JP2008225210A - 反射防止膜及びこれを有する光学部品 - Google Patents
反射防止膜及びこれを有する光学部品 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008225210A JP2008225210A JP2007065318A JP2007065318A JP2008225210A JP 2008225210 A JP2008225210 A JP 2008225210A JP 2007065318 A JP2007065318 A JP 2007065318A JP 2007065318 A JP2007065318 A JP 2007065318A JP 2008225210 A JP2008225210 A JP 2008225210A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- refractive index
- film thickness
- optical film
- optical
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
【課題】紫外〜可視域又は可視〜近赤外域の広帯域において高い反射防止効果を有する反射防止膜及びこれを有する光学部品を提供することである。
【解決手段】基板上に、第１層〜第９層を積層してなり、波長λnmにおいて、第１層の屈折率が1.85〜2.45、光学膜厚が0.01λ〜0.15λ nmであり、第２層の屈折率が1.35〜1.75、光学膜厚が0.003λ〜0.2λ nmであり、第３層の屈折率が1.85〜2.45、光学膜厚が0.03λ〜0.32λ nmであり、第４層の屈折率が1.35〜1.75、光学膜厚が0.003λ〜0.15λ nmであり、第５層の屈折率が1.85〜2.45、光学膜厚が0.05λ〜0.25λ nmであり、第６層の屈折率が1.35〜1.75、光学膜厚が0.01λ〜0.15λ nmであり、第７層の屈折率が1.85〜2.45、光学膜厚が0.03λ〜0.15λ nmであり、第８層の屈折率が1.35〜1.75、光学膜厚が0.18λ〜0.3λ nmであり、第９層の屈折率が1.05〜1.3、光学膜厚が0.15λ〜0.25λ nmであることを特徴とする反射防止膜。
【選択図】図１
【解決手段】基板上に、第１層〜第９層を積層してなり、波長λnmにおいて、第１層の屈折率が1.85〜2.45、光学膜厚が0.01λ〜0.15λ nmであり、第２層の屈折率が1.35〜1.75、光学膜厚が0.003λ〜0.2λ nmであり、第３層の屈折率が1.85〜2.45、光学膜厚が0.03λ〜0.32λ nmであり、第４層の屈折率が1.35〜1.75、光学膜厚が0.003λ〜0.15λ nmであり、第５層の屈折率が1.85〜2.45、光学膜厚が0.05λ〜0.25λ nmであり、第６層の屈折率が1.35〜1.75、光学膜厚が0.01λ〜0.15λ nmであり、第７層の屈折率が1.85〜2.45、光学膜厚が0.03λ〜0.15λ nmであり、第８層の屈折率が1.35〜1.75、光学膜厚が0.18λ〜0.3λ nmであり、第９層の屈折率が1.05〜1.3、光学膜厚が0.15λ〜0.25λ nmであることを特徴とする反射防止膜。
【選択図】図１
Description
本発明は反射防止膜及びこれを有する光学部品に関し、詳しくはテレビカメラ、ビデオカメラ、デジタルカメラ、車載カメラ、顕微鏡、望遠鏡等の光学機器に搭載されるレンズ、プリズム、回折素子等の光学部品に適用される紫外〜可視域又は可視〜近赤外域の広帯域において高い反射防止効果を有する反射防止膜及びこれを有する光学部品に関する。
写真用カメラや放送用カメラ等に広く用いられている高性能なズームレンズは、多数枚（10〜40枚）からなるレンズ群の鏡筒構成を有している。これらレンズ等の光学部品の表面には、基板の屈折率と異なる大小の屈折率を有する誘電体膜を組み合わせ、各誘電体膜の光学膜厚を中心波長λに対して1/2λや1/4λに設定し、干渉効果を利用した多層膜による反射防止処理が施されている。近年、紫外〜可視の波長域を使用する蛍光分析用顕微鏡、内視鏡等や、可視〜近赤外域の波長域を使用する天体望遠鏡、セキュリティカメラ、車載カメラ等においても、それぞれの波長域で反射率を低減しゴーストやフレアを大幅に改良することが要求されている。
一般的な反射防止膜は１〜３層程度の構成で、その反射率は0.5％程度である。このような反射防止膜を20枚のレンズからなる鏡筒レンズ群に施した場合、レンズの面数は40面であるから透過率は計算上0.99540≒82％となり、約18％の反射損失が生じてしまう。しかも、レンズ内又はレンズ間での多重反射によりフレアやゴーストが生じ、コントラスト等の光学特性を著しく劣化させる。また光ピックアップなどにおいてはレーザー光の干渉といった大きな弊害が起こる。
このような問題点を解決するには、より多くの層からなる反射防止膜による反射防止処理が有効であり、例えば特開平10-20102号公報（特許文献１）には７層構成の反射防止膜が開示されている。この反射防止膜は可視波長帯域での反射率が0.3％程度にまで改良されると記載されているが、紫外光や近赤外光に対する反射防止性能は不十分であり、改良が望まれている。
特開2001-100002号公報（特許文献２）にはMgF2、SiO2、Al2O3、ZrO2+TiO2の材料からなる10層構成の反射防止膜が開示されている。この反射防止膜は可視波長帯域270 nmの光における反射率が0.1％まで改良されると記載されているが、400 nm付近又は700 nm付近の光における反射防止性能が不十分であるという問題がある。
特開2002-107506号公報（特許文献３）にはMgF2、SiO2、Al2O3、ZrO2+TiO2の材料からなる10層構成の反射防止膜が開示されている。この反射防止膜は可視波長帯域300 nmの光における反射率が0.1％程度にまで改良されると記載されているが、紫外域や近赤外域での反射防止性能は不十分であり、改良が望まれている。
本発明の目的は、紫外〜可視域又は可視〜近赤外域の広帯域において高い反射防止効果を有し、紫外域又は近赤外域においてもフレアやゴースト等の発生の少ない反射防止膜及びこれを有する光学部品を提供することである。
上記課題に鑑み鋭意研究の結果、本発明者は下記の反射防止膜により、広い波長帯域において、きわめて高い反射防止効果が得られることを発見し、本発明に想到した。
即ち、本発明の反射防止膜は、基板上に、前記基板側から順に第１層〜第９層を積層してなり、波長λnmにおいて、
前記第１層の屈折率が1.85〜2.45、光学膜厚が0.01λ〜0.15λ nmであり、
前記第２層の屈折率が1.35〜1.75、光学膜厚が0.003λ〜0.2λ nmであり、
前記第３層の屈折率が1.85〜2.45、光学膜厚が0.03λ〜0.32λ nmであり、
前記第４層の屈折率が1.35〜1.75、光学膜厚が0.003λ〜0.15λ nmであり、
前記第５層の屈折率が1.85〜2.45、光学膜厚が0.05λ〜0.25λ nmであり、
前記第６層の屈折率が1.35〜1.75、光学膜厚が0.01λ〜0.15λ nmであり、
前記第７層の屈折率が1.85〜2.45、光学膜厚が0.03λ〜0.15λ nmであり、
前記第８層の屈折率が1.35〜1.75、光学膜厚が0.18λ〜0.3λ nmであり、
