JP2008306188A - 遮光型水溶性樹脂組成物 - Google Patents
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- 239000011342 resin composition Substances 0.000 title claims abstract description 47
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 16
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 42
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 25
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 25
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 claims abstract description 24
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 15
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 11
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 88
- 239000000975 dye Substances 0.000 claims description 47
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 30
- -1 polyvinylamine Polymers 0.000 claims description 18
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 14
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 12
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol Natural products OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 11
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 10
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 claims description 8
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 claims description 8
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 claims description 7
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 claims description 7
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 7
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical group OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 6
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 claims description 4
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N heptan-2-one Chemical compound CCCCCC(C)=O CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 claims description 4
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 claims description 4
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 claims description 4
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 claims description 4
- 239000001007 phthalocyanine dye Substances 0.000 claims description 3
- JOUDBUYBGJYFFP-FOCLMDBBSA-N thioindigo Chemical compound S\1C2=CC=CC=C2C(=O)C/1=C1/C(=O)C2=CC=CC=C2S1 JOUDBUYBGJYFFP-FOCLMDBBSA-N 0.000 claims description 3
- LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-yl acetate Chemical compound CCOCC(C)OC(C)=O LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- BCHZICNRHXRCHY-UHFFFAOYSA-N 2h-oxazine Chemical compound N1OC=CC=C1 BCHZICNRHXRCHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 8beta-(2,3-epoxy-2-methylbutyryloxy)-14-acetoxytithifolin Natural products COC(=O)C(C)O LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 235000000177 Indigofera tinctoria Nutrition 0.000 claims description 2
