、本実施形態の主電極24は主電極ガイド用溝30に嵌合しながら挿入される。そして、ユニバーサルガイド26の弾性を利用して簡易に所定位置に固定される。この固定は主電極をケース12に対して三次元的に固定するものである。
図11、12、13は本実施形態の特徴の理解を目的とした比較例について説明するための図である。比較例の電力用半導体装置も主電極をケースに固定して、主電極の一端がはんだ付けされる点は本実施形態の電力用半導体装置と同様である。しかしながら比較例は主電極及び主電極固定に用いられる部分の構成が本実施形態とは異なる。比較例の主電極100はその一部に抜け止め防止部分102を備える。抜け止め防止部分102は主電極100の一部を突起させるように加工した部分である。抜け止め防止部分102は主電極を固定するために設けられるものであり、詳細は後述する。また主電極100は幅111で表される幅を有する太幅部と、幅112で表される幅を有する細幅部とを備える。
さらに比較例のケース104はその一壁面から突出した主電極固定部分106を備える。主電極固定部分106はケース104側に狭幅部、ケース104と離隔した部分に広幅部を備える。ここで、広幅部の幅は一様である。この点において、図2で表されるように広幅部の幅がケースから離れる程漸減する本発明の広幅部27とは相違する。そして比較例の広幅部と、同じく隣接する広幅部との間隔は幅110となるように構成されている。この幅110は主電極100の細幅部の幅である幅112と等しい。また、狭幅部と隣接する狭幅部との間隔115は前述の主電極100の太幅部と等しい。
ここで、主電極固定部分106が形成されるケース104の一壁面は主電極固定部分設置面103と定義する。さらに、比較例のケース104はステップ108を備える。ステップ108は主電極固定部分設置面103に形成される。そして主電極100がケース104の所定位置に搭載されると、ステップ108と主電極100とは接触する。比較例について、上述した以外の構成は図1、2などに示される本実施形態の構成と同様である。
図11は前述の主電極100をケース104に設置する方法について説明するための図である。主電極100は図11矢印方向に挿入される事でケース104に設置される。その際、主電極100は主電極100の細幅部が、幅110で表される広幅部同士の間隔を通過するように挿入される。従って、主電極100の細幅部の幅112は、前述した広幅部同士の間隔を通過する部分において幅110と同等以下でなければならない。以後、このような制約を「主電極設置時の制約」と称する。図12は主電極100のケース104への設置後の図である。主電極設置時の制約により、主電極100の広幅部は、主電極固定部分106の狭幅部の長さを超えてその長さ方向に連続的に、広幅部の幅を保つ事は出来ない。これは比較例のような主電極固定部分106を用いる限り課される制約である。
さらに比較例の主電極固定部分106が主電極を固定するためには主電極固定部分、主電極とが共に所定の設計値通りに形成されていなければならず高い設計精度と製造ばらつきの抑制が要求される。このような理由により、比較例の電力用半導体装置は不良率が高いという課題があった。
ところで、図12のように搭載された主電極100は、左右方向及び前後方向には動きが規制されるが、主電極100の挿入方向と平行方向である上下方向には固定されていない。また、本発明の構成が備える主電極ガイド用溝に相当するものもなく主電極の固定が十分ではない。そこで比較例においては主電極のケースへの固定を十分行うために補足的な工程を要する。図13は補足的な工程による主電極の固定について説明するための図である。図13は図12の主電極100を含む断面図である。比較例においては図13に示すように抜け止め防止部分102を含む主電極100の部分に樹脂116で樹脂加工が施される。抜け止め防止部分102が樹脂に埋まるため主電極100とケース104とは樹脂により固定される。このような樹脂加工の後にチップなどの保護のためにふた114が所定位置に搭載される。なお、ふたは比較例だけでなく、本発明の電力用半導体装置にも搭載される。前述のように、比較例においては樹脂加工による補足的な固定が必要である。さらに、比較例において行われる樹脂加工の効果を一層高めるため、比較例においては樹脂加工の前に主電極の表面粗さを増加させるための処理を行う事もある。
本発明は主電極の搭載後その固定のために特別の工程を要さない。なお、比較例においてはエポキシ樹脂116の下層にシリコーンゲル117が充填されており、IGBTチップ等を保護している。シリコーンゲルによるIGBTチップ等の保護は本発明の電力用半導体装置においても行われている。
上述してきたように、比較例の電力用半導体装置は、主電極固定部分106のみの効果では主電極の固定が不十分であるために抜け止め防止部分102形成及び樹脂加工などのための工程を要し、処理が複雑化する等の問題があった。また、主電極の搭載のためのケース所定位置への挿入時に、その挿入をガイドする機構がないために搭載位置精度が悪いという問題もあった。また、前述した「主電極設置時の制約」により主電極の幅が制約を受け、主電極の電流容量を十分確保できない事もあった。
