JP6365952B2 - オフセット印刷組成物、それを用いた印刷方法およびオフセット印刷組成物を含むパターン - Google Patents
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Description
R1〜R3は互いに同一であるかまたは異なり、各々独立して水素または炭素数1〜12の置換もしくは非置換のアルキル基である。
R1〜R3は互いに同一であるかまたは異なり、各々独立して水素または炭素数1〜12の置換もしくは非置換のアルキル基である。
m−クレゾールとp−クレゾールを重量比5:5で混合して製造したポリスチレン換算重量平均分子量4,000のノボラック樹脂10g、転写および密着力改善剤としてピロガロール(pyrogallol)1g、界面活性剤0.4gを、低沸点溶媒としてエタノール83.6g、高沸点溶媒として1,4−ブタンジオール5gに溶解した後に1μmで濾過して印刷組成物を製造した。前記製造した印刷組成物を下記実験例1〜5の方法により全面転写率、残渣発生の評価、エッチング評価、パターン精密度および連続印刷特性の評価を行った。
m−クレゾールとp−クレゾールを重量比5:5で混合して製造したポリスチレン換算重量平均分子量4,000のノボラック樹脂10g、転写および密着力改善剤として5−メチルピロガロール(5−methylpyrogallol)1g、界面活性剤0.4gを、低沸点溶媒としてエタノール83.6g、高沸点溶媒として1,4−ブタンジオール5gに溶解した後に1μmで濾過して印刷組成物を製造した。前記製造した印刷組成物を下記実験例1〜5の方法により全面転写率、残渣発生の評価、エッチング評価、パターン精密度および連続印刷特性の評価を行った。
m−クレゾールとp−クレゾールを重量比5:5で混合して製造したポリスチレン換算重量平均分子量4,000のノボラック樹脂10g、転写および密着力改善剤として5−エチルピロガロール(5−ethlypyrogallol)1g、界面活性剤0.4gを、低沸点溶媒としてエタノール83.6g、高沸点溶媒として1,4−ブタンジオール5gに溶解した後に1μmで濾過して印刷組成物を製造した。前記製造した印刷組成物を下記実験例1〜5の方法により全面転写率、残渣発生の評価、エッチング評価、パターン精密度および連続印刷特性の評価を行った。
m−クレゾールとp−クレゾールを重量比5:5で混合して製造したポリスチレン換算重量平均分子量4,000のノボラック樹脂10g、転写および密着力改善剤として4−メチル−5−エチルピロガロール(4−methyl−5−ethylpyrogallol)1g、界面活性剤0.4gを、低沸点溶媒としてエタノール83.6g、高沸点溶媒として1,4−ブタンジオール5gに溶解した後に1μmで濾過して印刷組成物を製造した。前記製造した印刷組成物を下記実験例1〜5の方法により全面転写率、残渣発生の評価、エッチング評価、パターン精密度および連続印刷特性の評価を行った。
m−クレゾールとp−クレゾールを重量比5:5で混合して製造したポリスチレン換算重量平均分子量4,000のノボラック樹脂10g、転写および密着力改善剤としてメチルガレート(methyl gallate)1g、界面活性剤0.4gを、低沸点溶媒としてエタノール83.6g、高沸点溶媒として1,4−ブタンジオール5gに溶解した後に1μmで濾過して印刷組成物を製造した。前記製造した印刷組成物を下記実験例1〜5の方法により全面転写率、残渣発生の評価、エッチング評価、パターン精密度および連続印刷特性の評価を行った。