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 claims description 2
- 229920002873 Polyethylenimine Polymers 0.000 claims description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Chemical compound NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000000999 acridine dye Substances 0.000 claims description 2
- 239000001000 anthraquinone dye Substances 0.000 claims description 2
- 239000000987 azo dye Substances 0.000 claims description 2
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N carbonic acid Chemical compound OC(O)=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000005626 carbonium group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000000664 diazo group Chemical group [N-]=[N+]=[*] 0.000 claims description 2
- CZZYITDELCSZES-UHFFFAOYSA-N diphenylmethane Chemical compound C=1C=CC=CC=1CC1=CC=CC=C1 CZZYITDELCSZES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N doxepin Chemical compound C1OC2=CC=CC=C2C(=C/CCN(C)C)/C2=CC=CC=C21 ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N 0.000 claims description 2
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 claims description 2
- 229940097275 indigo Drugs 0.000 claims description 2
- COHYTHOBJLSHDF-UHFFFAOYSA-N indigo powder Natural products N1C2=CC=CC=C2C(=O)C1=C1C(=O)C2=CC=CC=C2N1 COHYTHOBJLSHDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 150000002596 lactones Chemical class 0.000 claims description 2
- 229940057867 methyl lactate Drugs 0.000 claims description 2
- 239000001005 nitro dye Substances 0.000 claims description 2
- 239000001006 nitroso dye Substances 0.000 claims description 2
- 229920000083 poly(allylamine) Polymers 0.000 claims description 2
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000001008 quinone-imine dye Substances 0.000 claims description 2
- 239000001016 thiazine dye Substances 0.000 claims description 2
- 239000001017 thiazole dye Substances 0.000 claims description 2
- AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N triphenylmethane Chemical compound C1=CC=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000001018 xanthene dye Substances 0.000 claims description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 claims description 2
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol monomethyl ether acetate Natural products COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-ol Chemical compound CCOCC(C)O JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- KVXNKFYSHAUJIA-UHFFFAOYSA-N acetic acid;ethoxyethane Chemical compound CC(O)=O.CCOCC KVXNKFYSHAUJIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 12
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 12
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 7
