JP2008537291A5

JP2008537291A5 -

Info

Publication number: JP2008537291A5
Application number: JP2008506014A
Authority: JP
Filing date: 2006-04-06
Publication date: 2009-05-21
Anticipated expiration: 2026-04-06

Claims

透明な材料、好ましくはガラスで作られた基板であって、
光を放出するエレクトロルミネッセンス積層構造体をつけることができる平坦な第１の面と、
光を効果的に結合放出することができる構造化された第２の面とを有し、
前記第２の面は、少なくとも１つの構造要素を有し、該構造要素は、表面粗さが０．２μｍ〜１００μｍ、好ましくは０．４μｍ〜７０μｍ、特に好ましくは０．７μｍ〜４０μｍの第１の表面を備えた第１の領域を有する、
ことを特徴とする基板。
前記構造要素は、前記基板の前記第１の面にほぼ平行な第２の表面を備えた第２の領域を有し、前記第１の領域は、光の結合放出方向に見て、テーパしている、
請求項１に記載の基板。
すべての前記第２の表面の面積の合計は、前記基板の前記第１の面の面積の１０％〜７０％である、
請求項２に記載の基板。
前記テーパした第１の領域の前記第１の表面は、前記基板の前記第１の面に対して２０°〜７０°の角度をなしている、
請求項２又は３に記載の基板。
前記構造要素は、周期的繰り返しパターンで配列され、隣接する前記構造要素の中心間距離は、０．１ｍｍ〜前記基板の厚さの５倍、好ましくは０．５ｍｍ〜前記基板の厚さの１倍である、
請求項１〜４のいずれか１項に記載の基板。
前記構造要素は、角錐、好ましくは角錐台形状を有している、
請求項５に記載の基板。
前記構造要素は、前記基板の前記第１の面に略垂直な第３の表面を備えた第３の領域を有し、前記第３の表面の表面粗さは、好ましくは０．２μｍ〜１００μｍ、特に好ましくは０．４μｍ〜７０μｍ、最も好ましくは０．７μｍ〜４０μｍである、
請求項５又は６に記載の基板。
エレクトロルミネッセンス光源であって、請求項１に記載の基板を少なくとも１つ有すると共に前記基板上に配置され、電圧を印加する複数の層を有し、前記層は、２つの電極を含み、前記２つの電極のうちの少なくとも一方の電極は、透明であり、前記エレクトロルミネッセンス光源は、光を放出する少なくとも１つのエレクトロルミネッセンス層を更に有し、前記エレクトロルミネッセンス層は、前記２つの電極相互間に配置され、前記透明な電極は、前記基板と前記エレクトロルミネッセンス層との間に配置されている、
ことを特徴とするエレクトロルミネッセンス光源。
前記基板は、１．４＜ｎ＜３、好ましくは１．４＜ｎ＜２の屈折率ｎを有する、請求項８に記載のエレクトロルミネッセンス光源。
前記基板の屈折率は、前記透明な電極の屈折率よりも高い、
請求項９に記載のエレクトロルミネッセンス光源。
請求項１に記載の基板を作製する方法であって、
適当な鋸引き法、フライス加工法、又は研削法によって前記基板の第１の面に略垂直な側フェースを備えた表面粗さが０．２μｍ〜１００μｍ、好ましくは０．４μｍ〜７０μｍ、特に好ましくは０．７μｍ〜４０μｍの凹所を形成するステップと、
適当な鋸引き法、フライス加工法、又は研削法により前記凹所の幅を広げて表面粗さが０．２μｍ〜１００μｍ、好ましくは０．４μｍ〜７０μｍ、特に好ましくは０．７μｍ〜４０μｍの第１の表面を備えた第１の領域を形成するステップとを有する、
ことを特徴とする方法。
適当な鋸引き法、フライス加工法、又は研削法により前記凹所の幅を広げることにより、光が結合放出される方向に見て、テーパした第１の領域及び前記基板の平坦な前記第１の面にほぼ平行な第２の表面を備えた第２の領域が形成される、
請求項１１に記載の基板の作製方法。
適当な鋸引き法、フライス加工法、又は研削法によって、０．２μｍ〜１００μｍ、好ましくは０．４μｍ〜７０μｍ、特に好ましくは０．７μｍ〜４０μｍの表面粗さが、前記第２の表面上に施される、
請求項１２に記載の基板の作製方法。