JP2008304497A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2008304497A5
JP2008304497A5 JP2007148760A JP2007148760A JP2008304497A5 JP 2008304497 A5 JP2008304497 A5 JP 2008304497A5 JP 2007148760 A JP2007148760 A JP 2007148760A JP 2007148760 A JP2007148760 A JP 2007148760A JP 2008304497 A5 JP2008304497 A5 JP 2008304497A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
optical
filter
infrared cut
thin film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2007148760A
Other languages
English (en)
Other versions
JP5295524B2 (ja
JP2008304497A (ja
Filing date
Publication date
Priority claimed from JP2007148760A external-priority patent/JP5295524B2/ja
Priority to JP2007148760A priority Critical patent/JP5295524B2/ja
Application filed filed Critical
Priority to CN2013100643783A priority patent/CN103149617A/zh
Priority to CN2008100982743A priority patent/CN101319301B/zh
Priority to US12/133,287 priority patent/US8075947B2/en
Publication of JP2008304497A publication Critical patent/JP2008304497A/ja
Publication of JP2008304497A5 publication Critical patent/JP2008304497A5/ja
Priority to US13/293,057 priority patent/US8367191B2/en
Publication of JP5295524B2 publication Critical patent/JP5295524B2/ja
Application granted granted Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Description

近年、光学機器の技術革新に伴って光学薄膜を有する光学素子に対する性能向上が強く求められている。この要求に答えるため、例えば40.5mm*48mmの大きさの光学フィルタを要求された場合には、従来の光学薄膜成膜装置を使って58mm*60mmの水晶基板に対して均一な物理的な膜厚dを有する薄膜/光学フィルタを形成する。そして、58mm*60mmの水晶基板の周辺部、すなわち屈折率nが異なる部分を切り取ることによって、光学膜厚ndが均一な40.5mm*48mmの光学フィルタを製造していた。
そこで本発明は、周辺部を切り取ったりすることなく、光学素子の周辺部と中央部との光学膜厚ndが均一な光学素子に形成することができる光学薄膜成膜方法及び光学薄膜成膜装置を提供することを目的とする。
第3の観点による光学薄膜成膜方法の保持工程は、基板保持部よりも熱伝導率が低い材料で形成された保持枠に基板を保持する。
この構成は、保持枠が熱伝導率の低い材料で形成されている。基板の周辺部熱が下がり周辺部の屈折率nが下がっていたのは保持枠を介して基板保持部に熱が逃げていたからと考えられる。保持枠が熱伝導率の低い材料で形成されることで、基板全体が均一に加熱した状態にすることができ、光学膜厚ndを基板の中央部から周辺部にかけて均一にすることができる。
第5の観点による光学薄膜成膜方法の保持工程は、基板の周囲を覆う基板カバーを蒸着源の反対側に有する保持枠に基板を保持する。
この光学薄膜成膜方法は、基板カバーが基板の周囲を保熱することで基板の中央部と周辺部とを均一な温度にすることができる。また、基板の周辺部を中央部より加熱して周辺部の屈折率nが高い基板を製造することも可能となる。
本発明によれば、光学素子の周辺部と中央部との光学膜厚ndが均一な光学素子に形成することができる。
図5は、実験した1mm厚の水晶基板に40層の光学薄膜を形成した赤外線カットフィルタの分光特性を示したグラフであり、縦軸に透過率横軸に波長(350nm〜1200nm)を採っている。この赤外線カットフィルタは、図4に示したフローチャートに基づいて製造された。図5の実線は赤外線カットフィルタの中央部の透過率を示し、図5の点線は赤外線カットフィルタの周辺部の透過率を示している。赤外線カットフィルタの周辺部の透過率は、中央部の透過率に比べて波長が下がる方向にシフトしている。
すなわち、図10(b)に示すように、赤外線カットフィルタの周辺部が中央部よりも波長が高いフィルタを製造することができた。物理的膜厚dは均一に蒸着されているので、蒸着材料の屈折率nが光学基板OEの中央付近から外周部にかけて屈折率nが高くなっていることを意味している。
保熱カバー39付きの保持枠33Aを使い、図4に示したフローチャートに基づいて赤外線カットフィルタを製造した。この赤外線カットフィルタは、孔部39Aの大きさ及び保熱カバー39の厚みを調整することで上述した図10(a)と同等な半値の変化を示したグラフとなった。また、孔部39Aの大きさを小さくし厚くした保熱カバー39をつけた状態で赤外線カットフィルタを製造すると、図10(b)に示すような赤外線カットフィルタの周辺部が中央部よりも赤外線カットフィルタの波長が高いフィルタを製造することができた。
図11は、凸レンズ41からCCD又はCMOSを使った光電変換部45へ光学フィルタ43を介して光束が入射する概念図である。
凸レンズ41を通った光束は、周辺部で大きく屈折され中央部で小さく屈折される。光学フィルタ43は入射する光束が垂直入射でない場合、光束の入射角度に比例して短波長側にシフトする。このため、光学フィルタ43を図11に示すように周辺部が中央部よりも波長が長いフィルタに形成しておけば、光電変換部45に入射する光束は中央部から周辺部まで同じ波長が入射することになる。つまり、光電変換部45は中央部と周辺部とで同じ色再現性を実現できる。