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 7
- AOMZHDJXSYHPKS-UHFFFAOYSA-L disodium 4-amino-5-hydroxy-3-[(4-nitrophenyl)diazenyl]-6-phenyldiazenylnaphthalene-2,7-disulfonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S(=O)(=O)C1=CC2=CC(S([O-])(=O)=O)=C(N=NC=3C=CC=CC=3)C(O)=C2C(N)=C1N=NC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1 AOMZHDJXSYHPKS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 5
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- 238000007539 photo-oxidation reaction Methods 0.000 description 4
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 2
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- LXOFYPKXCSULTL-UHFFFAOYSA-N 2,4,7,9-tetramethyldec-5-yne-4,7-diol Chemical compound CC(C)CC(C)(O)C#CC(C)(O)CC(C)C LXOFYPKXCSULTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CEBKHWWANWSNTI-UHFFFAOYSA-N 2-methylbut-3-yn-2-ol Chemical compound CC(C)(O)C#C CEBKHWWANWSNTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MUZDXNQOSGWMJJ-UHFFFAOYSA-N 2-methylprop-2-enoic acid;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CC(=C)C(O)=O MUZDXNQOSGWMJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NUYADIDKTLPDGG-UHFFFAOYSA-N 3,6-dimethyloct-4-yne-3,6-diol Chemical compound CCC(C)(O)C#CC(C)(O)CC NUYADIDKTLPDGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZTQSAGDEMFDKMZ-UHFFFAOYSA-N Butyraldehyde Chemical group CCCC=O ZTQSAGDEMFDKMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002845 Poly(methacrylic acid) Polymers 0.000 description 1
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 1
- 125000004036 acetal group Chemical group 0.000 description 1
- TUVYSBJZBYRDHP-UHFFFAOYSA-N acetic acid;methoxymethane Chemical compound COC.CC(O)=O TUVYSBJZBYRDHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 239000000980 acid dye Substances 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000000593 degrading effect Effects 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 150000003903 lactic acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 229920003145 methacrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229940117841 methacrylic acid copolymer Drugs 0.000 description 1
- 229920003146 methacrylic ester copolymer Polymers 0.000 description 1
- 125000001434 methanylylidene group Chemical group [H]C#[*] 0.000 description 1
- QXLPXWSKPNOQLE-UHFFFAOYSA-N methylpentynol Chemical compound CCC(C)(O)C#C QXLPXWSKPNOQLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 description 1
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- H01L29/76—Unipolar devices, e.g. field effect transistors
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Abstract