前記第９層の屈折率が1.05〜1.3、光学膜厚が0.15λ〜0.25λ nmである
ことを特徴とする。
前記第１層の屈折率が1.85〜2.45、光学膜厚が0.01λ〜0.15λ nmであり、
前記第２層の屈折率が1.35〜1.75、光学膜厚が0.003λ〜0.2λ nmであり、
前記第３層の屈折率が1.85〜2.45、光学膜厚が0.03λ〜0.32λ nmであり、
前記第４層の屈折率が1.35〜1.75、光学膜厚が0.003λ〜0.15λ nmであり、
前記第５層の屈折率が1.85〜2.45、光学膜厚が0.05λ〜0.25λ nmであり、
前記第６層の屈折率が1.35〜1.75、光学膜厚が0.01λ〜0.15λ nmであり、
前記第７層の屈折率が1.85〜2.45、光学膜厚が0.03λ〜0.15λ nmであり、
前記第８層の屈折率が1.35〜1.75、光学膜厚が0.18λ〜0.3λ nmであり、
前記第９層の屈折率が1.05〜1.3、光学膜厚が0.15λ〜0.25λ nmである
ことを特徴とする。
前記屈折率1.85〜2.45の層はTa2O5、TiO2、Nb2O5、ZrO2、HfO2、CeO2、SnO2、In2O3、ZnO、Y2O3、ZnS及びLa2O3からなる群から選ばれた少なくとも１種の材料からなる層であるのが好ましく、前記屈折率1.35〜1.75の層はMgF2、SiO2、Al2O3、MgO、CeF3、YF3、DyF3、AlF3及びフッ素樹脂からなる群から選ばれた少なくとも１種の材料からなる層であるのが好ましく、前記屈折率1.05〜1.3の層はMgF2、SiO2、Al2O3及びフッ素樹脂からなる群から選ばれた少なくとも１種の材料からなる多孔質層であるのが好ましい。
波長帯域0.615λ〜1.385λ nmにおける反射率が0.1％以下の反射防止効果を有するのが好ましい。前記波長λは650 nmであるのが好ましい。
本発明の光学部品は、前記反射防止膜を有することを特徴とする。本発明の光学部品は、波長λnmにおける屈折率が1.4〜2.2である基板を用いるのが好ましい。
本発明の９層からなる反射防止膜により、紫外〜可視域（例えば310〜700 nm）又は可視〜近赤外域（例えば400〜900 nm）の広帯域において、反射率0.1％以下の反射防止効果を得ることができるため、紫外〜可視の波長域を使用する蛍光分析用顕微鏡、内視鏡等や、可視〜近赤外域の波長域を使用する天体望遠鏡、セキュリティカメラ、車載カメラ等においても、それぞれの波長域で反射率を低減しゴーストやフレアを大幅に改良することができる。
[1]反射防止膜
(1)構成
本発明の反射防止膜は、図１に示すように、所定の屈折率と光学膜厚[屈折率(n)×物理膜厚(d)]を有する第１層から第９層までの薄膜を基板３の表面に積層してなる。すなわち本発明の反射防止膜は、目的とする反射防止波長帯域の中心波長λnmにおいて、
屈折率が1.85〜2.45及び光学膜厚が0.01λ〜0.15λ nmである第１層101、
屈折率が1.35〜1.75及び光学膜厚が0.003λ〜0.2λ nmである第２層102、
屈折率が1.85〜2.45及び光学膜厚が0.03λ〜0.32λ nmである第３層103、
屈折率が1.35〜1.75及び光学膜厚が0.003λ〜0.15λ nmである第４層104、
屈折率が1.85〜2.45及び光学膜厚が0.05λ〜0.25λ nmである第５層105、
屈折率が1.35〜1.75及び光学膜厚が0.01λ〜0.15λ nmである第６層106、
屈折率が1.85〜2.45及び光学膜厚が0.03λ〜0.15λ nmである第７層107、
屈折率が1.35〜1.75及び光学膜厚が0.18λ〜0.3λ nmである第８層108、及び
屈折率が1.05〜1.3及び光学膜厚が0.15λ〜0.25λ nmである第９層109を基板３上に有する。波長λnmは使用目的によって任意に選ぶことができるが、紫外〜可視域での反射防止効果を得るためにはλ＝505 nm、可視〜近赤外域での反射防止効果を得るためにはλ＝650 nmとすればよい。本発明の反射防止膜は、波長λに対して0.615λ〜1.385λ nmの波長帯域で高い反射防止効果を発揮することができる。反射防止波長帯域0.615λ〜1.385λ nmにおける反射率は0.1％以下であるのが好ましい。
(1)構成
本発明の反射防止膜は、図１に示すように、所定の屈折率と光学膜厚[屈折率(n)×物理膜厚(d)]を有する第１層から第９層までの薄膜を基板３の表面に積層してなる。すなわち本発明の反射防止膜は、目的とする反射防止波長帯域の中心波長λnmにおいて、
屈折率が1.85〜2.45及び光学膜厚が0.01λ〜0.15λ nmである第１層101、
屈折率が1.35〜1.75及び光学膜厚が0.003λ〜0.2λ nmである第２層102、
屈折率が1.85〜2.45及び光学膜厚が0.03λ〜0.32λ nmである第３層103、
屈折率が1.35〜1.75及び光学膜厚が0.003λ〜0.15λ nmである第４層104、
屈折率が1.85〜2.45及び光学膜厚が0.05λ〜0.25λ nmである第５層105、
屈折率が1.35〜1.75及び光学膜厚が0.01λ〜0.15λ nmである第６層106、
屈折率が1.85〜2.45及び光学膜厚が0.03λ〜0.15λ nmである第７層107、
屈折率が1.35〜1.75及び光学膜厚が0.18λ〜0.3λ nmである第８層108、及び
屈折率が1.05〜1.3及び光学膜厚が0.15λ〜0.25λ nmである第９層109を基板３上に有する。波長λnmは使用目的によって任意に選ぶことができるが、紫外〜可視域での反射防止効果を得るためにはλ＝505 nm、可視〜近赤外域での反射防止効果を得るためにはλ＝650 nmとすればよい。本発明の反射防止膜は、波長λに対して0.615λ〜1.385λ nmの波長帯域で高い反射防止効果を発揮することができる。反射防止波長帯域0.615λ〜1.385λ nmにおける反射率は0.1％以下であるのが好ましい。
(2)材料
各層を構成する材料としては、例えば、Al2O3、TiO2、ZrO2、Ta2O5、Nb2O5、CeO2、Yb2O3、HfO2、Nd2O3、Pr6O11、La2O3、Er2O3、CdO、Eu2O3、NiO、Cr2O3、SnO2、Sb2O3、ZnO、ZnS、Sb2S3、CdS、AlN、SiO2、MgF2、AlF3、BaF2、CaF2、LiF、NaF、SrF2、In2O3、Y2O3, MgO、CeF3、YF3、DyF3及び フッ素樹脂が挙げられる。
各層を構成する材料としては、例えば、Al2O3、TiO2、ZrO2、Ta2O5、Nb2O5、CeO2、Yb2O3、HfO2、Nd2O3、Pr6O11、La2O3、Er2O3、CdO、Eu2O3、NiO、Cr2O3、SnO2、Sb2O3、ZnO、ZnS、Sb2S3、CdS、AlN、SiO2、MgF2、AlF3、BaF2、CaF2、LiF、NaF、SrF2、In2O3、Y2O3, MgO、CeF3、YF3、DyF3及び フッ素樹脂が挙げられる。
屈折率1.85〜2.45の層はTa2O5、TiO2、Nb2O5、ZrO2、HfO2、CeO2、SnO2、In2O3、ZnO、Y2O3、ZnS及びLa2O3からなる群から選ばれた少なくとも１種の材料からなるのが好ましい。屈折率1.35〜1.75の層はMgF2、SiO2、Al2O3、MgO、CeF3、YF3、DyF3、AlF3及びフッ素樹脂からなる群から選ばれた少なくとも１種の材料からなるのが好ましい。屈折率1.05〜1.3の層はMgF2、SiO2、Al2O3及びフッ素樹脂からなる群から選ばれた少なくとも１種の材料からなる多孔質であるのが好ましい。この多孔質の細孔径は0.01〜0.5 μmであるのが好ましく、空孔率は20〜80％であるのが好ましい。
