TWI577050B - 具紋路的發光結構 - Google Patents

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Description

具紋路的發光結構
本案是一種發光結構，特別是具有電致發光層之發光結構。
在一些發光面板或是透明面板之產品上為了展現商品名稱或是商標，或是做為電子廣告看板使用，常會採用在透明的PET薄膜層上使用壓印或是蝕刻產生所需的紋路。當PET薄膜層背面所連接之發光裝置發光後即可利用折射的原理，使透明紋路變成肉眼可見的圖樣。
在一實施例中，一種具紋路的發光結構，包括：一電致發光薄膜層；一玻璃層；一第一UV油墨層，具有一第一表面及一第二表面，該第一表面貼合該玻璃層，該第二表面上具有一第一紋路；一非導電性真空電鍍層，形成於該第一UV油墨層之該第二表面上；以及一光學膠層，塗布於該電致發光薄膜層上，並透過該光學膠層將該電致發光薄膜層貼合至該非導電性真空電鍍層。
在另一實施例中，一種具紋路的發光結構，包括：一電致發光薄膜層；一玻璃層，於該玻璃層之一表面上具有一紋路；一非導電性真空電鍍層，形成於該玻璃層具有該紋路之該表面上；以及一光學膠層，塗布於該電致發光薄膜層上，並透過該光學膠層將該電致發光薄膜層貼合至該非導電性真空電鍍層。
以下在實施方式中詳細敘述本案之詳細特徵以及優點，其內容足以使任何熟習相關技藝者瞭解本案之技術內容並據以實施。
為使圖式為能清楚表示各層結構，下述各圖中的各結構層的比例及層厚度僅為例示。在請參閱第1圖，第1圖為本案一實施例具紋路的發光結構的剖面示意圖。本實施例之發光結構10包括一電致發光（Electro-Luminescence, EL）薄膜層11、一玻璃層12、一非導電性真空電鍍（Non-Conductive Vacuum Metallization, NCVM）層13以及一光學膠層14。在本實施例中，電致發光薄膜層11之厚度約為50~100μm，但本案不以此為限。
於一實施例中，在玻璃層12之一表面上透過黃光製程形成一紋路121。在此製作紋路之製程可包括黃光、曝光、顯影、蝕刻，經過此一製程後在玻璃層12之表面形成所需圖案的紋路121。在本實施例中，玻璃層12之厚度可為3~13μm，但本案不以此為限。接著再使用真空系統蒸鍍或是濺鍍非導電性真空電鍍層13於玻璃層12具有紋路121之表面上。在本實施例中，所形成的非導電性真空電鍍層13厚度約為0.1~0.5μm，但本案不以此為限。
於一實施例中，將光學膠層14塗布於電致發光薄膜層11上，透過光學膠層14並利用貼合機將電致發光薄膜層11與非導電性真空電鍍層13相貼合。在本實例中，非導電性真空電鍍層13之折射率約為1，玻璃層12之折射率約為2，光學膠層14之折射率約為1.4。因此，非導電性真空電鍍層13之折射率小於玻璃層12及光學膠層14之折射率。
如此，即形成如第1圖所示，由上至下（圖面上方為上）依序為玻璃層12、非導電性真空電鍍層13、光學膠層14以及電致發光薄膜層11。當電致發光薄膜層11連接電源發光時，光線會穿透光學膠層14、非導電性真空電鍍層13及玻璃層12向上方射出。而形成於玻璃層12上之紋路121由於光線折射的關係，使得由第1圖上方俯視時，可以看見形成於玻璃層12上的紋路121圖樣。在本實施例中，由於非導電性真空電鍍層13之折射率與玻璃層12不同，即使非導電性真空電鍍層13填充玻璃層12上之紋路121的間隙，仍可以清楚看見玻璃層12上的紋路121圖樣。
接著請參閱第2圖，第2圖為本案實施例具紋路的發光結構的剖面示意圖。本實施例之發光結構20包括一電致發光薄膜層21、一玻璃層22、一UV油墨層23、一非導電性真空電鍍層24以及一光學膠層25。在本實施例中，電致發光薄膜層21之厚度約為50~100μm，但本案不以此為限。