本実施形態の構成によれば、上述した比較例の有する諸問題を解消する事ができる。まず、本実施形態では主電極24はユニバーサルガイド26、主電極ガイド用溝30を含むステップ31、ユニバーサルガイド形成面72により固定されるためケース12に対して3次元的に十分な搭載位置精度で固定されている。そのため、比較例で必要とした抜け止め防止部分を作成したり、樹脂加工したりする工程は必ずしも必要でなくなる。よって本実施形態の構成によれば比較例より簡素な工程で電力用半導体装置を製造できる。さらに本実施形態の構成によれば、主電極を主電極ガイド用溝に嵌合させたままスライドさせるだけで主電極のケースへの取り付けが行われるので、主電極の搭載を簡易かつ正確に行う事ができる。また、本実施形態の主電極の幅は、比較例において前述した「主電極設置時の制約」を受ける事はないので、特に主電極の一部分において他の部分と比較して幅を細める必要はない。よって、主電極の幅は電流容量を十分確保できる程度に任意に定める事ができる。
本実施形態ではユニバーサルガイド26上面の形状とその底面の形状が一致するものとしたが本発明はこれに限定されない。すなわち、図14−16に示されるように、ユニバーサルガイド130の広幅部における上面が曲面を形成しており、その底面の形状と一致しない構成としても良い。なお、図14、15、16はそれぞれ平面図、正面図、図14、15におけるC-C矢示図を表している。ユニバーサルガイド130により主電極138の固定を行っても、固定の効果は変わらないから本発明により得られる3次元的固定の効果を得られる。ここで、ユニバーサルガイド130を用いた場合の利点について図17、18を用いて説明する、図17、18はユニバーサルガイド130による主電極の固定の方法を説明するための図である。図17、18はそれぞれ平面図、C1-C1矢示図である。図17,18に示すように、ユニバーサルガイド130の形状により、主電極138の挿入方向の自由度を拡大する事ができる。故にこの場合、主電極の挿入方向がケース132の壁面と垂直方向でなくても主電極のケース132への固定ができる。
図19は前述したユニバーサルガイド130と異なる形状のユニバーサルガイドについて説明するための図である。図19(a)は主電極を示す。図19(b)はケースの部分を示している。図19(b)に記載のユニバーサルガイド200を用いて図19(a)に記載の主電極202を固定しても本発明の効果を失わない。この例ではユニバーサルガイド200は狭幅部、広幅部双方の上面において曲面を有する。この構成により主電極202の挿入方向の自由度が増し、より簡易に主電極をケース204に固定する事ができる。主電極をケースに固定後の構成については図19(c)に示す。
本実施形態ではユニバーサルガイドの広幅部27は曲面を有するが本発明はこれに限定されない。ユニバーサルガイドが、弾性体で形成されており、ユニバーサルガイド形成面72に近い方から順に狭幅部、広幅部を備えている限りにおいては主電極の3次元的な固定が可能であるから本発明の効果は得られる。なお、図19に見られるような構造にあっては、特に主電極としての使用に限らず、そのサイズ等によって制御端子としての利用も可能であることは言うまでもない。
本実施形態では主電極の幅は一端で細くなる形状としたが本発明はこれに限定されない。すなわち主電極の幅は図20に記載の主電極120のようにその幅が一定であっても良い。このような構成により主電極の電流容量を高める事ができ、より大電流を用いる電力用半導体装置にも対応できる。
本実施形態においては、主電極24のケース12に対する前後方向の固定は、主電極の厚さと「広幅部―ガイド形成面間距離」を一致させる事により行う。同様に左右方向、上下方向の固定についても、主電極を挟み込むように固定すべき部分同士の距離は主電極の厚さ又は幅と一致させていた。しかしながら本発明は前述のような主電極の固定方法に限定されない。すなわち、主電極を挟み込むように固定すべき部分同士の距離が主電極の厚さ又は幅よりも短くなるように定められていても本発明の効果は得られる。このように配置する事で主電極は、弾性体であるユニバーサルガイド26により強固に固定される事ができる。
本実施形態においては、主電極を固定すべき部分にのみユニバーサルガイドを形成する事としたが本発明はこれに限定されない。すなわち、一定の規格を準備してその規格の範囲内で主電極が配置され得る全ての場所にユニバーサルガイドを設けておく事で、ユニバーサルガイドを含むケースの汎用化が可能である。この場合主電極の形状や搭載位置の異なる品種ごとにユニバーサルガイドを作り分ける必要がなくなる。よって高効率かつ低コストで電力用半導体装置を製造できる。
本実施形態では図1に示されるようにユニバーサルガイドが等間隔で配置されるが本発明はこれに限定されるものではない。ユニバーサルガイドが任意の場所に任意の間隔で配置されていても、本発明の効果である主電極の固定の効果は得られる。
実施の形態2
本実施形態は、ユニバーサルガイドを任意の配置に安価かつ容易に形成する事ができる電力用半導体装置に関する。本実施形態の電力用半導体装置は実施形態1の電力用半導体装置とユニバーサルガイドの形成方法が相違する。以下この相違点を中心に説明する。なお、本実施形態で記載しない電力用半導体装置の部分については実施形態1と同様であるものとする。