前記フッ素樹脂としては、四フッ化エチレン樹脂(PTFE)，三フッ化塩化メチレン樹脂(PCTFE)，フッ化ビニル樹脂(PVF)，四フッ化エチレン-六フッ化プロピレン共重合体(FEP)及びフッ化ビニリデン樹脂(PVDF)等が好ましい。
(3)反射防止膜の形成方法
反射防止膜の各層（反射防止膜を構成する各層）は、既存の方法で形成することができ、例えば、真空蒸着法、イオンアシスト蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法、化学蒸着法(CVD)等の気相成膜法（乾式めっき法）、湿式めっき法、ディップコーティング法、超音波ミストコーティング法、スピンコーティング法、スプレーコーティング法及びインクジェットコーティング法が挙げられる。気相成膜法については、例えば、特開2001-59172号公報、特開2001-81548号公報に記載された方法を用いることができ、超音波ミストコーティング法については、特許3159780号等に記載されている方法等を用いることができる。特に真空蒸着法、イオンアシスト蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法、ディップコーティング法、超音波ミストコーティング法、スプレーコーティング法及びスピンコーティング法を用いるのが好ましい。反射防止膜の全層を同一の方法で形成しても良いが、各層ごとに最適な方法を選んで使用してもよい。
反射防止膜の各層（反射防止膜を構成する各層）は、既存の方法で形成することができ、例えば、真空蒸着法、イオンアシスト蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法、化学蒸着法(CVD)等の気相成膜法（乾式めっき法）、湿式めっき法、ディップコーティング法、超音波ミストコーティング法、スピンコーティング法、スプレーコーティング法及びインクジェットコーティング法が挙げられる。気相成膜法については、例えば、特開2001-59172号公報、特開2001-81548号公報に記載された方法を用いることができ、超音波ミストコーティング法については、特許3159780号等に記載されている方法等を用いることができる。特に真空蒸着法、イオンアシスト蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法、ディップコーティング法、超音波ミストコーティング法、スプレーコーティング法及びスピンコーティング法を用いるのが好ましい。反射防止膜の全層を同一の方法で形成しても良いが、各層ごとに最適な方法を選んで使用してもよい。
超音波ミストコーティング法による基材への反射防止膜の形成は、例えば図５に示す装置により行うことができる。この装置は、塗布液501を超音波素子502により霧化するチャンバ503と、加熱板504上に基材505を載置するとともに導管506を介して霧化チャンバ503と連通している塗布チャンバ507と、霧化チャンバ503に開口し、ミスト化により減少する塗布液501を補給する塗布液供給管508と、霧化した塗布液のミスト509を塗布チャンバ507に搬送するためのキャリアガス510を供給する管511とを具備する。キャリアガス510は、塗布液501と反応しないように、低湿度の窒素、アルゴン、ヘリウム等の不活性ガスであるのが好ましい。加熱板504は基材505を塗布液501の沸点未満の温度に加熱する。塗布チャンバ507には、キャリアガス510と未塗布のミスト509とを排気するための孔512が設けられている。
超音波素子502の振動エネルギーにより塗布液501は霧化されて、微細な液滴からなるミスト509になる。ミスト509はキャリアガス供給管511より送給されるキャリアガス510とともに、導管506を経て一定の流量で塗布チャンバ507に輸送される。１Lのキャリアガス510に随伴するミスト509の量は、0.001〜1 mLであるのが好ましい。ミスト509の量が0.001 mL未満であると成膜が遅く生産性が低い。１mL超であると、ミスト509に濃度ムラができ不均一な膜になる。
[2]基板
基板３としては、レンズ、プリズム、フィルター、光学ファイバー、ブラウン管等が挙げられる。基板３の構成材料としては、光学ガラス、合成石英、水晶、アルミナ結晶、LiNbO3結晶、KTP結晶、YAG結晶、BBO結晶、LBO結晶等の各種無機材料や、アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリエステル系樹脂等の各種樹脂材料が挙げられる。
基板３としては、レンズ、プリズム、フィルター、光学ファイバー、ブラウン管等が挙げられる。基板３の構成材料としては、光学ガラス、合成石英、水晶、アルミナ結晶、LiNbO3結晶、KTP結晶、YAG結晶、BBO結晶、LBO結晶等の各種無機材料や、アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリエステル系樹脂等の各種樹脂材料が挙げられる。
基板３は、目的とする反射防止波長帯域の中心波長λnmにおける屈折率が1.4〜2.2であるのが好ましく、1.4〜2.0であるのがより好ましい。屈折率がこのような範囲の基板３に本発明の反射防止膜を施したときに高い反射防止効果が得られる。
[3]光学部品
本発明の反射防止膜を前述の基板に施すことにより、紫外〜可視域（例えば310〜700 nm）又は可視〜近赤外域（例えば400〜900 nm）の広帯域において、反射率0.1％以下の反射防止効果を有する光学部品が得られる。紫外〜可視の波長域を使用する用途としては、蛍光分析用顕微鏡、内視鏡等が挙げられ、可視〜近赤外域の波長域を使用する用途としては、天体望遠鏡、セキュリティカメラ、車載カメラ等が挙げられる。
本発明の反射防止膜を前述の基板に施すことにより、紫外〜可視域（例えば310〜700 nm）又は可視〜近赤外域（例えば400〜900 nm）の広帯域において、反射率0.1％以下の反射防止効果を有する光学部品が得られる。紫外〜可視の波長域を使用する用途としては、蛍光分析用顕微鏡、内視鏡等が挙げられ、可視〜近赤外域の波長域を使用する用途としては、天体望遠鏡、セキュリティカメラ、車載カメラ等が挙げられる。
[4]反射防止膜の実施の形態
本発明の反射防止膜の設計を光学薄膜計算シミュレーションにより行った例を示す。中心波長λ＝650 nmにおける反射防止膜の第１層、第３層、第５層及び第７層の屈折率を2.25、第２層、第３層、第６層及び第８層の屈折率を1.465、及び第９層の屈折率を1.13として、基板の屈折率を1.4〜2.2の範囲で0.1刻みに変化させたときに、360〜930 nmの波長域で反射率が最も小さくなるように各層の光学膜厚を最適化した。結果を表1-1〜表1-9に示す。また、この時の各光学部品の５°入射分光反射特性を図2-1〜図2-9に示す。これらの分光反射特性から、屈折率が1.4〜2.2の基板上に施された本発明の反射防止膜は、可視〜近赤外を含む波長帯域（360〜930 nm）において、反射率を0.1％以下に低減できることが分かる。