【課題】有機電気素子の有機半導体膜が層間絶縁膜と接して形成される場合に、結晶性が低下し層間絶縁膜に対する光照射時に光酸化されることを防止するために、有機半導体膜と層間絶縁膜の間に位置する遮光性保護膜として有用に使用することができる遮光型水溶性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】本発明は遮光型水溶性樹脂組成物に関し、特に（ａ）水溶性樹脂；（ｂ）水溶性染料化合物；（ｃ）溶媒を含むことを特徴とする有機半導体保護膜用遮光型水溶性樹脂組成物に関する。
【選択図】図１
【解決手段】本発明は遮光型水溶性樹脂組成物に関し、特に（ａ）水溶性樹脂；（ｂ）水溶性染料化合物；（ｃ）溶媒を含むことを特徴とする有機半導体保護膜用遮光型水溶性樹脂組成物に関する。
【選択図】図１
Description
本発明は遮光型水溶性樹脂組成物に関し、より詳しくは、有機薄膜トランジスタ（ＯＴＦＴ；organic thin-film transistor）、柔軟性を有するディスプレイ（flexible display）、または有機電気発光素子（ＯＬＥＤ；organic light-emitting device）の有機半導体膜が層間絶縁膜と接して形成される場合に結晶性が低下し層間絶縁膜に対する光照射時に光酸化することを防止するための有機半導体保護膜用遮光型水溶性樹脂組成物に関する。
従来ＯＴＦＴ製造工程では有機半導体膜の成膜後に有機溶媒を基本として使用する層間絶縁膜であるフォトレジストを有機半導体膜に直接接して形成することによって、有機溶媒に対してぜい弱な有機半導体薄膜の結晶性が低下してＯＴＦＴ駆動時に電気移動度及びオン／オフ電気性能が落ちる問題があった。
また、有機半導体は、紫外線領域の光に露出された時、光酸化されて光安定性が低下し、層間絶縁膜であるフォトレジストの形状化のために層間絶縁膜への紫外線領域の露光時、これに密接な有機半導体膜が光を吸収し光酸化現象を発生させて、有機半導体の物性を低下させ、さらに素子性能を低下させる問題が発生した。従って、ＯＴＦＴ製造工程中の有機半導体薄膜の損傷を最少化させるための研究が必要であるのが実情である。
このような従来の技術の問題点を解決しようと、本発明はＯＴＦＴ、柔軟性を有するディスプレイまたはＯＬＥＤなど有機電気素子の有機半導体膜と層間絶縁膜（有機溶媒を基本とするフォトレジスト）の間に位置して有機半導体の遮光性保護膜に適した遮光型水溶性樹脂組成物、及び前記組成物を硬化させた遮光性保護膜を含む有機電気素子及び前記遮光型水溶性樹脂組成物を利用した有機電気素子の製造方法を提供することを目的とする。
前記目的を達成するために、本発明は、
（ａ）水溶性樹脂；
（ｂ）水溶性染料化合物；
（ｃ）溶媒を含む遮光型水溶性樹脂組成物を提供する。
（ａ）水溶性樹脂；
（ｂ）水溶性染料化合物；
（ｃ）溶媒を含む遮光型水溶性樹脂組成物を提供する。
好ましくは、本発明は、
（ａ）水溶性樹脂１００質量部；
（ｂ）水溶性染料化合物５〜５０質量部；
（ｃ）溶媒を組成物総量中の固形分含量が３〜６０質量％になるように含む遮光型水溶性樹脂組成物を提供する。
（ａ）水溶性樹脂１００質量部；
（ｂ）水溶性染料化合物５〜５０質量部；
（ｃ）溶媒を組成物総量中の固形分含量が３〜６０質量％になるように含む遮光型水溶性樹脂組成物を提供する。
また、本発明は、前記遮光型水溶性樹脂組成物を硬化させた遮光性保護膜を有機半導体膜と層間絶縁膜の間に含む有機電気素子を提供する。
また、本発明は、前記遮光型水溶性樹脂組成物を有機半導体膜上に塗布した後に硬化させて遮光性保護膜を形成し、前記遮光性保護膜の上に層間絶縁膜を形成させる工程を含む有機電気素子の製造方法を提供する。
このように、本発明の遮光型水溶性樹脂組成物は、薄膜として製造時に、平坦性、耐熱性、耐化学性、電気移動度などの性能に優れるだけでなく光透過率が低いので、有機電気素子が含む有機半導体の損傷を最少化するために有機半導体膜と層間絶縁膜の間に位置する有機半導体の遮光性保護膜として有用に使用することができる。
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の遮光型水溶性樹脂組成物は、水溶性樹脂、水溶性染料化合物、及び溶媒を含むことを特徴とする。また、好ましくは、前記水溶性樹脂１００質量部に対して前記水溶性染料化合物５〜５０質量部及び前記溶媒を組成物総量中の固形分含量が３〜６０質量％になるように含むことができる。
本発明に使用される前記（ａ）の水溶性樹脂は、均質な塗布膜を容易に形成することができるようにする作用をする。
前記水溶性樹脂は、水に対する溶解度が０.１質量％以上である重合体であれば従来公知の水溶性樹脂のいずれも使用することができる。水溶性樹脂の具体的な例としては、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸、及びこれらの誘導体を挙げることができる。ポリビニルアルコール誘導体としては、ポリビニルアルコールのヒドロキシル基をアセチル基、アセタール基、ホルマル基、ブチラール基などに置換したものを挙げることができる。ポリビニルピロリドン誘導体の例としては、ビニルピロリドン−酢酸ビニル共重合体、ビニルピロリドン−ビニルアルコール共重合体、ビニルピロリドン−ビニルメラミン共重合体などを挙げることができる。ポリアクリル酸の例としては、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、アクリル酸−メタクリル酸共重合体、アクリル酸エステル−メタクリル酸エステル共重合体などを挙げることができる。その他にも、水溶性樹脂として、ポリエチレンイミン、ポリエチレンオキシド、ポリビニルアミン、ポリアリルアミンなどを使用することができる。これらは単独または２種以上混合して使用することができ、特にポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、及びこれらの誘導体を使用するのが好ましい。
前記水溶性樹脂を過度に少なく使用すれば、粘度が低くなって薄膜形成が難しくなり、過度に多く使用すれば、粘度が高くなって薄膜形成時に塗布装備に無理を与えるおそれがある。
前記水溶性樹脂は、ポリスチレン換算重量平均分子量（Ｍｗ）が１,０００〜３００,０００であるのが好ましく、さらに好ましくは、３,０００〜１００,０００であり得る。前記ポリスチレン換算重量平均分子量が１,０００未満である場合には塗布性が落ちることと同時に塗布膜の経時安定性が低下し、３００,０００を超過する場合には均一な塗布膜を収得しにくくフィルターの透過性が落ちるおそれがある。