図21は本実施形態の電力用半導体装置の平面図である。本実施形態の電力用半導体装置は後述するユニバーサルガイド部品などを固定すべきケース94を備える。ケース94はユニバーサルガイドを固定すべき壁面である壁面99と壁面97を備える。壁面99と壁面97にはそれぞれ、ユニバーサルガイドを備える部材であるユニバーサルガイド部品90、92が固定されている。ユニバーサルガイド部品90、92の壁面99、97への固定は接着剤などを用いて行われる。ユニバーサルガイド部品90、92は共に、板状の部材にユニバーサルガイドが固定されたり、或いは両者が一体成形されたりして形成される。ユニバーサルガイド部品90には同一形状のユニバーサルガイドが直線的に複数形成されている。またユニバーサルガイド部品90は壁面99の長手方向全体に渡って等間隔でユニバーサルガイドを配置するように形成されている。ユニバーサルガイド部品92はユニバーサルガイド部品90が有するものよりは小型の同一形状のユニバーサルガイドが直線的に複数形成されている。また、ユニバーサルガイド部品92は、壁面97の長手方向の一部に等間隔にユニバーサルガイドを配置するように形成されている。
また、ユニバーサルガイド部品90に形成されているユニバーサルガイドと、それと最近接するユニバーサルガイドとの間隔は、ユニバーサルガイド部品92に形成されているユニバーサルガイドと、それの最近接するユニバーサルガイドとの間隔より長い。そしてユニバーサルガイド部品90に形成されるユニバーサルガイドは、ユニバーサルガイド部品92に形成されるユニバーサルガイドよりも幅、長さが長く形成されている。なお、ユニバーサルガイド部品90と92との間に見られる違いや、ケース壁面に固定するユニバーサルガイド部品の組み合わせやその個数などは、上述内容に限られるものではなく、電力用半導体装置の品種(仕様)に応じて任意に設定可能である。
上述したユニバーサルガイド部品90のユニバーサルガイドによって主電極96が固定される。また、ユニバーサルガイド部品92のユニバーサルガイドによって主電極98が固定される。主電極96、98はそれぞれユニバーサルガイド部品90、92に対応した形状を備える。従って主電極96、98は実施形態1と同様にケースに対して3次元的に固定されている。
このように本実施形態のユニバーサルガイドはケース94の壁面にユニバーサルガイド部品を固定する事で形成されている事が特徴である。次いで、上述したユニバーサルガイド部品90、92の壁面99、97への固定方法について説明する。
図22、23は本実施形態のユニバーサルガイド部品90の壁面99への固定方法について説明するための図である。図22は平面図であり、図23(a)は斜視図である。図22に示すように、ユニバーサルガイド部品90、92はケース94の壁面の所定位置に取り付けられる前は独立した部品であり、あらかじめ所望の形状、配置等を考慮して製造されるものである。そして、本実施形態の壁面99はユニバーサルガイド部品をケース壁面に固定する際に、ユニバーサルガイド部品の固定位置精度を向上させるために図23(a)に示すステップ93を備える。ステップ93は壁面99から突出した階段状の形状を有している。そして、ユニバーサルガイド部品90は、図23(a)に示すように、ユニバーサルガイド部品90を前述のステップ93に乗せるようにしてケース94に固定される。このようなユニバーサルガイド部品90の搭載方法を用いるとユニバーサルガイド部品90の搭載位置はステップ93により一義的に決められる事になるから位置精度良く搭載できる。そしてユニバーサルガイド部品90の固定については、ユニバーサルガイド部品90の壁面99に接すべき部分又は、壁面99或いはステップ93のユニバーサルガイド部品90と接すべき部分に塗布された接着剤により行われる。なお、図示しないがユニバーサルガイド部品92についてもユニバーサルガイド部品90と同様の方法で壁面97に固定される。なお、ステップ93はユニバーサルガイド部品90の強度や寸法精度等との関係で無くても良い。またさらには、図23(b)の斜視図に示すように、ユニバーサルガイド側だけでなく主電極ガイド用溝をも一体成形により備えた構成をユニバーサルガイド部品91として、ケース壁面とステップ上に接着するようにして固定しても良い。
図24は主電極のユニバーサルガイドへの固定について説明するための平面図である。主電極96はユニバーサルガイド部品90が備えるユニバーサルガイドにより固定される。また、主電極98はユニバーサルガイド部品92が備えるユニバーサルガイドにより固定される。そして、前述したユニバーサルガイド部品90、92の壁面99、97への固定は少なくとも、主電極96、98をユニバーサルガイドに固定する前には行われている。
配線や電気容量等の制限から、大きさや形状の異なる主電極を同一電力半導体装置に用いる事がある。また、主電極の配置も品種によって異なる事が考えられる。また、少量生産の品種が固有の主電極の形状、配置等、例えば、ケースの長辺側のみにユニバーサルガイドを設け主電極が配置されるようにしているが、短辺側においても同様にユニバーサルガイドを設け主電極を配置することが考えられる。そのような場合にまで、実施形態1に記載したように、2回のモールド成形により主電極の搭載位置に対応したユニバーサルガイドをケースと一体的に製造する事は、個々に金型の準備が必要となりコスト面、作業性等の面から必ずしも効率的ではなかった。
