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Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5132534B2 (ja) * 2008-12-01 2013-01-30 日本電波工業株式会社 光学部品の製造方法
CN101698931B (zh) * 2009-11-18 2012-11-07 九江学院 一种制备超晶格热电薄膜材料的双闪蒸法装置
JP2012145958A (ja) * 2012-03-14 2012-08-02 Nippon Dempa Kogyo Co Ltd 光学素子
US9371577B2 (en) * 2013-12-31 2016-06-21 Halliburton Energy Services, Inc. Fabrication of integrated computational elements using substrate support shaped to match spatial profile of deposition plume
EP3366804B1 (en) * 2017-02-22 2022-05-11 Satisloh AG Box coating apparatus for vacuum coating of substrates, in particular spectacle lenses
CN111139442B (zh) * 2019-12-31 2024-06-25 中山市博顿光电科技有限公司 旋转夹具及真空镀膜设备
CN115440919A (zh) * 2021-06-03 2022-12-06 Tcl科技集团股份有限公司 发光器件及其制备方法、显示器件
KR102806817B1 (ko) * 2021-07-15 2025-05-12 캐논 톡키 가부시키가이샤 성막 장치, 성막 방법 및 증발원 유닛
JP7519139B1 (ja) * 2023-10-10 2024-07-19 株式会社オプトラン 蒸着装置

Family Cites Families (29)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02176601A (ja) * 1988-09-28 1990-07-09 Mitsubishi Electric Corp 投影レンズおよびその製造方法
JPH04143266A (ja) * 1990-10-05 1992-05-18 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 低応力膜形成装置
US5872655A (en) * 1991-07-10 1999-02-16 Optical Coating Laboratory, Inc. Monolithic linear variable filter and method of manufacture
US5308461A (en) * 1992-01-14 1994-05-03 Honeywell Inc. Method to deposit multilayer films
JPH06337310A (ja) * 1992-10-23 1994-12-06 Matsushita Electric Ind Co Ltd 光学多層膜並びにその成膜方法及びその成膜装置
CN1188516A (zh) * 1996-04-01 1998-07-22 东丽株式会社 带薄膜基板的制造方法和制造装置
JPH10280130A (ja) 1997-04-01 1998-10-20 Nikon Corp 真空蒸着方法及び真空蒸着装置
JP2000252350A (ja) * 1999-03-04 2000-09-14 Kokusai Electric Co Ltd 基板受け渡し装置
JP3900759B2 (ja) * 1999-10-01 2007-04-04 凸版印刷株式会社 スパッタリング成膜用の基板ホルダー及びそれを用いたフォトマスクブランクスの製造方法
US6852473B2 (en) * 2000-01-12 2005-02-08 Infineon Technologies Richmond, Lp Anti-reflective coating conformality control
CN1397024A (zh) * 2000-01-28 2003-02-12 住友电气工业株式会社 加热器模块和光波导模块
JP2001351874A (ja) 2000-06-09 2001-12-21 Ebara Corp 基板回転装置
US7195797B2 (en) * 2000-07-10 2007-03-27 Atomic Telecom High throughput high-yield vacuum deposition system
JP2002363745A (ja) * 2001-06-08 2002-12-18 Canon Inc スパッタによる膜の形成方法、光学部材、およびスパッタ装置
JP2003183821A (ja) * 2001-12-14 2003-07-03 Nikon Corp スパッタリング装置
JP2003192390A (ja) * 2001-12-19 2003-07-09 Nippon Shinku Kogaku Kk ガラス製光学素子の製造方法及びそれに用いる固定治具
US7122844B2 (en) * 2002-05-13 2006-10-17 Cree, Inc. Susceptor for MOCVD reactor
US20050099611A1 (en) * 2002-06-20 2005-05-12 Nikon Corporation Minimizing thermal distortion effects on EUV mirror
JP4526776B2 (ja) * 2003-04-02 2010-08-18 株式会社半導体エネルギー研究所 発光装置及び電子機器
JP2005010736A (ja) * 2003-05-22 2005-01-13 Fujikura Ltd 光ファイバおよびこれを用いた導光体、導光体を用いた気体の浄化方法および液体の浄化方法
US6972136B2 (en) * 2003-05-23 2005-12-06 Optima, Inc. Ultra low residual reflection, low stress lens coating and vacuum deposition method for making the same
JP2005038914A (ja) * 2003-07-16 2005-02-10 Matsushita Electric Ind Co Ltd 圧電薄膜の形成装置
JP2005133110A (ja) * 2003-10-28 2005-05-26 Konica Minolta Opto Inc スパッタリング装置
EP1536036B1 (en) * 2003-11-14 2007-06-20 Sharp Kabushiki Kaisha Thin film forming apparatus
JP2005320568A (ja) * 2004-05-07 2005-11-17 Olympus Corp 薄膜形成装置及び膜厚監視方法
JP3966869B2 (ja) * 2004-05-11 2007-08-29 株式会社昭和真空 基板ドーム
JP4468867B2 (ja) * 2005-07-08 2010-05-26 日本電信電話株式会社 面内閉じ込め構造を有する多層膜フィルタおよび光波長フィルタ
JP4675791B2 (ja) * 2006-01-31 2011-04-27 株式会社東芝 ディスク装置およびその製造方法
US20070245955A1 (en) * 2006-04-25 2007-10-25 Jds Uniphase Corporation Substrate holder for optical coating machines

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