本発明に使用される前記（ｂ）の水溶性染料化合物は、特別な制限はないが、水に溶けたり分散される染料であればいずれも使用することができる。
前記水溶性染料化合物の具体的な例としては、アゾ染料（Azo dyes）、ジアゾ染料（Diazo dyes）、アントラキノン染料（Anthraquinone dyes）、インジゴイド染料（Indigoid dyes）、インジゴ系染料（Indigo dyes）、チオインジゴ系染料（Thioindigo dyes）、カーボニウム染料（Carbonium dyes）、ジフェニルメタン系染料（Diphenylmethane dyes）、トリフェニルメタン系染料（Triphenylmethane dyes）、キサンテン系染料（Xanthene dyes）、アクリジン系染料（Acridine dyes）、フタロシアニン染料（Phthalocyanine dyes）、メチン染料（Methine dyes）、ポリメチン系染料（Polymethine dyes）、アゾメチン系染料（Azomethine dyes）、チアゾール染料（Thiazole dyes）、キノンイミン染料（Quinoneimine dyes）、アジン系染料（Azine dyes）、オキサジン系染料（Oxazine dyes）、チアジン系染料（Thiazine dyes）、ラクトン染料（Lactone dyes）、アミノケトン染料（Amino Ketone dyes）、ヒドロキシケトン染料（Hydroxy ketone dyes）、ニトロ染料（Nitro dyes）、ニトロソ染料（Nitroso dyes）、キノリン染料（Quinoline dyes）などを挙げることができ、これら染料化合物を単独または２種以上混合して使用することができる。
前記水溶性染料化合物は、水溶性樹脂１００質量部に対して５〜５０質量部、好ましくは１０〜３０質量部で使用することができる。水溶性染料化合物を前記範囲内で使用する場合、低い光透過率を得ることができて層間絶縁膜の露光時に有機半導体の光酸化を防止するための保護膜として適する。
本発明に使用される前記（ｃ）の溶媒としては、水または水と有機溶媒の混合物を使用することができる。水の場合、蒸留、イオン交換処理、フィルター処理、各種吸着処理などによって有機不純物及び金属イオンが除去されたものが好ましく、有機溶媒は塗布性をさらに向上させるために使用され、水に可溶性であるものが好ましい。水に可溶性である有機溶媒としては水に対して０.１質量％以上溶解される溶媒であればいずれも使用することができ、その具体的な例としては、メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコールなどのアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン、２−ヘプタノン、シクロヘキサノンなどのケトン類；酢酸メチル、酢酸エチルなどのエステル類；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルなどのエチレングリコールモノアルキルエーテル類；エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテートなどのエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類；プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテルなどのプロピレングリコールモノアルキルエーテル類；プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテートなどのプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類；乳酸メチル、乳酸エチルなどの乳酸エステル類；トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類；Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドンなどのアミド類などを挙げることができる。これら溶媒は単独または２種以上を混合して使用することができ、遮光型水溶性樹脂組成物の薄膜形成時に薄膜を溶解させず同時に有機半導体薄膜を損傷させない範囲で使用可能である。
前記溶媒は、組成物総量中の固形分含量が３〜６０質量％になるように使用するのが好ましく、さらに好ましくは、５〜４０質量％になるように使用することができる。固形分含量が組成物総量の３質量％未満である場合には薄膜の厚さが薄くなって薄膜平坦性が低下し、６０質量％を超過する場合には薄膜の厚さが厚くなって塗布時にコーティング装備に無理を与えるおそれがある。
また、本発明の遮光型水溶性樹脂組成物は、（ｄ）の水溶性界面活性剤をさらに含むことができる。前記水溶性界面活性剤は水溶性樹脂組成物の塗布性を改善できるものであればいずれも使用可能であり、その具体的な例としては、アセチレンアルコール、アセチレングリコール、アセチレンアルコールのポリエトキシレート、アセチレングリコールのポリエトキシレートなどを挙げることができる。アセチレンアルコール及びアセチレングリコールとしては、３−メチル−１−ブチン−３−オール、３−メチル−１−ペンチン−３−オール、３，６−ジメチル−４−オクチン−３，６−ジオール、２，４，７，９−テトラメチル−５−デシン−４，７−ジオール、３，５−ジメチル−１−ヘクシン−３−オール、２，５−ジメチル−３−ヘクシン−２，５−ジオール、２，５−ジメチル−２，５−ヘキサジオールなどを挙げることができ、これら界面活性剤を単独または２種以上混合して使用することができる。
前記水溶性界面活性剤は、水溶性樹脂１００質量部に対して０.０００１〜２質量部で使用することができる。水溶性界面活性剤を前記範囲内で使用する場合、組成物の塗布性をさらに向上させることができる。
本発明の遮光型水溶性樹脂組成物は前記成分を混合することによって製造することができ、有機電気素子に保護膜として使用することに先立って０.１〜０.２μｍ（イソプロピルアルコールで処理）のミリポアフィルターなどでろ過するのが好ましい。