本発明の反射防止膜の設計を光学薄膜計算シミュレーションにより行った例を示す。中心波長λ＝650 nmにおける反射防止膜の第１層、第３層、第５層及び第７層の屈折率を2.25、第２層、第３層、第６層及び第８層の屈折率を1.465、及び第９層の屈折率を1.13として、基板の屈折率を1.4〜2.2の範囲で0.1刻みに変化させたときに、360〜930 nmの波長域で反射率が最も小さくなるように各層の光学膜厚を最適化した。結果を表1-1〜表1-9に示す。また、この時の各光学部品の５°入射分光反射特性を図2-1〜図2-9に示す。これらの分光反射特性から、屈折率が1.4〜2.2の基板上に施された本発明の反射防止膜は、可視〜近赤外を含む波長帯域（360〜930 nm）において、反射率を0.1％以下に低減できることが分かる。
以下実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
実施例１
(1)有機修飾シリカ含有ゾルの準備
テトラエトキシシラン5.21 gとエタノール4.38 gとを室温で混合し、0.01 N塩酸0.4 gを加えて90分間撹拌した。エタノール44.35 gと0.02 Nアンモニア水0.5 gとを添加し46時間撹拌した後、60℃に昇温して46時間エージングし、湿潤状態のシリカゲルを得た。デカンテーションを繰り返すことによりシリカゲルの分散媒をエタノールに置換し、さらにデカンテーションにより分散媒をエタノールからヘキサンに置換した。このシリカゲルにトリメチルクロロシランのヘキサン溶液（濃度５体積％）を加え30時間撹拌し、酸化ケイ素末端を有機修飾した。得られた有機修飾シリカゲルをヘキサン洗浄後１質量％に調製し、超音波処理（20 kHz、500 W、５分間）を行い、有機修飾シリカゾルを得た。
(1)有機修飾シリカ含有ゾルの準備
テトラエトキシシラン5.21 gとエタノール4.38 gとを室温で混合し、0.01 N塩酸0.4 gを加えて90分間撹拌した。エタノール44.35 gと0.02 Nアンモニア水0.5 gとを添加し46時間撹拌した後、60℃に昇温して46時間エージングし、湿潤状態のシリカゲルを得た。デカンテーションを繰り返すことによりシリカゲルの分散媒をエタノールに置換し、さらにデカンテーションにより分散媒をエタノールからヘキサンに置換した。このシリカゲルにトリメチルクロロシランのヘキサン溶液（濃度５体積％）を加え30時間撹拌し、酸化ケイ素末端を有機修飾した。得られた有機修飾シリカゲルをヘキサン洗浄後１質量％に調製し、超音波処理（20 kHz、500 W、５分間）を行い、有機修飾シリカゾルを得た。
(2)層形成
合成石英(nd=1.46)の平板基板上に、基板側から順に光学膜厚8.3 nmのZrO2（nd=2.05）からなる第１層、光学膜厚56.7 nmのMgF2（nd=1.39）からなる第２層、光学膜厚23.7 nmのZrO2（nd=2.05）からなる第３層、光学膜厚57.5 nmのMgF2（nd=1.39）からなる第４層、光学膜厚33.6 nmのZrO2（nd=2.05）からなる第５層、光学膜厚57.2 nmのMgF2（nd=1.39）からなる第６層、光学膜厚25.7 nmのZrO2（nd=2.05）からなる第７層、光学膜厚124.8 nmのMgF2（nd=1.39）からなる第８層を真空蒸着法により形成した。蒸着後の基板に、前述の有機修飾シリカゾルをディップコートし、室温で乾燥させたところ、ゲルの収縮及びスプリングバックが起こり空隙率45％の多孔質が形成した。これを300℃で２時間焼成することにより、光学膜厚101.7 nmの疎水性シリカエアロゲル(nd=1.15)からなる第９層を形成し、本発明の反射防止膜を得た。得られた反射防止膜の層構成及び光学膜厚を表2-1に示し、その５°入射分光反射特性を図3-1に示す。
合成石英(nd=1.46)の平板基板上に、基板側から順に光学膜厚8.3 nmのZrO2（nd=2.05）からなる第１層、光学膜厚56.7 nmのMgF2（nd=1.39）からなる第２層、光学膜厚23.7 nmのZrO2（nd=2.05）からなる第３層、光学膜厚57.5 nmのMgF2（nd=1.39）からなる第４層、光学膜厚33.6 nmのZrO2（nd=2.05）からなる第５層、光学膜厚57.2 nmのMgF2（nd=1.39）からなる第６層、光学膜厚25.7 nmのZrO2（nd=2.05）からなる第７層、光学膜厚124.8 nmのMgF2（nd=1.39）からなる第８層を真空蒸着法により形成した。蒸着後の基板に、前述の有機修飾シリカゾルをディップコートし、室温で乾燥させたところ、ゲルの収縮及びスプリングバックが起こり空隙率45％の多孔質が形成した。これを300℃で２時間焼成することにより、光学膜厚101.7 nmの疎水性シリカエアロゲル(nd=1.15)からなる第９層を形成し、本発明の反射防止膜を得た。得られた反射防止膜の層構成及び光学膜厚を表2-1に示し、その５°入射分光反射特性を図3-1に示す。
図3-1に示す分光反射特性から、本発明の反射防止膜は、紫外〜可視波長帯である270〜710 nmの広い波長帯域において、反射率を0.1％以下に低減できることが分かった。
実施例２
S-LAL7(nd=1.65)の平板基板上に、表2-2に示すように基板側から順に光学膜厚27.8 nmのNb2O5(nd=2.35)からなる第１層、光学膜厚60.9 nmのSiO2(nd=1.485)からなる第２層、光学膜厚77.8 nmのNb2O5(nd=2.35)からなる第３層、光学膜厚37.2 nmのSiO2(nd=1.485)からなる第４層、光学膜厚126.1 nmのNb2O5(nd=2.35)からなる第５層、光学膜厚39.6 nmのSiO2(nd=1.485)からなる第６層、光学膜厚66.2 nmのNb2O5(nd=2.35)からなる第７層、光学膜厚159.7 nmのSiO2(nd=1.485)からなる第８層を高周波スパッタ法で形成した。高周波スパッタ法による層の形成は、成膜材料としていずれも3N純度のNbターゲットとSiターゲットを用いて、昭和真空製高周波マグネトロンスパッタ装置(SPH-306C)で、初期真空度：10-3Pa、Arガス供給量：200sccm、O2ガス供給量：100 sccm、出力：2.5 KW(Nb2O5)又は3.0 KW(SiO2)、成膜速度：12 nm/min(Nb2O5)又は11nm/min(SiO2)の条件で行った。スパッタ後の基板に、焼成条件を150℃で２時間に変更した以外は実施例１と同様にして、光学膜厚142.5 nmの疎水性シリカエアロゲル(nd=1.10)からなる第９層を形成し、本発明の反射防止膜を得た。得られた反射防止膜の層構成及び光学膜厚を表2-2に示し、その５°入射分光反射特性を図3-2に示す。