Claims (1)

  1. 前記保持工程は、前記基板の周囲を覆う基板カバーを前記蒸着源の反対側に有する保持枠に取り付けることを特徴とする請求項1に記載の光学薄膜成膜方法。
JP2007148760A 2007-06-05 2007-06-05 光学薄膜成膜方法 Expired - Fee Related JP5295524B2 (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007148760A JP5295524B2 (ja) 2007-06-05 2007-06-05 光学薄膜成膜方法
CN2013100643783A CN103149617A (zh) 2007-06-05 2008-05-28 光学薄膜的成膜方法、光学基板以及光学薄膜的成膜装置
CN2008100982743A CN101319301B (zh) 2007-06-05 2008-05-28 光学薄膜的成膜方法、光学基板以及光学薄膜的成膜装置
US12/133,287 US8075947B2 (en) 2007-06-05 2008-06-04 Optical thin-film-forming methods and optical elements formed using same
US13/293,057 US8367191B2 (en) 2007-06-05 2011-11-09 Optical thin-films and optical elements comprising same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007148760A JP5295524B2 (ja) 2007-06-05 2007-06-05 光学薄膜成膜方法

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2012056791A Division JP2012145958A (ja) 2012-03-14 2012-03-14 光学素子

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2008304497A JP2008304497A (ja) 2008-12-18
JP2008304497A5 true JP2008304497A5 (ja) 2010-03-18
JP5295524B2 JP5295524B2 (ja) 2013-09-18

Family

ID=40096144

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007148760A Expired - Fee Related JP5295524B2 (ja) 2007-06-05 2007-06-05 光学薄膜成膜方法

Country Status (3)

Country Link
US (2) US8075947B2 (ja)
JP (1) JP5295524B2 (ja)
CN (2) CN101319301B (ja)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5132534B2 (ja) * 2008-12-01 2013-01-30 日本電波工業株式会社 光学部品の製造方法
CN101698931B (zh) * 2009-11-18 2012-11-07 九江学院 一种制备超晶格热电薄膜材料的双闪蒸法装置
JP2012145958A (ja) * 2012-03-14 2012-08-02 Nippon Dempa Kogyo Co Ltd 光学素子
BR112016011904A2 (pt) 2013-12-31 2017-08-08 Halliburton Energy Services Inc Sistema fabricação de um elemento computacional integrado
EP3366804B1 (en) * 2017-02-22 2022-05-11 Satisloh AG Box coating apparatus for vacuum coating of substrates, in particular spectacle lenses
CN115440919A (zh) * 2021-06-03 2022-12-06 Tcl科技集团股份有限公司 发光器件及其制备方法、显示器件

