TW201522060A - 包含具有含氮聚合物的聚丙烯酸酯底漆之物件及方法 - Google Patents

包含具有含氮聚合物的聚丙烯酸酯底漆之物件及方法 Download PDF

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Jeffrey Lynn Solomon
Jason Stephen Petaja
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Abstract

本揭露闡述例如光學薄膜及光學薄膜堆疊之物件。該等物件包括一基材及一置於基材上之底漆層，其中該底漆層包含一聚丙烯酸酯及一含氮聚合物。該物件進一步包括一置於該底漆層上之黏著層，其中該黏著層包含一聚丙烯酸酯組分。在某些實施例中，該黏著劑係進一步黏合至(例如第二)第二基材或離型襯墊。該(例如第二)基材可進一步包含一微結構表面層，其中該底漆層係置於該固化黏著層與該微結構表面之間。亦闡述製作物件的方法。

Description

包含具有含氮聚合物的聚丙烯酸酯底漆之物件及方法
WO 2012/138495說明包含第一光學薄膜之光學堆疊，第一光學薄膜包含複數個含有一光學活性部分以及選擇性地含有一光學非活化黏合部分之結構，光學活性部分主要係設計用來提供光學增益，光學非活性黏合部分係置於一第一表面上，第一表面利用一透光黏著層黏合至一第二光學薄膜，使得結構之一部分穿透黏著層且在黏著層與第一表面之間提供一間隔。光學堆疊特別在老化之後呈現高剝離強度及高保持亮度之組合。
黏著層較佳的是包含聚丙烯酸酯組分與可聚合單體之反應產物之互穿網且黏著層在25℃下具有100至2000MPa之範圍的彈性模數。
雖然包含聚丙烯酸酯組分及可聚合單體之反應產物之互穿網的黏著層能以許多光學薄膜提供高剝離強度，已發現的是，在試圖將(例如稜鏡或柱體)結構黏合至微結構(例如漫射體)層時剝離 強度會實質地降低。然而，已發現的是，可藉由在微結構(例如漫射體)層上提供特定底漆層而獲得高剝離強度。
在一實施例中，所說明的光學薄膜堆疊包含以固化黏著層黏合至一第二光學薄膜之微結構表面層的第一光學薄膜。固化黏著層包含聚丙烯酸酯組分及可聚合單體之互穿網。第二光學薄膜進一步包含置於固化黏著層與第二基材之微結構表面之間的底漆層。該底漆層包含一聚丙烯酸酯組分以及一含氮聚合物。
在一有利的實施例中，第一光學薄膜包含複數個結構，該複數個結構包含光學活性部分，光學活性部分主要係設計用來提供第一表面上的光學增益，第一表面利用固化黏著層黏合至第二光學薄膜之微結構表面層，使得結構之一部分穿透黏著層且在黏著層與第一表面之間提供一間隔。
此底漆層據推測有利於黏合其他基材。因此，在另一實施例中，所說明的物件包含一基材以及置於該基材上的底漆層，其中該底漆層包含聚丙烯酸酯及含氮聚合物。該物件進一步包含置於該底漆層上之一黏著劑組成物，其中該黏著劑組成物包含一聚丙烯酸酯組分。在某些實施例中，該黏著劑係進一步黏合至(例如第二)第二基材或離型襯墊。該(例如第二)基材可進一步包含一微結構表面層，其中該底漆層係置於該固化黏著層與該微結構表面之間。
亦說明的是製作物件的方法。在一實施例中，所說明的一種製作基材之方法包含利用一底漆層塗佈一基材，該底漆層包含聚 丙烯酸酯以及含氮聚合物；以及將一黏著層置於該底漆層上，其中該黏著劑組成物包含一聚丙烯酸酯組分。
100‧‧‧導光膜
105‧‧‧平面
110‧‧‧第一結構化主要表面
120‧‧‧第二主要表面
130‧‧‧基材
150‧‧‧一體式離散結構
160‧‧‧導光部分；下部部分
160A‧‧‧導光部分
162‧‧‧第一側面
162A‧‧‧第一側面
162B‧‧‧第一側面
162C‧‧‧側面
162D‧‧‧側面
164‧‧‧基座
170‧‧‧黏合部分；上部部分
170A‧‧‧黏合部分
172‧‧‧側面
172A‧‧‧側面
172B‧‧‧側面
174‧‧‧基座
180‧‧‧法線
181‧‧‧法線
190‧‧‧頂部表面
200‧‧‧物件
220‧‧‧基材
221‧‧‧基材
222‧‧‧微結構層
225‧‧‧底漆層
250‧‧‧黏著層
500‧‧‧一體式離散結構
540‧‧‧光線
541‧‧‧光線
542‧‧‧光線
545‧‧‧光線
546‧‧‧光線
551‧‧‧光線
550‧‧‧光線
560‧‧‧下部或導光部分
562A‧‧‧第一側面
562B‧‧‧第一側面
570‧‧‧上部或黏合部分
572A‧‧‧側面
572B‧‧‧側面
595‧‧‧鄰近表面
600‧‧‧底漆層
1900‧‧‧顯示系統
1905‧‧‧照明系統
1910‧‧‧背反射鏡
1915‧‧‧光源
1920‧‧‧光導
1930‧‧‧燈
1935‧‧‧選擇層
1936‧‧‧光
1940‧‧‧光
1941‧‧‧光
1942‧‧‧光
1943‧‧‧光
1944‧‧‧光
1950‧‧‧影像成形板
1990‧‧‧觀看者
2000‧‧‧光學堆疊
2005‧‧‧基材
2010‧‧‧導光膜；光重定向膜
2015‧‧‧未填充空隙
2020‧‧‧第一結構化主要表面
2021‧‧‧部分
2022‧‧‧部分
2025‧‧‧第二主要表面
2030‧‧‧線性一體式離散結構
2030A‧‧‧線性一體式離散結構
2030B‧‧‧線性一體式離散結構
2040‧‧‧導光部分
2050‧‧‧黏合部分
2060‧‧‧光學黏著層
2061‧‧‧主要表面
2070‧‧‧光學層；光學薄膜基材
2071‧‧‧主要表面
2072‧‧‧表面
2075‧‧‧底漆層
2076‧‧‧微結構(例如漫射體)表面層
2090‧‧‧光學薄膜
2100‧‧‧導光膜
2110‧‧‧線性稜鏡結構
2120‧‧‧基材
3000‧‧‧光學堆疊
3010‧‧‧第一基材
3015‧‧‧第二基材
3017‧‧‧底漆層
3018‧‧‧主要表面
3019‧‧‧主要表面
3020‧‧‧導光膜
3025‧‧‧光學黏著層；光學層
3030‧‧‧一體式離散結構
3030A‧‧‧一體式離散結構
3030B‧‧‧一體式離散結構
3031‧‧‧基座
3032‧‧‧最小基座尺寸
3040‧‧‧穿透部分
3045‧‧‧非穿透部分
3050‧‧‧穿透深度
3054‧‧‧穿透基座
3056‧‧‧界面
3058‧‧‧最小穿透基座尺寸
3060‧‧‧空隙
3070‧‧‧導光部分
3080‧‧‧黏合部分
3300‧‧‧導光膜
3310‧‧‧基材
3320‧‧‧一體式離散結構
3330‧‧‧離散結構
3340‧‧‧黏合部分
3350‧‧‧導光部分
3355‧‧‧夾角
3360‧‧‧導光部分
3365‧‧‧頂角
3400‧‧‧光學堆疊
3410‧‧‧表面
3420‧‧‧光學黏著層
3700‧‧‧光學系統
3705‧‧‧試樣
3710‧‧‧中空朗伯特燈箱
3712‧‧‧離開表面
3715‧‧‧朗伯特光
3720‧‧‧線性光吸收偏光鏡
3730‧‧‧光偵測器
3740‧‧‧位置
3750‧‧‧光軸
3760‧‧‧穩定化寬帶光源
3770‧‧‧光纖
3780‧‧‧內部
4300‧‧‧導光膜
4310‧‧‧基材
4320‧‧‧線性稜鏡結構；一體式離散結構
4330‧‧‧線性稜鏡結構
4340‧‧‧線性稜鏡結構
4400‧‧‧導光膜
4410‧‧‧基材
4420‧‧‧線性對稱一體式離散結構
4430‧‧‧黏合部分
4432‧‧‧側面
4434‧‧‧基座
4440‧‧‧導光部分
4442‧‧‧側面
4444‧‧‧基座
4460‧‧‧線性對稱離散結構
BMD1‧‧‧最小基座尺寸
BMD2‧‧‧最小基座尺寸
d1‧‧‧最小尺寸
d2‧‧‧最小尺寸
h1‧‧‧最大高度
h2‧‧‧最大高度
h3‧‧‧平均厚度
t1‧‧‧最大高度
t2‧‧‧最小基座尺寸
t3‧‧‧最小頂部表面尺寸
t4‧‧‧最大高度
t5‧‧‧最小基座尺寸
PD1‧‧‧穿透深度
PD2‧‧‧穿透深度
MD1‧‧‧最小穿透基座尺寸
MD2‧‧‧最小穿透基座尺寸
α1、α2、θ1、θ2、θ3、θ4、ω1、ω2‧‧‧夾角
圖1係第一基材、底漆層、黏著層、以及第二基材之截面圖；圖2係包含微結構表面層之第一基材、底漆層、黏著層、以及第二基材的截面圖；圖3係導光膜之示意側視圖；圖4係部分穿透光學層之一體式離散結構之示意側視圖；圖5A及圖5B係導光膜之示意三維圖；圖6係導光膜之示意側視圖；圖7A及圖7B係光學堆疊之示意側視圖；圖8係導光膜之示意側視圖；圖9係光學堆疊之示意側視圖；圖10係顯示系統之示意側視圖；圖11係另一光學堆疊之示意側視圖；圖12係適用於測量光學增益之光學系統的示意側視圖；圖13係另一光學堆疊之示意側視圖。
請參照圖1，本發明一般係關於一種物件200，其包含基材220、置於基材上之底漆層225、以及置於底漆層上之黏著層 250。黏著層一般係進一步黏合至(例如第二)基材221，或可將離型襯墊(未顯示)置於黏著層250上以代替基材221。
請參照圖2，在一有利的實施例中，基材220進一步包含微結構(例如漫射體)層222。底漆層225係置於微結構(例如漫射體)層上，並且黏著層250係置於底漆層上。黏著層一般係進一步黏合至(例如第二)基材221，或可將離型襯墊(未顯示)置於黏著層250上以代替基材221。基材221可為與基材220相同之基材或不同之基材。
在某些實施例中，第二基材包含微結構(例如漫射體)層222。選用的此命名慣例符合WO 2012/138495中使用的命名慣例。然而，在其他實施例中，包含底漆之基材為「第一基材」。在此實施例中，可視需要在第一或第二基材上包括一微結構(例如漫射體)層。
對於在第一或第二基材上包括微結構(例如漫射體)層之實施例，基材220及/或221之表面可粗糙化或紋理化以提供微結構(例如漫射體)層(例如222)。這可用所屬領域已知的各種方式達成，包括利用已噴珠或以其他方式粗糙化之適合工具將底層壓紋。
亦可藉由將塗料組成物(包含對該組成物為尺寸適當之粒子，例如矽砂、玻璃珠、或聚合珠)塗敷至基材220及/或221以製備微結構(例如漫射體)層222。平均粒子大小的範圍通常係約1至10微米。此類粒子之濃度的範圍可以是微結構(例如漫射體)層222之至少2wt-%至約10wt-%或更高。濃度若小於2wt-%(例如1.8 wt-%、1.6wt-%、1.4wt-%、1.2wt-%、1.0wt-%、0.8wt-%、0.6wt-%)，則該濃度通常不足以產生所欲之光澤降低(其亦有助於霧度上升)。
在又另一實施例中，微結構(例如漫射體)層(例如222)一般可利用工具上之微複製藉由澆鑄製及固化與工具表面接觸之可聚合樹脂組成物而製成，如美國專利第5,175,030號(Lu等人)及第5,183,597號(Lu)所述。此工具可使用任何可得之製作方法予以製作，例如藉由使用雕刻或鑽石車削。例示性鑽石車削系統及方法可包括並利用快速刀具伺服機構(fast tool servo,FTS)，如WO2010/141345所述；其係以引用方式併入本文中。或者，工具可藉由電沈積予以製作。在一實施例中，工具的製備係使用第一電鍍程序(其產生具有第一平均粗糙度之第一層的第一主要表面)，藉由電沈積金屬以形成第一層金屬；以及使用第二電鍍程序(其產生具有小於第一平均粗糙度之第二平均粗糙度的第二層之第二主要表面)，藉由在第一主要表面上電沈積金屬，以於第一層之第一主要表面上形成第二層金屬；如2012年11月21日申請之申請案序號第61/728,868號所述；其係以引用方式併入本文中。