在玻璃層22上壓印UV油墨層23。UV油墨層23具有相對之一第一表面231及一第二表面232，第一表面231貼合至玻璃層22。第二表面232形成所需的紋路2321。在將UV油墨層23壓印至玻璃層22上並形成所需紋路2321後，進行光照射硬化以形成紋路效果。在本實施例中，UV油墨層23之厚度約為3~10μm，但本案不以此為限。而在UV油墨層23上所形成之紋路2321壓印效果的寬度D可在1~10μm，而高度H則在3~10μm。
接著再使用真空系統蒸鍍或是濺鍍非導電性真空電鍍層24於UV油墨層23且有紋路2321之第二表面232。在本實施例中，所形成的非導電性真空電鍍層24厚度約為0.1~0.5μm，但本案不以此為限。
最後，將光學膠層25塗布於電致發光薄膜層21上，透過光學膠層25並利用貼合機將電致發光薄膜層21與非導電性真空電鍍層24相貼合。在本實例中，非導電性真空電鍍層24之折射率約為1；玻璃層22之折射率約為2；UV油墨層23之折射率約為1.7或以上；光學膠層14之折射率約為1.4或以上。因此，UV油墨層23之折射率會大於非導電性真空電鍍層24之折射率，且會小於玻璃層22之折射率。
在本實施例中，UV油墨層23係由包括含硫環氧單體及壓克力單體之材料所製成。且此二種材料之比例約為1：1，所製造出來之UV油墨層23的折射率即約為1.7。另外，在上述製造UV油墨層23的材料中亦可再添加聚氧乙烯以提升率射率，而此時三種材料之比例約為1：1：1。
如此，即形成如第2圖所示，由上至下（圖面上方為上）依序為玻璃層22、UV油墨層23、非導電性真空電鍍層24、光學膠層25以及電致發光薄膜層21。當電致發光薄膜層21連接電源發光時，光線會穿透光學膠層25、非導電性真空電鍍層24、UV油墨層23及玻璃層22向上方射出。而形成於UV油墨層23上之紋路2321由於光線折射的關係，使得由第2圖上方俯視時，可以看見形成於UV油墨層23上的紋路2321圖樣。在本實施例中，由於UV油墨層23之折射率與非導電性真空電鍍層24不同，即使非導電性真空電鍍層24填充UV油墨層23上之紋路2321的間隙，仍可以清楚看見UV油墨層23上的紋路2321圖樣。
再請參閱第3圖，第3圖為本案一實施例具紋路的發光結構的剖面示意圖。本實施例之發光結構30包括一電致發光薄膜層31、一玻璃層32、一第一UV油墨層33、一第二UV油墨層34、一非導電性真空電鍍層35以及一光學膠層36。在本實施例中，電致發光薄膜層31之厚度約為50~100μm，但本案不以此為限。
於一實施例中，在玻璃層32上壓印第二UV油墨層34。第二UV油墨層34具有相對之一第一表面341及一第二表面342。第二UV油墨層34之第一表面341貼合至玻璃層32。第二UV油墨層34之第二表面342形成所需的第二紋路3421。接著，在第二UV油墨層34上壓印第一UV油墨層33。第一UV油墨層33具有相對之一第一表面331及一第二表面332。第一UV油墨層33之第一表面331貼合至第二UV油墨層34之第二表面342。第一UV油墨層33之第二表面332可形成所需的第一紋路3321。接著，進行光照射硬化以形成紋路效果。
在本實施例中，第一UV油墨層33之厚度約為3~10μm，第二UV油墨層34之厚度約為1~3μm，但本案不以此為限。在第一UV油墨層33及第二UV油墨層34上所形成的第一紋路3321及第二紋路3421可相同亦可不同，可相交錯、完全分開不同位置、亦可完全重疊，本案不以此為限。
接著再使用真空系統蒸鍍或是濺鍍非導電性真空電鍍層35於第一UV油墨層33之第二表面332。在本實施例中，所現形成的非導電性真空電鍍層35厚度約為0.1~0.5μm，但本案不以此為限。
最後，將光學膠層36塗布於電致發光薄膜層31上，透過光學膠層36並利用貼合機將電致發光薄膜層31與非導電性真空電鍍層35相貼合。在本實例中，非導電性真空電鍍層35之折射率約為1；玻璃層32之折射率約為2；第一UV油墨層33之折射率約為1.7或以上；第二UV油墨層34之折射率約為1.4；光學膠層14之折射率約為1.4或以上。因此，第一UV油墨層33之折射率會大於非導電性真空電鍍層35與第二UV油墨層34之折射率。
如第3圖所示，由上至下（圖面上方為上）依序為玻璃層32、第二UV油墨層34、第一UV油墨層33、非導電性真空電鍍層35、光學膠層36以及電致發光薄膜層31。當電致發光薄膜層31連接電源發光時，光線會穿透光學膠層36、非導電性真空電鍍層35、第一UV油墨層33、第二UV油墨層34及玻璃層32向上方射出。而形成於第一UV油墨層33與第二UV油墨層34上之第一紋路3321及第二紋路3421，由於光線折射的關係，使得由第3圖上方俯視時，可以看見二UV油墨層交疊後之紋路圖樣。
在本實施例中，由於第一UV油墨層33之折射率與非導電性真空電鍍層35不同，即使非導電性真空電鍍層35填充第一UV油墨層33上之第一紋路3321的間隙，仍可以清楚看見第一UV油墨層33上的第一紋路3321圖樣。再者，由於第一UV油墨層33之折射率與第二UV油墨層34之折射率不同，即使第一UV油墨層33填充第二UV油墨層34上之第二紋路3421的間隙，仍可以清楚看見第一UV油墨層33及第二UV油墨層34上的紋路圖樣。
藉由上述結構，在UV油墨層上形成紋路圖案，除了可形成較玻璃層上更為細緻的圖案外，利用二層的UV油墨層，可分別於不同UV油墨層上分別形成相同或不同的圖案。如此，可使得所展示之紋路圖樣更有深度及變化。
雖然本案以前述之實施例揭露如上，然其並非用以限定本案，任何熟習相像技術者，在不脫離本案之精神和範圍內，當可作些許之更動與潤飾，因此本案之專利保護範圍須視本說明書所附之申請專利範圍所界定者為準。
10、20、30‧‧‧發光結構
11、21、31‧‧‧電致發光薄膜層
12、22、32‧‧‧玻璃層
121、2321‧‧‧紋路
13、24、35‧‧‧非導電性真空電鍍層
14、25、36‧‧‧光學膠層
23‧‧‧UV油墨層
231、331、341‧‧‧第一表面
232、332、342‧‧‧第二表面
33‧‧‧第一UV油墨層
3321‧‧‧第一紋路
34‧‧‧第二UV油墨層
3421‧‧‧第二紋路
D‧‧‧寬度
H‧‧‧高度
[第1圖] 為本案一實施例具紋路的發光結構的剖面示意圖。 [第2圖] 為本案另一實施例具紋路的發光結構的剖面示意圖。 [第3圖] 為本案又一實施例具紋路的發光結構的剖面示意圖。
20‧‧‧發光結構
21‧‧‧電致發光薄膜層
22‧‧‧玻璃層
23‧‧‧UV油墨層
231‧‧‧第一表面
232‧‧‧第二表面
2321‧‧‧紋路
24‧‧‧非導電性真空電鍍層
25‧‧‧光學膠層
D‧‧‧寬度
H‧‧‧高度

Claims (7)

  1. 一種具紋路的發光結構，包括：一電致發光薄膜層；一玻璃層；一第一UV油墨層，具有一第一表面及一第二表面，該第一表面貼合該玻璃層，該第二表面上具有一第一紋路；一第二UV油墨層，形成於該玻璃層與該第一UV油墨層之間，且該第二UV油墨層具有一第二紋路；一非導電性真空電鍍層，形成於該第一UV油墨層之該第二表面上；以及一光學膠層，塗布於該電致發光薄膜層上，並透過該光學膠層將該電致發光薄膜層貼合至該非導電性真空電鍍層。
  2. 如請求項1所述之具紋路的發光結構，其中該第一UV油墨層之折射率為1.7以上。
  3. 如請求項2所述之具紋路的發光結構，其中該第一UV油墨層之材料包括含硫環氧單體及壓克力單體。
  4. 如請求項3所述之具紋路的發光結構，其中該第一UV油墨層之材料更包括聚氧乙烯。
  5. 如請求項1所述之具紋路的發光結構，其中該第一UV油墨層之折射率大於該非導電性真空電鍍層之折射率。
  6. 如請求項1所述之具紋路的發光結構，其中該第二UV油墨層之折射率為1.4。
  7. 如請求項1所述之具紋路的發光結構，其中該光學膠層之折射率為1.4以上。
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