本実施形態では任意の場所に任意の形状のユニバーサルガイドを簡易に形成する事ができる。すなわちユニバーサルガイドの大きさ、形状、配置などは、ユニバーサルガイド部品とその配置により任意に定める事ができるため、
様々な品種への対応を効率的に行う事ができる。また、実施形態1ではケースとユニバーサルガイドが一体的に形成されていたため、原則としてケースは特定品種専用となっていたが本発明ではケースを汎用とし、ユニバーサルガイド部品を特定品種専用とする事ができるので安価に電力用半導体装置を製造する事ができる。
実施の形態3
本実施形態はワイヤーボンディングにより主電極と所定位置との接続が行われる電力用半導体装置に関する。図25は本実施形態の特徴部分を示す斜視図である。本実施形態では実施形態1と構成が異なる部分についてのみ説明する。本実施形態で説明しない本実施形態の電力用半導体装置の部分については実施形態1と同様であるものとする。
本実施形態は主電極140を備える。主電極140はケース144に固定されている。実施形態1と同様に主電極の固定はケース144、ユニバーサルガイド142、ステップ143とにより行われている。また、本実施形態の主電極はその全体において幅が一定である。本実施形態の主電極140はステップ143上(溝部との嵌合部分)にその一端を備える。ここで、主電極140がステップ143上における主電極140の上面を面145と定義する。面145とIGBTチップ148の所定位置とはワイヤーボンディングされる。ワイヤーボンディングにより面145とIGBTチップ148の所定位置とはワイヤ146により接続される。なお、面145はIGBTチップ148と導通している所定位置と接続されていても良い。
図26−28はそれぞれ、図25の平面図、正面図、図26、27におけるD-D矢示図である。図28に示す通り、主電極140はステップ143上においてその一端を備える。なお図26、27においてはワイヤ146を省略している。
実施形態1、2においては、主電極からIGBT等への配線は主電極の所定位置へのはんだ付けにより行っていた。他の配線方法としてワイヤーボンディングで配線を行う事が考えられるが、ワイヤーボンディングにより主電極からIGBT等への配線を行うためには主電極がケースなどに3次元的に強固に固定されている必要がある。しかしながら実施形態1の比較例のような構成では主電極の固定がワイヤーボンディングを行い得る程十分ではないためワイヤーボンディングを使用して配線(接続)する事は出来なかった。
本実施形態の構成によれば、主電極がユニバーサルガイド142等により3次元的に強固に固定されているため、ワイヤーボンディングによる主電極からIGBT等への配線を行う事ができる。故に上述のようなはんだ付けによる弊害を回避し、高歩留まりの電力用半導体装置の製造ができる。
実施形態1の電力用半導体装置の斜視図である。 実施形態1の主電極の固定方法を説明する図である。 図4、5のA-A矢示図である。 実施形態1の主電極の固定方法を説明する平面図である。 実施形態1の主電極の固定方法を説明する正面図である。 実施形態1の主電極のユニバーサルガイドへの挿入方法を説明する平面図である。 図6のB1-B1矢示図である。 実施形態1の主電極のユニバーサルガイドへの挿入方法を説明する平面図である。 実施形態1の主電極のユニバーサルガイドへの挿入方法を説明する平面図である。 図9のB-B矢示図である。 実施形態1の比較例における主電極の挿入方法について説明する斜視図である。 実施形態1の比較例における主電極の固定方法について説明する斜視である。 実施形態1の比較例における主電極の樹脂加工による固定について説明する主電極断面図である。 実施形態1のユニバーサルガイドの変形例を説明する平面図である。 実施形態1のユニバーサルガイドの変形例を説明する正面図である。 実施形態1のユニバーサルガイドの変形例を説明する図14、15のC-C矢示図である。 実施形態1のユニバーサルガイドの変形例において主電極の挿入方法を説明する平面図である。 実施形態1のユニバーサルガイドの変形例において主電極の挿入方法を説明する図17のC1-C1矢示図である。 実施形態1のユニバーサルガイドの変形例について説明する斜視図である。 実施形態1の主電極の変形例について説明する斜視図である。 実施形態2の電力用半導体装置の構成について説明するための平面図である。 実施形態2のユニバーサルガイド部品の取り付け方法について説明する平面図である。 実施形態2のユニバーサルガイド部品の取り付け方法について説明する斜視図である。 実施形態2の主電極の取り付けについて説明する平面図である。 実施形態3の主電極とIGBT等との接続について説明する斜視図である。 実施形態3の構成について説明する平面図である。 実施形態3の構成について説明する正面図である。 実施形態3の構成について説明する図26、27のD-D矢示図である。
符号の説明
12 ケース
24 主電極
26 突起部(ユニバーサルガイド)
27 広幅部
82 狭幅部