S-LAL7(nd=1.65)の平板基板上に、表2-2に示すように基板側から順に光学膜厚27.8 nmのNb2O5(nd=2.35)からなる第１層、光学膜厚60.9 nmのSiO2(nd=1.485)からなる第２層、光学膜厚77.8 nmのNb2O5(nd=2.35)からなる第３層、光学膜厚37.2 nmのSiO2(nd=1.485)からなる第４層、光学膜厚126.1 nmのNb2O5(nd=2.35)からなる第５層、光学膜厚39.6 nmのSiO2(nd=1.485)からなる第６層、光学膜厚66.2 nmのNb2O5(nd=2.35)からなる第７層、光学膜厚159.7 nmのSiO2(nd=1.485)からなる第８層を高周波スパッタ法で形成した。高周波スパッタ法による層の形成は、成膜材料としていずれも3N純度のNbターゲットとSiターゲットを用いて、昭和真空製高周波マグネトロンスパッタ装置(SPH-306C)で、初期真空度：10-3Pa、Arガス供給量：200sccm、O2ガス供給量：100 sccm、出力：2.5 KW(Nb2O5)又は3.0 KW(SiO2)、成膜速度：12 nm/min(Nb2O5)又は11nm/min(SiO2)の条件で行った。スパッタ後の基板に、焼成条件を150℃で２時間に変更した以外は実施例１と同様にして、光学膜厚142.5 nmの疎水性シリカエアロゲル(nd=1.10)からなる第９層を形成し、本発明の反射防止膜を得た。得られた反射防止膜の層構成及び光学膜厚を表2-2に示し、その５°入射分光反射特性を図3-2に示す。
図3-2に示す分光反射特性から、本発明の反射防止膜は、可視〜近赤外波長帯である400〜910 nmの広い波長帯域において、反射率を0.1％以下に低減できることが分かった。
実施例３
S-LAH58（nd=1.88)の平板基板上に、表2-3に示すように基板側から順に光学膜厚44.1 nmのTa2O5(nd=2.25)からなる第１層、光学膜厚31.9 nmのAl2O3(nd=1.66)からなる第２層、光学膜厚88.9 nmのTa2O5(nd=2.25)からなる第３層、光学膜厚6.1 nmのAl2O3(nd=1.66)からなる第４層、光学膜厚107.5 nmのTa2O5(nd=2.25)からなる第５層、光学膜厚14.8 nmのAl2O3(nd=1.66)からなる第６層、光学膜厚75.1 nmのTa2O5(nd=2.25)からなる第７層、光学膜厚143.7 nmのAl2O3(nd=1.66)からなる第８層をイオンプレーティング法で形成した。イオンプレーティング法による層の形成は、バルザース社製イオンプレーティンッグ装置(BAP800)を用いて、成膜材料［キャノンオプトロン社製OA100(Ta2O5層用)又はキャノンオプトロン社製Si(SiO2層用)］を真空中で溶融し、加速電圧10kVで行った。初期真空度10-3PaでプラズマガンへArガス供給して圧力を300 Paとし、真空チェンバー内に酸素ガスを導入して圧力を0.1 Paに設定し、アーク電圧65 V、アーク電流40 Aに設定したプラズマガンにより成膜した。成膜速度はTa2O5層が30 nm/minで、SiO2層が48 nm/minであった。イオンプレーティング後の基板に、焼成条件を450℃で２時間に変更した以外は実施例１と同様にして、光学膜厚138.2 nmの疎水性シリカエアロゲル(nd=1.20)からなる第９層を形成し、本発明の反射防止膜を得た。得られた反射防止膜の層構成及び光学膜厚を表2-3に示し、その５°入射分光反射特性を図3-3に示す。
S-LAH58（nd=1.88)の平板基板上に、表2-3に示すように基板側から順に光学膜厚44.1 nmのTa2O5(nd=2.25)からなる第１層、光学膜厚31.9 nmのAl2O3(nd=1.66)からなる第２層、光学膜厚88.9 nmのTa2O5(nd=2.25)からなる第３層、光学膜厚6.1 nmのAl2O3(nd=1.66)からなる第４層、光学膜厚107.5 nmのTa2O5(nd=2.25)からなる第５層、光学膜厚14.8 nmのAl2O3(nd=1.66)からなる第６層、光学膜厚75.1 nmのTa2O5(nd=2.25)からなる第７層、光学膜厚143.7 nmのAl2O3(nd=1.66)からなる第８層をイオンプレーティング法で形成した。イオンプレーティング法による層の形成は、バルザース社製イオンプレーティンッグ装置(BAP800)を用いて、成膜材料［キャノンオプトロン社製OA100(Ta2O5層用)又はキャノンオプトロン社製Si(SiO2層用)］を真空中で溶融し、加速電圧10kVで行った。初期真空度10-3PaでプラズマガンへArガス供給して圧力を300 Paとし、真空チェンバー内に酸素ガスを導入して圧力を0.1 Paに設定し、アーク電圧65 V、アーク電流40 Aに設定したプラズマガンにより成膜した。成膜速度はTa2O5層が30 nm/minで、SiO2層が48 nm/minであった。イオンプレーティング後の基板に、焼成条件を450℃で２時間に変更した以外は実施例１と同様にして、光学膜厚138.2 nmの疎水性シリカエアロゲル(nd=1.20)からなる第９層を形成し、本発明の反射防止膜を得た。得られた反射防止膜の層構成及び光学膜厚を表2-3に示し、その５°入射分光反射特性を図3-3に示す。
図3-3に示す分光反射特性から、本発明の反射防止膜は、可視〜近赤外波長帯である400〜900 nmの広い波長帯域において、反射率を0.1％以下に低減できることが分かった。
比較例１
特開2002-107506号公報（特許文献３）を参考に、合成石英(nd=1.46)の板状基板上にAl2O3(nd=1.62)、MgF2(nd=1.38)、SiO2(nd=1.46)及びZrO2+TiO2(nd=2.11)の材料を使用して真空蒸着法により10層膜を形成した。層構成及び光学膜厚を表3-1に示す。その５°入射分光反射特性を図4-1示す。
特開2002-107506号公報（特許文献３）を参考に、合成石英(nd=1.46)の板状基板上にAl2O3(nd=1.62)、MgF2(nd=1.38)、SiO2(nd=1.46)及びZrO2+TiO2(nd=2.11)の材料を使用して真空蒸着法により10層膜を形成した。層構成及び光学膜厚を表3-1に示す。その５°入射分光反射特性を図4-1示す。
図4-1に示す分光反射特性から、比較例１の反射防止膜は、可視波長帯である400〜700 nmの波長帯域でしか反射防止効果が得られず、反射率も波長によっては0.1％を超えていることが分かる。
比較例２
特開2002-107506号公報（特許文献３）を参考に、S-LAH58(nd=1.88)の板状基板を用いて、光学膜厚を表3-2に示す様に変更した以外は比較例２と同様にして10層膜を形成した。その５°入射分光反射特性を図4-2示す。
特開2002-107506号公報（特許文献３）を参考に、S-LAH58(nd=1.88)の板状基板を用いて、光学膜厚を表3-2に示す様に変更した以外は比較例２と同様にして10層膜を形成した。その５°入射分光反射特性を図4-2示す。
図4-2に示す分光反射特性から、比較例２の反射防止膜は、可視波長帯である400〜700 nmの波長帯域でしか反射防止効果が得られず、反射率も波長によっては0.1％を超えていることが分かる。
図3-1〜3-3（本発明の実施例）と図4-1及び4-2（比較例）とを比べれば明らかなように、特開2002-107506号公報に示される10層反射防止膜（比較例）は400〜700 nmの可視波長帯域でしか反射防止効果が得られず、その反射率も波長によっては0.1％を超えているのに対し、本発明の反射防止膜は層数が９層と少ないにもかかわらず、紫外〜可視波長帯又は可視〜近赤外波長帯域の、非常に広い波長範囲で反射防止効果が非常に高い（0.1％以下の反射率）ことがわかる。
１ 反射防止膜
101 第１層
102 第２層
103 第３層
104 第４層
105 第５層
106 第６層
107 第７層
108 第８層
109 第９層
３ 基板
501 塗布液
502 超音波素子
503 霧化チャンバ
