JP2003192390A - ガラス製光学素子の製造方法及びそれに用いる固定治具 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 スパッタ作用時にガラス基材と固定治具の材
質の違いに起因した誘起電位の不均一さを解消して、膜
厚が均一な誘電体多層膜の形成を可能にするガラス製光
学素子の製造方法及びガラス製光学素子の製造用固定治
具を提供する。 【解決手段】 ガラス基板４を電極２上に固定する固定
治具３は、ガラス基板４と同じ絶縁性を有する材質で形
成されるので、電極２が固定治具３とガラス基板４との
周りに作る誘起電位の等電位面はフラット化される。従
って、ガラス基板４に形成される蒸着層へのイオン衝撃
によるスパッタ作用のバラツキが回避でき、誘電体多層
膜の膜厚ムラを回避することができる。その結果、ガラ
ス基材４の全面に渡って光学特性が良好であり、且つ膜
厚ムラの少ない良質な誘電体多層膜を形成することがで
きる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、光通信、又は映
像分野に利用されるような誘電体多層膜がガラス基材に
形成されたガラス製光学素子の製造方法及びそれに用い
る固定治具に関し、特に、誘電体多層膜の膜厚ムラの解
消を図ることができるガラス製光学素子の製造方法及び
それに用いる固定治具に関する。

【０００２】

【従来の技術】光通信などの分野では、例えばＤＷＤＭ
フィルタに代表されるような、高度に制御された誘電体
多層膜により分光制御を行う小型の光学素子が多く利用
されている。小型光学素子の多くは、小型のガラス製フ
ィルタやプリズム、レンズ等の小型ガラス基材の一面又
は多面に、蒸着により誘電体多層膜を形成したものであ
る。小型光学素子は、通常、数十センチ角の大きさの板
状ガラス基材に誘電体多層膜を形成し、その後、所望の
大きさの素子に切断加工するか、或いは予めガラス基材
を数センチ又はそれ以下の小型ガラス基材に加工後、そ
れら複数個の小型ガラス基材を固定治具に固定し、各ガ
ラス基材の表面に誘電体多層膜を一度に形成させること
により製作される。

【０００３】ガラス基材に誘電体多層膜を形成するに
は、一般的には、蒸着又はスパッタによる方法が利用さ
れる。この方法によれば、真空容器内に設けられた基板
保持電極からの高周波放電により発生するプラズマと誘
起電位を利用して、蒸着中の膜をイオン衝撃する高周波
イオンプレーティングが行われる。即ち、図６に示すよ
うに、高周波イオンプレーティング装置３０の真空容器
３１の内部に、１個又は複数個のガラス基板３４を保持
する基板保持電極３２と蒸着物質の蒸発源３５が配設さ
れ、真空容器３１は予め高真空に排気された後、所定の
反応ガス（例えば、酸化物皮膜の蒸着には酸素ガス）が
ガスボンベ３７から所定の圧力となるように導入ガス調
節弁３６を介して導入される。真空容器３１の内部は、
例えば図示しないクライオポンプによって所定の真空度
に保たれる。光学薄膜を形成するため、ガラス基板３４
上に酸化タンタルや二酸化珪素等の薄膜が蒸着・形成さ
れる。即ち、蒸発源３５に用いられる蒸着物質はＴａ₂
Ｏ₅ ，Ｓｉ，ＳｉＯ₂ 等であり、蒸着物質は電子ビーム
で加熱・蒸発させる、あるいは電熱によって加熱蒸発さ
せるなど、適宜の手段によって蒸発される。

【０００４】基板保持電極３２には、電源３３から高周
波電力が供給される。基板保持電極３２の主放電内で蒸
発源３５からの蒸気の一部や反応ガスの一部はイオン化
され、基板保持電極３２に誘起された直流自己バイアス
電圧は、そうしたイオンを加速して、基板保持電極３２
上に設置されたガラス基板３４上の蒸着膜に衝突させ
る。このようにして膜の結晶成長と空孔の発生を阻止す
ることによって、高密度で安定な非晶質の膜質の良い緻
密な誘電体多層膜を形成することができる。