Claims (6)

  1. 半導体チップと、
    前記半導体チップを囲繞するケースと、
    前記半導体チップと電気的に接続される主電極と、
    前記ケースの壁面又は前記ケースに取り付けられた部材の壁面に形成された突起部とを備え、
    前記突起部は、幅が狭く形成された狭幅部と、
    前記狭幅部よりは前記突起部が支持される場所から離隔した部分に前記狭幅部より幅の広く形成された広幅部とを備え、
    弾性を有する材料で形成され、
    前記主電極は前記狭幅部と前記広幅部とにより前記主電極の一部が覆われるようにして固定される事を特徴とする電力用半導体装置。
  2. 前記主電極の幅は、前記ケース又は前記ケースに取り付けられた部材の前記突起部が形成された面から前記突起部の伸びる方向と同方向に、前記狭幅部の長さより長く一定幅を保つ事を特徴とする請求項1に記載の電力用半導体装置。
  3. 前記突起部は少なくとも前記ケース又は前記部材の一壁面には等間隔で複数形成されている事を特徴とする請求項1又は2に記載の電力用半導体装置。
  4. 前記突起部は、前記突起部を備える主電極固定用部材を前記ケース又は前記部材の壁面に固定する事で形成される事を特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の電力用半導体装置。
  5. 前記ケースの壁面から突出し、前記突起部とともに前記主電極を固定するステップ部分を備える事を特徴とする請求項1に記載の電力用半導体装置。
  6. 前記ステップ部分に形成される主電極ガイド用溝を備え、
    前記主電極ガイド用溝の幅は前記主電極の幅と一致し、
    前記主電極は前記主電極ガイド用溝に嵌合するように配置される事を特徴とする請求項5に記載の電力用半導体装置。
JP2007180954A 2007-07-10 2007-07-10 電力用半導体装置 Active JP4858336B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007180954A JP4858336B2 (ja) 2007-07-10 2007-07-10 電力用半導体装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007180954A JP4858336B2 (ja) 2007-07-10 2007-07-10 電力用半導体装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2009021286A true JP2009021286A (ja) 2009-01-29
JP4858336B2 JP4858336B2 (ja) 2012-01-18