當微結構(例如漫射體)層係利用工具上之微複製藉由澆鑄及固化與工具表面接觸之可聚合樹脂組成物製成時，微結構表面層包含複數個峰且大多數(亦即至少50%)及一般實質上所有峰都不具(例如嵌入式)消光粒子。
基材(220及/或221)的選用部分將基於預期用途之所欲性質(例如光學及機械性質)。此類機械性質一般將包括可撓性、尺寸安定性以及抗衝擊性。在大部分應用中，基材厚度為至少0.02mm，並且不大於或小於約0.5mm或0.2mm。可選擇性地處理基材以改善黏著，例如化學處理、電暈處理(諸如空氣或氮電暈)、電漿、火焰、或光化輻射。然而，在某些實施例中，基材不經此類用以改善黏著之處理。
在有利實施例中，基材為光學薄膜。在某些實施例中，「光學薄膜」為顯示器光徑中之透光薄膜，其相較於在無光學薄膜情況下觀看顯示器，未實質上改變至少一光學性質。在此實施例中，「光學薄膜」一般為高度透明，其可見光(亦即400至700nm)之透射為至少80%、85%、或90%。光學薄膜之透射能以各種已知技術進行測量。如本文中所使用，軸上透射係以可購自BYK Gardner商標名稱為「Haze-Guard Plus(catalog # 4725)」之儀器予以測量。一般包含低界面能塗膜之防污薄膜是未實質上改變至少一光學性質之光學薄膜之一實例。
光學薄膜可由玻璃或陶瓷材料組成。光學薄膜通常由包括例如下列之透光聚合材料組成：醋酸丁酸纖維素、醋酸丙酸纖維素、三乙酸纖維素、聚醚碸、聚甲基丙烯酸甲酯、聚胺甲酸酯、聚酯、聚碳酸酯、聚氯乙烯、對位性聚苯乙烯、環烯烴共聚物、聚2,6萘二甲酸乙二酯、以及基於萘二羧酸之共聚物或摻合物。光學薄膜可選擇性地含有這些材料之適當的混合物或組合物。
在有利實施例中，「光學薄膜」係關於顯示器光徑中的透光薄膜，其相較於在無光學薄膜情況下觀看顯示器，實質上改變至少一光學性質。此類光學薄膜之實例包括偏光膜、稜鏡膜例如亮度增強導光膜(例如繪示於圖5A、圖5B、以及圖6者)、以及漫射體薄膜。其他光學薄膜包括消光或防眩光薄膜、抗反射膜、光準直薄膜(亦稱為防窺濾光片)、以及具有塗膜以降低指紋可見度之特定薄膜，例如美國公開第2012/0154811號所述；其係以引用方式併入本文中。降低指紋可見度之薄膜呈現霧度降低，初始(模擬)指紋可見度對20分鐘(模擬)指紋可見度之霧度比率為小於0.80、0.70、0.60、或0.50。
在某些實施例中，單一光學薄膜可(例如同時)改變超過一項光學性質。例如，包含微結構(例如漫射體)層(例如圖5B繪示者)之亮度增強導光膜可同時改善亮度或「增益」，並且也用作漫射體。
請參照圖5B，微結構(例如漫射體)層222之微結構有別於光學薄膜之(例如稜鏡)結構2110。在一態樣中，微結構(例如漫射體)層222之微結構形成不規則圖案或呈現隨機性之偽隨機圖案。相比之下，光學薄膜之(例如稜鏡)結構一般具有標稱規則圖案。在另一態樣中，微結構(例如漫射體)層222之微結構一般小於光學薄膜之(例如稜鏡)結構。例如，微結構(例如漫射體)層222之微結構一般具有不大於5微米之平均峰至谷高度；而(例如稜鏡)結構一般具有大於8、9、或10微米之峰至谷高度。在某些實施例 中，漫射體層(包括底漆及黏著層)之微結構表面之特徵可在於具有1.5至7.5微米範圍之表面粗糙度(Rz)及/或0.75微米至4微米範圍之平均高度；其如2013年10月2日申請之申請案第61/885,723號所述；其係以引用方式併入本文中。在另一態樣中，光學薄膜之(例如稜鏡)結構具有實質上相同的斜度(例如約90°之頂角)；而微結構(例如漫射體)層222則具有斜度幅度不同之微結構，稱之為互補累積斜度幅度分布Fcc(θ)。在某些實施例中，微結構漫射體具有如前述2013年10月2日申請之申請案第61/885,723號所述之斜度幅度分布Fcc(θ)。在許多實施例中，微結構漫射體之微結構之至少90%具有小於20或15度之斜度幅度。
底漆層225包含在聚丙烯酸酯(例如壓敏)黏著劑中分散之微量含氮聚合物。
各種含氮聚合物可運用在黏著劑組成物中。含氮聚合物包括含有氮原子之均聚物及共聚物，該氮原子單獨或與相鄰雙鍵結氧原子一起具有自由(亦即未鍵結)電子對。
不受限於理論，在某些實施例中，據推測，含氮聚合物可防止存在於底漆界面之黏著劑組成物中的陽離子可聚合單體之聚合反應。這進而產生具有梯度性質之黏著層，其中黏著劑具有較低模數且底漆界面處之壓敏性遞增。黏著劑的硬度在與第一基材(之例如稜鏡或柱體結構)接觸之相對黏著層界面之方向提升。
在其他實施例中，在底漆中包括一含氮聚合物可對難以黏合之基材(例如PEN)改善黏附力。當含氮聚合物係包括於黏著劑 中時，特別在老化後，含氮聚合物之存在對黏著性質一般具有某些效應。若底漆中有含氮聚合物，黏著劑保護底漆免於曝露至氧且避免因曝露至氧造成的降解產物。
底漆層包含一或多種含氮聚合物，量至少為底漆組成物之約0.5wt-%、1.0wt-%、2wt-%(亦即固體)，並且一般不大於約10wt-%、9wt-%、8wt-%、7wt-%、6wt-%、或5wt-%。當聚合物為共聚物時，可使用甚至更高的濃度。例如，當所利用之共聚物具有重量比1：1的一含氮單體與缺少前述氮原子之一第二共聚單體時，該共聚物濃度一般為其含氮聚合物之兩倍。
含氮聚合物具有大於單體物種之重量平均分子量(Mw)，此聚合物係經由該單體物種予以製備。例示性含氮單體包括例如含n-乙烯基單體(如乙烯己內醯胺及乙烯基吡咯烷酮)、含有(例如側基)含氮基團之(甲基)丙烯酸酯單體(N,N-二甲基胺乙基丙烯酸酯)、以及丙烯腈。乙基噁唑啉是另一種含氮單體。適當的含氮單體(選擇性地與共聚單體組合)可在添加底漆組成物之聚丙烯酸酯以及任何其他選擇性成分之前起(例如原位)聚合反應。
各種含氮聚合物皆可購自數個來源。例如，乙烯基吡咯烷酮(PVP)與乙酸乙烯酯(VA)之共聚物可購自International Specialties Products(Wayne,N.J.)商標名稱為「PVPNA」者、以及BASF(Mount Olive,N.J.)商標名稱為「Luviskol Va.」及「Kollidon」者。聚(乙烯己內醯胺)均聚物可購自BASF商標名稱為「Luviskol Plus」者。另外，乙烯基吡咯烷酮、乙烯己內醯胺、以及甲基丙烯酸二甲胺乙酯之 三共聚物可購自International Specialty Products,Texas City,Tex.商標名稱為「Advantage S」者。乙基噁唑啉及經取代之乙基噁唑啉之線性聚合物亦可購自International Specialty Products商標名稱為「Aquazol」者。此外，丙烯腈-苯乙烯共聚物及丙烯腈-丁二烯-苯乙烯三共聚物可購自Dow Chemicals,Midland,Mich.各別商標名稱為「Tyril」及「Magnum」者。在某些實施例中，含氮聚合物沒有可聚合(例如乙烯系不飽和)基團。
含氮均聚物或共聚物一般具有至少約2,000g/莫耳之Mw，其測量參照聚乙烯氧化物標準以例如GPC進行。Mw通常為至少5000、10000、15000、或20000g/莫耳。雖然Mw的範圍最高可達約1百萬，但通常Mw不大於約500,000或250,000g/莫耳。使用含氮聚合物可有益地導致較低的殘餘單體含量。例如，底漆層的殘餘含氮單體含量一般小於50ppm，通常小於25ppm，並且較佳的是小於10ppm。
在較佳實施例中，特別是在光學特性具有重要性之黏合光學薄膜或其他物件的情況中，含氮聚合物可溶於聚丙烯酸酯底漆組成物中。黏著劑之單體起聚合反應之後將含氮聚合物添加至聚丙烯酸酯(例如PSA)中。「可溶」的意思是，含氮聚合物在底漆(含溶劑)之聚丙烯酸酯組分中溶解，使其形成可藉由觀看3-吋直徑試管中之組成物加以偵測之光均質透明溶液。含可溶含氮聚合物之底漆組成物除了均質且透明之外，此組成物也很穩定，意思是，該組成物在室溫下儲存6個月或更長時間(例如1至2年)後不會分離。
對於基材為光學薄膜之實施例，黏著劑之特徵可為光學黏著劑，亦即其在未固化及固化狀態之一者或兩者下呈現光學透射(例如光學清晰)。光學清晰度使得製備光學元件時得以使用該黏著劑。在正常使用條件下，黏著劑也可維持光學清晰度(例如透射係數)達一段實用期間，如加速老化試驗所示，。較佳(例如未固化)光學黏著劑可具有至少約90%之光透射。在固化後，固化黏著劑之光學清晰度根據ASTM-D 1003-95所測量之結果可具有相同範圍。
黏著劑(在粒子尺寸未適當調整以增加霧度的情況下)一般具有小於約2%之霧度、以及小於約1%之不透明度。然而，可添加尺寸經適當調整之粒子(如之前對於微結構表面層之說明)以將霧度提升到至少2%、或5%、或10%。大部分用途之霧度一般小於50%、45%或40%。
含互穿聚合物網(IPN)之固化黏著層是經黏合基材(例如光學堆疊)與中間物之黏著層的有利黏著劑組成物。有利的黏著劑組成物包含聚丙烯酸酯以及可聚合單體，其中當黏著劑固化時形成互穿聚合物網(IPN)。
至少有兩種互穿聚合物網：在組分之間未起反應者，以及起反應而在不同組分之間形成化學鍵者(交互反應IPN)。具體而言，IPN之一形式包括聚丙烯酸酯聚合物以及纏繞該聚合物鏈形成以機械方式纏結之網的聚合化單體(例如環氧或多-(丙烯酸甲酯))。IPN之機械纏繞增加黏著劑之強度及完整性，並且可防止相分離及清晰度耗損。根據本發明第二形式之IPN包括交互反應的互穿聚合物 網，其中環氧組分係直接或間接化學鍵結至聚丙烯酸酯組分。在這裡，可聚合單體含有可與聚丙烯酸酯直接或間接反應之反應性官能基。舉一實例，環氧基與聚丙烯酸酯組分之羥基或酸官能性直接起反應。或者，聚丙烯酸酯及環氧組分可化學鍵結至中間化學組分，例如二-或多-官能性聚合物、交聯劑、巨分子、或寡聚物。中間化學組分化學連接該環氧組分至該聚丙烯酸酯以生成IPN。
底漆層及黏著層皆包含聚丙烯酸酯。由至少50wt-%之一或多種此類(甲基)丙烯酸酯單體製備而成的聚合物將統稱為「聚丙烯酸酯」。丙烯酸酯及丙烯酸甲酯單體在本文中係統稱為(甲基)丙烯酸酯單體。聚合物可為均聚物或共聚物，其選擇性地與其他非(甲基)丙烯酸酯乙烯系不飽和單體(例如乙烯基-不飽和單體)組合。聚丙烯酸酯在與黏著劑之可聚合單體組合之前起聚合反應。聚丙烯酸酯一般地在與底漆之含氮聚合物組合之前起聚合反應。
根據本發明可用聚丙烯酸酯聚合物之特有實例包括該些由自由基可聚合丙烯酸酯單體或寡聚物製備而成者，如美國專利第5,252,694號第5欄第35至68行所述。儘管能以任何各種不同(甲基)丙烯酸酯單體及聚丙烯酸酯達成本發明，在一有利實施例中，聚丙烯酸酯仍包括一或多種可起反應以將聚丙烯酸酯直接或間接連接至環氧組分之反應性官能基，亦即用於將聚丙烯酸酯連接至環氧組分以生成互穿聚合物網。這些反應性官能基可為任何已知的反應基，例如羥基(--OH)或酸性(例如羧基、--COOH)反應基。此類基團可在例如製備聚丙烯酸酯時藉由包括合適的單體(例如丙烯酸單體)而被包括於聚 丙烯酸酯中。或者，聚丙烯酸酯與環氧之間的此交互反應可透過使用二-或多-官能性單體(例如環氧丙烯酸酯)搭配能與該聚丙烯酸酯反應之接枝基團達成。可用單體之實例具體而言(但非完全)包括下列種類：(i)烷基醇(較佳的是非三級醇)之丙烯酸酯，該醇含有1至14(較佳的是4至14)個碳原子，包括例如丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸正丁酯、丙烯酸第三丁酯、丙烯酸己酯、丙烯酸異辛酯、丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸異壬酯、丙烯酸異莰基酯、丙烯酸苯氧乙酯、丙烯酸癸酯、以及丙烯酸十二酯；(ii)烷基醇(較佳的是非三級醇)之甲基丙烯酸酯，該醇含有1至14(較佳的是4至14)個碳原子，包括例如甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸正丙酯、甲基丙烯酸正丁酯、甲基丙烯酸異丁酯以及甲基丙烯酸第三丁酯；(iii)多羥基烷基醇例如1,2-乙二醇、1,2-丙二醇、1,3-丙二醇、各種丁二醇、各種己二醇、甘油之(甲基)丙烯酸單酯，所產生的酯類係稱為(甲基)丙烯酸羥烷基酯。