【０００５】その際、ガラス製光学素子の製造効率を向
上するため、ガラス基板３４を真空容器３１内において
金属製の固定治具に固定し、多数のガラス製光学素子に
対し一度に誘電体多層膜を形成させることが多い。その
理由は、第一には複雑な形状の固定治具を作製するには
加工の容易な金属を用いた方が簡単であることがある
が、その他にも蒸着時に数百℃の高温にさらされるため
高い耐熱性が要求されること、作業時や蒸着時などに生
じる振動などの物理的な衝撃に耐えられること、室温か
ら数百℃の高温への急激な温度上昇やその逆の温度降下
によるヒートショックに耐えられること、等のいくつか
の要因があげられる。固定治具に使用される金属として
は、ステンレスやアルミニウム等が代表的である。

【０００６】上記のように金属製の固定治具は、加工
性、耐衝撃性、耐熱性等の観点で有効な治具であるが、
金属製であることに起因していくつかの問題点が生じて
いることも分かってきた。即ち、誘電体多層膜が形成さ
れる光学素子には、基材としてガラスが用いられること
が一般的であるが、ガラス自身は絶縁体であるのに対
し、固定に使用される治具は金属（導体）であるため、
蒸着やスパッタを行う際に、絶縁体と導体の界面近傍の
電場の状態が不連続になる。

【０００７】図７には、金属製の固定治具を用いたとき
の、ガラス基板の固定構造とその周りの電位分布の様子
が等電位線として示されている。誘電体多層膜の蒸着
は、基板保持電極（以下、電極と略す）３２にガラス基
材としてのガラス基板３４を保持した金属製の固定治具
３８を取り付けて行われている。固定治具３８の誘電率
がガラス基板３４の誘電率と異なるために、固定治具３
８の周囲で等電位線が大きく蛇行しており、ガラス基板
３４の表面に同程度に近いところであっても、固定治具
３８に近接した領域では電極３２の直近で生じるのと同
じ程度の高い電位が生じているのに対して、固定治具３
８から離れた領域では電極３２から相当離れたところの
電位と同じ程度の低い電位が生じている。その結果、加
速電圧（イオン照射エネルギーとなる）もガラス基板３
４上で固定治具３８に近いところほど大きくなるという
分布をしている。

【０００８】蒸着膜の付着と共に生じるスパッタ率分
布、即ち、金属製の固定治具３８に近い領域ほど膜への
スパッタ作用が強くなる影響で、誘電体多層膜には、大
きな膜厚ムラが生じている。膜厚は、図８に示すように
波長ムラ分布から分かる膜厚は、固定治具３８から遠い
ガラス基板３４の中央部で厚く、固定治具３８に近い領
域で薄くなっており、ガラス基板３４の全面での均一な
誘電体多層膜の形成が妨げられる。この膜厚ムラは、加
速電圧が均一でないことに起因しているので、電極３２
に回転を与えても解消することができない。そのため、
製造される光学素子が小型であればあるほど、ガラス基
板の全面積に対して、界面近傍の影響を受けて膜厚ムラ
が生じる部分の面積の割合（面積比）が大きくなり、結
果として、ガラス製光学素子の光学特性の悪化を招いて
いると共に、製品として取り出せるガラス製光学素子の
歩留りが悪化している。

【０００９】また、金属製の固定治具の場合、一般的
に、その加工の容易さから逆に治具そのものが複雑にな
りすぎる傾向がある。特に金属製のシャフトの組合せに
よる治具が多用されているが、それによって生じる空隙
部の多さは、目的面以外への蒸着物質の回り込みや上記
電場雰囲気の不連続性を招いている。しかし、空隙部を
ある程度確保しないと、金属治具の場合、重量増や、熱
容量や熱伝導性が大きいことによる温度的な不連続性等
の問題が避けられず、これも問題となっている。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】そこで、ガラス基材の
表面での均一な誘電体多層膜を形成するため、スパッタ
作用時に電極によって誘起される電位がガラス基材と固
定治具の材質の違いに起因して不均一となるのを解消す
る点で解決すべき課題がある。

【００１１】この発明の目的は、ガラス基材の表面に蒸
着及びスパッタで形成される誘電体多層膜の膜厚ムラを
なくし、或いは、膜厚ムラが生じる部分の面積の割合
（面積比）を小さくして、ガラス基材から製品として取
り出せるガラス製光学素子を多数個取りするときの歩留
りを向上することを可能にするガラス製光学素子の製造
方法及びそれに用いられるガラス製光学素子の製造用固
定治具を提供することである。