m−クレゾールとp−クレゾールを重量比5:5で混合して製造したポリスチレン換算重量平均分子量4,000のノボラック樹脂10g、転写および密着力改善剤としてカテコール(catechol)1g、界面活性剤0.4gを、低沸点溶媒としてエタノール83.6g、高沸点溶媒として1,4−ブタンジオール5gに溶解した後に1μmで濾過して印刷組成物を製造した。前記製造した印刷組成物を下記実験例1〜5の方法により全面転写率、残渣発生の評価、エッチング評価、パターン精密度および連続印刷特性の評価を行った。
m−クレゾールとp−クレゾールを重量比5:5で混合して製造したポリスチレン換算重量平均分子量4,000のノボラック樹脂10g、転写および密着力改善剤として没食子酸(gallic acid)1g、界面活性剤0.4gを、低沸点溶媒としてエタノール83.6g、高沸点溶媒として1,4−ブタンジオール5gに溶解した後に1μmで濾過して印刷組成物を製造した。前記製造した印刷組成物を下記実験例1〜5の方法により全面転写率、残渣発生の評価、エッチング評価、パターン精密度および連続印刷特性の評価を行った。
m−クレゾールとp−クレゾールを重量比5:5で混合して製造したポリスチレン換算重量平均分子量4,000のノボラック樹脂10g、転写および密着力改善剤としてヘキサメトキシメチルメラミン(hexamethoxymethylmelamine)1g、界面活性剤0.4gを、低沸点溶媒としてエタノール83.6g、高沸点溶媒として1,4−ブタンジオール5gに溶解した後に1μmで濾過して印刷組成物を製造した。前記製造した印刷組成物を下記実験例1〜5の方法により全面転写率、残渣発生の評価、エッチング評価、パターン精密度および連続印刷特性の評価を行った。
m−クレゾールとp−クレゾールを重量比5:5で混合して製造したポリスチレン換算重量平均分子量4,000のノボラック樹脂10g、転写および密着力改善剤としてアミノプロピルトリエトキシシラン(aminopropyltriethoxysilane)1g、界面活性剤0.4gを、低沸点溶媒としてエタノール83.6g、高沸点溶媒として1,4−ブタンジオール5gに溶解した後に1μmで濾過して印刷組成物を製造した。前記製造した印刷組成物を下記実験例1〜5の方法により全面転写率、残渣発生の評価、不均一エッチング評価、パターン精密度および連続印刷特性の評価を行った。
m−クレゾールとp−クレゾールを重量比5:5で混合して製造したポリスチレン換算重量平均分子量4,000のノボラック樹脂10g、転写および密着力改善剤としてピロガロール(pyrogallol)0.05g、界面活性剤0.4gを、低沸点溶媒としてエタノール84.55g、高沸点溶媒として1,4−ブタンジオール5gに溶解した後に1μmで濾過して印刷組成物を製造した。前記製造した印刷組成物を下記実験例1〜5の方法により全面転写率、残渣発生の評価、エッチング評価、パターン精密度および連続印刷特性の評価を行った。
m−クレゾールとp−クレゾールを重量比5:5で混合して製造したポリスチレン換算重量平均分子量4,000のノボラック樹脂10g、転写および密着力改善剤としてピロガロール(pyrogallol)6g、界面活性剤0.4gを、低沸点溶媒としてエタノール78.6g、高沸点溶媒として1,4−ブタンジオール5gに溶解した後に1μmで濾過して印刷組成物を製造した。前記製造した印刷組成物を下記実験例1〜5の方法により全面転写率、残渣発生の評価、エッチング評価、パターン精密度および連続印刷特性の評価を行った。
前記実施例1〜4と比較例1〜7をShore A硬度47のシリコン系ブランケット上に65mm/sec速度で塗布して乾燥前の厚さが2μmの塗膜を形成した。塗布してから10秒間待機した後、370mm×470mm大きさのガラス基材に印刷工程速度65mm/sec、オフ印圧(contact pressure:印刷圧力を加えた時に一地点で変形された長さ)20μmの条件で全面転写して、被印刷体のガラス基材に転写された印刷組成物の面積を測定した。それに対する測定結果は下記の表1に示す。