底漆層及黏著層兩者之聚丙烯酸酯組分的單體重複單元一般皆係經選擇，使得該聚丙烯酸酯組分為壓敏性黏著劑。
在某些實施例中，底漆層為聚丙烯酸酯壓敏黏著劑。此外，黏著劑之聚丙烯酸酯組分亦為壓敏黏著劑。
本領域具通常知識者眾所周知的壓敏性黏著劑(PSA)組成物具備的性質包括(1)強烈永久接著(tack)、(2)以不大於手指壓力黏 附、(3)足以保持於黏附體上之能力、以及(4)充分的內聚強度。已發現適合作為PSA用的材料包括經設計及配製以呈現必要黏彈性性質，而在接著、剝離黏附力以及切變保持力之間取得所欲平衡的聚合物。在應用溫度(一般為室溫25℃)下之壓敏黏著劑底漆的模數於頻率1Hz時小於3×106達因/cm。在某些實施例中，壓敏黏著劑底漆在應用溫度(一般為室溫25℃)下，於頻率1Hz時的模數小於2×106達因/cm或1×106達因/cm。
雖然黏著層亦包含聚丙烯酸酯壓敏黏著劑，黏著層之可聚合組分在固化後，固化黏著層具有高於壓敏黏著劑之模數。黏著劑之聚丙烯酸酯組分在25℃下，一般亦具有如剛才針對底漆所述的模數性質。
聚丙烯酸酯之PSA性質一般係藉由納入足夠之含有C4-C12烷基之單體重複單元提供。該烷基一般為分枝型。在某些實施例中，聚丙烯酸酯包含異辛基重複單元。在其他實施例中，聚丙烯酸酯包含丁基及/或己基重複單元。在又其他實施例中，聚丙烯酸酯包含C4-C12烷基之組合，例如己基及丁基。該C4-C12烷基單體重複單元之量(重量百分率)可隨存在於聚丙烯酸酯中之C4-C12烷基之鏈長而定。以異辛基而言，其濃度一般為聚丙烯酸酯之至少50至60wt-%。然而，當該C4-C12烷基具有大於辛基之鏈長時，其濃度可較低。此外，當該C4-C12烷基具有小於辛基之鏈長時，其濃度可較高。因此，C4-C12烷基重複單元之濃度範圍可為聚丙烯酸酯之40至約70wt-%。
在進一步包含可共聚合單體之總黏著劑組成物或固化黏著層中，C4-C12烷基重複單元(例如異辛基)之濃度範圍一般自約15至50wt-%。
聚丙烯酸酯一般亦包含衍生自丙烯酸之重複單元。衍生自丙烯酸之重複單元之濃度範圍一般自0至15wt-%。在一實施例中，環氧單體之環氧乙烷基團與聚丙烯酸酯之丙烯酸基團起共聚作用，形成交互反應的互穿聚合物網。
藉由納入足夠的聚丙烯酸酯，未固化黏著劑通常具有足夠的壓敏性。這允許將未固化黏著劑便利且精確地塗敷並且置於例如基材與待黏合至基材之材料(例如另一基材)之間。隨後，將該可固化黏著劑固化以產生結構性鍵結。在某些實施例中，固化黏著劑於黏著劑已固化後，不再呈現壓敏性黏著劑性質。
黏著劑組成物或固化黏著層一般包含至少35或40wt-%之聚丙烯酸酯。此外，當使用環氧作為黏著層之可聚合單體時，聚丙烯酸酯之濃度一般不大於70wt-%或75wt-%。然而，當使用多-(甲基)丙烯酸酯作為黏著層之可聚合單體時，該固化黏著層可包含80%、85%、90%、95%以及甚至100%之聚丙烯酸酯。當黏著劑組成物或固化黏著層包含填料時，此等濃度指的是黏著劑組成物或固化黏著層之未填充部分。
聚丙烯酸酯壓敏性黏著劑在底漆層中的濃度一般至少為75、80、85、90、95或更多聚丙烯酸酯。底漆可僅含聚丙烯酸酯以及含氮聚合物，不含其他有機或無機組分。
黏著劑組成物包含至少一可聚合單體。在某些實施例中，使用單一單體。在其他實施例中，運用單體之混合物。單體或單體之混合物在室溫(例如25℃)下一般為液體；而聚丙烯酸酯組分在室溫下則為固體。單體係經選擇而使得聚丙烯酸酯在單體中溶解。因此，可聚合單體之一功能是當作聚丙烯酸酯之反應性稀釋劑。未特意受限於理論的是，聚丙烯酸酯在固化前的稀釋(暫時)降低聚丙烯酸酯之模數，其可讓一體式結構部分穿透黏著層。
可聚合單體在未固化黏著劑(或固化黏著劑之聚合化單體)中的濃度一般為至少20wt-%或25wt-%。此外，可聚合單體之濃度一般不大於60wt-%或65wt-%。
在一有利的實施例中，可聚合單體包含陽離子可聚合基團(例如環氧基)。可聚合單體之分子量一般係每陽離子可聚合基團小於150g/莫耳，並且較佳的是每官能基小於145g/莫耳或140g/莫耳。在某些實施例中，可聚合單體之分子量除以陽離子可聚合基團數係至少110g/莫耳、115g/莫耳、或120g/莫耳。每官能基之可聚合單體之分子量一般為至少90g/莫耳。
可用於本發明之適用環氧材料亦將為化學及黏著劑與結構性黏著劑領域中具有通常知識者所了解。此類環氧材料包括陽離子可聚合單體，其各式各樣的種類在化學及黏著劑領域中係眾所周知。可用環氧組分之一般實例包括環氧單體及巨分子、以及多官能環氧交聯劑。在某些實施例中，環氧單體或巨分子屬於脂肪族，並且可包括 環脂族基。在其他實施例中，環氧單體或巨分子包含芳香基。雙酚F及尤其是雙酚A環氧可購自許多供應商。
在一實施例中，黏著劑之可聚合單體為(例如環化)脂肪族環氧單體，例如可購自Cytec Industries(Woodland Park NJ)之商標名稱為「Uvacure 1500」者。
至少一起始劑係包括於黏著劑中以固化該黏著劑。引發劑之一般量之範圍可為約0.1至約5重量份之總黏著劑組成物，較佳為約0.5至約3重量份。
可用的陽離子性光起始劑包括各種用於將環氧化物固化的已知可用材料中之任一者，包括的實例為例如鎓鹽及特定有機金屬錯合物。例示性有機金屬錯合物及其與一些環氧化物及丙烯酸酯之使用的說明，可例如參閱：美國專利第5,252,694號；第5,897,727號；以及第6,180,200號；其係以引用方式併入本文中。
已將例示性鎓鹽以具有結構AX說明，其中：A可為有機陽離子，例如選自重氮、錪鎓、以及鋶陽離子，較佳的是選自聯苯錪鎓、三苯基鋶以及苯硫苯基聯苯鋶；以及X為陰離子，鎓鹽之相對離子，包括其中X屬於有機磺酸鹽、或鹵化金屬或類金屬者。
特別可用的鎓鹽包括(但不限於)芳重氮鹽、二芳錪鹽、以及三芳鋶鹽。鎓鹽之其他實例係描述於美國專利第5,086,086號第4欄第29至61行，其完整揭露係引用方式併入本文中。
光敏感劑可被添加於可固化黏著劑組成物中。光敏感劑可用於改變光起始劑之波長靈敏度。光敏感劑之代表性實例包括蒽、 二苯甲酮、苝、啡噻【口+井】、氧葱酮、9-氧硫【口+山】【口+星】、苯乙酮、茀酮、蒽醌、9-甲基蒽、2-乙基-9,10-二甲氧基蒽、9,10-二乙氧基蒽、樟腦醌、以及1,3-聯苯異苯并呋喃。
其他可包括於可固化黏著劑中的材料包括單-及多元醇、膠黏劑、強化劑、以及其他改質劑，其中某些可與自由基或陽離子可聚合單體、寡聚物、或聚合物起共聚作用、或獨立起聚合作用。此類光學材料若存在，其使用時一般不大於5wt-%或10wt-%。在有利的實施例中，黏著劑不具有在室溫下呈液體之膠黏劑及塑化劑，這是因為納入該等物質會降低彈性模數及/或在老化時提升潛變。
在某些實施例中，固化黏著劑組成物可使用動態機械分析加以分析其特徵。固化黏著劑之彈性模數一般至少為100MPa。在某些實施例中，彈性模數至少為200MPa、或300MPa、或400MPa、或500MPa。彈性模數一般不大於2000MPa。在25℃之彈性模數(E’)據推測係至少部分與老化時保持之亮度及/或穿透有關。
在某些實施例中，平均韌度在25℃下且應變速率為3%/min時一般為至少1MJ/m3。在某些實施例中，平均韌度為至少2、或3、或4，或5MJ/m3。平均韌度一般不大於15MJ/m3。
在某些實施例中，固化黏著劑組成物之伸度據推測至少部分與剝離強度有關。在某些實施例中，平均破斷伸度在25℃下且應變速率為3%/min時為至少15%或20%，並且在某些實施例中，為至少25%、50%、或至少約100%。平均破斷伸度一般不大於300%。
為了獲得薄黏著層，黏著劑塗膜組成物一般包含量範圍自85%至97%之溶劑(亦即非反應性稀釋劑)。代表性溶劑(較佳的是有機)包括丙酮、甲基-乙基-酮、乙酸乙酯、庚烷、甲苯、環戊酮、乙酸甲賽路蘇、二氯甲烷、硝基甲烷、甲酸甲酯、γ-丁內酯、碳酸伸丙酯、以及1,2-二甲氧乙烷(甘醇二甲醚)。在一般程序中，係經由烘乾將溶劑移除以得到薄黏著劑。
可固化黏著劑組成物可藉由將聚丙烯酸酯組分、(例如環氧)可聚合單體等組合之習用方法製備。請例如參閱美國專利第5,252,694號及美國專利第6,180,200號。
製作(例如光學堆疊)物件或中間物的方法一般包含藉由直接塗佈方式將底漆層置於基材上以及將黏著層置於(較佳的是藉由直接塗佈方式)底漆層上。或者，在某些實施例中，可先將黏著劑塗敷至離型襯墊，其接著再與底漆層接觸。之後可將離型襯墊剝除以暴露光學黏著層2060的主要表面(例如，圖7A及7B之2061)，該主要表面可例如黏合至另一(例如，光學薄膜)基材或表面。用於將光學黏著層從離型襯墊離型之離型力一般小於約50克力/吋(g-force/inch)。
底漆及可固化黏著劑組成物可藉由任何習用的塗敷方法予以塗敷，包括(但不限於)凹板塗佈、簾塗佈、槽塗佈、旋轉塗佈、網版塗佈、轉移塗佈、刷或輥塗、及類似者。在某些實施例中，底漆層具有¼波或多倍¼波(例如½波、¾波)之光學厚度。在此實施例中，第二光學基材與底漆層之組合物、或微結構表面層與底漆層之 組合物可提供抗反射。在一般實施例中，(亦即經烘乾)底漆層及(亦即經烘乾)黏著層獨立具有至少0.5、0.6、0.7、0.8、0.9、或1微米之厚度。在某些實施例中，(亦即經烘乾)底漆層及(亦即經烘乾)黏著層獨立具有至少1.5、2、2.5、3、3.5、4、4.5、或5微米之厚度。(亦即經烘乾)黏著層一般具有大於底漆之厚度。在某些實施例中，(亦即經烘乾)底漆與黏著層之組合物不大於約20、15、或10微米。
光學堆疊一旦已組裝，便將黏著劑固化，一般的方式是藉由光固化。提供範圍自200至800nm之光的輻射源可有效固化本發明之黏著劑。底漆選擇性地可與黏著劑同時固化。較佳範圍係介於250至700nm。適當的輻射源包括汞汽放電燈、碳弧、石英鹵素燈、鎢絲燈、氙燈、螢光燈、雷射、日光等。需用以令聚合反應起效用的曝光量取決於例如下列因素：特定自由基與陽離子可聚合單體之物種及濃度、曝光材料之厚度、基材類型、輻射源之強度、以及與輻射有關的熱量。
在一種製作光學構造之方法中，本方法包含將底漆層及黏著劑組成物塗敷至基材(之例如微結構表面)；使突起結構與基材接觸，使得結構部分穿透黏著層，在黏著層與第一面之間形成間隔；以及固化黏著劑。間隔一般係以空氣填充。請參照圖7A及圖7B，包括(例如光學)黏著層2060之主要表面2061的平面實質區域可與空氣接觸，而非與第二基材或第二基材之(例如柱體)結構接觸。在此實施例中，(例如光學)黏著層2060之主要表面2061之小於50%、 40%、30%、20%、或10%之總表面積可與第二基材或第二基材之(例如柱體)結構接觸。在本文中所揭示的(例如導光)光學薄膜及光學堆疊可用於任何可期望要提升亮度、縮減不同組件或層之數目、以及縮減總體厚度的應用中。例示性應用包括電視、電腦螢幕、投影機、可攜式顯示器(例如可攜式視訊播放器)、以及手持式裝置(例如行動電話)。其他例示性應用包括大型顯示器(例如大面積電視)、以及小型顯示器(例如行動電話顯示器)。其他例示性應用包括用於顯示影像或資訊之顯示器、或一般照明光學系統。