また、本発明は前記遮光型水溶性樹脂組成物を硬化させた遮光性保護膜を有機半導体膜と層間絶縁膜の間に含む有機電気素子を提供する。前記有機電気素子は前記遮光型水溶性樹脂組成物を有機半導体膜上に塗布した後に硬化させて遮光性保護膜を形成し、前記遮光性保護膜の上に層間絶縁膜を形成させる段階によって製造することができる。
前記遮光性保護膜は有機半導体膜と層間絶縁膜の間に位置して、有機溶媒を基本とするフォトレジストからなる層間絶縁膜に対して有機半導体膜を保護すると同時に層間絶縁膜の露光時に有機半導体の光酸化を防止する、有機半導体の遮光性保護膜の役割を果たす。前記有機半導体膜、本発明の遮光性保護膜及び層間絶縁膜は基板上にパターン化された形態で存在することができる。
具体的には、前記遮光型水溶性樹脂組成物を有機半導体膜上にスプレー法、ロールコーター法、回転塗布法、インクジェット法などの通常の方法で塗布し、予備焼成することなく対流式オーブン（convection oven）で硬化させて、目的する塗布膜を形成する。この時、前記硬化は８０〜１５０℃の温度で４０〜１００分間実施するのが好ましい。形成された遮光性保護膜は０.０５〜０.２μｍの厚さを有することができる。
前記本発明の遮光性保護膜を含む有機電気素子としては、有機薄膜トランジスタ（ＯＴＦＴ）、柔軟性を有するディスプレイ、及び有機電気発光素子（ＯＬＥＤ）などを挙げることができる。
このように製造された本発明の遮光性保護膜は、薄膜平坦性、耐熱性、耐化学性、電気移動度などの性能に優れているだけでなく光透過率が低いので、本発明の遮光型水溶性樹脂組成物は有機電気素子が含む有機半導体の損傷を最少化するために有機半導体膜と層間絶縁膜の間に位置する有機半導体の遮光性保護膜として有用に使用することができる。
以下、本発明の理解のために好ましい実施例を提示するが、下記の実施例は本発明を例示するものに過ぎず、本発明の範囲が下記の実施例によって限定されるのではない。
実施例１
蒸留、イオン交換処理、フィルター処理、各種吸着処理などによって有機不純物及び金属イオンが除去された水を冷却管と撹拌器を備えたフラスコに入れて、水溶性樹脂としてポリサイエンス（Polysciences Inc）社のポリビニルアルコール（ＰＶＡ）粉末（ポリスチレン換算重量平均分子量６,０００）をゆっくり添加した後、１０〜２０℃／１０分間隔で９０℃まで温度を上昇させて９０℃で２時間撹拌した。その後、水溶性樹脂溶液の温度が下がるまで常温で放置した。ここに、水溶性樹脂１００質量部に対して、水溶性染料化合物として酸性染料であるニグロシン酸ブラック２（Nigrosine Acid Black2、ドンナム化成社）を６.２５質量部入れ撹拌して水溶性樹脂組成物を製造した。前記組成物総量中の固形分含量は９質量％に調製した。
蒸留、イオン交換処理、フィルター処理、各種吸着処理などによって有機不純物及び金属イオンが除去された水を冷却管と撹拌器を備えたフラスコに入れて、水溶性樹脂としてポリサイエンス（Polysciences Inc）社のポリビニルアルコール（ＰＶＡ）粉末（ポリスチレン換算重量平均分子量６,０００）をゆっくり添加した後、１０〜２０℃／１０分間隔で９０℃まで温度を上昇させて９０℃で２時間撹拌した。その後、水溶性樹脂溶液の温度が下がるまで常温で放置した。ここに、水溶性樹脂１００質量部に対して、水溶性染料化合物として酸性染料であるニグロシン酸ブラック２（Nigrosine Acid Black2、ドンナム化成社）を６.２５質量部入れ撹拌して水溶性樹脂組成物を製造した。前記組成物総量中の固形分含量は９質量％に調製した。
実施例２
前記実施例１で水溶性界面活性剤としてアセチレングリコールであるダウコーニング（Dow corning）社のＱ２−５２１２を水溶性樹脂１００質量部に対して０.０００５質量部添加したことを除いては、前記実施例１と同一の方法で水溶性樹脂組成物を製造した。
前記実施例１で水溶性界面活性剤としてアセチレングリコールであるダウコーニング（Dow corning）社のＱ２−５２１２を水溶性樹脂１００質量部に対して０.０００５質量部添加したことを除いては、前記実施例１と同一の方法で水溶性樹脂組成物を製造した。
実施例３
前記実施例２でニグロシン酸ブラック２を６.２５質量部の代わりに１２.５質量部使用することを除いては、前記実施例２と同一の方法を行って水溶性樹脂組成物を製造した。
前記実施例２でニグロシン酸ブラック２を６.２５質量部の代わりに１２.５質量部使用することを除いては、前記実施例２と同一の方法を行って水溶性樹脂組成物を製造した。
実施例４
前記実施例１でニグロシン酸ブラック２を６.２５質量部の代わりに１８.７５質量部使用することを除いては、前記実施例２と同一の方法を行って水溶性樹脂組成物を製造した。
前記実施例１でニグロシン酸ブラック２を６.２５質量部の代わりに１８.７５質量部使用することを除いては、前記実施例２と同一の方法を行って水溶性樹脂組成物を製造した。
実施例５
前記実施例２でニグロシン酸ブラック２を６.２５質量部の代わりに２５質量部使用することを除いては、前記実施例２と同一の方法を行って水溶性樹脂組成物を製造した。
前記実施例２でニグロシン酸ブラック２を６.２５質量部の代わりに２５質量部使用することを除いては、前記実施例２と同一の方法を行って水溶性樹脂組成物を製造した。
実施例６
前記実施例２でニグロシン酸ブラック２を６.２５質量部の代わりに３１.２５質量部使用することを除いては、前記実施例２と同一の方法を行って水溶性樹脂組成物を製造した。
前記実施例２でニグロシン酸ブラック２を６.２５質量部の代わりに３１.２５質量部使用することを除いては、前記実施例２と同一の方法を行って水溶性樹脂組成物を製造した。
試験例
前記実施例１〜６で製造された水溶性樹脂組成物からなる硬化膜に対して下記のような方法で平坦性、光透過率、及び耐化学性を評価し、この硬化膜を有機半導体膜と層間絶縁膜の間に遮光性保護膜として含む電界発光トランジスタ（ＦＥＴ；field emission transistor）を追加的に製作して、下記のような方法で電気移動度を評価した。水溶性樹脂組成物からなる遮光性保護膜を適用しないＦＥＴを製作して、これを比較例１とした。測定結果を下記表１に示した。
前記実施例１〜６で製造された水溶性樹脂組成物からなる硬化膜に対して下記のような方法で平坦性、光透過率、及び耐化学性を評価し、この硬化膜を有機半導体膜と層間絶縁膜の間に遮光性保護膜として含む電界発光トランジスタ（ＦＥＴ；field emission transistor）を追加的に製作して、下記のような方法で電気移動度を評価した。水溶性樹脂組成物からなる遮光性保護膜を適用しないＦＥＴを製作して、これを比較例１とした。測定結果を下記表１に示した。