504 加熱板
505 基材
506 導管
507 塗布チャンバ
508 塗布液供給管
509 ミスト
510 キャリアガス
511 キャリアガス供給管
512 排気孔
101 第１層
102 第２層
103 第３層
104 第４層
105 第５層
106 第６層
107 第７層
108 第８層
109 第９層
３ 基板
501 塗布液
502 超音波素子
503 霧化チャンバ
504 加熱板
505 基材
506 導管
507 塗布チャンバ
508 塗布液供給管
509 ミスト
510 キャリアガス
511 キャリアガス供給管
512 排気孔
Claims (6)
- 基板上に、前記基板側から順に第１層〜第９層を積層してなる反射防止膜であって、波長λnmにおいて、
前記第１層の屈折率が1.85〜2.45、光学膜厚が0.01λ〜0.15λ nmであり、
前記第２層の屈折率が1.35〜1.75、光学膜厚が0.003λ〜0.2λ nmであり、
前記第３層の屈折率が1.85〜2.45、光学膜厚が0.03λ〜0.32λ nmであり、
前記第４層の屈折率が1.35〜1.75、光学膜厚が0.003λ〜0.15λ nmであり、
前記第５層の屈折率が1.85〜2.45、光学膜厚が0.05λ〜0.25λ nmであり、
前記第６層の屈折率が1.35〜1.75、光学膜厚が0.01λ〜0.15λ nmであり、
前記第７層の屈折率が1.85〜2.45、光学膜厚が0.03λ〜0.15λ nmであり、
前記第８層の屈折率が1.35〜1.75、光学膜厚が0.18λ〜0.3λ nmであり、
前記第９層の屈折率が1.05〜1.3、光学膜厚が0.15λ〜0.25λ nmである
ことを特徴とする反射防止膜。 - 請求項１に記載の反射防止膜において、前記屈折率1.85〜2.45の層がTa2O5、TiO2、Nb2O5、ZrO2、HfO2、CeO2、SnO2、In2O3、ZnO、Y2O3、ZnS及びLa2O3からなる群から選ばれた少なくとも１種の材料からなる層であり、前記屈折率1.35〜1.75の層がMgF2、SiO2、Al2O3、MgO、CeF3、YF3、DyF3、AlF3及びフッ素樹脂からなる群から選ばれた少なくとも１種の材料からなる層であり、前記屈折率1.05〜1.3の層がMgF2、SiO2、Al2O3及びフッ素樹脂からなる群から選ばれた少なくとも１種の材料からなる多孔質層であることを特徴とする反射防止膜。
- 請求項１又は２に記載の反射防止膜において、波長帯域0.615λ〜1.385λ nmにおける反射率が0.1％以下の反射防止効果を有することを特徴とする反射防止膜。
- 請求項１〜３のいずれかに記載の反射防止膜において、前記波長λは650 nmであることを特徴とする反射防止膜。
- 請求項１〜４のいずれかに記載の反射防止膜を有することを特徴とする光学部品。
- 請求項５に記載の光学部品であって、前記基板の波長λnmにおける屈折率が1.4〜2.2であることを特徴とする光学部品。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2007065318A JP4854552B2 (ja) | 2007-03-14 | 2007-03-14 | 反射防止膜及びこれを有する光学部品 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2007065318A JP4854552B2 (ja) | 2007-03-14 | 2007-03-14 | 反射防止膜及びこれを有する光学部品 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2008225210A true JP2008225210A (ja) | 2008-09-25 |
| JP4854552B2 JP4854552B2 (ja) | 2012-01-18 |
Family
ID=39843891
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2007065318A Active JP4854552B2 (ja) | 2007-03-14 | 2007-03-14 | 反射防止膜及びこれを有する光学部品 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4854552B2 (ja) |
Cited By (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010060587A (ja) * | 2008-09-01 | 2010-03-18 | Sony Corp | 偏光素子及びその製造方法 |
| JP2010250069A (ja) * | 2009-04-15 | 2010-11-04 | Hoya Corp | 反射防止膜、及びこれを有する光学素子 |
| CN102111971A (zh) * | 2009-12-29 | 2011-06-29 | 深圳富泰宏精密工业有限公司 | 电子装置壳体 |
| JP2011257677A (ja) * | 2010-06-11 | 2011-12-22 | Konica Minolta Opto Inc | 光学素子とその製造方法 |
| JP2012522259A (ja) * | 2009-03-27 | 2012-09-20 | エシロール アテルナジオナール カンパニー ジェネラーレ デ オプティック | 酸化スズに基づく導電膜を有する反射防止または反射コーティングを塗膜した光学物品、および製造方法 |
| US20120251747A1 (en) * | 2011-04-01 | 2012-10-04 | Hon Hai Precision Industry Co., Ltd. | Housing and method for manufacturing the same |
| JP2015014631A (ja) * | 2013-07-03 | 2015-01-22 | キヤノン株式会社 | 反射防止膜及びそれを有する光学素子 |
| CN104730608A (zh) * | 2015-02-12 | 2015-06-24 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 一种远紫外宽带反射滤光片 |
| TWI491514B (zh) * | 2010-02-08 | 2015-07-11 | Fih Hong Kong Ltd | 電子裝置殼體 |
| JP2017068096A (ja) * | 2015-09-30 | 2017-04-06 | 株式会社トプコン | 反射防止膜、光学素子、及び眼科装置 |
| CN108312655A (zh) * | 2017-01-16 | 2018-07-24 | 旭硝子株式会社 | 带减反射膜的透明基体 |
| JP2019003215A (ja) * | 2018-09-27 | 2019-01-10 | 株式会社トプコン | 反射防止膜、光学素子、及び眼科装置 |
| CN109683214A (zh) * | 2017-10-19 | 2019-04-26 | 深圳市三鑫精美特玻璃有限公司 | 应用于可见光和近红外光波段的双面镀膜玻璃及生产工艺 |