Family

ID=40360703

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007180954A Active JP4858336B2 (ja) 2007-07-10 2007-07-10 電力用半導体装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4858336B2 (ja)

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011243798A (ja) * 2010-05-19 2011-12-01 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置
WO2012137685A1 (ja) * 2011-04-01 2012-10-11 富士電機株式会社 半導体装置およびその製造方法
US8399976B2 (en) 2008-02-27 2013-03-19 Mitsubishi Electric Corporation Resin sealed semiconductor device and manufacturing method therefor
EP2793256A2 (en) 2013-04-18 2014-10-22 Fuji Electric Co., Ltd. Semiconductor device manufacturing method and semiconductor device
WO2017073233A1 (ja) * 2015-10-28 2017-05-04 三菱電機株式会社 電力用半導体装置
JP2017126682A (ja) * 2016-01-15 2017-07-20 京セラ株式会社 半導体装置
JP2017152525A (ja) * 2016-02-24 2017-08-31 京セラ株式会社 半導体装置
JP2018014445A (ja) * 2016-07-22 2018-01-25 三菱電機株式会社 半導体装置及びその製造方法
DE102017220211A1 (de) * 2016-12-28 2018-06-28 Mitsubishi Electric Corporation Halbleitervorrichtung und verfahren zur fertigung derselben
DE102017221427A1 (de) 2017-01-19 2018-07-19 Mitsubishi Electric Corporation Halbleiteranordnung und Verfahren zum Herstellen derselben
JP6472033B1 (ja) * 2017-11-09 2019-02-20 株式会社三社電機製作所 半導体モジュール
DE112016007473T5 (de) 2016-11-25 2019-08-14 Mitsubishi Electric Corporation Halbleitervorrichtung
WO2021002006A1 (ja) * 2019-07-04 2021-01-07 三菱電機株式会社 半導体装置、電力変換装置および半導体装置の製造方法