【００１２】

【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
め、この発明によるガラス製光学素子の製造方法は、電
極上に保持されたガラス基材上の誘電体膜に前記電極に
引き寄せられるイオンを衝突させることで前記ガラス基
材上に誘電体多層膜を形成するガラス製光学素子の製造
方法であって、前記ガラス基材を絶縁性の固定治具によ
って電極上に固定することを特徴としている。

【００１３】このガラス製光学素子の製造方法において
は、電極を電源に接続することによって、電極周りには
誘起電位が生じ、その誘起電位によって、プラズマ中の
イオンは電極に引き寄せられて、電極上に保持されたガ
ラス基材上に形成されている蒸着層に衝突する。ガラス
基材を電極上に固定する固定治具は、ガラス基材と同じ
絶縁性を有する固定治具であるので、電極がガラス基材
と固定治具との周りに作る誘起電位はガラス基材と固定
治具との間で不均一にならない。従って、ガラス基材へ
のイオン衝撃のバラツキが回避でき、ガラス基材の全面
に渡って膜厚ムラの少ない良質な誘電体多層膜が形成さ
れる。なお、この発明において、ガラス製光学素子と
は、プリズム、レンズ、フィルター等のガラス基材の表
面に誘電体多層膜を形成することにより製作された光学
素子をいう。

【００１４】このガラス製光学素子の製造方法におい
て、前記ガラス基材は前記固定治具によって前記電極に
固定される単一の前記ガラス基材であり、前記ガラス製
光学素子は前記誘電体多層膜が形成された前記ガラス基
材から多数個切り出されるガラス製光学素子とすること
ができる。即ち、絶縁性の固定治具によって単一のガラ
ス基材を直接に電極に固定し、単一のガラス基材の全面
に渡って誘電体多層膜を形成し、誘電体多層膜が形成さ
れたガラス基材から多数個のガラス製光学素子を切り出
すことができる。その際、ガラス基材の治具近傍の部分
から切り出されるガラス製光学素子の光学特性と、治具
から離れたガラス基材の中央部分から切り出されるガラ
ス製光学素子の光学特性との均一化が得られ、歩留りを
向上させることが可能になる。

【００１５】このガラス製光学素子の製造方法におい
て、前記ガラス基材は前記固定治具によって保持された
状態で前記電極に固定される多数個の小型ガラス基材で
あり、前記ガラス製光学素子は前記小型ガラス基材に前
記誘電体多層膜が形成されて前記固定治具から個別に取
り出されるガラス製小型光学素子とすることができる。
即ち、絶縁性の固定治具によって小型ガラス基材を電極
に固定し、固定治具に多数個保持された小型ガラス基材
のそれぞれに一度に誘電体多層膜を形成して、そうして
誘電体多層膜が形成された個々の小型ガラス基材をガラ
ス製小型光学素子とすることができる。その際、個々の
ガラス製小型光学素子において、固定治具の近傍部分の
光学特性と、治具から離れた中央部分の光学特性との均
一化が得られ、単一の光学素子の光学特性が均一化・安
定化し、その歩留りを向上させることが可能になる。

【００１６】このガラス製光学素子の製造方法におい
て、前記誘電体多層膜が形成される前記ガラス基材の蒸
着面は、前記固定治具の表面によって形成される面と同
一平面内に置くことが好ましい。即ち、絶縁性の固定治
具の誘電率とガラス基材の誘電率との差を同じ又は少な
くできるので、イオンを引きつける誘起電位も固定治具
とガラス基材とで同等の大きさにできる。従って、ガラ
ス製光学素子の表面と固定治具の表面とを同一面内に置
くことにより、前記誘起電位はガラス製光学素子と固定
治具とに跨がって一層フラットになり、イオン衝撃やス
パッタ分布が均一化され、治具からの遠近位置にかかわ
らず、光学特性を一層揃えたガラス製光学素子を製造す
ることが可能となる。

【００１７】このガラス製光学素子の製造方法におい
て、前記固定治具は、ガラス、結晶化ガラス、セラミッ
ク又は耐熱性樹脂製の治具とすることができる。絶縁性
材料として、非晶質性のガラスを用いることができる
が、高い耐衝撃性、耐ヒートショック性を持つものとし
て結晶化ガラス、セラミック又は耐熱性樹脂製とするこ
とができる。

【００１８】また、この発明は、ガラス製光学素子の製
造用固定治具に関しており、ガラス基材上の誘電体膜に
イオンを衝突させることで前記ガラス基材上に誘電体多
層膜を形成するガラス製光学素子の製造において、前記
イオンを引き寄せる電極に前記ガラス基材を固定するた
めに用いられる固定治具を、絶縁体で製作したことを特
徴としている。

【００１９】この製造用固定治具によれば、イオンを引
き寄せる電極にガラス基材を固定するために用いられる
固定治具を絶縁体で製作しているので、イオンを引き寄
せる誘起電位がガラス基材と固定治具とで大きな差異が
なく、フラットな電位面が形成される。従って、ガラス
基材に付着される蒸着層がイオン衝撃で受けるスパッタ
作用は、ガラス基材と固定治具とに渡って均一化が図ら
れるので、ガラス基材に形成される誘電体多層膜に膜厚
ムラが生じるのが回避される。なお、ガラス製光学素子
とは、プリズム、レンズ、フィルタ等のガラス基材の表
面に誘電体多層膜を形成することにより製作された素子
のことである。

【００２０】このガラス製光学素子の製造用固定治具に
おいて、前記固定治具は、ガラス、結晶化ガラス、セラ
ミック又は耐熱性樹脂製の治具とすることができる。ガ
ラス基材と固定治具の材質の違いによる蒸着時の誘起電
位の不均一を解消する最も有効な方法は、固定治具の材
質をガラス基材と同じ絶縁体物質に変更し固定治具と光
学素子の材質的な均一性を高めることである。絶縁性材
料として、非晶質性のガラスを用いることができるが、
ガラスは機械的強度自体は理論的に高い物質ではあって
も加工が難しく脆く割れやすい性質がある。従って、複
雑な形状の固定治具を作製する場合には、本質的にガラ
スと同一で高い耐衝撃性、耐ヒートショック性を持ち治
具の作製が容易な結晶化ガラス、セラミック又は耐熱性
樹脂製とすることが好ましい。特に、結晶化ガラスは実
質的機械的強度が非常に高く、この点で最適な物質であ
る。また、耐熱性樹脂としては、例えば、ポリミド樹脂
やアラミド樹脂が挙げられる。

【００２１】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して、この発明
によるガラス製光学素子の製造方法及びガラス製光学素
子の製造用固定治具の実施例を説明する。図１は、ガラ
ス製光学素子の製造用固定治具をガラスフィルタの固定
に用いた実施例を示した断面図であり、この実施例は、
また、この発明によるガラス製光学素子の製造方法をガ
ラス製光学素子としてガラスフィルタの製造に適用した
例である。図１に示すように、電極−基板組立体１は、
例えば円板状の電極２と、固定治具３によって保持され
たガラス基材としてのガラス基板４とから構成されてい
る。ガラス基板４は、固定治具３によって保持された状
態で固定治具３が電極２に固定されることにより、電極
２に対して固定される。電極−基板組立体１の真空容器
内への装着や基本的な蒸着・スパッタ作用は、図６に基
づいて従来のものについて説明したのと同様、電極２上
に保持されたガラス基板４上の蒸着層へのプラズマ中の
イオンの衝撃に基づいてガラス基板４上に誘電体多層膜
を形成するものである。ガラス基板４を電極２上に固定
する固定治具３は、ガラス、結晶化ガラス、セラミッ
ク、又は耐熱性樹脂のような誘電体から構成された絶縁
性の固定治具である。

【００２２】図２は、図１に示す電極−基板組立体１の
周りに形成される誘起電位の概要を示す説明図、図３は
波長ムラ分布から見た誘電体多層膜の膜厚分布を示すグ
ラフである。固定治具３をガラス基材と同様の誘電体か
ら形成した場合に、電極２がガラス基板４に生じる誘起
電位（電界分布) は、図２において誘起電位の等電位線
で表した電位分布に示すように、図７に示す従来の導体
から成る固定治具を用いた場合の電位分布と比較して、
ガラス基板４の全面に渡って歪みが少なくなっており、
特に、ガラス基板４の固定治具３で保持される周辺部で
等電位線の歪みが大きく改善されてフラット化が図られ
ている。即ち、固定治具３がガラス基板４と同様に絶縁
性であるので、固定治具３によって大きく歪むことなく
フラット化されている。従って、電極２に引き寄せられ
たイオンが蒸着層に衝突することによるスパッタ作用を
ガラス基板４に沿って一様化でき、ガラス基板４の全面
に渡って膜厚ムラの少ない良質な誘電体多層膜が形成さ
れる。

【００２３】図３に示すように、ガラス基板４を円板と
したとき、その中心から半径方向に沿って見たときの誘
電体多層膜の膜厚の変化は、固定治具３に近い範囲まで
略均一化されており、図８に示す従来の導体から成る固
定治具を用いた場合の膜厚と比較して、周辺部における
膜厚の減少程度も少なくなっていることが分かる。

【００２４】ガラス基板４は下面の一部が固定治具３の
リング部６から延びる係止部７によって抱えられるよう
に係止されているが、下面の殆どの部分は真空容器内に
晒されて誘電体多層膜を形成するための蒸着面５となっ
ている。電極２の周囲は、固定治具３のリング部６の幅
広化、又は別途設けられる防膜板８によって絶縁体化
し、更に固定治具３と面一にするのが、膜厚ムラを無く
すのに有効である。

【００２５】固定治具３については、リング部６から鍔
状に張り出す係止部７をなくして、ガラス基板４の蒸着
面５をリング部６（防膜板８を含む）の端面と面を合わ
せることもできる。ガラス基板４の蒸着面５を、固定治
具３の端面と同一平面内に置くことにより、誘起電位の
一層のフラット化を図ってイオン衝撃やスパッタ分布が
更に均一化され、膜厚ムラの発生を更に効果的に防止し
て誘電体多層膜の膜厚の均一化を図ることができる。そ
の結果、固定治具３からの遠近位置にかかわらず、光学
特性を一層揃えたガラス製光学素子を製造することがで
きる。

【００２６】この例では、絶縁性の固定治具３によって
保持された単一のガラス基板４が電極２に固定され、単
一のガラス基板４の全面に渡って一度に誘電体多層膜を
形成し、そうして誘電体多層膜が形成されたガラス基板
４から多数個のガラス製光学素子が切り出される。その
際、ガラス基板４の固定治具３近傍の部分から切り出さ
れるガラス製光学素子の光学特性と、固定治具３から離
れたガラス基板４の中央部分から切り出されるガラス製
光学素子の光学特性との均一化が得られ、不良品の発生
率を下げて歩留りを向上させることができる。

【００２７】図４は、この発明によるガラス製光学素子
の製造用固定治具を円板状又は円柱状のガラス基材の固
定に用いた実施例を示した図であり、（ａ）はその下面
図、（ｂ）は（ａ）のＡ−Ｏ−Ａ断面図である。図４に
示す実施例は、また、この発明によるガラス製光学素子
の製造方法を円板又は円柱状の光学素子の製造に適用し
た例である。図４に示すように、電極−ガラス基材組立
体１０は、円板状の電極１２と、円板状の固定治具１３
によって保持された複数の円板状又は円柱状のガラス基
材１４（以下、単に、「ガラス基材１４」という）とか
ら構成されている。固定治具１３は、金属円板１５、バ
イトンゴム円板１６及び絶縁体円板１７から成り、電極
１２に重ねた状態に取り付けられる。金属円板１５及び
絶縁体円板１７には、それぞれ、ガラス基材１４の取り
付け位置に合わせてガラス基材１４が挿入可能な径を持
つ孔１５ａ，１７ａが形成されている。バイトンゴム円
板１６には、ガラス基材１４のロッド径より小さくした
孔１６ａを形成して、ガラス基材１４を締め付け保持す
る機能を持たせている。

【００２８】ガラス基材１４は、図４（ａ）に示すよう
に、円板状の固定治具１３の周方向に隔置して配置され
る。複数のガラス基材１４は、固定治具１３が中心の支
柱１３ａを介して電極１２に固定されることにより、固
定治具１３によって保持された状態で電極１２に対して
固定される。ガラス基材１４と絶縁体円板１７とは同等
の誘電率を持つことになり、電極１２を電源に接続した
とき、電位的にはあたかも同材料的に振る舞い、ガラス
基材１４の蒸着面１８と絶縁体円板１７の表面１９とに
渡ってフラットな電位面が形成される。

【００２９】ガラス基材１４の蒸着面１８に対する蒸着
・スパッタ作用については、先の実施例で図１〜３に基
づいて説明したとおり、固定治具１３によって保持され
た各ガラス基材１４の蒸着面１８への蒸着層の形成が行
われ、蒸着層へのイオン衝撃が、ガラス基材１４の固定
治具１３における保持位置にかかわらず均等になり、均
等な膜厚にて誘電体多層膜が形成される。誘電体多層膜
が形成された個々のガラス基材１４は、円板状又は円柱
状のガラス製小型光学素子となる。各ガラス製光学素子
の光学特性は均一化が得られ、歩留りを向上させること
が可能になる。この際、ガラス基材１４の蒸着面１８と
絶縁体円板１７の表面１９とを高い精度で同一平面を形
成する平面内に配置することにより、高い同一平面性が
得られ、誘起電位の更なるフラット化を図り、膜厚ムラ
を更に減少させることができる。なお、円板１５は、バ
イトンゴム円板１６を間に介在させているので、絶縁体
とする必要はなく、導体である金属製とされている。更
に、固定治具１３は、中心支柱１３ａによって電極１２
に取り付けたが、蒸着装置への固定には、周辺固定での
取付けも可能である。

【００３０】図５は、この発明によるガラス製光学素子
の製造用固定治具をプリズムの固定に用いた実施例を示
した図であり、（ａ）はその下面図、（ｂ）は（ａ）の
Ｂ−Ｂ断面図である。図５に示す実施例は、また、この
発明によるガラス製光学素子の製造方法をプリズム状の
光学素子の製造に適用した例を示している。図５に示す
ように、電極（図示せず）に取り付けられる治具組立体
２０は、絶縁体から成る一対の固定治具２３と、固定治
具２３間に橋渡された状態に保持されたガラス基材とし
ての複数本の三角プリズム柱２４とから構成されてい
る。三角プリズム柱２４の一つの面が、下方に向けられ
て蒸着面２５とされている。蒸着面２５は、第一実施例
におけるガラス基板４のガラス面と同様となる。三角プ
リズム柱２４の周囲は絶縁体２６で埋められており、三
角プリズム柱２４の蒸着面２５と絶縁体２６の表面（好
ましくは同一面に配置される）とに沿って、誘起電位の
フラット化が達成され、誘起電位の歪みに起因した誘電
体多層膜の膜厚ムラを実質的に解消することができる。
両端の固定治具２３の電界的な影響は、生じたとして
も、その近傍に限られるので、三角プリズム柱２４の殆
どの蒸着面２５に対しては影響がない。また、各三角プ
リズム柱２４を複数個切断することで、小型の三角プリ
ズムへの蒸着にも適用することができる。

【００３１】

【発明の効果】本発明によるガラス製光学素子の製造方
法及びそれに用いるガラス基材固定用の固定治具によれ
ば、ガラス基材を電極上に固定する固定治具は、ガラス
基材と同じ絶縁性を有する固定治具であるので、電極が
ガラス基材と固定治具との周りに作る誘起電位の等電位
面はガラス基材と固定治具との間でフラット化される。
従って、ガラス基材上の蒸着層へのイオン衝撃によるス
パッタ作用のバラツキが回避でき、従来、ガラス基材の
固定治具に近い領域で生じていたような強いイオン衝撃
とそれに起因した膜厚の減少による誘電体多層膜の膜厚
ムラを回避することができ、その結果、ガラス基材の全
面に渡って光学特性が良好で且つ膜厚ムラの少ない良質
な誘電体多層膜を形成することができる。本発明による
ガラス製光学素子及びそれに用いるガラス基材の電極へ
の固定治具は、小型の光学素子を作るガラス基材上に、
数十cm角の板ガラスに対する場合と同等の均一性を持っ
た誘電体多層膜を形成できる。これにより、金属製の固
定治具を用いた場合には達成し得ないレベルの高品質な
光学素子を作製することが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明によるガラス製光学素子の製造用固定
治具をガラスフィルタの固定に用いた一実施例を示す断
面図である。

【図２】図１に示す電極−基板組立体の周りに形成され
る誘起電位の概要を示す説明図である。

【図３】この発明によって製造されたガラス製光学素子
の誘電体多層膜の膜厚分布の一例を示すグラフである。

【図４】この発明によるガラス製光学素子の製造用固定
治具を円板状又は円柱状のガラス基材の固定に用いた実
施例を示す図であり、（ａ）はその下面図、（ｂ）はそ
のＡ−Ｏ−Ａ断面図である。

【図５】この発明によるガラス製光学素子の製造用固定
治具をプリズムの固定に用いた実施例を示した図であ
り、（ａ）はその下面図、（ｂ）はそのＢ−Ｂ断面図で
ある。

【図６】高周波イオンプレーティング装置の構成の一実
施例を示す概念図である。

【図７】従来のガラス製光学素子の製造用固定治具によ
るガラス基板の固定構造とその周りの電位分布の様子を
示す説明図である。

【図８】従来のガラス製光学素子の製造用固定治具を用
いて製造されたガラス製光学素子の誘電体多層膜の膜厚
分布を示すグラフである。

【符号の説明】

１，１０ 電極−基板組立体 ２，１２ 電極 ３，１３ 固定治具 ４ ガラス基板
（ガラス基材） ５，１８，２５ 蒸着面 ６ リング部 ７ 係止部 ８ 防膜板 １４ 円板状又は円柱状ガラス基材 １５ 金属円板 １６ バイトンゴム円板 １７ 絶縁体円
板 １９ 絶縁体円板１７の表面 ２０ 治具組立
体 ２４ 三角プリズム柱（ガラス基材） ２６ 絶縁体

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 舘村 満幸 静岡県御殿場市中畑字永坂1413番地 日本 真空光学株式会社御殿場工場内 (72)発明者 川上 正人 静岡県御殿場市中畑字永坂1413番地 日本 真空光学株式会社御殿場工場内 (72)発明者 赤川 英幸 静岡県御殿場市中畑字永坂1413番地 日本 真空光学株式会社御殿場工場内 Ｆターム(参考） 2H048 GA04 GA13 GA24 GA60 GA62 4G059 AA08 AB19 AC30 EA01 EB04 4K029 AA09 AA24 BA43 BA46 BB02 BC07 CA03 JA06

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 電極上に保持されたガラス基材上の誘電
   体膜に前記電極に引き寄せられるイオンを衝突させるこ
   とで前記ガラス基材上に誘電体多層膜を形成するガラス
   製光学素子の製造方法において、前記ガラス基材を絶縁
   性の固定治具によって電極上に固定することを特徴とす
   るガラス製光学素子の製造方法。
2. 【請求項２】 前記ガラス基材は前記固定治具によって
   前記電極に固定される単一の前記ガラス基材であり、前
   記ガラス製光学素子は前記誘電体多層膜が形成された前
   記ガラス基材から多数個切り出されるガラス製光学素子
   であることを特徴とする請求項１に記載のガラス製光学
   素子の製造方法。
3. 【請求項３】 前記ガラス基材は前記固定治具によって
   保持された状態で前記電極に固定される多数個の小型ガ
   ラス基材であり、前記ガラス製光学素子は前記小型ガラ
   ス基材に前記誘電体多層膜が形成されて前記固定治具か
   ら個別に取り出されるガラス製小型光学素子であること
   を特徴とする請求項１に記載のガラス製光学素子の製造
   方法。
4. 【請求項４】 前記誘電体多層膜が形成される前記ガラ
   ス基材の蒸着面は、上記固定治具の表面によって形成さ
   れる面と同一平面内に置かれることを特徴とする請求項
   １〜３のいずれか１項に記載のガラス製光学素子の製造
   方法。
5. 【請求項５】 前記固定治具は、ガラス、結晶化ガラ
   ス、セラミック又は耐熱性樹脂製の治具であることを特
   徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載のガラス製
   光学素子の製造方法。
6. 【請求項６】 ガラス基材上の誘電体膜にイオンを衝撃
   させることで前記ガラス基材上に誘電体多層膜を形成す
   るガラス製光学素子の製造において、前記イオンを引き
   寄せる電極に前記ガラス基材を固定するために用いられ
   る固定治具を、絶縁体で製作したことを特徴とするガラ
   ス製光学素子の製造用固定治具。
7. 【請求項７】 前記固定治具は、ガラス、結晶化ガラ
   ス、セラミック又は耐熱性樹脂製の治具であることを特
   徴とする請求項６に記載のガラス製光学素子の製造用固
   定治具。