B:80%転写される
C:50%転写される
D:30%転写される
E:10%転写される
F:転写されず
前記実施例1〜4と比較例1〜7をShore A硬度47のシリコン系ブランケット上に65mm/sec速度で塗布して乾燥前の厚さが2μmの塗膜を形成した。塗布してから10秒間待機した後、線幅3μm、線間距離300μmの陰刻メッシュパターンを有する370mm×470mm大きさのクリシェにオフ工程速度65mm/sec、オフ印圧(contact pressure:印刷圧力を加えた時に一地点で変形された長さ)20μmの条件で転写して、クリシェに対応するパターンをブランケット上に形成した。ブランケット上に形成された印刷組成物パターンをセット工程速度65mm/sec、セット印圧100μmの条件で表面暗色化処理されたアルミニウム蒸着フィルムに転写して最終パターンを形成した後、光学顕微鏡でクリシェに対応するパターン以外の残余インク組成物(残渣)の個数を観察した。それに対する測定結果は下記の表1に示す。
B:長辺3μm以上の残渣50個以下
C:長辺3μm以上の残渣100個以下
D:長辺3μm以上の残渣100個超過
前記実験例2のように表面暗色化処理されたアルミニウム蒸着フィルムに印刷組成物を印刷した後、90℃で3分間乾燥した後、光学顕微鏡で印刷組成物パターンの線幅を測定した。乾燥が完了した被印刷基材をリン酸、硝酸および酢酸で構成されたエッチング液を用いて1分間エッチングした後、金属パターン上部の残留印刷組成物を剥離した後、光学顕微鏡で金属パターンの線幅を測定し、マウスバイトの発生有無を観察した。それに対する測定結果は下記の表1に示す。
エッチング後の線幅変化=印刷組成物パターン線幅−金属パターン線幅
B:エッチング後の線幅変化0.2μm未満、マウスバイト発生
C:エッチング後の線幅変化0.2μm以上0.5μm未満、マウスバイト発生せず
D:エッチング後の線幅変化0.2μm以上0.5μm未満、マウスバイト発生
E:エッチング後の線幅変化0.5μm以上
前記実施例1〜4と比較例1〜7をShore A硬度47のシリコン系ブランケット上に65mm/sec速度で塗布して乾燥前の厚さが2μmの塗膜を形成した。塗布してから10秒間待機した後、線幅3μm、線間距離300μmの陰刻メッシュパターンを有する370mm×470mm大きさのクリシェにオフ工程速度65mm/sec、オフ印圧(contact pressure:印刷圧力を加えた時に一地点で変形された長さ)20μmの条件で転写して、クリシェに対応するパターンをブランケット上に形成した。ブランケット上に形成された印刷組成物パターンをセット工程速度65mm/sec、セット印圧100μmの条件で表面暗色化処理されたアルミニウム蒸着フィルムに転写して最終パターンを形成した。確保されたパターンを光学顕微鏡で観察し、以下のような基準で評価した。それに対する測定結果は下記の表1に示す。
B:線幅変化率10%以内、パターン交差部の断線発生
C:線幅変化率20%以内、パターン交差部の正常な実現
D:線幅変化率20%以内、パターン交差部の断線発生
E:線幅変化率20%以上、パターン交差部の断線発生
前記実験例4と同様な方法により連続的な印刷工程を行って、初期印刷パターン線幅に対比して線幅変化率10%以内を維持する連続印刷枚数を測定した。それに対する測定結果は下記の表1に示す。
20 ブランケットを支持するためのロール型支持体
21 ブランケット
22 ブランケット上に塗布された印刷組成物パターン材料
30 クリシェ支持体
31 パターンを有するクリシェ
40 被印刷体
41 被印刷体に転写された印刷組成物パターン
Claims (17)
- 1)バインダー樹脂、
2)下記化学式1で表される化合物を含む転写および密着力改善剤、
3)沸点100℃未満の低沸点溶媒、および