イ）平坦性
前記水溶性樹脂組成物でガラス基板上に塗膜をコーティングした後、約１００pointに対する厚さを光学装備などの厚さ測定器で測定して、その有意差が２％未満であれば○、３％未満であれば△、５％未満であれば×で示した。この方法によって水溶性樹脂と水溶性染料化合物の溶解安定性と沈澱の可能性を確認することができる。
ロ）光透過率
前記水溶性樹脂組成物を硬化させて厚さ０.７μｍの塗膜を製造した後、この膜に対して可視光線の光吸収スペクトルを測定して、４００ｎｍにおいて光透過率が５０％以下である場合を○、５１〜７０％である場合を△、７１〜９０％である場合を×で示した。
ハ）耐化学性
前記水溶性樹脂組成物を硬化させて厚さ０.７μｍの塗膜を製造した後、この膜を有機溶媒ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）に７０℃で５分間浸漬した後、超純水で洗浄して、ＮＭＰ処理前後の膜の厚さの変化率を測定した。この時、膜の厚さの変化率が０〜２０％である場合を○、２１〜４０％である場合を△、４１％以上の場合を×で示した。
ニ）電気移動度
前記水溶性樹脂組成物の硬化膜を有機半導体膜と層間絶縁膜の間に遮光性保護膜として含むＦＥＴの電気移動度を下記のように評価した。ソース−ドレインの間の電圧（ＶＤＳ）を固定させ、ゲート電圧（ＶＧＳ）に対するソース−ドレインの間の電流（ＩＤＳ）の変化を示す伝達特性（Transfer Characteristics、ゲート電圧の影響が電界の形態でチャネルに伝達されるので伝達特性と称する。）を測定した後、下記数式に基づいて電気移動度μを算出した。この時、測定された電気移動度が０.０１以上である場合を○、０.００９〜０.００１である場合を△、０.０００９以下である場合を×で示した。
前記水溶性樹脂組成物でガラス基板上に塗膜をコーティングした後、約１００pointに対する厚さを光学装備などの厚さ測定器で測定して、その有意差が２％未満であれば○、３％未満であれば△、５％未満であれば×で示した。この方法によって水溶性樹脂と水溶性染料化合物の溶解安定性と沈澱の可能性を確認することができる。
ロ）光透過率
前記水溶性樹脂組成物を硬化させて厚さ０.７μｍの塗膜を製造した後、この膜に対して可視光線の光吸収スペクトルを測定して、４００ｎｍにおいて光透過率が５０％以下である場合を○、５１〜７０％である場合を△、７１〜９０％である場合を×で示した。
ハ）耐化学性
前記水溶性樹脂組成物を硬化させて厚さ０.７μｍの塗膜を製造した後、この膜を有機溶媒ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）に７０℃で５分間浸漬した後、超純水で洗浄して、ＮＭＰ処理前後の膜の厚さの変化率を測定した。この時、膜の厚さの変化率が０〜２０％である場合を○、２１〜４０％である場合を△、４１％以上の場合を×で示した。
ニ）電気移動度
前記水溶性樹脂組成物の硬化膜を有機半導体膜と層間絶縁膜の間に遮光性保護膜として含むＦＥＴの電気移動度を下記のように評価した。ソース−ドレインの間の電圧（ＶＤＳ）を固定させ、ゲート電圧（ＶＧＳ）に対するソース−ドレインの間の電流（ＩＤＳ）の変化を示す伝達特性（Transfer Characteristics、ゲート電圧の影響が電界の形態でチャネルに伝達されるので伝達特性と称する。）を測定した後、下記数式に基づいて電気移動度μを算出した。この時、測定された電気移動度が０.０１以上である場合を○、０.００９〜０.００１である場合を△、０.０００９以下である場合を×で示した。
前記表１から、本発明によって製造した実施例１〜６の遮光型水溶性樹脂組成物は、比較例１と比較すると、平坦性及び耐化学性に優れ、光透過率が低いだけでなく、特に電気移動度が顕著に向上している。このことから有機半導体の遮光性保護膜として適用可能であることが分かる。これに対し、前記遮光型水溶性樹脂組成物を有機半導体膜と層間絶縁膜であるフォトレジストの間に保護膜として適用しない比較例１の場合は、電気移動度が低くＯＴＦＴに適用しにくいことが分かる。
Claims (15)
- （ａ）水溶性樹脂；
（ｂ）水溶性染料化合物；及び
（ｃ）溶媒を含むことを特徴とする遮光型水溶性樹脂組成物。 - （ａ）水溶性樹脂１００質量部；
（ｂ）水溶性染料化合物５〜５０質量部；及び
（ｃ）溶媒を組成物総量中の固形分含量が３〜６０質量％になるように含む請求項１に記載の遮光型水溶性樹脂組成物。 - 水溶性界面活性剤を水溶性樹脂１００質量部に対して０.０００１〜２質量部さらに含む請求項１に記載の遮光型水溶性樹脂組成物。
- 前記水溶性樹脂が、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸、ポリエチレンイミン、ポリエチレンオキシド、ポリビニルアミン、ポリアリルアミン及びこれらの誘導体からなる群より選択される１種以上である請求項１に記載の遮光型水溶性樹脂組成物。
- 前記水溶性樹脂が、１,０００〜３００,０００のポリスチレン換算重量平均分子量（Ｍｗ）を有する請求項１に記載の遮光型水溶性樹脂組成物。
- 前記水溶性染料化合物が、アゾ染料（Azo dyes）、ジアゾ染料（Diazo dyes）、アントラキノン染料（Anthraquinone dyes）、インジゴイド染料（Indigoid dyes）、インジゴ系染料（Indigo dyes）、チオインジゴ系染料（Thioindigo dyes）、カーボニウム染料（Carbonium dyes）、ジフェニルメタン系染料（Diphenylmethane dyes）、トリフェニルメタン系染料（Triphenylmethane dyes）、キサンテン系染料（Xanthene dyes）、アクリジン系染料（Acridine dyes）、フタロシアニン染料（Phthalocyanine dyes）、メチン染料（Methine dyes）、ポリメチン系染料（Polymethine dyes）、アゾメチン系染料（Azomethine dyes）、チアゾール染料（Thiazole dyes）、キノンイミン染料（Quinoneimine dyes）、アジン系染料（Azine dyes）、オキサジン系染料（Oxazine dyes）、チアジン系染料（Thiazine dyes）、ラクトン染料（Lactone dyes）、アミノケトン染料（Amino Ketone dyes）、ヒドロキシケトン染料（Hydroxy ketone dyes）、ニトロ染料（Nitro dyes）、ニトロソ染料（Nitroso dyes）及びキノリン染料（Quinoline dyes）からなる群より選択される１種以上である請求項１に記載の遮光型水溶性樹脂組成物。