Family Cites Families (29)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02176601A (ja) * 1988-09-28 1990-07-09 Mitsubishi Electric Corp 投影レンズおよびその製造方法
JPH04143266A (ja) * 1990-10-05 1992-05-18 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 低応力膜形成装置
US5872655A (en) * 1991-07-10 1999-02-16 Optical Coating Laboratory, Inc. Monolithic linear variable filter and method of manufacture
US5308461A (en) * 1992-01-14 1994-05-03 Honeywell Inc. Method to deposit multilayer films
JPH06337310A (ja) * 1992-10-23 1994-12-06 Matsushita Electric Ind Co Ltd 光学多層膜並びにその成膜方法及びその成膜装置
CN1188516A (zh) * 1996-04-01 1998-07-22 东丽株式会社 带薄膜基板的制造方法和制造装置
JPH10280130A (ja) 1997-04-01 1998-10-20 Nikon Corp 真空蒸着方法及び真空蒸着装置
JP2000252350A (ja) * 1999-03-04 2000-09-14 Kokusai Electric Co Ltd 基板受け渡し装置
JP3900759B2 (ja) * 1999-10-01 2007-04-04 凸版印刷株式会社 スパッタリング成膜用の基板ホルダー及びそれを用いたフォトマスクブランクスの製造方法
US6852473B2 (en) * 2000-01-12 2005-02-08 Infineon Technologies Richmond, Lp Anti-reflective coating conformality control
CA2398971A1 (en) * 2000-01-28 2001-08-02 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Heater module and optical waveguide module
JP2001351874A (ja) 2000-06-09 2001-12-21 Ebara Corp 基板回転装置
US7195797B2 (en) * 2000-07-10 2007-03-27 Atomic Telecom High throughput high-yield vacuum deposition system
JP2002363745A (ja) * 2001-06-08 2002-12-18 Canon Inc スパッタによる膜の形成方法、光学部材、およびスパッタ装置
JP2003183821A (ja) * 2001-12-14 2003-07-03 Nikon Corp スパッタリング装置
JP2003192390A (ja) * 2001-12-19 2003-07-09 Nippon Shinku Kogaku Kk ガラス製光学素子の製造方法及びそれに用いる固定治具
US7122844B2 (en) * 2002-05-13 2006-10-17 Cree, Inc. Susceptor for MOCVD reactor
US20050099611A1 (en) * 2002-06-20 2005-05-12 Nikon Corporation Minimizing thermal distortion effects on EUV mirror
JP4526776B2 (ja) * 2003-04-02 2010-08-18 株式会社半導体エネルギー研究所 発光装置及び電子機器
JP2005010736A (ja) * 2003-05-22 2005-01-13 Fujikura Ltd 光ファイバおよびこれを用いた導光体、導光体を用いた気体の浄化方法および液体の浄化方法
US6972136B2 (en) * 2003-05-23 2005-12-06 Optima, Inc. Ultra low residual reflection, low stress lens coating and vacuum deposition method for making the same
JP2005038914A (ja) * 2003-07-16 2005-02-10 Matsushita Electric Ind Co Ltd 圧電薄膜の形成装置
JP2005133110A (ja) * 2003-10-28 2005-05-26 Konica Minolta Opto Inc スパッタリング装置
EP1536036B1 (en) * 2003-11-14 2007-06-20 Sharp Kabushiki Kaisha Thin film forming apparatus
JP2005320568A (ja) * 2004-05-07 2005-11-17 Olympus Corp 薄膜形成装置及び膜厚監視方法
JP3966869B2 (ja) 2004-05-11 2007-08-29 株式会社昭和真空 基板ドーム
JP4468867B2 (ja) * 2005-07-08 2010-05-26 日本電信電話株式会社 面内閉じ込め構造を有する多層膜フィルタおよび光波長フィルタ
JP4675791B2 (ja) * 2006-01-31 2011-04-27 株式会社東芝 ディスク装置およびその製造方法
US20070245955A1 (en) * 2006-04-25 2007-10-25 Jds Uniphase Corporation Substrate holder for optical coating machines

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2008304497A5 (ja)
Mao et al. Angle insensitive color filters in transmission covering the visible region
JP2005521918A5 (ja)
JP2008276112A (ja) Ndフィルタ
JP6836360B2 (ja) 無機偏光板及びその製造方法
JP2014048402A (ja) 光学フィルタ部材および撮像装置
US8367191B2 (en) Optical thin-films and optical elements comprising same
JP5058783B2 (ja) 光学素子及び該光学素子の製造方法
JP2007298661A (ja) 赤外光用反射防止膜
JP2007171542A (ja) 光学絞り用ndフィルタと該ndフィルタを備えた光学絞り装置
US10162091B1 (en) Silicon film optical filtering systems and methods of fabrication
JP4671410B2 (ja) Irカット機能付きndフィルタを備えた光量絞り装置及びカメラ
JP4345962B2 (ja) Ndフィルタを備えた光量絞り装置、カメラ
JP4793011B2 (ja) 反射防止膜形成方法
JP2008112033A (ja) 光学フィルタ
JP5554012B2 (ja) 光学フィルタ及び該光学フィルタを用いた撮像装置
JP5412247B2 (ja) 光学フィルタ
JP2013147752A (ja) 光学素子
JP5478203B2 (ja) 撮像装置
JP2004295015A (ja) Ndフィルタ及びその製造方法
JP2006078519A (ja) Ndフィルタ、光量絞り装置、該光量絞り装置を有するカメラ
JP2004061903A (ja) Ndフィルタの製造方法及びndフィルタ、並びにこれらのndフィルタを有する光量絞り装置及びカメラ
Ma et al. Tunable Far‐Infrared Polarization Imaging Based on VO2 Metasurfaces
TWI354707B (en) Optical element with films thereon
JP2012145958A (ja) 光学素子