| WO2020032884A3 (en) * | 2018-05-14 | 2020-05-07 | Aselsan Elektroni̇k Sanayi̇ Ve Ti̇caret Anoni̇m Şi̇rketi̇ | An adhesive for middle far infra-red optical elements and beam splitter prism set where an adhesive is used |
| JP2020140173A (ja) * | 2019-03-01 | 2020-09-03 | クアーズテック株式会社 | 反射防止膜付きシリカ焼結体及びその製造方法 |
| JP2021113936A (ja) * | 2020-01-21 | 2021-08-05 | デクセリアルズ株式会社 | 偏光板、光学機器及び偏光板の製造方法 |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02126201A (ja) * | 1988-11-05 | 1990-05-15 | Sokkisha Co Ltd | 広帯域反射防止膜 |
| JP2002267801A (ja) * | 2001-03-12 | 2002-09-18 | Canon Inc | 反射防止膜及びそれを用いた光学部材 |
| JP2003248103A (ja) * | 2002-02-26 | 2003-09-05 | Olympus Optical Co Ltd | 反射防止膜と光学レンズおよび光学レンズユニット |
| JP2004046079A (ja) * | 2002-05-22 | 2004-02-12 | Canon Inc | 反射防止膜、該反射防止膜を有する光学素子及び光学系 |
| JP2006215542A (ja) * | 2005-01-07 | 2006-08-17 | Pentax Corp | 反射防止膜及びこれを有する撮像系光学素子 |
| JP2007094150A (ja) * | 2005-09-29 | 2007-04-12 | Pentax Corp | 反射防止膜及びこれを有する光学部品 |
-
2007
- 2007-03-14 JP JP2007065318A patent/JP4854552B2/ja active Active
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02126201A (ja) * | 1988-11-05 | 1990-05-15 | Sokkisha Co Ltd | 広帯域反射防止膜 |
| JP2002267801A (ja) * | 2001-03-12 | 2002-09-18 | Canon Inc | 反射防止膜及びそれを用いた光学部材 |
| JP2003248103A (ja) * | 2002-02-26 | 2003-09-05 | Olympus Optical Co Ltd | 反射防止膜と光学レンズおよび光学レンズユニット |
| JP2004046079A (ja) * | 2002-05-22 | 2004-02-12 | Canon Inc | 反射防止膜、該反射防止膜を有する光学素子及び光学系 |
| JP2006215542A (ja) * | 2005-01-07 | 2006-08-17 | Pentax Corp | 反射防止膜及びこれを有する撮像系光学素子 |
| JP2007094150A (ja) * | 2005-09-29 | 2007-04-12 | Pentax Corp | 反射防止膜及びこれを有する光学部品 |
Cited By (26)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010060587A (ja) * | 2008-09-01 | 2010-03-18 | Sony Corp | 偏光素子及びその製造方法 |
| JP2016028279A (ja) * | 2009-03-27 | 2016-02-25 | エシロール アテルナジオナール カンパニー ジェネラーレ デ オプティックＥｓｓｉｌｏｒ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｃｏｍｐａｇｎｉｅ Ｇｅｎｅｒａｌｅ Ｄ’ Ｏｐｔｉｑｕｅ | 酸化スズに基づく導電膜を有する反射防止または反射コーティングを塗膜した光学物品、および製造方法 |
| JP2012522259A (ja) * | 2009-03-27 | 2012-09-20 | エシロール アテルナジオナール カンパニー ジェネラーレ デ オプティック | 酸化スズに基づく導電膜を有する反射防止または反射コーティングを塗膜した光学物品、および製造方法 |
| JP2020034924A (ja) * | 2009-03-27 | 2020-03-05 | エシロール アンテルナシオナル （コンパニー ジェネラル ドプティック） | 酸化スズに基づく導電膜を有する反射防止または反射コーティングを塗膜した光学物品、および製造方法 |
| JP2017215591A (ja) * | 2009-03-27 | 2017-12-07 | エシロール アテルナジオナール カンパニー ジェネラーレ デ オプティックＥｓｓｉｌｏｒ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｃｏｍｐａｇｎｉｅ Ｇｅｎｅｒａｌｅ Ｄ’ Ｏｐｔｉｑｕｅ | 酸化スズに基づく導電膜を有する反射防止または反射コーティングを塗膜した光学物品、および製造方法 |
| JP2010250069A (ja) * | 2009-04-15 | 2010-11-04 | Hoya Corp | 反射防止膜、及びこれを有する光学素子 |
| CN102111971A (zh) * | 2009-12-29 | 2011-06-29 | 深圳富泰宏精密工业有限公司 | 电子装置壳体 |
| US8076011B2 (en) * | 2009-12-29 | 2011-12-13 | Shenzhen Futaihong Precision Industry Co., Ltd. | Electronic device housing |
| USRE44799E1 (en) * | 2009-12-29 | 2014-03-11 | Shenzhen Futaihong Precision Industry Co., Ltd. | Electronic device housing |
| TWI491514B (zh) * | 2010-02-08 | 2015-07-11 | Fih Hong Kong Ltd | 電子裝置殼體 |
| JP2011257677A (ja) * | 2010-06-11 | 2011-12-22 | Konica Minolta Opto Inc | 光学素子とその製造方法 |
| US20120251747A1 (en) * | 2011-04-01 | 2012-10-04 | Hon Hai Precision Industry Co., Ltd. | Housing and method for manufacturing the same |