在某些實施例中，光學薄膜堆疊包括設計用來提高增益之單一導光(例如稜鏡)膜、以及非稜鏡微結構漫射體。在其他實施例中，光學堆疊包括至少兩個設計用來提高增益之導光(例如稜鏡)膜。稜鏡薄膜一般係堆疊成令第一稜鏡薄膜之頂點正交於第二稜鏡薄膜之頂點。在一實施例中，光學薄膜或光學薄膜堆疊包含光學非活性黏合部分，其係描述於例如下列實例：WO2011/130155；WO2011/130144；WO2011/130151；以及WO 2013/138495。
在一實施例中，第一光學薄膜包含光學組件，其具有突起部，例如導光膜之光學活性結構，其具有複數個用於導光及/或再循環光之一體式離散結構。可將光的光學薄膜黏合至表面，例如第一光學薄膜或玻璃之主要表面，包含底漆層及置於底漆層上之(例如光學)黏著層。一體式離散結構以高剝離強度部分穿透進入(例如光學)黏著層。該等結構於剛開始穿透進入光學黏著劑及光學黏著劑老 化後不呈現變化或變化非常少，此變化會造成光學性質(例如光學增益或有效光學透射)之耗損。
該等結構包含主要係設計用以提供光學增益之光學活性部分。包含複數個結構之各種光學薄膜屬於已知。一種有利類型之結構為稜鏡微結構。
在某些實施例中，整個結構(例如結構表面)具有光學活性。在有利實施例中，第一光學薄膜或結構之至少一部分包含黏合部分。黏合部分穿透黏著層。在有利實施例中，結構之光學活性部分不穿透黏著層。
圖3係導光膜100之一示意側視圖，其包括第一結構化主要表面110以及相對的第二主要表面120。第一結構化主要表面110包括複數個一體式離散結構150。各一體式離散結構150包括上部部分或黏合部分170、以及下部部分或導光部分160。如本文中所使用，一體式結構係指其為單一單元之結構，此單一單元在結構之不同部位或區段之間，不具有內部或內在實體或可偵測界面。換句話說，一體式結構在結構內部不包括任何界面(例如明顯界面、梯度界面、或分布界面)。在某些情況中，一體式結構係由相同的材料組成物構成，意思是結構內的不同位置或部分具有相同的材料組成物以及相同的折射率。在某些情況中，一體式結構可具有非均勻的材料組成物或折射率分布。例如，在某些情況中，一體式結構可沿著例如一體式結構之厚度方向具有梯度折射率分布。
例如，各一體式離散結構150皆包括形成單一單元之上部部分170及下部部分160，上部部分與下部部分之間沒有實體或可偵測界面。在某些情況中，上部部分170及下部部分160可具有相同的材料組成物。在此類情況中，若可在這兩個部分之間偵測界面，此結構仍視為非一體式。一體式結構一般是以單一步驟製成或製作，意思是一體式結構之製作程序無法以合理方式區分成多個或不同步驟。然而，在某些情況中，一體式結構可用二或多個步驟製成或製作。非一體式或複合結構一般係用多個步驟製作。
一體式離散結構150可具有任何在應用中可令人期望的形狀，例如任何規則或不規則形狀。例如，在某些情況中，一體式離散結構150可為或包括三維直線體，例如四面體、稜柱體、或角錐、或此類主體之一部分、或組合，例如平截頭體。在某些情況中，一體式離散結構150可為或包括三維曲線體，例如一部分球、非球面、橢球、似球體、拋物線體、圓錐體、或圓柱體。在某些情況中，至少某些一體式離散結構150具有稜鏡外形。
一體式結構150呈離散性，意思是，各一體式結構皆可被個別識別，並且與置於基材130上的其他類似一體式結構不同。各一體式離散結構150皆包括主要設計用來導光之導光部分160。也可將導光部分160設計用來進行其他功能，但導光部分之主要功能在於藉由例如將光折射或反射(例如全內部反射)將光重定向。
一般而言，導光部分160可具有任何形狀，例如任何在應用中可令人期望的規則或不規則形狀。例如，在某些情況中，導光 部分160可為或包括三維直線體，例如四面體、稜柱體、或角錐、或此類主體之一部分、或組合，例如平截頭體。在某些情況中，導光部分160可為或包括三維曲線體，例如一部分球、非球面、橢球、似球體、拋物線體、圓錐體、或圓柱體。在某些情況中，導光部分160可具有旋轉對稱彈形結構。
導光部分160包括複數個第一側面162。例如，在例示性導光膜100中，導光部分160A包括第一側面162A以及相對的第一側面162B。一般而言，導光部分160可具有二或多個側面。
在本文中所揭示一體式離散結構之導光部分主要係設計用以藉由例如折射或反射將光重定向。
例如，圖4係一體式離散結構500之一示意側視圖，其包括上部或黏合部分570、以及包括第一側面562A與562B並且主要係設計用以導光之下部或導光部分560。例如，導光部分560藉由先將位於側面562B之光線540全內部反射成光線541，然後於側面562A將光線541全內部反射成光線542，而將光線540導向成光線542。如另一實例，導光部分560藉由於側面562A將光線545折射，而將光線545導向成光線546。
回頭參照圖3，導光膜100之一體式離散結構150的各導光部分160具有基座，該基座為導光部分之最大截面，此截面平行於導光膜之平面且藉由導光部分之側面定界限。例如，導光部分160具有基座164，基座164在平行於導光膜之平面105的方向為導光部 分之最大截面且藉由側面162C與162D定界限。例示性導光膜100界定導光膜在xy平面中之平面105。
基座164(在例示性導光膜100中)沿著x方向包括最小尺寸d1。一般而言，導光部分之基座的最小尺寸能為任何應用中所欲之值或尺寸。例如，在某些情況中，最小尺寸d1可為小於約500微米、或小於約400微米、或小於約350微米、或小於約300微米、或小於約250微米、或小於約200微米、或小於約150微米、或小於約100微米、或小於約90微米、或小於約80微米、或小於約70微米、或小於約60微米、或小於約50微米、或小於約40微米、或小於約30微米、或小於約20微米。
一般而言，導光部分之基座可具有應用中所欲之任何形狀(例如任何規則或不規則形狀)、以及任何大小之最小尺寸。
一般而言，導光部分之基座可呈線性，意思是，基座沿著基座之線性方向的尺寸(例如平均尺寸)實質大於基座沿著正交方向之尺寸(例如平均尺寸)。例如，在此類情況中，基座沿著線性方向之平均尺寸對基座沿著正交方向之平均尺寸的比率為至少約10、或至少約50、或至少約100、或至少約500、或至少約1000。在某些情況中，例如當基座沿著線性方向之平均尺寸對基座沿著正交方向之平均尺寸的比率為至少約10,000時，基座及導光部分以及與基座有關之一體式離散結構可視為沿著線性方向具有無窮或無限廣度或尺寸，並且沿著正交方向具有有盡或有限廣度或尺寸。在某些情況中，導光部分之基座其形狀可為直線形(例如多邊形)。在某些情況中，多邊形 可為不規則多邊形，例如矩形、或規則多邊形，例如等邊三角形、正方形、規則六邊形、或規則八邊形。在某些情況中，基座可為斜方形、梯形、平行四邊形、菱形、或扁方形。在某些情況中，基座之形狀可為曲線圖形，例如圓形、橢圓形、或拋物線。
導光部分160具有最大高度h1，其為在垂直於基座164或平面105之方向，介於基座164與黏合部分170之間的最大尺寸或距離。
在某些情況中，導光部分之各第一側面與導光膜之平面構成一範圍自約30度至約60度之夾角。例如，在導光膜100中，側面162C與導光膜之平面105構成夾角α1，並且側面162D與導光膜之平面105構成夾角α2，其中α1及α2之範圍各為約30度至約60度。在某些情況中，導光部分之各第一側面與導光膜之平面構成下列範圍之夾角：約35度至約55度、或約40度至約50度、或約41度至約49度、或約42度至約48度、或約43度至約47度、或約44度至約46度。在某些情況中，導光部分之各第一側面與導光膜之平面構成約45度之夾角。例如，在某些情況中，夾角α1及α2各可為約45度。
如圖3所示，在有利實施例中，一體式離散結構150可包括主要設計用以將導光膜黏合至表面之黏合部分170。在某些情況中，黏合部分170亦可進行、或經設計用以進行其他功能，但導光部分的主要功能是經由例如黏著層將導光膜黏合至鄰近表面。請參照圖4，黏合部分570相較於導光部分560可屬於光學非活性或具有實質上較小之光學活性。黏合部分170係置於導光部分160之上。黏合部分 170亦置於多個側面162之上及之間。例如，黏合部分170A係置於側面162C與162D之上及之間。
一般而言，黏合部分170可具有任何形狀，例如任何應用中所欲之規則或不規則形狀。例如，在某些情況中，黏合部分170可為或包括三維直線體，例如四面體、稜柱體、或角錐、或此類主體之一部分、或組合，例如平截頭體。在某些情況中，黏合部分170可為或包括三維曲線體，例如一部分球、非球面、橢球、似球體、拋物線體、圓錐體、或圓柱體。
黏合部分170包括複數個側面172。例如，在例示性導光膜100中，黏合部分170A包括側面172A及相對的側面172B。一般而言，黏合部分170可具有二或多個側面。
在本文中所揭示一體式離散結構之黏合部分主要係設計用以將導光部分黏合至鄰近表面。例如，請參閱圖4，一體式離散結構500包括黏合部分570，黏合部分570包括側面572A及572B，並且將導光部分560黏合或附接至底漆層600之鄰近表面595。黏合部分570之主要功能是要將一體式離散結構500或導光部分560黏合至表面595。在某些情況或應用中，黏合部分570亦可導光。例如，黏合部分570可將光線550導向成光線551，但此導光功能不是黏合部分的主要功能。反而，導光功能是黏合部分的次要功能。
在本文中所揭示一體式離散結構之黏合部分及導光部分具有多個或複數個側面。一般而言，在本文中所揭示的側面可具有在 應用中所欲之任何形狀，例如任何規則或不規則形狀。例如，在某些情況中，側面可為或包括平面部分。
導光膜100之一體式離散結構150之各黏合部分170皆具有基座，該基座為黏合部分之最大截面，此截面平行於導光膜之平面，並且藉由黏合部分之側面定界限。基座174係藉由側面172定界限。例如，黏合部分170具有基座174，基座174為黏合部分之最大截面，此截面平行於導光膜之平面105，並且藉由黏合部分之側面172A與172B定界限。
黏合部分174之基座沿著x方向在例示性導光膜100中包括最小尺寸d2。一般而言，黏合部分之基座可具有應用中所欲之任何形狀(例如任何規則或不規則形狀)、以及任何大小之最小尺寸。一般而言，黏合部分之基座可呈線性，意思是，基座沿著基座之線性方向的尺寸(例如平均尺寸)實質大於基座沿著正交方向之尺寸(例如平均尺寸)。例如，在此類情況中，基座沿著線性方向之平均尺寸對基座沿著正交方向之平均尺寸的比率為至少約10、或至少約50、或至少約100、或至少約500、或至少約1000。在某些情況中，例如當基座沿著線性方向之平均尺寸對基座沿著正交方向之平均尺寸的比率為至少約10,000時，基座、黏合部分以及與基座有關之一體式離散結構可視為沿著線性方向具有無窮或無限廣度或尺寸，並且沿著正交方向具有有盡或有限廣度或尺寸。在某些情況中，黏合部分之基座其形狀可為直線形(例如多邊形)。在某些情況中，多邊形可為不規則多邊形，例如矩形、或規則多邊形，例如等邊三角形、正方形、規則六 邊形、或規則八邊形。在某些情況中，基座可為斜方形、梯形、平行四邊形、菱形、或扁方形。在某些情況中，基座之形狀可為曲線圖形，例如圓形、橢圓形、或拋物線。