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS56133247A (en) * 1980-03-21 1981-10-19 Teijin Ltd Production of 2-chloroethylamine hydrochloride
JPS61276353A (ja) * 1985-05-31 1986-12-06 Toshiba Corp 混成集積回路
JPS6460367A (en) * 1987-08-31 1989-03-07 Kubota Ltd Microorganism treating device
JPH07153907A (ja) * 1993-11-29 1995-06-16 Sansha Electric Mfg Co Ltd 電力用半導体モジュール
JPH11354662A (ja) * 1998-06-11 1999-12-24 Sansha Electric Mfg Co Ltd 電力用半導体モジュール
JP2007027467A (ja) * 2005-07-19 2007-02-01 Nichicon Corp 半導体モジュール

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS56133247A (en) * 1980-03-21 1981-10-19 Teijin Ltd Production of 2-chloroethylamine hydrochloride
JPS61276353A (ja) * 1985-05-31 1986-12-06 Toshiba Corp 混成集積回路
JPS6460367A (en) * 1987-08-31 1989-03-07 Kubota Ltd Microorganism treating device
JPH07153907A (ja) * 1993-11-29 1995-06-16 Sansha Electric Mfg Co Ltd 電力用半導体モジュール
JPH11354662A (ja) * 1998-06-11 1999-12-24 Sansha Electric Mfg Co Ltd 電力用半導体モジュール
JP2007027467A (ja) * 2005-07-19 2007-02-01 Nichicon Corp 半導体モジュール