- 前記水溶性界面活性剤が、アセチレンアルコール、アセチレングリコール、アセチレンアルコールのポリエトキシレート及びアセチレングリコールのポリエトキシレートからなる群より選択される１種以上である請求項３に記載の遮光型水溶性樹脂組成物。
- 前記溶媒が、水または水と有機溶媒との混合物である請求項１に記載の遮光型水溶性樹脂組成物。
- 前記有機溶媒が、メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、２−ヘプタノン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、乳酸メチル、乳酸エチル、トルエン、キシレン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド及びＮ−メチルピロリドンからなる群より選択される１種以上である請求項８に記載の遮光型水溶性樹脂組成物。
- 請求項１〜９のいずれか一項による遮光型水溶性樹脂組成物を硬化させた遮光性保護膜を有機半導体膜と層間絶縁膜の間に含む有機電気素子。
- 前記遮光性保護膜が、樹脂組成物を有機半導体膜上に塗布した後、８０〜１５０℃の温度で４０〜１００分間硬化させて得られるものであること請求項１０に記載の有機電気素子。
- 前記遮光性保護膜が、０.０５〜０.２μｍの厚さを有する請求項１０に記載の有機電気素子。
- 前記有機電気素子が、有機薄膜トランジスタ（ＯＴＦＴ、organic thin-film transistor）、柔軟性を有するディスプレイ（flexible display）または有機電気発光素子（ＯＬＥＤ、organic light-emitting device）である請求項１０に記載の有機電気素子。
- 請求項１〜９のいずれか一項による遮光型水溶性樹脂組成物を有機半導体膜上に塗布した後、硬化させて遮光性保護膜を形成し、前記遮光型保護膜の上に層間絶縁膜を形成させる工程を含む有機電気素子の製造方法。
- 前記遮光性保護膜が、前記遮光型水溶性樹脂組成物を有機半導体膜上に塗布した後、８０〜１５０℃の温度で４０〜１００分間硬化させて得られるものである請求項１４に記載の有機電気素子の製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR20070055699A KR101482652B1 (ko) | 2007-06-07 | 2007-06-07 | 유기반도체 보호막 조성물 |
| KR10-2007-0055699 | 2007-06-07 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2008306188A true JP2008306188A (ja) | 2008-12-18 |
| JP5538689B2 JP5538689B2 (ja) | 2014-07-02 |
Family
ID=40179373
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2008148693A Active JP5538689B2 (ja) | 2007-06-07 | 2008-06-06 | 遮光型水溶性樹脂組成物 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5538689B2 (ja) |
| KR (1) | KR101482652B1 (ja) |
| CN (1) | CN101319092B (ja) |
| TW (1) | TWI455976B (ja) |
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Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP6167016B2 (ja) | 2013-10-31 | 2017-07-19 | 富士フイルム株式会社 | 積層体、有機半導体製造用キットおよび有機半導体製造用レジスト組成物 |
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2007
- 2007-06-07 KR KR20070055699A patent/KR101482652B1/ko active IP Right Grant
-
2008
- 2008-06-06 TW TW097121155A patent/TWI455976B/zh active
- 2008-06-06 JP JP2008148693A patent/JP5538689B2/ja active Active
- 2008-06-10 CN CN2008101101076A patent/CN101319092B/zh active Active
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| TW200909502A (en) | 2009-03-01 |
| CN101319092A (zh) | 2008-12-10 |
| KR101482652B1 (ko) | 2015-01-16 |
| JP5538689B2 (ja) | 2014-07-02 |
| KR20080107661A (ko) | 2008-12-11 |
| CN101319092B (zh) | 2013-01-09 |
| TWI455976B (zh) | 2014-10-11 |
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| A977 | Report on retrieval |
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