JP2008304497A5 - - Google Patents
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近年、光学機器の技術革新に伴って光学薄膜を有する光学素子に対する性能向上が強く求められている。この要求に答えるため、例えば40.5mm*48mmの大きさの光学フィルタを要求された場合には、従来の光学薄膜成膜装置を使って58mm*60mmの水晶基板に対して均一な物理的な膜厚dを有する薄膜/光学フィルタを形成する。そして、58mm*60mmの水晶基板の周辺部、すなわち屈折率nが異なる部分を切り取ることによって、光学膜厚ndが均一な40.5mm*48mmの光学フィルタを製造していた。
そこで本発明は、周辺部を切り取ったりすることなく、光学素子の周辺部と中央部との光学膜厚ndが均一な光学素子に形成することができる光学薄膜成膜方法及び光学薄膜成膜装置を提供することを目的とする。
第3の観点による光学薄膜成膜方法の保持工程は、基板保持部よりも熱伝導率が低い材料で形成された保持枠に基板を保持する。
この構成は、保持枠が熱伝導率の低い材料で形成されている。基板の周辺部の熱が下がり周辺部の屈折率nが下がっていたのは保持枠を介して基板保持部に熱が逃げていたからと考えられる。保持枠が熱伝導率の低い材料で形成されることで、基板全体が均一に加熱した状態にすることができ、光学膜厚ndを基板の中央部から周辺部にかけて均一にすることができる。
この構成は、保持枠が熱伝導率の低い材料で形成されている。基板の周辺部の熱が下がり周辺部の屈折率nが下がっていたのは保持枠を介して基板保持部に熱が逃げていたからと考えられる。保持枠が熱伝導率の低い材料で形成されることで、基板全体が均一に加熱した状態にすることができ、光学膜厚ndを基板の中央部から周辺部にかけて均一にすることができる。
第5の観点による光学薄膜成膜方法の保持工程は、基板の周囲を覆う基板カバーを蒸着源の反対側に有する保持枠に基板を保持する。
この光学薄膜成膜方法は、基板カバーが基板の周囲を保熱することで基板の中央部と周辺部とを均一な温度にすることができる。また、基板の周辺部を中央部より加熱して周辺部の屈折率nが高い基板を製造することも可能となる。
この光学薄膜成膜方法は、基板カバーが基板の周囲を保熱することで基板の中央部と周辺部とを均一な温度にすることができる。また、基板の周辺部を中央部より加熱して周辺部の屈折率nが高い基板を製造することも可能となる。
本発明によれば、光学素子の周辺部と中央部との光学膜厚ndが均一な光学素子に形成することができる。
図5は、実験した1mm厚の水晶基板に40層の光学薄膜を形成した赤外線カットフィルタの分光特性を示したグラフであり、縦軸に透過率横軸に波長(350nm〜1200nm)を採っている。この赤外線カットフィルタは、図4に示したフローチャートに基づいて製造された。図5の実線は赤外線カットフィルタの中央部の透過率を示し、図5の点線は赤外線カットフィルタの周辺部の透過率を示している。赤外線カットフィルタの周辺部の透過率は、中央部の透過率に比べて波長が下がる方向にシフトしている。
すなわち、図10(b)に示すように、赤外線カットフィルタの周辺部が中央部よりも波長が高いフィルタを製造することができた。物理的膜厚dは均一に蒸着されているので、蒸着材料の屈折率nが光学基板OEの中央付近から外周部にかけて屈折率nが高くなっていることを意味している。
保熱カバー39付きの保持枠33Aを使い、図4に示したフローチャートに基づいて赤外線カットフィルタを製造した。この赤外線カットフィルタは、孔部39Aの大きさ及び保熱カバー39の厚みを調整することで上述した図10(a)と同等な半値の変化を示したグラフとなった。また、孔部39Aの大きさを小さくし厚くした保熱カバー39をつけた状態で赤外線カットフィルタを製造すると、図10(b)に示すような赤外線カットフィルタの周辺部が中央部よりも赤外線カットフィルタの波長が高いフィルタを製造することができた。
図11は、凸レンズ41からCCD又はCMOSを使った光電変換部45へ光学フィルタ43を介して光束が入射する概念図である。
凸レンズ41を通った光束は、周辺部で大きく屈折され中央部で小さく屈折される。光学フィルタ43は入射する光束が垂直入射でない場合、光束の入射角度に比例して短波長側にシフトする。このため、光学フィルタ43を図11に示すように周辺部が中央部よりも波長が長いフィルタに形成しておけば、光電変換部45に入射する光束は中央部から周辺部まで同じ波長が入射することになる。つまり、光電変換部45は中央部と周辺部とで同じ色再現性を実現できる。
凸レンズ41を通った光束は、周辺部で大きく屈折され中央部で小さく屈折される。光学フィルタ43は入射する光束が垂直入射でない場合、光束の入射角度に比例して短波長側にシフトする。このため、光学フィルタ43を図11に示すように周辺部が中央部よりも波長が長いフィルタに形成しておけば、光電変換部45に入射する光束は中央部から周辺部まで同じ波長が入射することになる。つまり、光電変換部45は中央部と周辺部とで同じ色再現性を実現できる。
Claims (1)
- 前記保持工程は、前記基板の周囲を覆う基板カバーを前記蒸着源の反対側に有する保持枠に取り付けることを特徴とする請求項1に記載の光学薄膜成膜方法。
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