Cited By (36)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8785252B2 (en) 2008-02-27 2014-07-22 Mitsubishi Electric Corporation Resin sealed semiconductor device and manufacturing method therefor
US8399976B2 (en) 2008-02-27 2013-03-19 Mitsubishi Electric Corporation Resin sealed semiconductor device and manufacturing method therefor
JP2011243798A (ja) * 2010-05-19 2011-12-01 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置
US9431326B2 (en) 2011-04-01 2016-08-30 Fuji Electric Co., Ltd. Semiconductor device and manufacturing method thereof
CN103370788A (zh) * 2011-04-01 2013-10-23 富士电机株式会社 半导体装置及其制造方法
JP5696780B2 (ja) * 2011-04-01 2015-04-08 富士電機株式会社 半導体装置およびその製造方法
WO2012137685A1 (ja) * 2011-04-01 2012-10-11 富士電機株式会社 半導体装置およびその製造方法
EP2793256A2 (en) 2013-04-18 2014-10-22 Fuji Electric Co., Ltd. Semiconductor device manufacturing method and semiconductor device
US9070696B2 (en) 2013-04-18 2015-06-30 Fuji Electric Co., Ltd. Semiconductor device manufacturing method and semiconductor device
US9466509B2 (en) 2013-04-18 2016-10-11 Fuji Electric Co., Ltd. Semiconductor device manufacturing method
WO2017073233A1 (ja) * 2015-10-28 2017-05-04 三菱電機株式会社 電力用半導体装置
CN107851639A (zh) * 2015-10-28 2018-03-27 三菱电机株式会社 电力用半导体装置
JPWO2017073233A1 (ja) * 2015-10-28 2018-04-19 三菱電機株式会社 電力用半導体装置
CN107851639B (zh) * 2015-10-28 2020-08-25 三菱电机株式会社 电力用半导体装置
US10553559B2 (en) 2015-10-28 2020-02-04 Mitsubishi Electric Corporation Power semiconductor device
US20180197838A1 (en) * 2015-10-28 2018-07-12 Mitsubishi Electric Corporation Power semiconductor device
JP2017126682A (ja) * 2016-01-15 2017-07-20 京セラ株式会社 半導体装置
JP2017152525A (ja) * 2016-02-24 2017-08-31 京セラ株式会社 半導体装置
JP2018014445A (ja) * 2016-07-22 2018-01-25 三菱電機株式会社 半導体装置及びその製造方法
DE112016007473T5 (de) 2016-11-25 2019-08-14 Mitsubishi Electric Corporation Halbleitervorrichtung
US10763183B2 (en) 2016-11-25 2020-09-01 Mitsubishi Electric Corporation Semiconductor device
CN108257940B (zh) * 2016-12-28 2021-07-06 三菱电机株式会社 半导体装置及其制造方法
US10366933B2 (en) 2016-12-28 2019-07-30 Mitsubishi Electric Corporation Case having terminal insertion portion for an external connection terminal
CN108257940A (zh) * 2016-12-28 2018-07-06 三菱电机株式会社 半导体装置及其制造方法
JP2018107414A (ja) * 2016-12-28 2018-07-05 三菱電機株式会社 半導体装置およびその製造方法
DE102017220211A1 (de) * 2016-12-28 2018-06-28 Mitsubishi Electric Corporation Halbleitervorrichtung und verfahren zur fertigung derselben
DE102017220211B4 (de) 2016-12-28 2022-02-03 Mitsubishi Electric Corporation Halbleitervorrichtung und verfahren zur fertigung derselben
JP2018117071A (ja) * 2017-01-19 2018-07-26 三菱電機株式会社 半導体装置およびその製造方法
CN108336057A (zh) * 2017-01-19 2018-07-27 三菱电机株式会社 半导体装置及其制造方法
DE102017221427B4 (de) 2017-01-19 2022-08-25 Mitsubishi Electric Corporation Halbleiteranordnung und Verfahren zum Herstellen derselben
DE102017221427A1 (de) 2017-01-19 2018-07-19 Mitsubishi Electric Corporation Halbleiteranordnung und Verfahren zum Herstellen derselben
US10319661B2 (en) 2017-01-19 2019-06-11 Mitsubishi Electric Corporation Semiconductor device and method of manufacturing the same
JP2019087696A (ja) * 2017-11-09 2019-06-06 株式会社三社電機製作所 半導体モジュール
JP6472033B1 (ja) * 2017-11-09 2019-02-20 株式会社三社電機製作所 半導体モジュール
JPWO2021002006A1 (ja) * 2019-07-04 2021-01-07
WO2021002006A1 (ja) * 2019-07-04 2021-01-07 三菱電機株式会社 半導体装置、電力変換装置および半導体装置の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP4858336B2 (ja) 2012-01-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4858336B2 (ja) 電力用半導体装置
US8254126B2 (en) Electronic circuit device
JP7161463B2 (ja) 電気コネクタ及びその製造方法
JP6299120B2 (ja) 半導体モジュール
JP2008010656A (ja) 半導体装置
US10297533B2 (en) Semiconductor device
JP4848252B2 (ja) 端子要素を備えたパワー半導体モジュール
JP6541593B2 (ja) 電力用半導体装置
JP2016170905A (ja) 光源モジュール
CN111108677A (zh) 半导体模块单元
JP2015053241A (ja) 半導体装置の端子案内部材、半導体装置及び半導体装置の製造方法
JP4476592B2 (ja) 半導体装置及び半導体装置の製造方法
US10886205B2 (en) Terminal structure and semiconductor module
US10522434B2 (en) Semiconductor device
JP2008282867A (ja) 電力半導体装置、電子機器及びリードフレーム部材並びに電力半導体装置の製造方法
JP2008091787A (ja) パワー半導体モジュール
JP2007281187A (ja) 電子機器
JP5835166B2 (ja) 半導体装置、半導体装置の製造方法
KR20220024967A (ko) 커넥터 및 전자기기
JP7005790B2 (ja) 半導体装置
JP2013110413A (ja) 電子素子及び/又は電気素子のための回路装置
JP6516474B2 (ja) 電子機器及びその製造方法
JP4797856B2 (ja) 樹脂封入型回路装置
NL2021293B1 (en) Electronic module
JP2009147032A (ja) 半導体装置および光ピックアップ装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20091130

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20110722

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110802

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110825

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20111004

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20111017

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Ref document number: 4858336

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141111

Year of fee payment: 3

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250