| US9709705B2 (en) | 2013-07-03 | 2017-07-18 | Canon Kabushiki Kaisha | Anti-reflection film and optical element having the same |
| JP2015014631A (ja) * | 2013-07-03 | 2015-01-22 | キヤノン株式会社 | 反射防止膜及びそれを有する光学素子 |
| CN104730608A (zh) * | 2015-02-12 | 2015-06-24 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 一种远紫外宽带反射滤光片 |
| JP2017068096A (ja) * | 2015-09-30 | 2017-04-06 | 株式会社トプコン | 反射防止膜、光学素子、及び眼科装置 |
| US10345489B2 (en) | 2015-09-30 | 2019-07-09 | Topcon Corporation | Antireflection film, optical element and ophthalmology apparatus |
| CN108312655A (zh) * | 2017-01-16 | 2018-07-24 | 旭硝子株式会社 | 带减反射膜的透明基体 |
| CN114734690A (zh) * | 2017-01-16 | 2022-07-12 | Ａｇｃ株式会社 | 带减反射膜的透明基体 |
| CN114734690B (zh) * | 2017-01-16 | 2023-06-09 | Ａｇｃ株式会社 | 带减反射膜的透明基体 |
| CN109683214A (zh) * | 2017-10-19 | 2019-04-26 | 深圳市三鑫精美特玻璃有限公司 | 应用于可见光和近红外光波段的双面镀膜玻璃及生产工艺 |
| WO2020032884A3 (en) * | 2018-05-14 | 2020-05-07 | Aselsan Elektroni̇k Sanayi̇ Ve Ti̇caret Anoni̇m Şi̇rketi̇ | An adhesive for middle far infra-red optical elements and beam splitter prism set where an adhesive is used |
| JP2019003215A (ja) * | 2018-09-27 | 2019-01-10 | 株式会社トプコン | 反射防止膜、光学素子、及び眼科装置 |
| JP2020140173A (ja) * | 2019-03-01 | 2020-09-03 | クアーズテック株式会社 | 反射防止膜付きシリカ焼結体及びその製造方法 |
| JP2021113936A (ja) * | 2020-01-21 | 2021-08-05 | デクセリアルズ株式会社 | 偏光板、光学機器及び偏光板の製造方法 |
| US11782200B2 (en) | 2020-01-21 | 2023-10-10 | Dexerials Corporation | Polarizing plate having specified water contact angle of antireflection layer surface |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4854552B2 (ja) | 2012-01-18 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4854552B2 (ja) | 反射防止膜及びこれを有する光学部品 | |
| JP4822786B2 (ja) | 反射防止膜及びこれを有する光学部品 | |
| JP5588135B2 (ja) | 光学物品の製造方法 | |
| JP3808917B2 (ja) | 薄膜の製造方法及び薄膜 | |
| JP2008180795A (ja) | 光学物品およびその製造方法 | |
| JP2000009928A (ja) | 光学多層膜フィルタ | |
| JP5614214B2 (ja) | 反射防止膜及び反射防止膜を有する光学部材 | |
| JP5072395B2 (ja) | 反射防止膜及びこれを有する光学部品 | |
| JP2015094885A (ja) | 光学素子、光学系および光学機器 | |
| JP2008015234A (ja) | 光学多層膜、光学素子、バンドパスフィルタ、光学多層膜製造方法および光学素子製造方法 | |
| JP4623349B2 (ja) | 薄膜型ｎｄフィルタおよびその製造方法 | |
| JP2006267372A (ja) | プラスチック製光学部品、およびこれを用いた光学ユニット | |
| CN103407232A (zh) | 离线减反射镀膜玻璃及其制造方法 | |
| JP2007063574A (ja) | 多層膜の成膜方法および成膜装置 | |
| JP5883505B2 (ja) | 光学素子 | |
| WO2021024834A1 (ja) | 反射防止膜付き光学部材及びその製造方法 | |
| JP5549342B2 (ja) | 反射防止膜、及びこれを有する光学部材 | |
| JP7162867B2 (ja) | Ｎｄフィルタ及びその製造方法 | |
| US20200041694A1 (en) | Thin film forming method and porous thin film | |
| JP7098129B2 (ja) | 反射防止膜及びこれを有する光学素子 | |
| Volpian et al. | Nanogradient optical coatings | |
| JP2004255635A (ja) | 透明積層フィルム、反射防止フィルム及びそれを用いた偏光板、液晶表示装置 | |
| JPH10268107A (ja) | 反射防止膜付合成樹脂レンズ | |
| JP2019066600A (ja) | プラスチックレンズ及びその製造方法 | |
| JP2004163869A (ja) | 赤外カットフィルタ及び光学製品 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20091214 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110825 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110928 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20111025 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141104 Year of fee payment: 3 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4854552 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141104 Year of fee payment: 3 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |