KR20100059440A - 롤 프린팅 공정에 사용되는 잉크 조성물 및 이를 이용하여 기판 상에 패턴을 형성하는 방법 - Google Patents

롤 프린팅 공정에 사용되는 잉크 조성물 및 이를 이용하여 기판 상에 패턴을 형성하는 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR20100059440A
KR20100059440A KR1020080118211A KR20080118211A KR20100059440A KR 20100059440 A KR20100059440 A KR 20100059440A KR 1020080118211 A KR1020080118211 A KR 1020080118211A KR 20080118211 A KR20080118211 A KR 20080118211A KR 20100059440 A KR20100059440 A KR 20100059440A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
ink composition
rosin ester
pattern
substrate
group
Prior art date
Application number
KR1020080118211A
Other languages
English (en)
Other versions
KR101418127B1 (ko
Inventor
김병걸
김성희
Original Assignee
엘지디스플레이 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 엘지디스플레이 주식회사 filed Critical 엘지디스플레이 주식회사
Priority to KR1020080118211A priority Critical patent/KR101418127B1/ko
Priority to US12/556,308 priority patent/US20100126959A1/en
Priority to CN2009102070703A priority patent/CN101735689B/zh
Priority to TW098138469A priority patent/TWI404774B/zh
Publication of KR20100059440A publication Critical patent/KR20100059440A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101418127B1 publication Critical patent/KR101418127B1/ko

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D11/00Inks
    • C09D11/02Printing inks
    • C09D11/08Printing inks based on natural resins
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41MPRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M5/00Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D11/00Inks
    • C09D11/02Printing inks
    • C09D11/03Printing inks characterised by features other than the chemical nature of the binder

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)

Abstract

롤 프린팅 공정에 사용되는 잉크 조성물 및 이를 이용하여 기판 상에 패턴을 형성하는 방법이 개시된다. 잉크 조성물은 폴리머 또는 올리고머; 로진 에스테르 계열의 점착 부여제; 및 솔벤트를 포함한다. 기판 상에 패턴을 형성하는 방법은 롤러의 외주면에 잉크 조성물을 코팅하여 유기막을 형성하는 단계; 롤러의 외주면에 예비 패턴을 형성하는 단계; 및 예비 패턴을 기판 상에 접착시키는 단계를 포함한다.
롤, 프린트, 점착, 로진, 에스테르

Description

롤 프린팅 공정에 사용되는 잉크 조성물 및 이를 이용하여 기판 상에 패턴을 형성하는 방법{INK COMPOSITION FOR ROLL PRINTING PROCESS AND METHOD OF FABRICATING PATTERN ON SUBSTRATE THEREBY}
실시예는 롤 프린팅 공정에 사용되는 잉크 조성물 및 이를 이용하여 기판 상에 패턴을 형성하는 방법에 관한 것이다.
종래의 액정표시패널 내의 박막 패턴 들은 포토리쏘그래피 공정 및 식각공정에 의해 형성된다. 그러나, 포토리쏘그래피 공정은 노광공정, 현상공정, 세정, 검사 공정 등 다수의 공정을 포함함으로써 액정표시 패널의 제조비용을 상승시키는 원인이 된다.
이에 따라, 최근에는 포토리쏘그래피 공정 대신 리버스 레지스트 프린팅(Reverse Resist Printing)방식에 의해 박막을 패터닝하는 방식이 이용되고 있다.
실시예는 향상된 내열성 및 내산성을 가지는 유기막을 형성하기 위한, 롤 프린팅 공정에 사용되는 잉크 조성물 및 이를 이용하여 기판 상에 패턴을 형성하는 방법을 제공하고자 한다.
실시예에 따른 롤 프린팅 공정에서 사용되는 잉크 조성물은 폴리머 또는 올리고머; 아래와 같은 화학식의 로진 에스테르 계열의 점착 부여제; 및 솔벤트를 포함한다.
Figure 112008081619333-PAT00001
여기서, R1, R2, R3, R4, R5는 각각 수소, 알킬기, 아릴기, 알콕시기 및 에스테르기로 구성되는 그룹으로부터 선택된다.
실시예에 따른 기판 상에 패턴을 형성하는 방법은 롤러의 외주면에 상기 잉크 조성물을 포함하는 잉크 조성물막을 형성하는 단계; 상기 롤러를 인쇄 패턴이 형성된 인쇄 플레이트 상에 롤링시켜서, 상기 롤러의 외주면에 예비 패턴을 형성하 는 단계; 및 상기 예비 패턴이 형성된 롤러를 기판 상에 롤링시켜서, 상기 예비 패턴을 상기 기판 상에 접착시키는 단계를 포함한다.
실시예에 따른 잉크 조성물은 로진 에스테르 계열의 점착 부여제를 포함한다. 따라서, 점착 부여제는 폴리머 또는 올리고머 사이에 가교를 형성하여, 잉크 조성물에 의해서 형성되는 유기막의 내열성, 내산성 및 박리특성을 향상시킨다.
따라서, 실시예에 따른 잉크 조성물을 사용하여, 기판 상에 마스크 패턴을 형성한다. 또한, 이를 이용하여, 기판 상에 박막 패턴을 형성할 수 있고, 이때, 박막 패턴의 불량이 감소된다. 즉, 기판 상에 형성되는 배선들의 단락을 방지할 수 있다.
또한, 실시예에 따른 잉크 조성물을 사용하여, 기판 상에 직접 유기막 패턴을 형성할 수 있고, 이를 소자의 구성요소로 이용할 수 있다.
일 실시예에 따른 롤 프린트용 잉크 조성물은 베이스 폴리머, 로진 에스테르 계열의 점착 부여제, 캐리어 솔벤트, 프린팅 솔벤트, 가교제 및 착색제를 포함한다.
상기 베이스 폴리머의 예로서는 크레졸계 수지, 폐놀계 수지, 아크릴계 수지, 에폭시 수지 및 노블락 등을 들 수 있다. 상기 베이스 폴리머는 약 4 내지 20 wt%의 비율로 혼합된다. 바람직하게, 상기 베이스 폴리머는 약 10 내지 15wt%의 비율로 혼합된다.
또한, 상기 베이스 폴리머 대신에 올리고머가 사용될 수 있다.
일 실시예에서, 상기 점착 부여제는 화학식1의 구조를 가질 수 있다.
화학식1
Figure 112008081619333-PAT00002
여기서, R1은 수소, 알킬기, 아릴기, 알콕시기(alkoxy group) 및 에스테르기(ester group)로 구성되는 그룹으로부터 선택된다. 더 자세하게, R1은 메틸기일 수 있다.
또한, R2는 수소, 알킬기, 아릴기, 알콕시기 및 에스테르기로 구성되는 그룹으로부터 선택된다. 더 자세하게, R2는 메틸기 일 수 있다.
또한, R3는 수소, 알킬기, 아릴기, 알콕시기 및 에스테르기로 구성되는 그룹으로부터 선택된다. 더 자세하게, R3는 메틸기 일 수 있다.
또한, R4는 수소, 알킬기, 아릴기, 알콕시기 및 에스테르기로 구성되는 그룹으로부터 선택된다. 더 자세하게, R4는 메틸기 일 수 있다.
또한, R5는 수소, 알킬기, 아릴기, 알콕시기 및 에스테르기로 구성되는 그룹으로부터 선택된다. 더 자세하게, R5는 치환 또는 치환되지 않은 프로필기 일 수 있다.
상기 점착 부여제는 상기 잉크 조성물의 점착 특성을 향상시킨다. 또한, 상기 점착 부여제는 상기 베이스 폴리머의 결합을 강화시킨다. 즉, 상기 로진 에스테르 계열의 점착 부여제에 포함된 에스테르기에 의해서, 상기 베이스 폴리머의 결합이 강화된다. 상기 점착 부여제는 약 2 내지 15wt%의 비율로 혼합될 수 있다.
상기 점착 부여제는 약 300 내지 2000의 분자량을 가진다.
상기 로진 에스테르 계열의 점착 부여제는 아래와 같이 로진 및 알코올의 에스테르화 반응에 의해서 형성될 수 있다. 이때, 황산이 촉매로 사용될 수 있다.
Figure 112008081619333-PAT00003
일 실시예에서는, 상기 점착 부여제는 화학식2의 프로판-1,2,3-트리올 로진 에스테르(propane-1,2,3-triol rosin ester)일 수 있다.
화학식2
Figure 112008081619333-PAT00004
상기 프로판-1,2,3-트리올 로진 에스테르는 로진과 프로판-1,2,3-트리올의 에스테르화 반응에 의해서 형성될 수 있다.
일 실시예에서는 상기 점착 부여제는 아래의 화학식3의 트리에틸렌 글리콜 로진 에스테르(triethylene glycol rosin ester)일 수 있다.
화학식3
Figure 112008081619333-PAT00005
일 실시예에서는 상기 점착 부여제는 아래의 화학식4의 메탄올 로진 에스테르(methanol rosin ester)일 수 있다.
화학식4
Figure 112008081619333-PAT00006
일 실시예에서는 상기 점착 부여제는 아래의 화학식5의 펜타에리스리톨 로진 에스테르(pentaerythritol rosin ester) 일 수 있다.
화학식5
Figure 112008081619333-PAT00007
상기 캐리어 솔벤트는 잉크 조성물의 점도를 감소시켜서, 잉크 조성물이 고 르게 코팅될 수 있도록 도와준다. 상기 캐리어 솔벤트는 낮은 끓는 점을 가진다. 따라서 상기 캐리어 솔벤트는 상온에서 용이하게 휘발될 수 있다.
상기 캐리어 솔벤트는 알콜 계열이다. 상기 캐리어 솔벤트의 예로서는 메탄올, 에탄올, N-메틸 피롤리디논(N-methyl pyrrolidinone), 에틸 벤조에이트(ehtyl benzoate) 및 트리-이소프로필 벤젠(tri-isoprophyl benzene) 등을 들 수 있다.
상기 캐리어 솔벤트는 낮은 끓는 점을 가진다. 상기 캐리어 솔벤트는 약 40 내지 70wt%의 비율로 혼합된다. 바람직하게, 상기 캐리어 솔벤트는 약 60 내지 65 wt%의 비율로 혼합된다.
상기 프린팅 솔벤트는 잉크 조성물의 점착성을 향상시킨다. 상기 프린팅 솔벤트의 예로서는 프로필렌 카보네이트 등을 들 수 있다. 상기 프린팅 솔벤트는 상기 캐리어 솔벤트보다 더 높은 끓는 점을 가진다. 상기 프린팅 솔벤트는 약 20 내지 40wt%의 비율로 혼합된다. 바람직하게, 상기 프린팅 솔벤트는 약 7 내지 8wt%의 비율로 혼합된다.
상기 가교제는 상기 열처리 공정 등에 의해서, 상기 베이스 폴리머를 가교한다. 따라서, 상기 가교제는 잉크 조성물에 의해서 형성된 유기막의 결합 특성을 향상시킨다.
상기 가교제로 사용되는 물질의 예로서는 멜라민 포름알데히드와 같은 멜라민 유도체 등을 들 수 있다. 상기 가교제는 약 0.5 내지 3wt%의 비율로 혼합된다. 더 바람직하게, 상기 가교제는 약 1 내지 1.5wt%의 비율로 혼합된다.
상기 착색제는 상기 잉크 조성물에 의해서 형성된 유기막이 유색 특성을 가 지게한다. 이에 따라서, 상기 유기막의 불량여부를 육안으로 쉽게 구분할 수 있다. 상기 착색제로 사용되는 물질의 예로서는 염료 또는 안료 등을 들 수 있다. 상기 착색제는 약 0.1 내지 약 0.1wt%의 비율로 혼합된다. 바람직하게, 상기 착색제는 약 0.3 내지 0.6wt%의 비율로 혼합된다.
실시예에 따른 잉크 조성물은 로진 에스테를 계열의 점착 부여제를 포함한다. 이때, 로진 에스테르 계열의 점착 부여제에 포함된 에스테르기에 의해서, 베이스 폴리머에 가교가 형성된다.
따라서, 실시예에 따른 잉크 조성물에 의해서 형성된 유기막의 내열성 및 내산성이 향상된다. 따라서, 실시예에 따른 잉크 조성물은 향상된 특성을 가지는 유기막을 형성할 수 있고, 상기 유기막을 마스크로 사용하여 불량이 없는 박막 패턴이 형성될 수 있다.
즉, 실시예에 따른 잉크 조성물로 형성된 유기막은 박막 패턴을 형성하기 위한 에칭 용액 또는 플라즈마에 향상된 내구성을 가지고, 정밀한 박막 패턴을 형성할 수 있다.
실시 예의 설명에 있어서, 각 기판, 막, 패턴, 롤러 또는 층 등이 각 기판, 막, 패턴, 롤러 또는 층 등의 "상(on)"에 또는 "아래(under)"에 형성되는 것으로 기재되는 경우에 있어, "상(on)"과 "아래(under)"는 "직접(directly)" 또는 "다른 구성요소를 개재하여 (indirectly)" 형성되는 것을 모두 포함한다. 또한 각 구성요소의 상 또는 아래에 대한 기준은 도면을 기준으로 설명한다. 도면에서의 각 구성요소들의 크기는 설명을 위하여 과장될 수 있으며, 실제로 적용되는 크기를 의미하 는 것은 아니다.
도 1 내지 도 4는 실시예에 따른 기판 상에 박막 패턴을 형성하는 과정을 도시한 도면이다.
도 1을 참조하면, 롤러(100) 상에 잉크 조성물이 코팅된다. 즉, 상기 롤러(100)의 외주면에 잉크 조성물막(200)이 형성된다.
상기 롤러(100)는 롤러 몸체(110) 및 블랭킷(130)을 포함한다. 상기 롤러 몸체(110)는 회전축(120)을 중심으로 회전한다. 상기 블랭킷(130)은 상기 롤러 몸체(110)의 외주면에 배치된다. 상기 블랭킷(130)으로 사용되는 물질의 예로서는 폴리디메틸실록산 등을 들 수 있다.
상기 잉크 조성물은 상기 롤러(100)의 외주면에 스프레이 등에 의해서 코팅된다. 상기 잉크 조성물은 베이스 폴리머, 점착 부여제, 캐리어 솔벤트, 프린팅 솔벤트, 가교제 및 착색제를 포함한다.
상기 베이스 폴리머, 상기 점착 부여제, 상기 캐리어 솔벤트, 상기 프린팅 솔벤트, 상기 가교제 및 상기 착색제는 균일하게 혼합된다. 여기서, 각각의 성분들에 대한 특징 및 조성은 앞서 설명한 잉크 조성물을 참고한다.
상기 잉크 조성물은 스프레이 등에 의해서, 상기 블랭킷(130)의 외주면에 고르게 코팅된다. 이때, 상기 캐리어 솔벤트에 의해서 상기 잉크 조성물의 점도가 감소되기 때문에, 상기 잉크 조성물은 상기 블랭킷(130)의 외주면에 고르게 코팅되고, 매우 얇은 두께로 형성될 수 있다.
이후, 상기 잉크 조성물막(200)에 포함된 캐리어 솔벤트는 증발되어 제거되 고, 상기 롤러(100)는 인쇄 플레이트(300) 상에 롤링된다. 상기 인쇄 플레이트(300)는 인쇄 패턴(310)을 포함한다.
이때, 상기 잉크 조성물막(200)은 상기 인쇄 패턴(310)에 접촉되고, 상기 인쇄 패턴(310)에 의해서 패턴닝되고, 상기 블랭킷(130)의 외주면에 예비 패턴(201)이 형성된다.
상기 예비 패턴(201)은 상기 인쇄 패턴(310)과 반대의 형상을 가진다. 즉, 상기 잉크 조성물막(200)에서, 상기 인쇄 패턴(310)과 접촉되는 부분(202)이 제거되어, 상기 예비 패턴(201)이 형성된다.
도 2를 참조하면, 상기 예비 패턴(201)이 형성된 후, 상기 롤러(100)는 기판(400) 상에 롤링된다. 이때, 상기 기판(400)은 유리 기판(400), 플라스틱 기판(400) 또는 실리콘 기판(400) 일 수 있다. 또한, 상기 기판(400)은 식각 대상막(410)을 포함한다. 상기 식각 대상막(410)은 금속층일 수 있다.
이때, 상기 예비 패턴(201)은 상기 기판(400)에 전사된다. 즉, 상기 예비 패턴(201)은 상기 식각 대상막(410)에 접촉하고, 상기 기판(400) 상에 부착된다. 더 자세하게, 상기 예비 패턴(201)은 상기 식각 대상막(410) 상에 배치된다. 상기 캐리어 솔벤트는 증발 또는 휘발되어 제거되므로, 상기 캐리어 솔벤트와 상기 블랭킷(130) 사이의 점착력은 약해진다. 따라서, 상기 예비 패턴(201)은 용이하게 상기 기판(400)에 부착될 수 있다.
이후, 상기 예비 패턴(201)은 열처리 공정에 의해서, 경화되고, 상기 기판(400) 상에 마스크 패턴(203)이 형성된다. 이때, 상기 예비 패턴(201)은 약 140 내지 160℃에서, 약 3분 동안 열처리될 수 있고, 이후, 약 190 내지 210℃에서, 약 3분 동안 열처리될 수 있다.
도 3을 참조하면, 상기 마스크 패턴(203)을 식각 마스크로 사용하여, 상기 식각 대상막(410)은 패터닝된다. 이로써, 상기 기판(400) 상에 박막 패턴(420)이 형성된다.
상기 식각 대상막(410)을 패터닝 하기 위해서, 에칭 용액 또는 식각 기체가 사용될 수 있다. 또한, 상기 에칭 용액 또는 상기 식각 기체는 상기 식각 대상막(410)에 대하여 더 큰 선택도를 가진다.
도 4를 참조하면, 상기 식각 대상막(410)이 패터닝되어 박막 패턴(420)이 형성된 후, 상기 마스크 패턴(203)은 플라즈마 등에 의해서 제거된다.
실시예에서는 포토리소그라피 공정이 아닌 롤 프린팅 공정에 의해서, 식각 대상막(410)이 패터닝되므로, 상기 박막 패턴(420)이 용이하게 형성될 수 있다. 특히, 실시예에 따른 롤 프린팅 공정은 노광 공정을 필요로 하지 않는다.
따라서, 롤 프린팅 공정에 의해서 용이하게 반도체 소자 및 액정표시장치 또는 유기전계 표시장치의 TFT어레이 기판이 용이하게 제조될 수 있다.
또한, 실시예에 따른 잉크 조성물에 의해서 형성된 마스크 패턴(203)과 같은 유기막은 향상된 내열성, 내산성 및 박리특성을 가진다. 즉, 상기 마스크 패턴(203)과 같은 유기막은 향상된 화학특성을 가진다.
또한, 상기 마스크 패턴(203)은 상기 식각 대상막(410)을 패턴닝 하기 위한 마스크로 사용된다. 상기 식각 대상막(410)이 식각될 때, 상기 마스크 패턴(203)은 상기 식각 대상막(410)을 식각하기 위한 에칭 용액 또는 플라즈마 등에 향상된 내구성을 가진다.
따라서, 상기 마스크 패턴(203)의 일부가 상기 식각 대상막(410)으로부터 떨어지거나, 상기 에칭 용액 등에 의해서 일부가 제거되지 않는다. 이에 따라서, 상기 식각 대상막(410)은 원하는 박막 패턴(420)으로 패터닝되고, 기판(400)에 불량 패턴이 형성되지 않는다.
따라서, 실시예에 따른 잉크 조성물 및 이를 사용하는 롤 프린팅 공정은 보다 정확하고 세밀한 패턴을 형성할 수 있고, 패턴의 단락 등과 같은 불량 패턴을 방지한다.
본 실시예에서는 식각 대상막을 패터닝하기 위한 마스크 패턴을 형성하는 과정을 도시하였으나, 이에 한정되지 않고, 본 실시예에 따른 잉크 조성물은 마스크 패턴이 아닌 보호막 및 절연막 등의 반도체 소자 또는 액정표시장치 등의 소자를 구성하는 패턴을 형성하는데 사용될 수 있다.
이상에서 실시예를 중심으로 설명하였으나 이는 단지 예시일 뿐 본 발명을 한정하는 것이 아니며, 본 발명이 속하는 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 본 실시예의 본질적인 특성을 벗어나지 않는 범위에서 이상에 예시되지 않은 여러 가지의 변형과 응용이 가능함을 알 수 있을 것이다. 예를 들어, 실시예에 구체적으로 나타난 각 구성 요소는 변형하여 실시할 수 있는 것이다. 그리고 이러한 변형과 응용에 관계된 차이점들은 첨부된 청구 범위에서 규정하는 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.
실험예
약 12.5wt%의 폐놀계 노블락, 약 12.5wt%의 프로판-1,2,3-트리올 로진 에스테르, 약 66wt%의 메탄올, 약 7wt%의 프로필렌 카보네이트, 약 1.5wt%의 멜라민 및 약 0.5wt%의 착색제를 균일하게 혼합하여 혼합하여, 잉크 조성물#1을 형성하였다.
이후, 롤 프린트 공정에 의해서, 상기 잉크 조성물#1을 사용하여 알루미늄층 상에 예비 패턴#1을 형성한 후, 약 200℃의 온도에서 약 3분동안 상기 예비 패턴#1을 열처리하여, 마스크 패턴#1을 형성하였다.
비교예
앞서 설명한 실험예에서, 상기 프로판-1,2,3-트리올 로진 에스테르 대신에, 부틸레이트된 하이드록시 애니솔(butylated hydroxy anisole)을 동일한 비율로 혼합하여, 잉크 조성물#2을 형성하였다.
또한, 실험예와 동일한 조건으로, 상기 마스크 패턴#1과 동일한 형상의 마스크 패턴#2를 형성하였다.
도 5 및 도 6은 상기 마스크 패턴#1 및 상기 마스크 패턴#2을 알루미늄층을 에칭하기 위한 에칭용액인 MA-S01B(동우화인켐사)에 10분동안 노출시킨후, 마스크 패턴#1(204) 및 마스크 패턴#2(205)의 상태를 도시한 도면이다.
도 5 및 도 6을 참조하면, 상기 에칭 용액에 노출된 상기 마스크 패턴#2(205)의 폭(CD2)은 동일한 조건으로 노출된 상기 마스크 패턴#1(204)의 폭(CD1)보다 더 좁다는 것을 알 수있다. 또한, 상기 마스크 패턴#2(205)에 데미지(D)가 발생되었고, 이에 따라서, 비교예에 의한 알루미늄 박막 패턴에 단락이 발생될 수 있 다.
이에 대하여, 실험예의 마스크 패턴#1(204)에는 데미지가 발생되지 않았고, 이에 따라서, 알루미늄 박막 패턴에는 단락 등이 발생하지 않았다.
도 1 내지 도 4는 실시예에 따른 기판 상에 박막 패턴을 형성하는 과정을 도시한 도면이다.
도 5는 실험예에 따른 마스크 패턴#1을 에칭 용액에 노출한 후의 상태를 도시한 도면이다.
도 6은 비교예에 따른 마스크 패턴#2를 에칭 용액에 노출한 후의 상태를 도시한 도면이다.

Claims (10)

  1. 폴리머 또는 올리고머;
    아래와 같은 화학식의 로진 에스테르 계열의 점착 부여제; 및
    솔벤트를 포함하는 롤 프린팅 공정에 사용되는 잉크 조성물.
    Figure 112008081619333-PAT00008
    여기서, R1, R2, R3, R4, R5는 각각 수소, 알킬기, 아릴기, 알콕시기 및 에스테르기로 구성되는 그룹으로부터 선택된다.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 점착 부여제는 프로판-1,2,3-트리올 로진 에스테르, 트리에틸렌 글리콜 로진 에스테르, 메탄올 로진 에스테르 및 펜타에리스리톨 로진 에스테로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 잉크 조성물.
  3. 제 1 항에 있어서, 상기 폴리머 또는 올리고머는 폐놀계 폴리머, 폐놀계 올리고머, 크레졸계 폴리머 및 크레졸계 올리고머로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 잉크 조성물.
  4. 제 1 항에 있어서, 상기 솔벤트는
    캐리어 솔벤트; 및
    상기 캐리어 솔벤트보다 더 높은 끓는 점을 가지는 프린팅 솔벤트를 포함하는 잉크 조성물.
  5. 제 1 항에 있어서, 색을 가지는 착색제를 포함하는 잉크 조성물.
  6. 롤러의 외주면에 폴리머 또는 올리고머, 아래와 같은 화학식의 로진 에스테르 계열의 점착 부여제 및 솔벤트를 포함하는 잉크 조성물막을 형성하는 단계;
    상기 롤러를 인쇄 패턴이 형성된 인쇄 플레이트 상에 롤링시켜서, 상기 롤러의 외주면에 예비 패턴을 형성하는 단계; 및
    상기 예비 패턴이 형성된 롤러를 기판 상에 롤링시켜서, 상기 예비 패턴을 상기 기판 상에 접착시키는 단계를 포함하는 기판 상에 패턴을 형성하는 방법.
    Figure 112008081619333-PAT00009
    여기서, R1, R2, R3, R4, R5는 각각 수소, 알킬기, 아릴기, 알콕시기 및 에스테르기로 구성되는 그룹으로부터 선택된다.
  7. 제 6 항에 있어서, 상기 예비 패턴이 접착된 기판을 열처리하는 단계를 포함하는 기판 상에 패턴을 형성하는 방법.
  8. 제 6 항에 있어서, 상기 점착 부여제는 프로판-1,2,3-트리올 로진 에스테르, 트리에틸렌 글리콜 로진 에스테르, 메탄올 로진 에스테르 및 펜타에리스리톨 로진 에스테로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 기판 상에 패턴을 형성하는 방법.
  9. 제 6 항에 있어서, 상기 솔벤트는
    캐리어 솔벤트; 및
    상기 캐리어 솔벤트보다 더 높은 끓는 점을 가지는 프린팅 솔벤트를 포함하며,
    상기 예비 패턴을 형성한 후, 상기 캐리어 솔벤트를 증발시키는 단계를 더 포함하는 기판 상에 패턴을 형성하는 방법.
  10. 제 6 항에 있어서, 상기 기판은 식각 대상층을 포함하며,
    상기 예비 패턴을 마스크로 사용하여, 상기 식각 대상층을 식각하는 단계를 포함하는 기판 상에 패턴을 형성하는 방법.
KR1020080118211A 2008-11-26 2008-11-26 롤 프린팅 공정에 사용되는 잉크 조성물 및 이를 이용하여 기판 상에 패턴을 형성하는 방법 KR101418127B1 (ko)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020080118211A KR101418127B1 (ko) 2008-11-26 2008-11-26 롤 프린팅 공정에 사용되는 잉크 조성물 및 이를 이용하여 기판 상에 패턴을 형성하는 방법
US12/556,308 US20100126959A1 (en) 2008-11-26 2009-09-09 Ink composition for roll printing process and method of fabricating pattern on substrate using the same
CN2009102070703A CN101735689B (zh) 2008-11-26 2009-10-27 用于滚动印刷工艺的油墨组合物以及使用该油墨组合物在基板上制造图案的方法
TW098138469A TWI404774B (zh) 2008-11-26 2009-11-12 用於滾動印刷製程之油墨組成物以及使用該油墨組成物於基板上製作圖案之方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020080118211A KR101418127B1 (ko) 2008-11-26 2008-11-26 롤 프린팅 공정에 사용되는 잉크 조성물 및 이를 이용하여 기판 상에 패턴을 형성하는 방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20100059440A true KR20100059440A (ko) 2010-06-04
KR101418127B1 KR101418127B1 (ko) 2014-07-09

Family

ID=42195263

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020080118211A KR101418127B1 (ko) 2008-11-26 2008-11-26 롤 프린팅 공정에 사용되는 잉크 조성물 및 이를 이용하여 기판 상에 패턴을 형성하는 방법

Country Status (4)

Country Link
US (1) US20100126959A1 (ko)
KR (1) KR101418127B1 (ko)
CN (1) CN101735689B (ko)
TW (1) TWI404774B (ko)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20150008518A (ko) * 2013-07-11 2015-01-23 동우 화인켐 주식회사 비표시부 패턴 형성용 조성물
KR20160022042A (ko) 2014-08-19 2016-02-29 동우 화인켐 주식회사 롤 프린팅용 잉크 조성물

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5756563B2 (ja) * 2011-04-05 2015-07-29 エルジー・ケム・リミテッド 印刷組成物及びこれを利用した印刷方法
DE102019113960A1 (de) * 2019-03-29 2020-10-01 Pierce Protocols Limited Verfahren und System zur Glasätzvorbereitung

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS64173A (en) * 1987-06-22 1989-01-05 Tanaka Kikinzoku Kogyo Kk Organic noble metal ink
JPH05171089A (ja) * 1991-12-18 1993-07-09 Sakata Corp 平版印刷インキ用ワニス、その製造方法およびそれを用いた平版印刷用インキ組成物
CN1158347A (zh) * 1996-02-27 1997-09-03 王秋林 适用于喷码机使用的油墨
JPH10140060A (ja) * 1996-11-13 1998-05-26 Dainippon Ink & Chem Inc ジェットプリンター用インク
GB9625758D0 (en) * 1996-12-10 1997-01-29 Ciba Geigy Ag Pigment compositions
JP3766165B2 (ja) * 1997-03-07 2006-04-12 株式会社ニコン 画像形成方法及び感光材料
WO2000068289A1 (fr) * 1999-05-10 2000-11-16 Arakawa Chemical Industries, Ltd. Procede de production d'ester de colophane modifie par un phenol, ester de colophane modifie par un phenol et utilisations correspondantes
JP2005097326A (ja) * 2003-09-04 2005-04-14 Murata Mfg Co Ltd グラビア印刷用導電性インク、及び積層セラミック電子部品
EP1739142A4 (en) * 2004-04-22 2009-12-02 Dainippon Ink & Chemicals METHOD FOR MANUFACTURING MODIFIED ROSIN ESTER RESIN COMPOSITION FOR LITHOGRAPHIC INK VARNISH AND METHOD FOR MANUFACTURING LITHOGRAPHIC INK VARNISH
ATE498605T1 (de) * 2004-11-04 2011-03-15 Showa Denko Kk Isocyanatverbindung enthaltend eine ethylenisch ungesättigte gruppe und verfahren zu deren herstellung, sowie reaktives monomer, reaktives (meth)acrylatpolymer und anwendung davon
CN1718647A (zh) * 2005-07-09 2006-01-11 胡荣华 一种油墨
CN1712465A (zh) * 2005-07-21 2005-12-28 黎烔光 水溶性印刷油墨及其生产方法
CN1955234B (zh) * 2005-10-25 2010-05-12 樊官保 等同于雕刻凹版油墨的照相凹版油墨及其应用
KR101232179B1 (ko) * 2006-12-04 2013-02-12 엘지디스플레이 주식회사 박막 패턴의 제조장치 및 방법

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20150008518A (ko) * 2013-07-11 2015-01-23 동우 화인켐 주식회사 비표시부 패턴 형성용 조성물
KR20160022042A (ko) 2014-08-19 2016-02-29 동우 화인켐 주식회사 롤 프린팅용 잉크 조성물

Also Published As

Publication number Publication date
CN101735689A (zh) 2010-06-16
TWI404774B (zh) 2013-08-11
CN101735689B (zh) 2013-06-05
TW201020298A (en) 2010-06-01
US20100126959A1 (en) 2010-05-27
KR101418127B1 (ko) 2014-07-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101196684B (zh) 抗蚀溶液以及使用其制作薄膜图案和液晶显示器件的方法
JP4594808B2 (ja) フォトレジスト組成物及びこれを利用する液晶表示装置又は半導体素子の製造方法
JP5822368B2 (ja) 印刷組成物及びこれを利用した印刷方法
JP5165273B2 (ja) フォトレジスト組成物
US20140007786A1 (en) Composition for printing and printing method using the same
KR101418127B1 (ko) 롤 프린팅 공정에 사용되는 잉크 조성물 및 이를 이용하여 기판 상에 패턴을 형성하는 방법
KR20100051451A (ko) 잉크 조성물 및 이를 이용한 액정표시장치의 제조방법
KR20080024089A (ko) 포토레지스트용 용매 및 이를 사용한 슬릿 코팅용포토레지스트 조성물
KR100252579B1 (ko) 마이크로일렉트로닉 구조에 사용되는 노볼락 중합체로 된 평탄한 피막
JP6365952B2 (ja) オフセット印刷組成物、それを用いた印刷方法およびオフセット印刷組成物を含むパターン
KR101145823B1 (ko) 프린팅용 수지 조성물 및 이를 이용한 패턴 형성 방법
TWI397767B (zh) 光阻劑組成物
TW201120152A (en) Ink composition.
TWI299818B (en) Positive photoresist composition
US10168617B2 (en) Composition for forming interlayer insulating film, interlayer insulating film, method for forming interlayer insulating film pattern, and device
KR20040071062A (ko) 인쇄 잉크용 레지스트 조성물, 그 레지스트막 형성 방법,및 그 기판
JP2008045035A (ja) 印刷用硬化性樹脂組成物およびそれを用いたパターン形成方法
KR20060003016A (ko) 패턴화된 레지스트 층을 인쇄하기 위한 조성물 및 인쇄방법
KR20160118548A (ko) 레지스트 박리액 조성물
KR101632099B1 (ko) 인쇄 조성물 및 이를 이용하는 인쇄 방법
KR101707372B1 (ko) 리버스 오프셋 인쇄 조성물 및 이를 이용한 인쇄 방법
TW200909502A (en) Water soluble resin composition having a light-shielding property
KR101325740B1 (ko) 포토레지스트 및 이를 이용한 포토레지스트 패턴의 제조방법
KR102016618B1 (ko) 리버스 오프셋 인쇄 조성물 및 이를 이용한 인쇄 방법
TWI344478B (ko)

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20190617

Year of fee payment: 6