4)沸点180℃以上の高沸点溶媒を含み、
シリコン系ブランケットを用いるオフセット印刷組成物であって、
前記転写および密着力改善剤の含量は全体オフセット印刷組成物重量の0.1重量%以上5重量%以下である、オフセット印刷組成物:
[化学式1]
R1〜R3は互いに同一であるかまたは異なり、各々独立して水素または炭素数1〜12の置換もしくは非置換のアルキル基である。 - 前記バインダー樹脂はノボラック樹脂である、請求項1に記載のオフセット印刷組成物。
- 前記ノボラック樹脂は重量平均分子量が1,000以上20,000以下である、請求項2に記載のオフセット印刷組成物。
- 前記沸点100℃未満の低沸点溶媒は、ジメチルカーボネート、メタノール、メチルエチルケトン、アセトン、イソプロピルアルコール、エチルアセテート、エタノール、プロパノールおよびノルマルヘキサンからなる群から選択された1つまたは2つ以上を含む、請求項1に記載のオフセット印刷組成物。
- 前記沸点180℃以上の高沸点溶媒は、レゾルシノール;m−クレゾール;o−クレゾール;p−クレゾール;ベンジルアルコール;プロピレングリコール;1,3−プロパンジオール;1,3−ブタンジオール;2,3−ブタンジオール;1,4−ブタンジオール;1,5−ペンタンジオール;1,4−ペンタンジオール;1,3−ペンタンジオール;2,4−ペンタンジオール;1,6−ヘキサンジオール;1,5−ヘキサンジオール;1,4−ヘキサンジオール;1,3−ヘキサンジオール;1,2−ヘキサンジオール;2,3−ヘキサンジオール;2,4−ヘキサンジオール;2,5−ヘキサンジオール;3,4−ヘキサンジオール;およびγ−ブチロラクトンからなる群から選択された1つまたは2つ以上を含む、請求項1に記載のオフセット印刷組成物。
- 前記バインダー樹脂は全体オフセット印刷組成物重量の5重量%以上20重量%以下である、請求項1に記載のオフセット印刷組成物。
- 前記沸点100℃未満の低沸点溶媒は全体オフセット印刷組成物重量の50重量%以上90重量%以下である、請求項1に記載のオフセット印刷組成物。
- 前記沸点180℃以上の高沸点溶媒は全体オフセット印刷組成物重量の1重量%以上30重量%以下である、請求項1に記載のオフセット印刷組成物。
- 前記オフセット印刷組成物は界面活性剤をさらに含む、請求項1に記載のオフセット印刷組成物。
- 前記界面活性剤の含量は全体オフセット印刷組成物重量の0.001重量%以上0.5重量%以下である、請求項9に記載のオフセット印刷組成物。
- 前記オフセット印刷組成物はレジストパターンまたは絶縁パターン形成用である、請求項1〜10のいずれか1項に記載のオフセット印刷組成物。
- 前記オフセット印刷組成物はリバースオフセット印刷用である、請求項1〜10のいずれか1項に記載のオフセット印刷組成物。
- 請求項1〜10のいずれか1項に記載のオフセット印刷組成物をシリコン系ブランケット上にコーティングするステップ、
前記シリコン系ブランケット上に塗布されたオフセット印刷組成物塗膜にクリシェを接触して一部の塗膜を除去するステップ、および
前記シリコン系ブランケット上に残っているオフセット印刷組成物塗膜を被印刷体に転写するステップを含むオフセット印刷方法。 - 前記被印刷体に転写されたオフセット印刷組成物を乾燥または硬化するステップをさらに含む、請求項13に記載のオフセット印刷方法。
- 請求項1〜10のいずれか1項に記載のオフセット印刷組成物を乾燥または硬化して形成されたパターン。
- 前記パターンはレジストパターンまたは絶縁パターンである、請求項15に記載のパターン。
- 前記パターンの線幅は1μm以上100μm以下である、請求項15に記載のパターン。
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