回顧圖3，黏合部分170具有最大高度h2，其為在垂直於導光膜之基座174或平面105的方向，介於黏合部分之基座174與頂部之間的最大尺寸或距離。一般而言，在本文中所揭示黏合部分之高度可沿著一或多個方向而變。一般而言，所揭示線性一體式離散結構之高度可維持恒定、或沿著一體式離散結構之長度而變。在某些情況中，黏合部分之各側面皆與導光膜之平面構成大於約60度之夾角。在某些情況中，黏合部分之各側面皆與導光膜之平面構成下列夾角：大於約65度、或大於約70度、或大於約75度、或大於約80度、或大於約85度。
在某些情況中，在本文中所揭示導光膜中的各一體式離散結構皆包括複數個側面，其中側面與導光膜之平面構成下列範圍的夾角者形成或界定一體式離散結構之導光部分：約35度至約55度、或約40度至約50度、或約41度至約49度、或約42度至約48度、或約43度至約47度、或約44度至約46度，以及側面與導光膜之平面構成下列夾角者形成或界定一體式離散結構之黏合部分：大於約60度、或大於約65度、或大於約70度、或大於約75度、或大於約80度、或大於約85度。
在某些情況中，一體式離散結構之黏合部分之基座的最小尺寸實質小於一體式離散結構之導光部分之基座的最小尺寸。例 如，請參考圖3，在某些情況中，最小尺寸d2實質上小於最小尺寸d1。例如，在此類情況中，最小尺寸d2相較於最小尺寸d1係小於約20%、或小於約18%、或小於約16%、或小於約14%、或小於約12%、或小於約10%、或小於約9%、或小於約8%、或小於約7%、或小於約6%、或小於約5%、或小於約4%、或小於約3%、或小於約2%、或小於約1%。
在某些情況中，黏合部分170具有大於1之外觀比(aspect ratios)。例如，在某些情況中，黏合部分170之最大高度h2對黏合部分之第二最小尺寸d2的比率大於1。例如，在此類情況中，比率h2/d2係至少約1.2、或至少約1.4、或至少約1.5、或至少約1.6、或至少約1.8、或至少約2、或至少約2.5、或至少約3、或至少約3.5、或至少約4、或至少約4.5、或至少約5、或至少約5.5、或至少約6、或至少約6.5、或至少約7、或至少約8、或至少約9、或至少約10、或至少約15、或至少約20。
在其他實施例中，第一光學薄膜包含複數個沒有黏合部分之結構。在此實施例中，整個結構實質上可具有光學活性。
例如，圖5A及圖5B係導光膜2100之一示意性三維圖，其包括複數個置於基材2120上並且沿著y方向線性延伸之線性稜鏡結構2110。
在另一實例中，第一光學薄膜包含複數個沒有黏合部分之結構，圖6係導光膜4300之另一示意性三維圖，其包括複數個線性稜鏡結構(例如4320、4330、4340)。圖6有別於圖5A及圖5B之 處在於稜鏡結構不具有相同高度。反而，一部分稜鏡比相鄰稜鏡具有更大的高度。在此實施例中，稜鏡結構之頂點非共面，如圖6所示。
一體式離散結構(例如150、500、4320)能具有任何應用所欲之折射率。例如，在某些情況中，一體式離散結構之折射率其範圍係自約1.4至約1.8、或自約1.5至約1.8、或自約1.5至約1.7。在某些情況中，一體式離散結構之折射率不小於約1.5、或不小於約1.55、或不小於約1.6、或不小於約1.65、或不小於約1.7。
一般而言，導光部分可具有多個側面。在某些情況中，例如在線性一體式離散結構的情況中，各導光部分皆可包括兩個相對的側面。
回頭參照圖3，導光部分160之相對的側面162界定夾角θ1，其為介於兩相對側面之間的角度。在某些情況中，夾角θ1的範圍係自約60度至約120度、或約65度至約115度、或約70度至約110度、或約75度至約105度、或約80度至約100度、或約85度至約95度。在某些情況中，夾角θ1係約88度、或約89度、或約90度、或約91度、或約92度。
導光部分160A之側面162A與法線180構成夾角θ3，法線180係垂直於導光膜100或導光膜之平面105。在某些情況中，導光部分之側面與垂直於導光膜之法線之間的夾角θ3其範圍自約30度至約60度、或自約35度至約55度、或自約40度至約50度、或自約42度至約48度、或自約43度至約47度、或自約44度至約46度。
剛才說明的各種夾角亦適用於包含無黏合部分之一體式結構的導光膜，例如圖5至圖6。
黏合部分170之相對側面172界定夾角θ2，其為介於兩相對側面之間的夾角。在某些情況中，介於黏合部分之兩相對側面之間的夾角θ2係小於約40度、或小於約35度、或小於約30度、或小於約25度、或小於約20度、或小於約15度、或小於約12度、或小於約10度、或小於約9度、或小於約8度、或小於約7度、或小於約6度、或小於約5度、或小於約4度、或小於約3度、或小於約2度、或小於約1度。在某些情況中，黏合部分170之相對側面172彼此互相平行。在此類情況中，兩相對側面之間的夾角為零。
黏合部分170之側面172與垂直於導光膜100或導光膜之平面105的法線181構成夾角θ4。在某些情況中，黏合部分170之側面172與垂直於導光膜100之法線181之間的夾角θ4其範圍係約零度至約40度、或約零度至約35度、或約零度至約30度、或約零度至約25度、或約零度至約20度、或約零度至約15度、或約零度至約10度、或約零度至約5度。
在某些情況中，一體式離散結構150之導光部分之側面與垂直於導光膜100之法線(例如法線180)構成夾角θ3，並且該相同一體式離散結構之黏合部分之側面與垂直於導光膜100之法線(例如法線180)構成夾角θ4。在某些情況中，θ4小於θ3。在某些情況中，θ4小於θ3至少約5度、或約10度、或約15度、或約20度、或約25度、或約30度、或約35度、或約40度。
在某些情況中，導光膜之導光部分可具有實質上相等的最大高度。例如，導光部分160可具有實質上相等的最大高度h1。在某些情況中，至少兩個導光部分可具有不相等的最大高度。
在某些情況中，所揭示導光部分之最大高度為小於約500微米、或小於約400微米、或小於約300微米、或小於約200微米、或小於約100微米、或小於約90微米、或小於約80微米、或小於約70微米、或小於約60微米、或小於約50微米、或小於約40微米、或小於約30微米、或小於約20微米、或小於約15微米、或小於約10微米。
回頭參照圖3，各黏合部分170皆包括頂部表面190，其連接黏合部分之複數個側面172。在某些情況中，頂部表面190實質上可為平面型。一般而言，黏合部分之頂部表面可具有應用所欲之任何形狀(例如任何規則或不規則形狀)或外形。例如，在某些情況中，黏合部分之頂部表面實質上呈分段式平面型。
在某些情況中，例如若面呈平面型，則導光膜之黏合部分中與導光膜之平面構成大於約60度、或約65度、或約70度、或約75度、或約80度、或約85度之夾角的面形成黏合部分之側面，並且黏合部分中與導光膜之平面構成小於約60度、或約55度、或約50度、或約45度、或約40度、或約35度、或約30度、或約25度、或約20度、或約15度、或約10度之夾角的面形成黏合部分之頂部表面。
一般而言，導光膜中之一體式離散結構可或不可具有連接盤部分。在某些情況中，導光膜之複數個一體式離散結構中至少某些一體式離散結構在垂直於導光膜之方向具有對稱截面外形，對稱一體式離散結構的意思是，一體式離散結構之導光部分以及黏合部分具有對稱外形。例如，若一體式離散結構之黏合及導光部分具有對稱外形，即使一體式離散結構之其他部分(例如連接盤部分)具有不對稱外形，該一體式離散結構仍被視為具有對稱外形。在某些情況中，導光膜之複數個一體式離散結構中，至少某些一體式離散結構在垂直於導光膜之方向具有不對稱截面外形。
第一光學薄膜係以透光黏著層黏合至基材(例如第二光學薄膜)，形成光學堆疊。
圖7A及圖7B係光學堆疊2000之示意側視圖，其包括置於導光膜2010上之光學薄膜2090，其中導光膜2010可為任何在本文中所揭示之導光膜。導光膜2010包括第一結構化主要表面2020以及相對的第二主要表面2025。第一結構化主要表面2020包括複數個置於基材2005上之一體式離散結構2030。至少某些一體式離散結構各包括主要用於導光之導光部分2040、以及主要用於將導光膜黏合至光學薄膜2090之黏合部分2050。在某些情況中，例如在例示性光學堆疊2000之情況中，導光膜2010之至少某些黏合部分2050之至少部分穿透進入光學薄膜2090，並且導光膜2010之至少某些導光部分2040之至少部分未穿透進入光學薄膜2090。在此類情況中，光學堆疊2000在導光膜2010與光學薄膜2090之間包括複數個未填充空隙 2015，其中未填充空隙可含有空氣及/或氣體。在某些情況中，複數個未填充空隙2015中之至少某些各自實質覆蓋由光學薄膜2090、以及二或多個相鄰一體式離散結構2030之部分所界定之區域，這二或多個相鄰一體式離散結構2030未穿透進入光學薄膜並且直接環繞該區域。例如，在此類情況中，未填充空隙覆蓋至少50%、或至少60%、或至少70%、或至少80%、或至少90%由光學薄膜2090、以及二或多個未穿透進入光學薄膜之相鄰一體式離散結構2030之部分所定義之區域。例如，在線性一體式離散結構2030之情況中，未填充空隙2015實質上覆蓋頂部由光學薄膜2090界定、右側由尚未穿透進入光學薄膜之線性一體式離散結構2030A之部分2021界定、並且左側由尚未穿透進入光學薄膜之線性一體式離散結構2030B之部分2022界定的區域。
第二光學薄膜2090包括光學層2070、置於光學層2070上之底漆層2075、以及置於底漆層2075之光學黏著層2060。穿透進入光學薄膜的導光膜2010之黏合部分2050的部分穿透進入光學黏著層。光學黏著層2060將導光膜2010附接或黏合至光學層2070之光學層2070或主要表面2071，同時實質上維持導光部分2040的空氣環境或周圍環境。在某些情況中，黏合部分2050具有可在光學薄膜2090與導光膜2010之間產生強黏合性之高外觀比。在某些實施例中，光學黏著層2060係直接黏合至光學薄膜2090之底漆層2075。在其他實施例中，光學層2070進一步包括含有底漆層2075之微結構(例如漫射體)表面層2076，如圖7B所示。
穿透進入光學黏著層之黏合部分2050具有一平均最大高度h2,avg，其為穿透進入光學黏著層之個別黏合部分之最大高度h2的平均。在某些情況中，h2,avg大於光學黏著層2060之平均厚度h3。例如，在此類情況中，h2,avg大於h3至少0.2微米、或至少0.3微米、或至少0.4微米、或至少0.5微米、或至少0.7微米、或至少1微米、或至少1.2微米、或至少1.5微米、或至少1.7微米、或至少2微米。
當個別黏合部分之平均高度大於光學黏著層之平均厚度h3時，黏合部分之高度可在結構之光學活性部分與黏著層之間產生實體間隔。若黏著劑組成物未在正常使用堆疊期間流動或「潛變」，則間隔或空氣介面得以維持或實質上未變更。可在高溫下，選擇性地結合高濕度，使用老化試驗模擬此用法。
或者，當個別黏合部分之平均高度小於光學黏著層之平均厚度h3時，穿透深度及在正常使用堆疊期間維持此穿透係於結構之光學活性部分與黏著層之間提供間隔。
