JP2008296431A - セラミックシート - Google Patents

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Abstract

【課題】複数のセラミック小片を面状に配列してなるセラミック層を備えたセラミックシートにおいて、セラミック層の特性をさらに向上させること。
【解決手段】セラミックシート1が備えるセラミック層5は、複数のセラミック小片5aが配列された構造になっている。複数のセラミック小片5aは、少なくとも表裏いずれか一方の面に破線状の凹部または穴部が形成された薄板状セラミックを、樹脂シート層3の間に挟み込んでから、破線に沿って割ることによって形成されたものである。このような破線状の凹部または穴部に沿って薄板状セラミックを割ると、実線状の溝に沿って薄板状セラミックを割った場合に比べ、セラミック層の特性を向上させることができる。
【選択図】図1

Description

本発明は、セラミック層を含む複数の層が積層された構造で、セラミック層が複数のセラミック小片を面状に配列してなる構造とされたセラミックシートに関する。
従来、複数のセラミック小片を面状に配列してなる層を備えたセラミックシートは、既に提案されている(例えば、特許文献1参照)。下記特許文献1には、複数のセラミック小片を面状に配列する方法として、セラミックを含むグリーンシートにスリットを設け、グリーンシートを焼成して焼成体を生成し、焼成体をシート上に載置し、焼成体をスリットを介して複数のブロックに分割する方法が開示されている(特許文献1:段落[0036]〜[0037]等)。
このような方法でセラミック小片を設ければ、グリーンシートは焼成反応により、スリットが設けられた部分近傍が、他の部分より収縮するので、隣接するブロック同士が接触しない非接触面を容易に形成できる、とされている。そして、このような非接触面を設けることにより、ブロックのコーナーに応力を集中させないようにできる旨が開示されている(例えば、特許文献1:段落[0048]等)。
特開2006−315368号公報
しかし、各セラミックブロックに上述の如き非接触面を形成すると、その分だけ隣り合う磁性ブロック同士の接触面が減少してしまうため、セラミック層の連続性が失われてしまい、セラミック層の特性(例えば、磁気特性、誘電特性など)が損なわれてしまう、という欠点があった。
したがって、各セラミックブロックのコーナーに応力を集中させないことを重視する場合には、上記特許文献1に記載の如き技術が有効であるとしても、上記特許文献1に記載の技術では、セラミック層の特性を十分に向上させることは困難であった。
本発明は、上記問題を解決するためになされたものであり、その目的は、複数のセラミック小片を面状に配列してなるセラミック層を備えたセラミックシートにおいて、セラミック層の特性をさらに向上させることができる技術を提供することにある。
以下、本発明において採用した構成について説明する。
本発明のセラミックシートは、積層された複数の層を有する構造で、前記複数の層の内、少なくとも1層は、セラミック材料によって形成されたセラミック層とされているセラミックシートであって、前記セラミック層は、複数のセラミック小片が面状に配列されて、当該複数のセラミック小片が他の層に挟み込まれるか、他の層に貼り付けられることによって、前記面状に配列された構造を維持可能に構成されており、前記複数のセラミック小片は、複数の凹部または穴部が破線状に形成された薄板状セラミックを、前記他の層に挟み込むか前記他の層に貼り付けてから、前記複数の凹部または穴部のなす破線に沿って割ることによって形成されたものであることを特徴とする。
本発明のセラミックシートにおいて、複数のセラミック小片は、複数の凹部または穴部が破線状に形成された薄板状セラミックを、他の層に挟み込むか他の層に貼り付けてから、破線に沿って割ることによって形成されたものである。
そのため、連続する溝が形成された薄板状セラミックを溝に沿って割ったものに比べ、薄板状セラミックの厚さおよび溝の深さが同一条件であれば、隣り合うセラミック小片間の接触面積が大きくなる。したがって、セラミック層の連続性が改善され、セラミック層の特性(例えば、磁気特性、誘電特性など)が向上する。
また、薄板状セラミックに連続する溝を形成する場合、溝の深さを薄板状セラミックを貫通するような深さにすることはできないが、本発明の如く、複数の凹部または穴部を破線状に形成する場合は、薄板状セラミックを貫通しない凹部はもちろんのこと、薄板状セラミックを貫通する穴部を形成することもできる。したがって、最終的な製品の形態や用途等に応じて、複数の凹部を破線状に形成するか複数の穴部を破線状に形成するかを、任意に選定することができる。
なお、本発明のセラミックシートも、以下のような作用、効果を奏する点では、上記特許文献1に記載の技術と同等のものである。
すなわち、まず、薄板状セラミックを他の層に挟み込むか他の層に貼り付ける段階では、セラミック小片を個別に配置して設計通りに整列させるような作業を必要としないので、挟み込み作業ないし貼り付け作業をきわめて容易に実施することができる。
また、複数のセラミック小片は、他の層に挟み込まれるか他の層に貼り付けられて、互いに相対的に変位しない状態のまま保持されているので、精度よく所期の位置に配列された状態になり、セラミック小片が脱落したり飛散したりするようなことはない。
また、隣り合うセラミック小片同士は、元々は連続していた破断面で接触した状態になっている。そのため、薄板状セラミックを破線に沿って割った際、仮に破断面上に微視的な凹凸が形成されるようなことがあったとしても、隣り合うセラミック小片同士は、それらの凹凸が互いにぴったりと一致する形態となる。
したがって、隣り合うセラミック小片間には、ほぼ空隙が存在しないか、存在してもきわめて狭い空隙となり、隣り合うセラミック小片の間に過大な空隙が生じることはないので、セラミック層が良好な特性(磁気特性、誘電特性等)を発揮するものとなる。よって、一般的なセラミック焼結体等と同様に利用できる。
さらに、薄板状セラミックが破線に沿って割られた後は、セラミック層を他の層とともに曲げることができる。したがって、他の層を可撓性のある層にすれば、一般的な薄板状セラミック焼結体とは異なり、セラミックシートを曲げたりたわませたりすることができ、セラミックシートを曲面や凹凸に沿わせるように配置することが可能となる。
よって、剛性の高いセラミック焼結体に比べ、配設する際の自由度が高くなり、本発明のセラミックシートであれば、剛性の高いセラミック焼結体を配置できた箇所にはもちろんのこと、剛性の高いセラミック焼結体を配置するのは困難であったような箇所にも配置できるようになる。
加えて、通常、薄板状セラミックは割れたり欠けたりしやすいものが多いが、本発明においては、薄板状セラミックをあらかじめ破線に沿って割ってあるので、セラミック小片が更に過剰に割れたり欠けたりしにくくなる。したがって、単なる薄板状セラミックに比べ、耐衝撃性と耐久性に優れたものになる。
ところで、本発明のセラミックシートにおいて、複数の凹部または穴部を破線状に形成する方法は任意であるが、前記複数の凹部または穴部が、前記薄板状セラミックの焼成後に、レーザー加工によって形成されたものであると好ましい。
このような方法で複数の凹部または穴部を形成すれば、薄板状セラミックの焼成時にグリーンシートが収縮して凹部や穴部が拡大するといった事態になるのを防止できる。したがって、凹部または穴部を必要最小限の大きさにすることができ、これにより、隣り合うセラミック小片の接触面積減少を抑制することができる。
レーザー加工の方法としては、例えば、CO2レーザーやYAGレーザーなどを利用したレーザー加工装置にて、薄板状セラミックに複数の凹部または穴部を形成する方法を挙げることができる。このような加工方法であれば、比較的容易に、複数の凹部または穴部を破線状に形成することができる。
なお、性能向上の観点からは、上述の通り、凹部または穴部をレーザー加工によって形成することが好ましいが、要求される性能を満たすことができるのであれば、本発明においてレーザー加工を行うか否かは任意である。
レーザー加工以外の方法としては、例えば、フェライトの焼成前のグリーンシート時にあらかじめ複数の凹部または穴部を破線状に形成しておいて、それを焼成する方法も考えられる。この場合は、凹部または穴部を破線状に形成可能な刃を用いてグリーンシートを加工することもでき、あるいは、薄板状セラミックを形成するための金型内に、凹部または穴部を破線状に形成するための突起を設けておいてもよい。
また、上記のような凹部または穴部を破線状に形成する際、前記破線は、破線の全長Aと破線に含まれる間隔部分の長さBとの関係が、0.2≦(B/A)≦0.7の関係を満足する形態をなすように形成されたものであると好ましい。
ここで、上記(B/A)は、0となる状態が「隣り合う凹部または穴部が連続して実線状の溝となってしまう場合」に相当し、1となる状態が「凹部または穴部がまったく無くなってしまう場合」に相当する指数である。
上記(B/A)が0に近くなるほど、破線上に存在する「凹部ないし穴部」の存在比が高くなるので、薄板状セラミックを割りやすくなる傾向がある。ただし、「凹部ないし穴部」の存在比が過剰に高くなると、従来技術の如く連続溝を形成したものに近づくので、隣り合うセラミック小片間の接触面積が小さくなり、セラミックとしての特性は低下する傾向がある。
したがって、本件発明者らは、セラミックとしての特性を十分に向上させることができる下限値を実験的に確認し、その結果、上記(B/A)を0.2以上にすることが好ましいとの結論に至った。
一方、上記(B/A)が1に近くなるほど、破線上に存在する「凹部ないし穴部」の存在比が低くなるので、破線に沿ってきれいに割ることができれば、隣り合うセラミック小片間の接触面積は大きくできる可能性がある。
しかし、本件発明者らが実験的に確認したところ、上記(B/A)を過剰に大きくすると、薄板状セラミックを割りにくくなる傾向があり、特に、薄板状セラミックが割りにくくなった結果、想定した破線とは異なる位置で割れてしまうこともあった。そのため、上記(B/A)を過剰に大きくするのは必ずしも好ましいことではなく、実験的に確認した範囲では、上記(B/A)を0.7以下にすることが好ましいとの結論に至った。
また、本発明において、セラミック材料は、Ni−Zn系フェライト、Mn−Zn系フェライト、Mg−Zn系フェライト、Ba系フェライト、フェロックスプレーナ系フェライト、アルミナ、炭化ケイ素、またはチタン酸バリウムである磁性材料または誘電材料であると好ましい。
セラミック材料として、Ni−Zn系フェライト、Mn−Zn系フェライト、Mg−Zn系フェライト、Ba系フェライト、またはフェロックスプレーナ系フェライトを用いた場合、本発明のセラミックシートは磁性体として優れた特性を発揮するものとなる。
また、セラミック材料として、アルミナ、炭化ケイ素、またはチタン酸バリウムを用いた場合、本発明のセラミックシートは誘電体として優れた特性を発揮するものとなる。
また、本発明のセラミックシートにおいて、前記セラミック層は、厚さが0.01mm〜1mmとされていると好ましく、さらに望ましくは、厚さが0.01mm〜0.3mmとされているとよい。この程度までセラミック層を薄くすれば、セラミックシートを容易に曲げたりたわませたりすることができるようになる。
また、本発明のセラミックシートにおいて、前記薄板状セラミックに形成された溝は、幅が0.001mm〜1mmとされていると好ましく、さらに望ましくは0.01mm〜0.5mmとされているとよい。
また、本発明のセラミックシートにおいて、前記セラミック小片は、0.01mm角〜5mm角の範囲内に含まれる形状および寸法とされていると好ましく、望ましくは0.5mm角〜3mm角の範囲内に含まれる形状および寸法とされているとよい。
このように構成すれば、セラミック小片が十分に小さいものとなるので、余計な割れや欠けを防止することができ、セラミックシートの柔軟性も十分なものとなる。
さらに、本発明のセラミックシートにおいて、セラミック層以外の他の層は、基本的には、セラミック層を保持するための層であり、セラミック層の機能を損なわないような材質で構成されていれば、その材質については限定されない。
より具体的には、シート状に形成可能な各種プラスチック材料、エラストマー材料等を任意に利用することができる。一例を挙げれば、他の層は、PET(polyethylene terephthalate)シート、PEN(polyethylene naphthalate)シート、PPS(polyphenylene sulfide)シート、PVC(polyvinyl chloride)シート、ウレタンシート、ポリイミドシートなどによって構成することができる。
これらの場合、他の層の厚みは、0.005mm〜0.5mm程度にすると好ましく、さらに望ましくは0.01mm〜0.3mm程度にするとよい。
また、他の層は、セラミック層を保持する機能以外に、何らかの機能を備えていてもよい。
具体的には、例えば、本発明のセラミックシートにおいて、前記他の層は、少なくとも1層が粘着性材料によって形成された粘着層とされていてもよい。
このように構成した場合、最も外側にある層が粘着層となっていれば、粘着層を利用して、本発明のセラミックシート以外の被着体に対してセラミックシートを固定することができる。
また、内側にある層を粘着層としてもよく、この場合は、粘着層を挟む位置にある両側の層が、粘着層を介して固定されることになる。中でも、前記セラミック層を挟む位置にある両側の層が、前記粘着層とされている場合には、セラミック層の両側が粘着性材料によって覆われることになる。
そのため、セラミック層が割れたときに微細破片が発生したような場合でも、そのような微細破片は粘着層によって捕捉・保持されて、破断箇所付近にとどまる。したがって、微細破片が破断箇所付近から脱落したり偏った位置へ移動してしまったりするものに比べ、セラミックシートの性能が安定し、性能を容易に維持できるようになる。
また、本発明のセラミックシートにおいて、前記他の層は、少なくとも1層が導電性材料によって形成された導電層とされていてもよい。
このように構成すれば、導電層は電磁波シールド層として機能するので、セラミック層との相乗効果により、放射ノイズを抑制する効果をさらに向上させることができる。
また、本発明のセラミックシートにおいて、前記他の層は、少なくとも1層が熱伝導性材料によって形成された熱伝導層とされていてもよい。
このように構成すれば、熱伝導層を利用して、熱源側から放熱部側へ熱を逃がすことができる。
なお、以上、他の層がセラミック層を保持する機能以外に何らかの機能を備える構成について説明したが、本発明のセラミックシートは、セラミック層、セラミック層の表裏いずれか一方または両方に存在する他の層に加え、さらにいくつかの層が積層された構造になっていても構わない。したがって、例えば、セラミック層を他の層に挟み込んだ3層構造、あるいは、セラミック層を他の層に貼り付けた2層構造、いずれかを基本構造として、この基本構造に加えて、さらに粘着層、導電層、熱伝導層などを、いくつか積層してもよい。
次に、本発明の実施形態について、具体的な例を挙げて説明する。
[第1実施形態]
図1(a)は、本発明の一実施形態として例示するセラミックシートの斜視図、同図(b)は同セラミックシートの構造を示す分解図である。
このセラミックシート1は、可撓性のある樹脂シート層3、セラミック材料によって形成されたセラミック層5、および可撓性のある樹脂シート層3を、この順序で積層した3層構造になっている。
これらの内、樹脂シート層3は、本実施形態の場合、厚さ0.1mmのPETシートによって構成されている。
また、セラミック層5は、本実施形態の場合、軟磁性フェライト(例えば、Ni−Zn系フェライト)の焼結体によって構成されたもので、複数のセラミック小片5aが縦横に配列された構造になっている。
より詳しく説明すると、これら複数のセラミック小片5aは、薄板状セラミック5b(図2(a)参照)の一方の面に、あらかじめ凹部5c(図2(b)参照)を形成しておき、この薄板状セラミック5bを樹脂シート層3の間に挟み込んでから(図2(c)参照)、凹部5cに沿って割ることによって形成されている(図2(d)参照)。
本実施形態の場合、薄板状セラミック5bとしては、厚さ0.2mmの薄板状フェライト焼結体を利用し、薄板状セラミック5bの一方の面には、レーザー加工装置により、幅0.1mm、深さ0.1mm(薄板状セラミック5bの厚みの50%)の凹部5cを形成した。
そして、この凹部5cが形成された薄板状セラミック5bの両面を、樹脂シート層3となるPETシートでラミネート加工することにより、3層構造の積層体とした。なお、樹脂シート層3と薄板状セラミック5bとの界面は、熱融着した状態になっている。
このような積層体に対して図示しないローラーにて圧力を加え、薄板状セラミック5bを凹部5cに沿って割ることにより、1mm角のセラミック小片5aを形成した。
以上のような構造のセラミックシート1は、軟磁性フェライトからなるセラミック層5を備えているので、一般的なフェライト焼結体等と同様、電磁波遮蔽体や電磁波吸収体として利用でき、例えば、電子部品や各種ケーブル類からの放射ノイズ対策等に利用することができる。
また、一般的なフェライト焼結体とは異なり、きわめて薄い構造にすることができるので、従来のフェライト焼結体では配置できなかったようなごく狭いスペースであっても、セラミックシート1を配置できるようになる。
さらに、このセラミックシート1は、凹部5cに沿って割られた状態にあるセラミック層5を、樹脂シート層3とともに曲げることができる構造となるので、セラミックシート1全体が可撓性を有するものとなる。したがって、セラミックシート1を曲げたりたわませたりすることができ、セラミックシート1を曲面や凹凸に沿わせるように配置することが可能となる。
よって、剛性の高いフェライト焼結体などに比べ、セラミックシート1を配設する際の自由度は高く、この点からも、従来のフェライト焼結体では配置することが困難であったような箇所にセラミックシート1を配置できるようになる。
また、上記セラミックシート1を製造するに当たって、薄板状セラミック5bを樹脂シート層3の間に挟み込む段階では、複数のセラミック小片5aをそれぞれ個別に配置して設計通りに整列させるような作業を必要としないので、挟み込み作業をきわめて容易に実施することができる。
また、複数のセラミック小片5aは、樹脂シート層3の間に挟み込まれて、互いに相対的に変位しない状態のまま保持されているので、薄板状セラミック5bが凹部5cに沿って割られる前と同じ位置に、各セラミック小片5aが精度よく配列された状態になり、セラミック小片5aが脱落したり飛散したりするようなことはない。
したがって、このセラミックシート1であれば、複数のセラミック小片5aを面状に配列してなるセラミック層5を備えているにもかかわらず容易に製造できる。
また、このセラミックシート1において、複数のセラミック小片5aは、図2(d)に示すように、隣り合う位置にあるものが、元々は連続していた破断面5dで接触する状態になっている。そのため、破断面5d上に微視的な凹凸が存在していても、隣り合うセラミック小片5a同士は、それらの凹凸が互いにぴったりと一致する形態となる。
したがって、隣り合うセラミック小片5a間には、ほぼ空隙が存在しないか、存在してもきわめて狭い空隙となり、隣り合うセラミック小片5aの間に過大な空隙が生じることはないので、セラミック層5が良好な磁気特性を発揮するものとなる。
ちなみに、図2(b)には、薄板状セラミック5bの一方の面に凹部5cを形成する例を示したが、これは、図2(e)に示すように、薄板状セラミック5bの表裏両方の面に凹部5cを形成するようにしてもよい。また、薄板状セラミック5bの表裏両方の面に凹部5cを形成する場合、図2(e)に示すように、表裏の凹部5cが同位置に形成されていてもよいが、図2(f)に示すように、表裏の凹部5cが異なる位置(例えば、互い違い)に形成されていてもよい。
ところで、上記凹部5cは、図3(a)に示すように、複数の凹部5cが破線状に形成されたものである。より具体的には、複数の凹部5cからなる破線は、複数本が縦横に延びて格子状のパターンをなす位置に形成されている。
図1(b)に示した複数のセラミック小片5aは、複数の凹部5cからなる破線に沿ってセラミック層5を割ることにより形成されたものである。このような複数の凹部5cからなる破線は、セラミック層5を割って複数のセラミック小片5aを形成可能なパターンであれば、そのパターン自体はどのようなパターンでもよい。
例えば、上述のセラミック層5の場合、図3(a)に示すような、縦横に延びる複数の破線状凹部が格子状のパターンを形成するものであったが、図3(b)に示すセラミック層11のように、縦横に延びる複数の破線状凹部に加え、図中右上から左下へ斜めに延びる複数の破線状凹部を形成してもよい。
また、図3(c)に示すセラミック層13のように、縦横に延びる複数の破線状凹部に加え、図中右上から左下へ斜めに延びる複数の破線状凹部と、図中左上から右下へ斜めに延びる複数の破線状凹部とを形成してもよい。
あるいは、図3(d)に示すセラミック層15のように、縦横に延びる複数の破線状凹部の代わりに、図中右上から左下へ斜めに延びる複数の破線状凹部と、図中左上から右下へ斜めに延びる複数の破線状凹部とを形成してもよい。
これら破線状凹部のなすパターンの違いにより、最終的に得られるセラミックシートは、曲げやすい方向が変わるので、使用時の形態を考慮して溝のパターンを選択することが好ましい。
また、図3(a)〜同図(d)に示した破線状凹部のパターンは、平行に延びるものが等間隔で形成されていたが、図3(e)に示すセラミック層17のように、部分的に破線状凹部の間隔が変わっているようなパターンを採用してもよい。このような破線状凹部のパターンを採用すれば、最終的に得られるセラミックシートの曲げやすさを、部分的に変えることができる。
さらに、図3において図示したものは、直線を描くような破線状凹部が平行に延びるパターンとなっていたが、破線状凹部は曲線を描くような破線状凹部や折れ線を描くような破線状凹部であってもよい。
加えて、以上の説明においては、薄板状セラミックに破線状の凹部を設ける旨を説明したが、有底の凹部に代えて、薄板状セラミックを表側から裏側へ厚さ方向に貫通する穴を設けてもよい。このような穴を薄板状セラミックに設ける場合も、凹部同様、複数の穴を破線状に設ける。
ここで、連続する実線状の溝を設ける場合、薄板状セラミックを貫通するような深さの溝を設けると、薄板状セラミックが複数のセラミック小片に分割されてしまうので、そのような溝を設けることはできない。
この点、複数の穴を破線状に設ければ、薄板状セラミックを割らない限り、複数のセラミック小片に分割されてしまうことがないので、破線状に設けた複数の穴を貫通穴とすることができる。なお、複数の穴と複数の凹部は、両者が混在するかたちで破線を形成していてもよい。
[第2実施形態]
以下、上記第1実施形態とは、別の実施形態について説明する。
第1実施形態において説明したセラミックシート1は、図4(a)に示すように、樹脂シート層3、セラミック層5、および樹脂シート層3を、単に積層した構造としてあったが、図4(b)に示すセラミックシート21は、セラミック層5よりも一回りサイズが大きい樹脂シート層3でセラミック層5を挟み込み、その周縁部で両側の樹脂シート層3を直接熱融着させた構造を採用している。
なお、樹脂シート層3の材質等は、第1実施形態と同様である。また、セラミック層5の材質、構造、および加工方法等も、第1実施形態と同様である。
このような構造を採用したセラミックシート21であっても、上記第1実施形態のものと同様の作用、効果を奏する。しかも、このセラミックシート21の場合、セラミック層5が樹脂シート層3の内部に封入され、セラミックシート21の端面にセラミック層5が露出しない状態になるので、セラミック層5をより確実に保護することができるようになる。
[第3実施形態]
図4(c)に示すセラミックシート23は、樹脂シート層3、セラミック層5、樹脂シート層3、および粘着層25を積層した構造とされている。
粘着層25は、本実施形態の場合、アクリル系粘着剤によって形成されているが、粘着剤としては、各種粘着テープ類や粘着シート類において採用されている粘着剤を任意に採用することができる。
なお、樹脂シート層3の材質等は、第1実施形態等と同様である。また、セラミック層5の材質、構造、および加工方法等も、第1実施形態等と同様である。
このような構造を採用したセラミックシート23であっても、上記第1実施形態等のものと同様の作用、効果を奏する。しかも、このセラミックシート23の場合、剥離紙27を剥がしてセラミックシート23を任意の箇所に貼り付けることができるようになる。
[第4実施形態]
図4(d)に示すセラミックシート31は、樹脂シート層3、セラミック層5、および粘着層25が積層された構造になっている。
なお、樹脂シート層3、粘着層25の材質等は、第1実施形態等と同様である。また、セラミック層5の材質、構造、および加工方法等も、第1実施形態等と同様である。
このような構造を採用したセラミックシート31であっても、上記第1実施形態等のものと同様の作用、効果を奏する。また、このセラミックシート23も、上記第3実施形態同様、剥離紙27を剥がして任意の箇所に貼り付けることができるものとなる。
なお、セラミックシート31は、セラミックシート23と比較すると、樹脂シート層3が1層のみになるので、その分だけ機械的強度はいくらか低下する可能性があるが、1層分の樹脂シート層3によってセラミックシート31全体の機械的強度が確保されていれば、何ら問題なく使用することができる。
また、セラミックシート31は、セラミックシート23と比較すると、1層分の樹脂シート層3が存在しなくなる分、曲げ剛性が低下するので、セラミックシート23よりも柔軟に曲げたりたわませたりすることができる。したがって、例えば、曲面への貼り付けの際には、セラミックシート23よりも利便性の高いものとなる。
さらに、セラミック層5と粘着層25が直接接する箇所においては、セラミック層5が割れたときに微細破片が発生したような場合でも、そのような微細破片は粘着層25によって捕捉・保持されて、セラミック層5の破断箇所付近にとどまりやすくなる。したがって、微細破片が破断箇所付近から脱落したり偏った位置へ移動してしまったりするものに比べ、セラミックシート31の性能が安定し、セラミックシート31の性能を容易に維持できるようになる。
[第5実施形態]
図5(a)および同図(b)に示すセラミックシート群33は、複数のセラミックシート33aに対して単一の剥離紙27を設けた構造になっている。すなわち、上記第4実施形態においては、単一のセラミックシート31に対して単一の剥離紙27を設けてあったが、この点で第5実施形態は、第4実施形態とは相違するものとなっている。
なお、各セラミックシート33aは、樹脂シート層3、セラミック層5、および粘着層25が積層された構造になっており、この点は、第4実施形態のセラミックシート31と同等な構造になっている。また、樹脂シート層3、粘着層25の材質等は、第1実施形態等と同様であり、セラミック層5の材質、構造、および加工方法等も、第1実施形態等と同様である。
個々のセラミックシート33aは、図5(c)に示すように、プリント配線板35上に表面実装される電子部品37に貼り付けるのに適したサイズになっており、セラミックシート33aを電子部品37に貼り付けることにより、電子部品37からの放射ノイズ対策に利用することができる。
[第6実施形態]
図6(a)および同図(b)に示すセラミックシート41は、電子部品とプリント配線板との間に介在させることができるものである。すなわち、上記第5実施形態では、電子部品の上に貼り付けるタイプのものを例示したが、この点で、第6実施形態は、第5実施形態とは相違するものとなっている。
このセラミックシート41は、複数の孔43が形成された構造になっていて、これらの孔43を介して電子部品が備えるはんだ接合部をプリント配線板上の導体パターンにはんだ接合できるようになっている。
なお、セラミックシート41は、樹脂シート層3、セラミック層5、および粘着層25が積層された構造になっており、この点は、第5実施形態のセラミックシート33aと同等な構造になっている。また、樹脂シート層3、粘着層25の材質等は、第1実施形態等と同様であり、セラミック層5の材質、構造、および加工方法等も、第1実施形態等と同様である。
[第7実施形態]
図7(a)に示すセラミックシート45は、樹脂シート層3、セラミック層5、および粘着層25が積層された構造を備える点で、先に説明したセラミックシート31(図4(d)参照)等と基本的な構造が共通するものであるが、これらに加えて、さらに帯状体47と粘着部48とを備えている点に特徴がある。
このように構成されたセラミックシート45は、図7(b)に示すように、帯状体47をフラットケーブル51(あるいは、FPC等;以下同様)に巻き付けて、粘着部48を帯状体47の外周側に貼り付けることにより、フラットケーブル51に対して取り付けることができ、フラットケーブル51からの放射ノイズ対策に利用することができる。
[第8実施形態]
図8(a)に示すセラミックシート53は、樹脂シート層3、セラミック層5、および粘着層25が積層された構造を備える点、帯状体47と粘着部48を備える点で、先に説明したセラミックシート45(図7(a)参照)に類似する構造となっているが、セラミックシート45が、樹脂シート層3、セラミック層5、および粘着層25の積層体を1組備えていたのに対し、セラミックシート53は、同様の積層体を2組備えている点に特徴がある。
このように構成されたセラミックシート53は、図8(b)に示すように、帯状体47をフラットケーブル51に巻き付けて、粘着部48を帯状体47の外周側に貼り付けることにより、フラットケーブル51に対して取り付けることができ、この点は、セラミックシート45と同様である。ただし、樹脂シート層3、セラミック層5、および粘着層25の積層体を2組備えているので、これら2組の積層体でフラットケーブル51を両側から挟み込むことができる点で、セラミックシート45とは相違する。
このようなセラミックシート53であれば、フラットケーブル51からフラットケーブル51からの放射ノイズ対策効果を、先に説明したセラミックシート45よりも向上させることができる。
[第9実施形態]
図9(a)に示すセラミックシート55は、樹脂シート層3、セラミック層5、および粘着層25が積層された構造を備える点、帯状体47と粘着部48を備える点で、先に説明したセラミックシート45(図7(a)参照)やセラミックシート53(図8(a)参照)に類似する構造となっているが、樹脂シート層3、セラミック層5、および粘着層25の積層体を8組備えている点に特徴がある。
このように構成されたセラミックシート55は、図9(b)に示すように、断面が八角形になるような形態で、ケーブル57の外周に取り付けることができ、ケーブル57からの放射ノイズ対策に利用することができる。
[第10実施形態]
図9(b)に示すセラミックシート55は、断面が八角形になるような形態でケーブル57の外周に取り付けてあったが、樹脂シート層3、セラミック層5、および粘着層25の積層体を十分に湾曲させることができる場合には、図10(a)に示すセラミックシート61のように、樹脂シート層3、セラミック層5、および粘着層25の積層体を単一のものとし、図10(b)に示すように、ケーブル63の外周に取り付けるようにしてもよい。
なお、セラミック層5は、セラミック層5を構成する複数のセラミック小片間において曲がるので、セラミック小片のサイズを小さくするほど(すなわち、単位面積当たりのセラミック小片の数が多いほど)、より滑らかに湾曲させることができるものとなる。
[第11実施形態]
図11(a)に示すセラミックシート65は、樹脂シート層3、およびセラミック層5を備える点で、先に説明した各実施形態(例えば、セラミックシート31(図4(d)参照)等)と同様の構成となっているが、導電性材料によって形成された導電層67を備える点で、先に説明した各実施形態とは相違する。
導電層67を形成する導電性材料としては、例えば、金属粉末、金属めっき粉末、カーボン粉末などの導電性フィラーをマトリクス樹脂中に分散させてなる材料を用いることができる。あるいは、金属蒸着、スパッタリング、イオンプレーティングなどの方法によって樹脂シートの表面に金属コーティングを施してなるものを、導電層67として採用してもよい。あるいは、アルミ箔や銅箔などの金属箔で導電層67を構成してもよいし、金属めっきされた織布ないし不織布で導電層67を構成してもよい。
このような構造のセラミックシート65であれば、図11(a)に示すように、導電層67が電磁波シールド層として機能するので、セラミック層5との相乗効果で、より積極的に放射ノイズを抑制することができ、導体パターン73からの放射ノイズ対策に利用することができる。
図11(b)および同図(c)は、上記セラミックシート65をフラットケーブル51に適用した例を示す図である。このように、導電層67を備えたセラミックシート65をフラットケーブル51に装着した場合でも、導電層67が電磁波シールド層として機能するので、セラミック層5との相乗効果で放射ノイズを効果的に抑制でき、フラットケーブル51からの放射ノイズ対策に利用することができる。
[第12実施形態]
図12(a)に示すセラミックシート75は、セラミック層5の構成が先に説明した各実施形態と同様になっているが、熱伝導性材料によって形成された熱伝導層77を備える点で、先に説明した各実施形態とは相違する。
熱伝導層77を形成する熱伝導性材料としては、例えば、アルミナなどの熱伝導性フィラーをマトリクス樹脂中に分散させてなる材料が用いられる。
このような構造のセラミックシート75であれば、図12(a)に示すように、プリント配線板79上に表面実装された電子部品81と放熱フィン83との間に挟み込むことにより、熱源である電子部品81から放熱部である放熱フィン83へ熱を伝達し、電子部品81からの放熱を促すことができる。また同時に、電子部品81からの放射ノイズ対策に利用することができる。
あるいは、上記セラミックシート75を、図12(b)に示すように、プリント配線板79上に表面実装された電子部品81とシールドケース85との間に挟み込むことにより、熱源である電子部品81から放熱部としても機能するシールドケース85へ熱を伝達し、電子部品81からの放熱を促すことができる。
このように、用途によっては、熱伝導層77を備えていてもよく、この場合でも、先に説明した通りの手順で、複数のセラミック小片5aが面状に配列された構造となっているセラミック層5を形成することができる。
[第13実施形態]
図13に示すセラミックシート91は、基本的な構造が第1実施形態と同様のものであるが、外周部93の形状が任意の形状に切り出されており、また、内側にいくつかの孔95が形成された構造になっているものである。
この外周部93や孔95の形状は、配設対象となる電子機器が備える電子部品の配置に合わせて設計されたものであり、例えば、凸部を逃がしたり、ねじ孔として利用したり、放熱口として利用したり、光透過部や監視窓として利用したりするためのものである。
図13において、セラミックシート91の内部にあるセラミック層は、図中点線で示される位置で複数のセラミック小片に分割されているが、先に説明した各実施形態同様、セラミック層は樹脂シート層間に挟み込まれた構造になっているので、外周部93の形状を任意の形状に加工しても、外周部93にあるセラミック小片が脱落することはない。また、同様の理由から、様々な形状の孔95を設けても、孔95の周縁にあるセラミック小片が脱落することはない。
[第14実施形態]
図14(a)および同図(b)に示すセラミックシート101は、RFIDアンテナ基板103に対して貼り付けられたもので、樹脂シート層3、セラミック層5、および粘着層25が積層された構造になっている点で、第4実施形態と同等な構造になっている。
このようなセラミックシート101をRFIDアンテナ基板103に対して貼り付ければ、RFIDによる通信を行う際、RFIDアンテナ基板103の周囲にある金属の影響を回避することができ、これにより、通信距離を拡大することができる。
図14(c)に示すセラミックシート111は、上記セラミックシート101が備えていた樹脂シート層3に代えて、導電層67を採用した変形例である。このセラミックシート111も、上記セラミックシート101同様、RFIDアンテナ基板103に対して貼り付けて使用される。
このようなセラミックシート111であっても、上記セラミックシート101同様、RFIDによる通信を行う際に、RFIDアンテナ基板103の周囲にある金属の影響を回避して通信距離を拡大することができ、特に、導電層67により、電磁波シールド効果を向上させることができる。
[第15実施形態]
図15(a)に示すセラミックシート121は、セラミック層5、および両面粘着テープ123を積層した構造とされている。
すなわち、先に説明した実施形態においては、粘着剤によって形成される粘着層を設ける旨を説明したが、樹脂シートと粘着剤を積層するに当たっては、それぞれを個別に積層しなくても、あらかじめ両面粘着テープ123として構成されたものを積層してもよい。
また、先に説明した実施形態においては、セラミック層5を、他の層によって表裏から挟み込む構成について説明したが、第15実施形態においては、セラミック層5を両面粘着テープ123に貼り付けることで、2層構造のセラミックシートを構成している。
すなわち、本発明のセラミックシートを構成するにあたっては、セラミック層5を他の層で挟み込んで3層構造としてもよいし、第15実施形態の如く、2層構造としてもよい。
[第16実施形態]
図15(b)に示すセラミックシート131は、樹脂シート層3、両面粘着テープ123、セラミック層5、および両面粘着テープ123を積層した構造とされている。
このセラミックシート131の場合、セラミック層5を挟む位置にある両側の層が、両面粘着テープ123(すなわち、粘着層)となっていて、セラミック層5の両側が粘着性材料によって覆われることになる。
そのため、セラミック層5が割れたときに微細破片が発生したような場合でも、そのような微細破片は、セラミック層5の積層方向両側において両面粘着テープ123によって捕捉・保持されて、破断箇所付近にとどまる。
したがって、微細破片が破断箇所付近から脱落したり偏った位置へ移動してしまったりするものに比べ、セラミックシート131の性能が安定し、性能を容易に維持できるようになる。また、セラミック層5の片側にのみ両面粘着テープ123が積層されているものと比べても、それ以上にセラミックシート131の性能が安定し、性能を容易に維持できるようになる。
[第17実施形態]
図15(c)に示すセラミックシート141は、樹脂シート層3、両面粘着テープ123、セラミック層5、および樹脂シート層3を積層した構造とされている。
このセラミックシート141も、上記第16実施形態同様、セラミック層5を挟む位置にある両側の層が、両面粘着テープ123となっているので、セラミックシート141の性能が安定し、性能を容易に維持できるものとなる。
[第18実施形態]
図15(d)に示すセラミックシート151は、樹脂シート層3、両面粘着テープ123、導電層153、両面粘着テープ123、セラミック層5、および両面粘着テープ123を積層した構造とされている。
導電層153としては、例えば、Cu箔、Al箔、グラファイトシートなどを用いることができる。このような導電層153を設けることにより、セラミックシート151に導電性を付与することができる。
また、このセラミックシート151も、セラミック層5を挟む位置にある両側の層が、両面粘着テープ123となっているので、セラミック層5が割れたときに微細破片が発生したような場合でも、そのような微細破片は破断箇所付近にとどまり、セラミックシート151の性能が安定する。
[第19実施形態]
図15(e)に示すセラミックシート161は、樹脂シート層3、両面粘着テープ123、セラミック層5、両面粘着テープ123、セラミック層5、両面粘着テープ123、および樹脂シート層3を積層した構造とされている。
このようにセラミック層5を複数層(本実施形態の場合は2層)設けた構造にしてもよい。このような構造にすれば、セラミック層5を設けたことによる効果(例えば、電磁波遮蔽効果)を高めることができる。
また、複数のセラミック層5は、別材質のセラミック層になっていてもよく、例えば、一方は相対的に低周波帯の電磁波を遮蔽する磁性体とし、他方は相対的に高周波帯の電磁波を遮蔽する誘電体とすることにより、より広帯域の電磁波を遮蔽できる構造にしてもよい。
さらに、このセラミックシート161も、セラミック層5を挟む位置にある両側の層が、両面粘着テープ123となっているので、セラミック層5が割れたときに微細破片が発生したような場合でも、そのような微細破片は破断箇所付近にとどまり、セラミックシート161の性能が安定し、性能を容易に維持できるものとなる。
[第20実施形態]
図16(a)および同図(b)に示すセラミックシート171は、樹脂シート層3、両面粘着テープ123、セラミック層5、および防振性熱伝導層173を積層した構造とされている。
防振性熱伝導層173は、制振性に優れたエラストマー材料中に熱伝導性フィラーを配合してなる複合材料によって構成されている。
このようなセラミックシート171は、図16(b)に示すように、プリント配線板175上に表面実装される電子部品176に貼り付けられるとともに、樹脂シート層3側が電子機器の筐体177に接触するように配設される。
このような構造にすることにより、電子部品37からの放射ノイズ対策と熱対策を同時に実現することができ、さらに、筐体177から電子部品176に伝わる振動や衝撃を緩和し、電子部品176を保護することができる。
なお、第20実施形態においては、放射ノイズ対策、熱対策、および外来振動対策のすべてを講じていたが、放射ノイズ対策、および熱対策のみでよい場合(例えば、据え置き機器などの場合)は、上述した防振性熱伝導層173を、熱伝導層に代えてもよい。また、放射ノイズ対策、および外来振動対策のみでよい場合(例えば、発熱性の低い機器などの場合)は、上述した防振性熱伝導層173を、防振層に代えてもよい。
また、防振性熱伝導層173に粘着性がある場合は、防振性熱伝導層173は粘着層としても機能する。この場合、セラミック層5を挟む位置にある両側の層が、粘着層としても機能する防振性熱伝導層173と両面粘着テープ123となる。したがって、セラミック層5が両側から粘着層に挟まれた構造となり、セラミック層5が割れたときに微細破片が発生したような場合でも、そのような微細破片は破断箇所付近にとどまる。よって、セラミックシート171の性能が安定し、性能を容易に維持できるものとなる。
[第21実施形態]
図17(a)および同図(b)に示すセラミックシート181は、第20実施形態同様、樹脂シート層3、両面粘着テープ123、セラミック層5、および防振性熱伝導層173を積層した構造とされているものである。
ただし、第20実施形態のものとは異なり、複数の穴183が設けられており、その穴183を介して防振性熱伝導層173が樹脂シート層3側に露出している。すなわち、穴183は、樹脂シート層3、両面粘着テープ123、およびセラミック層5を貫通するかたちで設けられており、その穴183の内部に防振性熱伝導層173の一部が入り込んでいる。
このようなセラミックシート181は、第20実施形態同様、図17(b)に示すように、プリント配線板175上に表面実装される電子部品176に貼り付けられるとともに、樹脂シート層3側が電子機器の筐体177に接触するように配設される。
このような構造にすることにより、電子部品37からの放射ノイズ対策と熱対策を同時に実現することができ、さらに、筐体177から電子部品176に伝わる振動や衝撃を緩和し、電子部品176を保護することができる。
しかも、防振性熱伝導層173の一部が、穴183を介して筐体177に直接接触する構造になっているので、電子部品176から筐体177への熱伝導性能を、第20実施形態のもの以上に高めることができる。
[第22実施形態]
図18(a)および同図(b)に示すセラミックシート191は、第20,第21実施形態同様、樹脂シート層3、両面粘着テープ123、セラミック層5、および防振性熱伝導層173を有するものであるが、その積層構造が若干異なる構造になっている。
具体的には、本実施形態においては、樹脂シート層3、両面粘着テープ123、およびセラミック層5の積層体が、防振性熱伝導層173を構成する材料の内部に入れ込まれている。
これにより、積層部分の構造は、防振性熱伝導層173、樹脂シート層3、両面粘着テープ123、セラミック層5、および防振性熱伝導層173を積層した構造になっている。また、樹脂シート層3、両面粘着テープ123、およびセラミック層5の積層体を挟む位置にある防振性熱伝導層173は、周縁部で連続している。
このようなセラミックシート191も、第20,第21実施形態同様、図18(b)に示すように、プリント配線板175上に表面実装される電子部品176に貼り付けられるとともに、樹脂シート層3側が電子機器の筐体177に接触するように配設される。
このような構造にすることにより、電子部品37からの放射ノイズ対策と熱対策を同時に実現することができ、さらに、筐体177から電子部品176に伝わる振動や衝撃を緩和し、電子部品176を保護することができる。
しかも、防振性熱伝導層173が、筐体177に直接接触する構造になっているので、電子部品176から筐体177への熱伝導性能を、第20実施形態のもの以上に高めることができる。
さらに、防振性熱伝導層173に粘着性がある場合は、防振性熱伝導層173は粘着層としても機能する。この場合、セラミック層5を挟む位置にある両側の層が、粘着層としても機能する防振性熱伝導層173と両面粘着テープ123となる上に、セラミック層5の端面も粘着層に囲まれる。
したがって、セラミック層5が両側から粘着層に挟まれた構造となるのはもちろん、完全に粘着性材料に取り囲まれた状態になるので、セラミック層5が割れたときに微細破片が発生したような場合でも、そのような微細破片はきわめて破断箇所付近にとどまりやすくなる。よって、セラミックシート191の性能が安定し、性能を容易に維持できるものとなる。
[第23実施形態]
図19に示すケーブル保持具201は、樹脂成形体203の内周部に本発明のセラミックシート205を貼り付けたものである。このようなケーブル保持具201は、筐体207にネジ209で固定して使用されるものであり、ケーブルからの放射ノイズ対策に利用することができる。
[第24実施形態]
図20に示すセラミックシート211は、四角い穴213および丸い穴215を有するもので、電子機器221が備えるコネクタ223、コネクタ225の周辺に貼り付けることができる。このようなセラミックシート211を、電子機器221に貼り付ければ、コネクタ223、コネクタ225の周辺からの放射ノイズ対策に利用することができる。
[第25実施形態]
次に、以上説明したような各種セラミックシートを構成する際、複数の凹部または穴部を破線状に形成するに当たって、破線の間隔(すなわち、凹部間の間隔または穴部間の間隔)をどの程度に設定するのが好適なのかを検証した。
検証に当たっては、YAGレーザーにて、図21(a)〜同図(c)に示すような単位構造を持つ実線または破線の格子パターンで、薄板状フェライトの片面に凹部を形成した。
なお、図21(a)〜同図(c)に示す寸法Aは、いずれも3mmとした。また、破線の隙間の寸法Bについては、寸法Aとの比(B/A)が、20%、30%、50%、70%となる試料を用意した。さらに、寸法B1,B2については、寸法Aとの比((B1+B2)/A)が、50%となる試料を用意した。
以上のような各薄板状フェライトを、さらに、YAGレーザーにて、外径18mm、内径6mm、厚さ0.3mmのリング状に加工(カット)した。そして、それらを樹脂シート層(PET)にてラミネートした上で、実線状ないし破線状の格子パターンに沿って薄板状フェライトを折り曲げることによって、完全に割れた状態にした。
以上のようなサンプルの透磁率μr’を、インピーダンス・マテリアルアナライザ(アジレントテクノロジー社製、E4991A)で測定した。測定結果を表1、表2および図21(d)に示す。
Figure 2008296431
Figure 2008296431
図21(d)は、5MHz〜25MHzの周波数帯における透磁率周波数特性を示すグラフである。[表1]は、15MHzにおける隙間なし/ありでの透磁率特性を比較したものである。
これらのグラフおよび表から明らかなように、5MHz〜25MHzの周波数帯においては、全帯域にわたって、格子パターンを破線状にしたものが、格子パターンを実線状にしたものよりも、透磁率μr’が向上した。
したがって、本発明の如く、薄板状セラミックを割って複数のセラミック小片を形成するに当たっては、破線状の凹部を形成すれば、実線状の溝を形成した場合よりも、セラミックシートの特性を向上させることができるものと考えられる。
[表2]は、隙間率が同じ50%であっても、比較的破線間隔が長いもの(図21(b))と比較的破線間隔が短いもの(図21(c))とで、差異が生じるのかどうかを検証した結果である。
この結果からは、比較的破線間隔が短いもの(図21(c))の方が、若干性能向上することがわかったが、隙間率を変更した場合ほど大きな差は生じないことがわかった。したがって、性能向上のためには、破線間隔の絶対値の大小よりも、破線の隙間率を最適化することの方が重要であると考えられる。
[第26実施形態]
図22に示すセラミックシート231は、樹脂シート層3、感圧接着剤層233、セラミック層5、および両面粘着テープ123を積層した構造とされている。このようなセラミックシート231は、一方の面にあらかじめ感圧接着剤層233が形成された樹脂シート層3を、セラミック層5の一方の面に対して貼り付けるとともに、さらにセラミック層5の他方の面に対して、両面粘着テープ123を貼り付けることによって構成することができる。
このセラミックシート231の場合、セラミック層5を挟む位置にある両側の層が、感圧接着剤層233と両面粘着テープ123(すなわち、粘着層)となっていて、セラミック層5の両側が粘着性材料によって覆われることになる。
そのため、セラミック層5が割れたときに微細破片が発生したような場合でも、そのような微細破片は、セラミック層5の積層方向両側において感圧接着剤層233もしくは両面粘着テープ123によって捕捉・保持されて、破断箇所付近にとどまる。
したがって、微細破片が破断箇所付近から脱落したり偏った位置へ移動してしまったりするものに比べ、セラミックシート231の性能が安定し、性能を容易に維持できるようになる。また、セラミック層5の片側にのみ感圧接着剤層233または両面粘着テープ123が積層されているものと比べても、それ以上にセラミックシート231の性能が安定し、性能を容易に維持できるようになる。
[その他の実施形態]
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は上記の具体的な一実施形態に限定されず、この他にも種々の形態で実施することができる。
例えば、上記各実施形態においては、セラミック層5をNi−Zn系フェライトで構成する例を示したが、他のセラミック材料でセラミック層5を形成してもよい。具体例としては、例えば、Mn−Zn系フェライト、Mg−Zn系フェライト、Ba系フェライト、フェロックスプレーナ系フェライト、アルミナ、炭化ケイ素、またはチタン酸バリウムなどでセラミック層5を構成してもよい。
Mn−Zn系フェライト、Mg−Zn系フェライト、Ba系フェライト、またはフェロックスプレーナ系フェライトを用いれば、磁性体として優れた特性を発揮するものとなる。また、アルミナ、炭化ケイ素、またはチタン酸バリウムを用いれば、誘電体として優れた特性を発揮するものとなる。
また、上記実施形態では、セラミックシートの形状、セラミック層5の厚さ、薄板状セラミック5bに形成する凹部5cの幅や深さ、セラミック小片5aのサイズや形状について、具体的な事例を例示したが、これらはセラミックシートとしての機能が損なわれない範囲内で、任意に変更可能である。
さらに、上記実施形態では、薄板状セラミック5bに凹部5cを形成するに当たって、レーザー加工装置による加工を例示したが、他の方法で凹部5cを形成してもよい。具体的には、薄板状セラミック5bの焼成後に各種切削加工機で凹部を形成してもよく、また、薄板状セラミック5bの焼成前のグリーンシート時に、金型あるいは何らかの治具で凹部を形成してもよい。ただし、より微細な凹部や穴部を焼成後に加工する方が、セラミック小片の連続性(隣接するセラミック小片の接触面積)を確保しやすいので、その点では、レーザー加工が望ましい。
加えて、上記実施形態では、粘着層の具体的な例として、両面粘着テープ123や感圧接着剤層233などを例示したが、他の粘着層を設けてもよい。他の粘着層としては、例えば、感熱接着剤によって形成された層などを挙げることができる。
なお、上記実施形態では、セラミック層5を割るために複数の凹部5cを破線状に形成する例を示したが、セラミックシートの性能を損なわない範囲内であれば、連続する溝(実線状に形成された溝)がいくらか混在しても問題はない。ただし、既に説明した通り、連続する溝の存在比が過大になると相応にセラミックシートの性能低下を招くので、仮に連続する溝を設けざるを得ない事情がある場合でも、そのような連続する溝の存在比については、可能な限り小さくすることが好ましい。
(a)は第1実施形態として例示したセラミックシートの斜視図、(b)は同セラミックシートの構造を示す分解図。 (a)〜(d)はセラミック層の形成手順を示す説明図、(e)、(f)は凹部の形成位置についての変形例を示す説明図。 破線状に形成される凹部ないし穴の格子パターンを示す説明図。 (a)は第1実施形態として例示したセラミックシートの断面図、(b)は第2実施形態として例示したセラミックシートの断面図、(c)は第3実施形態として例示したセラミックシートの断面図、(d)は第4実施形態として例示したセラミックシートの断面図。 (a)は第5実施形態として例示したセラミックシート群の断面図、(b)は同セラミックシート群の平面図、(c)は第5実施形態として例示したセラミックシートの使用状態を示す説明図。 (a)は第6実施形態として例示したセラミックシートの使用状態を示す説明図、(b)は同セラミックシートの平面図。 (a)は第7実施形態として例示したセラミックシートの斜視図、(b)は同セラミックシートの使用状態を示す斜視図。 (a)は第8実施形態として例示したセラミックシートの斜視図、(b)は同セラミックシートの使用状態を示す斜視図。 (a)は第9実施形態として例示したセラミックシートの斜視図、(b)は同セラミックシートの使用状態を示す斜視図。 (a)は第10実施形態として例示したセラミックシートの斜視図、(b)は同セラミックシートの使用状態を示す斜視図。 (a)は第11実施形態として例示したセラミックシートの使用状態を示す説明図、(b)は第11実施形態として例示したセラミックシートの別の使用状態を示す斜視図、(c)は第11実施形態として例示したセラミックシートの別の使用状態を示す説明図。 (a)は第12実施形態として例示したセラミックシートの使用状態を示す説明図、(b)は第12実施形態として例示したセラミックシートの別の使用状態を示す説明図。 第13実施形態として例示したセラミックシートの平面図。 (a)は第14実施形態として例示したセラミックシートとRFIDアンテナ基板を示す斜視図、(b)は第14実施形態として例示したセラミックシートの使用状態を示す説明図、(c)は第14実施形態の変形例として例示したセラミックシートの使用状態を示す説明図。 (a)は第15実施形態として例示したセラミックシートの断面図、(b)は第16実施形態として例示したセラミックシートの断面図、(c)は第17実施形態として例示したセラミックシートの断面図、(d)は第18実施形態として例示したセラミックシートの断面図、(e)は第19実施形態として例示したセラミックシートの断面図。 (a)は第20実施形態として例示したセラミックシートの断面図、(b)同セラミックシートの使用状態を示す説明図。 (a)は第21実施形態として例示したセラミックシートの斜視図、(b)同セラミックシートの使用状態を示す説明図。 (a)は第22実施形態として例示したセラミックシートの斜視図、(b)同セラミックシートの使用状態を示す説明図。 第23実施形態として例示したセラミックシートを備えるケーブル保持具の使用状態を示す斜視図。 第24実施形態として例示したセラミックシートの使用状態を示す斜視図。 (a)〜(c)は第25実施形態において検証した実線状または破線状格子パターンについての説明図、(d)は透磁率周波数特性を示すグラフ。 第26実施形態として例示したセラミックシートの断面図。
符号の説明
1,21,23,31,33a,41,45,53,55,61,65,75,91,101,111,121,131,141,151,161,171,181,191,205,211,231・・・セラミックシート、3・・・樹脂シート層、5,11,13,15,17・・・セラミック層、5a・・・セラミック小片、5b・・・薄板状セラミック、5c・・・凹部、5d・・・破断面、25・・・粘着層、27・・・剥離紙、33・・・セラミックシート群、43,95・・・孔、47・・・帯状体、48・・・粘着部、67,153・・・導電層、77・・・熱伝導層、93・・・外周部、103・・・RFIDアンテナ基板、123・・・両面粘着テープ、173・・・防振性熱伝導層、183・・・穴、201・・・ケーブル保持具、203・・・樹脂成形体、213,215・・・穴、233・・・感圧接着剤層233。

Claims (8)

  1. 積層された複数の層を有する構造で、前記複数の層の内、少なくとも1層は、セラミック材料によって形成されたセラミック層とされているセラミックシートであって、
    前記セラミック層は、複数のセラミック小片が面状に配列されて、当該複数のセラミック小片が他の層に挟み込まれるか、他の層に貼り付けられることによって、前記面状に配列された構造を維持可能に構成されており、
    前記複数のセラミック小片は、複数の凹部または穴部が破線状に形成された薄板状セラミックを、前記他の層に挟み込むか前記他の層に貼り付けてから、前記複数の凹部または穴部のなす破線に沿って割ることによって形成されたものである
    ことを特徴とするセラミックシート。
  2. 前記複数の凹部または穴部が、前記薄板状セラミックの焼成後に、レーザー加工によって形成されたものである
    ことを特徴とする請求項1に記載のセラミックシート。
  3. 前記破線は、破線の全長Aと破線に含まれる間隔部分の長さBとの関係が、0.2≦(B/A)≦0.7の関係を満足する形態をなすように形成されたものである
    ことを特徴とする請求項1または請求項2に記載のセラミックシート。
  4. 前記セラミック材料は、Ni−Zn系フェライト、Mn−Zn系フェライト、Mg−Zn系フェライト、Ba系フェライト、フェロックスプレーナ系フェライト、アルミナ、炭化ケイ素、またはチタン酸バリウムである
    ことを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれかに記載のセラミックシート。
  5. 前記他の層は、少なくとも1層が粘着性材料によって形成された粘着層とされている
    ことを特徴とする請求項1〜請求項4のいずれかに記載のセラミックシート。
  6. 前記セラミック層を挟む位置にある両側の層が、前記粘着層とされている
    ことを特徴とする請求項5に記載のセラミックシート。
  7. 前記他の層は、少なくとも1層が導電性材料によって形成された導電層とされている
    ことを特徴とする請求項1〜請求項6のいずれかに記載のセラミックシート。
  8. 前記他の層は、少なくとも1層が熱伝導性材料によって形成された熱伝導層とされている
    ことを特徴とする請求項1〜請求項7のいずれかに記載のセラミックシート。
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