在一實施例中，光學黏著層具有約3至6微米之平均厚度h3；並且黏合部分具有約4微米之平均最大高度h2,avg。
一般而言，基材(例如130、2005、2120、4310)，例如光學薄膜基材2070，可包括任何光學層並且提供任何應用所欲之功能。例如，在某些情況中，基材主要可為其他層提供支撐。如另一實例，所揭示之基材可藉由包括例如反射或吸收偏光鏡進行光之偏光作用、藉由包括光學漫射體令光漫射、藉由包括導光膜導光或重定向光。
例如，在某些情況中，光學層2070可為或包括吸收偏光鏡。如另一實例，在某些情況中，光學薄膜2090或光學層2070可包括反射偏光鏡。在某些情況中，反射偏光鏡可包括多層光學薄膜，其中該等層中至少某些屬於雙折射型。在某些情況中，反射偏光鏡可包括交替層，其中該等交替層之至少一者包括雙折射材料。在某些情況中，反射偏光鏡可包括線柵反射偏光鏡、或膽固醇狀反射偏光鏡。在某些情況中，反射偏光鏡可為或包括纖維偏光鏡。在此類情況中，反射偏光鏡包括複數個實質地平行纖維，其形成一或多層嵌入黏合劑內之纖維，黏合劑及纖維之至少一者包括雙折射材料。實質地平行之纖維界定透射軸及反射軸。纖維偏光鏡令平行於透射軸偏振之入射光實質地透射，並且將平行於反射軸偏振之入射光實質地反射。纖維偏光鏡之實例係描述於例如美國專利第7,599,592號及第7,526,164號，其完整內容係以引用方式併入本文中。
如另一實例，光學層2070可為或包括用於例如對光學薄膜2090提供支撐之基材。例如，基材2070可包括由玻璃及/或聚合物(例如聚乙烯對苯二甲酸酯(PET)、聚碳酸酯、以及丙烯酸聚合物)構成的透光基材。在某些情況中，基材可具有多個層。在某些情況中，光學層2070可為液晶面板中的玻璃層。
黏著層的較佳厚度可隨著基材20170之組成而變。例如，當基材包含表層(例如聚碳酸酯)時，黏著層之厚度較佳的是大於黏合部分平均高度2至4微米。
在有利的實施例中，光學層2070可為或包括(例如第二)導光膜2100，其包括複數個線性稜鏡結構，例如圖5至圖6。在此類情況中，導光膜2010之一體式離散結構2030亦可為在垂直於線性稜鏡結構2110線性方向之方向延伸的線性結構。在光學層2070可為或包括含複數個線性稜鏡結構之第二導光膜的實施例中，稜鏡結構一般係出現於表面2072上，亦即光學層2070在黏著層2060對側之表面。稜鏡一般係近似正交於第一光學薄膜之稜鏡結構而置。其他稜鏡相對位向有時係為所欲。
在有利的實施例中，黏合部分2050允許導光膜2010牢固接附至光學薄膜2090或表面2071，而光學性質(例如亮度)不論在一開始及老化之後皆無耗損或耗損很少。特別的是，黏合部分具有大到足以提供充分外部表面之外觀比，用以強化導光膜與光學薄膜之間的黏附力。黏合部分相對於導光部分之寬度亦充分窄，以致導光膜及/或光學堆疊之有效透射無耗損或耗損很少。如本文中所使用，有效透射(ET)(或光學增益)為有薄膜在光學系統中之光學系統(例如顯示系統)之發光強度對無薄膜在其中之光學系統之發光強度的比率。雖然圖7繪示之各離散(例如稜鏡)結構皆包含黏合部分2050(例如延伸自(例如稜鏡)結構之頂點的柱體)，但在其他實施例中，導光膜中的某些離散結構可具有黏合部分及導光部分，某些其他離散結構可不具有黏合部分且僅具有導光部分。例如，圖8係導光膜3300之一側視示意圖，其包括置於基材3310上之第一複數個一體式離散結構3320以及第二複數個離散結構3330。一體式離散結構3320包括主要 設計用於將導光膜黏合至表面之黏合部分3340、以及主要設計用於導光並且具有夾角3355之導光部分3350。離散結構3330不包括黏合部分並且僅包括導光部分3360，導光部分3360為稜柱形並且具有頂角3365。在某些情況中，頂角3365及夾角3355可實質地相等，並且可例如為約90度。一般而言，一體式離散結構可為任何在本文中所揭示之一體式離散結構，並且離散結構3330可為任何能夠導光之離散結構。在某些情況中，一體式離散結構3320及離散結構3330可為沿著相同方向(例如y方向)延伸之線性結構。在例示性導光膜3300中，多列離散結構在一體式離散結構3320與離散結構3330之間交替。一般而言，一體式離散結構3320及離散結構3330各可形成應用所欲之任何圖案或布置。例如，離散結構3320與3330可形成規則(例如週期性)或不規則(例如隨機)圖案。
圖9係光學堆疊3400之一示意側視圖，其包括導光膜3300，導光膜3300係經由光學黏著層3420疊壓至含底漆層600之表面3410。一體式離散結構3320之黏合部分3340至少部分穿透進入光學黏著層3420，以在導光膜3300與表面3410之間提供牢固接附。在例示性光學堆疊3400中，離散結構3330未穿透進入光學黏著層，但在某些情況中，至少某些離散結構3330之部分可穿透進入光學黏著層。導光膜3300包括足夠數量之黏合部分3340，用以在導光膜3300與表面3410之間提供充分黏附力。同時，黏合部分3340之數量或密度卻又足夠低，以致光學堆疊3400之光學增益或有效透射無耗損或耗損很少。
僅一部分包含黏合部分之離散(例如稜鏡)結構一般有利於在一開始及老化之後，獲得高剝離度還有最高亮度。
黏合部分2050主要係設計用以在導光膜2010與光學薄膜2090之間，藉由充分穿透進入光學薄膜而提供充分黏附力。在兩薄膜之間提供充分黏附力的同時，黏合部分也充分窄，使得對導光膜2010或光學堆疊2000之有效透射未造成效應或造成的效應很少。例如，在某些情況中，光學堆疊(其類似於光學堆疊2000，但無黏合部分2050或一體式離散結構2030穿透進入光學黏著層2060或光學薄膜2090)具有相同的有效透射、或僅比光學堆疊2000之有效透射稍大的有效透射。在某些情況中，光學堆疊2000在老化前之有效透射，相較於無黏著及黏合部分之相同光學堆疊，不小於或小於不大於約20%、或約15%、或約10%、或約9%、或約8%、或約7%、或約6%、或約5%、或約4%、或約3%、或約2%、或約1%。
然而，在其他實施例中，離散(例如稜鏡)結構無黏合部分2050，例如延伸自(例如稜鏡)結構之頂點的柱體。例如，光重定向膜可僅包含光學活性結構，如前述圖5A、圖5B及圖6所繪示。雖然此類光學堆疊構造一般因光學活性結構(之頂點)有部分係以黏著劑覆蓋屬於光學非活性而具有較低增益，此類構造仍因剝離強度改善再加上高保持亮度或黏著層之結構穿透在老化後改變很少乃至無改變而得以改良。
一般而言，用以將含光學黏著層2060之光重定向膜2010從其所黏合之基材(例如光學薄膜2090)分離的剝離強度，大 到足以提供牢固黏附力，以致可將光學堆疊2000當作單一薄膜或單元操作，黏合部分2050不會自光學薄膜2090脫層或分離。在某些情況中，光重定向膜2010及光學黏著層2060之初始剝離強度(亦即溫度及濕度升高的條件下未老化)為至少30g/吋。
(例如黏著層2060之)黏著劑組成物係經選擇，使得光學堆疊具有經過改善之黏附力，如藉由剝離強度測量者。初始剝離強度為至少50克/吋、或約75克/吋、或約100克/吋，並且在某些實施例中為至少約150克/吋、或約175克/吋、或約200克/吋。在某些實施例中，剝離強度不大於600、700、或800克/吋。達1000克/吋之剝離強度一般導致光學薄膜或黏合基材撕破。
另外，光學堆疊之剝離強度在老化後落於剛才所述的基準內。雖然在某些實施例中，剝離強度隨著老化降低；但光學堆疊之剝離強度即使發生該降低仍部分因較高的初始剝離強度而得以改善。
在某些情況中，所揭示一體式離散結構之導光部分係設計用以將光再循環，以致例如得以增加或增強觀看者所觀看影像的亮度。例如，圖10係顯示系統1900之一示意側視圖，其包括能夠形成影像以及將影像顯示予觀看者1990，並且係經置放以從照明系統1905接收光之影像成形板1950。照明系統1905包括光學堆疊2000，光學堆疊2000係置於包括光導1920之光源1915上；用於發射光1936之燈1930，光1936進入光導，藉由全內反射在光導內傳播，並且朝影像成形板離開光導成為光1940。以及背反射鏡1910，用於將入射至該背反射鏡之光重定向朝影像成形板。導光部分2040主要係設 計用以將離開光導1920之光重定向朝向影像成形板1950、或反射離開光導再循環之光。例如，導光部分2040將離開光導1920之光1941重定向成朝向影像成形板或觀看者之光1942。另一實例中，導光部分2040接收離開光導之光1943，並且將所接收光全內部反射回去成為再循環之光1944。
一般而言，影像成形板1950可為任何類型的板，其能夠形成影像並且將影像顯示予觀看者1990。在某些情況中，影像成形板1950可為或包括液晶面板。在此類情況中，液晶影像成形板1950可包括一層置於兩面板板材(例如玻璃板)之間的液晶、置於液晶層上面的上光吸收偏光鏡層、以及置於液晶層下面的下吸收偏光鏡。上與下光吸收偏光鏡以及液晶層聯合控制透射至觀看者1990之光。在某些情況中，影像成形板1950可為單塊影像成形板、或包括複數個影像成形瓦之拼接式影像成形板。在某些情況中，光源1915可為單塊光源或包括複數個光源瓦之拼接狀光源。在某些情況中，顯示系統1900包括單塊影像成形板1950以及拼接式光源1915。拼接式光源1915可包括複數個獨立控制型拼接式光導1920，其中各光導可照明所顯示影像中的不同區域。
在某些情況中，顯示系統1900或照明系統1905可包括一或多個置於光學堆疊2000與光導1920之間的選擇層1935。例示性選擇層1935包括光漫射層以及偏光阻滯層。
一般而言，所揭示的導光膜包括含複數個一體式離散結構之第一結構化主要表面、以及與第一結構化主要表面相對的第二主 要表面。在某些情況中，所揭示的導光膜主要係設計用以從導光膜之第二主要表面側接收光。例如，圖10中的導光膜2010主要係設計用以自第二主要表面2025接收光，並且從第一結構化主要表面2020將光發射或傳送。
或者，所揭示一體式離散結構之導光部分主要係設計用以將光重定向，但非再循環。一般而言，所揭示的導光膜包括含複數個一體式離散結構之第一結構化主要表面、以及與第一結構化主要表面相對的第二主要表面。在某些情況中，所揭示的導光膜主要係設計用以從導光膜之第一結構化主要表面側接收光。
在某些情況中，第二主要表面(例如圖3之120)包括複數個有助於例如漫射光、隱藏或遮蔽缺陷(例如塵粒或刮痕)、及/或降低非期望光學效應(例如疊紋)之可見度的結構。
圖11係光學堆疊3000之一示意側視圖，其包括在第一基材3010上置放有複數個一體式離散結構3030之導光膜3020、包含底漆層3017之第二基材3015(具有面向導光膜之主要表面3018及面離導光膜之相對主要表面3019)、以及置於導光膜3020與第二基材3015之間用於將導光膜黏合或粘著至第二基材之表面3018的光學黏著層3025。
各一體式離散結構3030之部分3040穿透進入光學黏著層3025，並且可稱為一體式離散結構之穿透部分3040。各一體式離散結構3030之部分3045未穿透進入光學黏著層3025，並且可稱為一體式離散結構之非穿透部分3045。各穿透之一體式離散結構界定穿透 深度3050，其為正交於光學堆疊(z方向)之最長穿透距離。例如，一體式離散結構3030A具有穿透深度PD1，並且一體式離散結構3030B具有穿透深度PD2。各一體式離散結構亦在介於一體式離散結構之穿透部分3040與非穿透部分3045之間的界面3056界定穿透基座3054。穿透基座3054具有最小穿透基座尺寸3058，其在某些情況中，可為穿透基座沿著x軸之寬度。例如，一體式離散結構3030A具有最小穿透基座尺寸MD1，並且一體式離散結構3030B具有最小穿透基座尺寸MD2。複數個一體式離散結構3030具有平均穿透深度以及平均最小穿透基座尺寸。例如，一體式離散結構3030A與3030B具有平均穿透深度PDavg(其等於(PD1+PD2)/2)、以及平均最小穿透基座尺寸MDavg(其等於(MD1+MD2)/2)。平均穿透深度對平均最小穿透基座尺寸之比率大到足以在導光膜3020與表面3018之間提供充分黏附力。在某些情況中，平均穿透深度對平均最小穿透基座尺寸之比率(亦即剛開始及老化之後)為至少約1.2、或至少約1.4、或至少約1.5、或至少約1.6、或至少約1.8、或至少約2、或至少約2.5、或至少約3、或至少約3.5、或至少約4、或至少約4.5、或至少約5、或至少約5.5、或至少約6、或至少約6.5、或至少約7、或至少約8、或至少約9、或至少約10、或至少約15、或至少約20。
各一體式離散結構3030皆包括具有最小基座尺寸3032之基座3031，其中基座3031亦為導光部分3070之基座。例如，一體式離散結構3030A之基座具有最小基座尺寸BMD1，並且一體式離散結構3030B之基座具有最小基座尺寸BMD2。複數個一體式離散結構 3030具有平均最小基座尺寸。例如，一體式離散結構3030A及3030B具有平均最小基座尺寸BMDavg，其等於(BMD1+BMD2)/2。平均最小穿透基座尺寸MDavg相較於平均最小基座尺寸BMDavg充分較小，以致光學堆疊3000之有效透射無耗損或耗損很少。例如，在某些情況中，平均最小穿透基座尺寸小於平均最小基座尺寸約20%、或約15%、或約10%、或約9%、或約8%、或約7%、或約6%、或約5%、或約4%、或約3%、或約2%、或約1%。
光學堆疊3000在光學黏著層3025與導光膜3020之間包括複數個空隙3060。在某些情況中，空隙呈離散，意思是各空隙都可個自識別並且與其他空隙不同。在某些情況中，離散空隙的頂部係受限於光學黏著層3025、底部受限於導光膜3020、一側受限於一體式離散結構之非穿透部分、以及相對側受限於鄰近或相鄰一體式離散結構之非穿透部分。空隙一般係以空氣填充，藉以產生與光學活性結構(例如3030)之空氣界面。
穿透部分3040或一體式離散結構3030穿透進入光學黏著層3025，導致光學堆疊3000之有效透射無耗損或耗損很少。例如，在此類情況中，光學堆疊3000之初始平均有效透射(亦即在溫度及濕度升高的狀況下未老化)，相較於具有相同建造但無一體式離散結構穿透進入光學黏著層3025之光學堆疊，降低不超過10%、或約9%、或約8%、或約7%、或約6%、或約5%、或約4%、或約3%、或約2%、或約1%。
各一體式離散結構3030皆包括主要設計用於導光之導光部分3070、以及主要設計用於將導光膜3020黏合至表面3018或第二基材3015之黏合部分3080。在某些情況中，各一體式離散結構之黏合部分至少部分穿透進入光學黏著層3025，並且各一體式離散結構之導光部分至少部分未穿透進入光學黏著層。在某些情況中，例如當期望有效導光以增強亮度時，黏合部分3080僅至少部分穿透進入光學黏著層3025，並且導光部分3070無或非常少部分穿透進入光學黏著層3025。
在第一複數個一體式離散結構中之各一體式離散結構3030的部分穿透進入光學層3025。在第一複數個一體式離散結構中之各一體式離散結構3030的部分未穿透進入光學層3025。第一複數個一體式離散結構中的各一體式離散結構(例如，一體式離散結構3030A)界定穿透深度(例如，PD1)以及在一體式離散結構之穿透與非穿透部分之間的界面(例如，界面3056)處之穿透基座(例如，穿透基座3054)。穿透基座具有最小穿透基座尺寸(例如，MD1)。第一複數個一體式離散結構3030具有平均穿透深度以及平均最小穿透基座尺寸。平均穿透深度對平均最小穿透基座尺寸之比率為至少1.5，並且導光膜3020與光學層3025之間的剝離強度大於約50克/吋。
第一複數個一體式離散結構中的所有結構全都是一體式。再者，各結構僅一部分穿透進入光學層3025，產生平均穿透深度及平均最小穿透基座尺寸。此外，平均穿透深度對平均最小穿透基座尺寸之比率為至少約1.2、或至少約1.4、或至少約1.5、或至少約 1.6、或至少約1.8、或至少約2、或至少約2.5、或至少約3、或至少約3.5、或至少約4、或至少約4.5、或至少約5、或至少約5.5、或至少約6、或至少約6.5、或至少約7、或至少約8、或至少約9、或至少約10、或至少約15、或至少約20。
在某些情況中，導光膜3020可包括第二複數個一體式離散結構，其中第二複數個一體式離散結構中之至少一個一體式離散結構未穿透進入光學層3025。例如，第二複數個結構中的某些一體式離散結構相較於結構3030，短到足以使其未穿透進入光學層3025。例如，參照圖9，第一複數個一體式離散結構可包括結構3320，並且第二複數個一體式離散結構可包括結構3330，其因為短於結構3320而未穿透進入光學層3420。在某些情況中，導光膜3020可包括呈複合且非一體式之第二複數個結構。
有效透射(ET)可使用光學系統3700進行測量，其示意側視圖係示於圖12中。光學系統3700係置中於光軸3750上，並且包括透過發射或離開表面3712發射朗伯特光3715之中空朗伯特燈箱3710、用於令光3715偏振之線性光吸收偏光鏡3720、以及光偵測器3730。燈箱3710係由穩定化寬帶光源3760所照明，其係經由光纖3770連接至燈箱的內部3780。在介於燈箱與吸收線性偏光鏡之間的位置3740置放試樣3705，其ET係藉由光學系統測量。
試樣3705可為任何在本文中所揭示的導光膜或光學堆疊。例如，試樣3705可為導光膜100，其具有複數個沿著y方向延伸之線性一體式離散結構150。導光膜100之ET可藉由在位置3740置 放光重定向膜進行測量，其中一體式離散結構150面向光偵測器，並且第二主要表面120面向燈箱。其次，藉由光偵測器，透過線性吸收偏光鏡，測量光譜加權軸向發光強度I1(沿著光軸3750之發光強度)。接著，將導光膜100移除，並且測量未在位置3740置放導光膜時之光譜加權發光強度I2。ET為比率I1/I2。ET0為當線性一體式離散結構150沿著平行於線性吸收偏光鏡3720之偏光軸的方向延伸時的有效透射，並且ET90為當線性一體式離散結構150沿著垂直於線性吸收偏光鏡之偏光軸的方向延伸時的有效透射。平均有效透射(ETA)為ET0與ET90之平均。在某些實施例中，本文中所述光學薄膜中間物或光學薄膜堆疊之平均有效透射(ETA)至少為1.2、1.4、或1.6。當光學堆疊包含第一及第二光學薄膜(各包含主要係設計用以提供光學增益之光學活性微結構)時，光學薄膜堆疊之平均有效透射(ETA)至少可為2.10、或2.15、或2.20、或2.25、或2.35。
值得注意的是，黏著劑組成物係選擇成使得穿透以及平均有效透射(亦即增益)在老化後實質地未變更。老化條件可改變。除非另有所指，如本文中所使用，「老化」係指在維持65℃及95%相對溼度之試驗箱中，以至少200個小時且在某些實施例中至少500個小時之時間期間進行之加速環境老化。
在有利的實施例中，當光學堆疊處於65℃、95%相對溼度下200個小時的條件時，平均有效透射(亦即增益)呈現降低或不大於5%之光學增益。在某些實施例中，此降低係光學增益不大於4%、3.5%、3%、2.5%、2%、或1.5%。
增益降低至少部分是跟穿透率(PD)隨老化而發生改變有關。已發現只要穿透有小至如1.8微米之變更，即會導致光學增益降低約8%。對於本文中所述而體現的微結構，此變更可為穿透增加62%。在某些實施例中，穿透未隨著老化變更。在其他實施例中，穿透之變更可為5%、或10%；但不大於50%。在某些實施例中，穿透的變更不大於45%、40%、35%、30%、或25%。
增益降低也可因黏著劑隨著老化變形(例如潛變)，從而覆蓋光學活性部分之較大部分所致。
本發明的某些優點係藉由底下實例進一步說明，但實例所列舉其特定材料及量、以及其他條件與明細不應解釋成過度限制本發明。除非另有所指，在本文中，所有百分率及比率都是按重量計。這個實例中列舉的特定材料、量以及尺寸、以及其他條件與明細不應解釋成過度限制本發明。
實例
底下的材料清單適用於所有實例。
實例中使用的光學薄膜：
第二光學薄膜-薄膜A為具有兩個活性光學表面之光學薄膜。表面A為使用根據US2009/0041553所述程序生產之主要工具，根據US 5,175,030及US 5,183,597所述程序製作的稜鏡薄膜。相對表面(表面B)係經由工具4製備之微結構漫射體層，如2013年10月2日申請之申請案第61/885,723號所述者。
第一光學薄膜-薄膜B係根據US 5,175,030及US 5,183,597所述程序製作的稜鏡薄膜。具體而言，薄膜B係US2013/0004728中所述稜鏡薄膜類別之實例。圖13說明薄膜B之一代表性示意側視圖。導光膜4400包括第一複數個線性對稱一體式離散結構4420以及第二複數個線性對稱離散結構4460。結構4420以及4460沿著y方向延伸並且係置於基材4410上。基材4410係由PET 製成，具有約29微米之厚度以及約1.65之折射率。結構4420及4460經固化之折射率為約1.56。各一體式離散結構包括黏合部分4430，主要是設計用來將導光膜黏合至表面，並且置於主要設計用來導光且再循環光之導光部分4440上。離散結構4460不包括任何黏合部分，並且主要係設計用來導光定向並且再循環光。一體式離散結構4420與離散結構4460相間。
各黏合部分4430皆包括兩個相對側面4432，其與xy平面(導光膜之平面)構成約80至85度之夾角ω1。各黏合部分皆具有基座4434、約1.5(±0.5)微米之最小基座尺寸t2、以及約4(±0.5)微米之最大高度t1。各黏合部分亦包括彎曲形或圓拱形頂部表面，其具有約0.2(±0.2)微米之最小頂部表面尺寸t3。各導光部分4420皆包括兩個相對側面4422，其與xy平面(導光膜之平面)構成約45度之夾角ω2。各導光部分皆具有基座4444、約24微米之最小基座尺寸t5、以及約12微米之最大高度t4。介於一體式離散結構4420之黏合部分4430之頂點與離散結構4460之頂點之間的z軸偏離高度差為7微米。導光膜4400具有約1.63之平均有效透射ETA。
黏著劑塗佈溶液A之製備：
塗佈溶液係藉由將2,950g之聚丙烯酸酯PSA、288g之Uvacure 1500、48g之二乙基酞酸鹽、40g之FP5386、1.25g之Additol ITX、4,328g之乙酸乙酯、984g之甲醇、1,375g之甲苯混合而製備的。此塗佈溶液表示基於溶劑之黏著劑，其在乾燥時，可藉 由暴露至光化輻射進行固化，用以形成互穿網(IPN)。經乾燥之黏著劑其組成係概述於表1中。
底漆塗佈溶液B之製備：
塗佈溶液係藉由將555g之聚丙烯酸酯PSA、6.09g之Luviskol Plus、1439g之1-甲氧基-2-丙醇混合而製備的。此塗佈溶液表示基於溶劑之黏著劑底漆。乾燥之底漆其組成係概述於表2中。
底漆塗佈溶液C之製備：
塗佈溶液係藉由將279g之聚丙烯酸酯PSA、4.08g之Luvitec VPC 55K 65W、735g之1-甲氧基-2-丙醇混合而製備的。此塗佈溶液表示基於溶劑之黏著劑底漆。乾燥之底漆其組成係概述於表3中。
底漆塗佈溶液D之製備：
塗佈溶液係藉由將1.24g之Cymel 327、277g之RD1241、以及721g之1-甲氧基-2-丙醇混合而製備的。此塗佈溶液表示基於溶劑之黏著劑底漆。乾燥之底漆其組成係概述於表4中。
比較例1(無底漆)以6in(15.2cm)寬度之槽型模及26ft/min(7.92m/min)之幅速(web speed)，在薄膜A之表面B上塗佈溶液A。以24.5cc/min之流率，使用齒輪傳動泵輸送溶液。在對流烘箱中維持150℉(65.6℃)之溫度及25℉之露點將塗佈薄膜烘乾；烘箱長度為30ft(9.14m)。烘乾之黏著劑其標稱厚度為3.3微米。
然後將黏著劑塗佈薄膜A輸送至層壓站，並且予以疊壓至如實例1中薄膜B之結構側，使得薄膜B之稜鏡的頂點正交於薄膜A之稜鏡的頂點。
根據底下所述的試驗方法，測量所疊壓光學堆疊之初始光學增益及剝離力。表5概述所疊壓光學堆疊之初始值。
比較例2(含有含氮樹脂之黏著劑)使用6in(15.2cm)寬度之雙歧管槽型模及26ft/min(7.92m/min)之幅速，同時輸送塗佈溶液A及D。以指定流率，使用齒輪傳動泵輸送溶液。在對流烘箱中維持150℉(65.6℃)之溫度及25℉之露點將塗佈薄膜烘乾；烘箱長度為30ft(9.14m)。
將塗佈溶液D塗佈在基材薄膜A之表面B上。接著將塗佈溶液A塗佈在溶液D上。以6.65cc/min之流率輸送塗佈溶液D。以44.5cc/min之流率輸送塗佈溶液A。烘乾之黏著劑層其標稱總厚度為3.3微米。
將黏著劑塗佈薄膜A輸送至層壓站，並且予以疊壓至薄膜B之結構側，使得薄膜B之稜鏡的頂點正交於薄膜A之稜鏡的頂點。疊層機係組態成具有緊貼鋼輥之橡膠輥(Shore A Durometer of 40)；夾持壓維持約1.3 lbf/in(2.3N/cm)。
根據底下所述的試驗方法，測量所疊壓光學堆疊之初始光學增益及剝離力。表5概述所疊壓光學堆疊之初始值。
實例1
以6in(15.2cm)之寬度及26ft/min(7.92m/min)之幅速，使用雙歧管槽型模，同時輸送塗佈溶液A及B。以指定流率，使用齒輪傳動泵輸送溶液。在對流烘箱中維持150℉(65.6℃)之溫度及25℉之露點將塗佈薄膜烘乾；烘箱長度為30ft(9.14m)。
將塗佈溶液B塗佈在基材薄膜A之表面B上。接著將塗佈溶液A塗佈在溶液B上。以6.65cc/min之流率輸送塗佈溶液B。以44.5cc/min之流率輸送塗佈溶液A。烘乾之黏著劑層其標稱總厚度為3.3微米。
將黏著劑塗佈薄膜A輸送至層壓站，並且予以疊壓至薄膜B之結構側，使得薄膜B之稜鏡的頂點正交於薄膜A之稜鏡的頂點。疊層機係組態成具有緊貼鋼輥之橡膠輥(Shore A Durometer of 40)；夾持壓維持約1.3 lbf/in(2.3N/cm)。
根據底下所述的試驗方法，測量所疊壓光學堆疊之初始光學增益及剝離力。表5概述所疊壓光學堆疊之初始及老化性能。
實例2
以6in(15.2cm)之寬度及26ft/min(7.92m/min)之幅速，使用雙歧管槽型模，同時輸送塗佈溶液A及C。以指定流率，使用齒輪傳動泵輸送溶液。在對流烘箱中維持150℉(65.6℃)之溫度及25℉之露點將塗佈薄膜烘乾；烘箱長度為30ft(9.14m)。
將塗佈溶液C塗佈在基材薄膜A之表面B上。接著將塗佈溶液A塗佈在溶液C上。以6.65cc/min之流率輸送塗佈溶液C。以44.5cc/min之流率輸送塗佈溶液A。烘乾之黏著劑層其標稱總厚度為3.3微米。
將黏著劑塗佈薄膜A輸送至層壓站，並且予以疊壓至薄膜B之結構側，使得薄膜B之稜鏡的頂點正交於薄膜A之稜鏡的頂 點。疊層機係組態成具有緊貼鋼輥之橡膠輥(Shore A Durometer of 40)；夾持壓維持約1.3 lbf/in(2.3N/cm)。
根據底下所述的試驗方法，測量所疊壓光學堆疊之初始光學增益及剝離力。表5概述所疊壓光學堆疊之性能。
光學增益之測量：
各薄膜或薄膜層疊皆置於漫透射中空燈箱的頂部。燈箱之漫透射及反射近似於朗伯特。燈箱為六面中空矩形固體，尺寸為12.5cm乘12.5cm乘11.5cm，係由約0.6mm厚的漫射PTFE板製成。箱之一面係指定為試樣面。中空燈箱具有約0.83%之漫射反射率，係於試樣面以400-700nm波長範圍進行平均所測量到的。在增益檢驗期間，箱係自內部經由該箱之試樣面對側之表面的直徑約1cm之圓洞照明，光係朝向試樣面。照明係由附接至光纖束之用於導光之穩定化寬頻白熾光源(可得自Schott North America,Southbridge MA，如附有一公分直徑纖維束擴充之Fostec DCR-III)所提供。線性吸收偏光鏡(可得自CVI Melles Griot,Albuquerque NM，如Melles Griot 03 FPG 007)係安裝在旋轉台(可得自Aerotech,Pittsburgh,PA，如ART310-UA-G54-BMS-9DU-HC)上，並且係置放於試樣與照相機之間。照相機係對焦於距離0.28m之燈箱之試樣面，並且吸收偏光鏡係置於離照相機鏡頭約1.3cm處。經照明之燈箱在有放置偏光鏡且無放置試樣薄膜時所測量之發光強度大於150cd/m2。試樣發光強度係利用經由Vis-NIR光纖電纜(可得自StellarNet Inc,Tampa,FL，如 F1000-Vis-NIR)連接至準直鏡之EPP2000分光計(可得自StellarNet Inc,Tampa,FL)測量；當試樣薄膜置放於試樣面上時，分光計係定向為垂直入射至箱試樣面之平面。準直鏡係由透鏡鏡筒(可得自Thorlabs,Newton,NJ，如SM1L30)以及平凸透鏡(可得自Thorlabs,Newton,NJ，如LA1131)所組成；組裝設置以於偵測器達到5mm之聚焦光點大小。光學增益係測定成有放置試樣薄膜之發光強度對無放置試樣之燈箱所發出之發光強度的比率。對於所有薄膜，光學增益是在相對於試樣定向0、45及90度之偏光鏡夾角進行測定。報告於0及90度測量到的數值之平均光學增益。
光學堆疊之剝離強度之測量：
使用IMASS SP-2000測試器(可得自IMASS Inc.,Accord MA)測量剝離力。以平行於底部稜鏡薄膜之稜鏡位向切削1吋(2.54cm)寬及近似10in(25.4cm)長之試驗條。使用1吋(2.54cm)寬的Scotch雙面膠帶(可得自3M Company,St.Paul MN如Scotch 665者)，將層疊條粘著至測試器平台。將測試器組態成用以測量180度剝離力。將試樣取向以致底部稜鏡薄膜之平側係黏著至測試器平台，並且頂部薄膜係附接至力秤。荷重元容量為10 lbf(44.5N)。剝離力係以12in/min(30.5cm/min)之速度測量。在2秒之初始遲延之後收集數據。然後將測量結果以20秒試驗週期進行平均。各試樣條最少都收集連續二次20秒之測量結果。將2條兩次測量之數據平均化，每次共4個測量結果。
200‧‧‧物材
220‧‧‧基材
221‧‧‧基材
225‧‧‧底漆層
250‧‧‧黏著層

Claims (30)

  1. 一種光學薄膜堆疊，其包含：一第一光學薄膜，其利用一固化黏著層黏合至一第二光學薄膜之一微結構表面層，該固化黏著層包含一聚丙烯酸酯及可聚合單體之反應產物的一互穿網；其中該第二光學薄膜進一步包含置於該固化黏著層與該第二基材之該微結構表面層之間的一底漆層，並且該底漆層包含一聚丙烯酸酯及一含氮聚合物。
  2. 如請求項1之光學薄膜堆疊，其中該第一光學薄膜包含複數個結構，該複數個結構包含一光學活性部分，該光學活性部分主要係設計用來在一第一表面上提供光學增益，該第一表面利用該固化黏著層黏合至該第二光學薄膜之該微結構表面層，使得該等結構之一部分穿透該黏著層且在該固化黏著層與該第一表面之間提供一間隔。
  3. 如請求項2之光學堆疊，其中該第一光學薄膜或結構之至少一部分包含一穿透該黏著層之黏合部分。
  4. 如請求項3之光學堆疊，其中該等結構之光學活性部分未穿透該黏著層。
  5. 如請求項1至4之光學堆疊，其中該等結構包含稜鏡微結構。
  6. 如請求項5之光學堆疊，其中該等稜鏡之至少一部分包含一自該等稜鏡之頂點延伸的一柱體，其作用為一光學非活性黏合部分。
  7. 如前述請求項之光學堆疊，其中該光學堆疊具有一至少為1.8的光學增益。
  8. 如前述請求項之光學堆疊，其中介於該固化黏著層與該第一表面之間的該間隔提供一空氣界面。
  9. 如前述請求項之光學堆疊，其中該固化黏著層在25C下具有自100至2000MPa之範圍的彈性模數。
  10. 如前述請求項之光學堆疊，其中該含氮聚合物包含至少一氮原子，其包含一對自由電子。
  11. 如前述請求項之光學堆疊，其中該固化黏著層不具有一含氮單體或聚合物。
  12. 如前述請求項之光學堆疊，其中該底漆層包含高達5wt-%之一或多個含氮聚合物。
  13. 如前述請求項之光學堆疊，其中該含氮聚合物為乙烯己內醯胺、乙烯基吡咯烷酮、或其一組合物之一均聚物或共聚物。
  14. 如前述請求項之光學堆疊，其中該黏著層之該可聚合單體包含一包含陽離子可聚合基團之單體，該等陽離子可聚合基團具有每陽離子可聚合基團一小於150g/莫耳之分子量。
  15. 如前述請求項之光學堆疊，該固化黏著層之該可聚合單體為一環氧樹脂。
  16. 如請求項14至15之光學堆疊，其中該固化黏著層進一步包含一光活性化陽離子起始劑。
  17. 如前述請求項之光學堆疊，其中該固化黏著層包含約35wt-%至約75wt-%的該聚丙烯酸酯。
  18. 如前述請求項之光學堆疊，其中該固化底漆層包含至少75wt-%的該聚丙烯酸酯。
  19. 如前述請求項之光學堆疊，其中該等底漆層、黏著層、或其組合物之該聚丙烯酸酯為一壓敏黏著劑。
  20. 如前述請求項之光學堆疊，其中該等底漆層、黏著層、或其組合物之該聚丙烯酸酯包含至少40wt-%的含分枝C4-C12烷基的單體重複單元。
  21. 如前述請求項之光學堆疊，其中該微結構表面層包含複數個峰並且該等峰不具有消光粒子。
  22. 一種物件，其包含一基材、一置於該基材上的底漆層、以及一置於該底漆層上之黏著層；其中該底漆層包含一聚丙烯酸酯及一含氮聚合物，並且該黏著層包含一聚丙烯酸酯組分。
  23. 如請求項22之物件，其中該黏著劑係進一步黏合至一第二基材或一離型襯墊。
  24. 如請求項22至23之物件，其中至少一基材進一步包含一微結構表面層並且該底漆層係黏合至該微結構表面層。
  25. 如請求項24之物件，其中該微結構表面層包含複數個峰並且該等峰不具有消光粒子。
  26. 如請求項22至25之物件，其中該基材為一光學基材。
  27. 如請求項22至26之物件，其中該黏著劑包含該聚丙烯酸酯及一可聚合單體之反應產物的一互穿網。
  28. 如請求項22至27之物件，其中該物件係根據請求項9至20中任一項或組合予以進一步特徵化。
  29. 一種製作一基材之方法，其包含以一底漆層塗佈一基材，該底漆層包含一聚丙烯酸酯及一含氮聚合物；以及將一黏著層置於該底漆層上，其中該黏著劑組成物包含一聚丙烯酸酯組分。
  30. 如請求項29之方法，其係根據請求項23至28中任一項或組合予以進一步特徵化。
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