JP2015094885A - 光学素子、光学系および光学機器 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】d線に対して透明な基板11と、基板に形成された反射防止膜100と、を有し、反射防止膜は、複数の薄膜層1〜10を含み、基板から最も離れたd線に対する屈折率ndが1.20〜1.30である最表層と、基板と最表層の間の、d線に対する屈折率が2.00〜2.40の高屈折率層と、d線に対する屈折率が1.55〜1.70の中屈折率層およびd線に対する屈折率が1.40〜1.52の低屈折率層の少なくとも一方と、を含む。基板から前記最表層に隣接する薄膜層までを下地層とし、該下地層のd線に対する屈折率および膜厚から求まる光学アドミタンスをY(θ、λ)とすると、0°〜60°の入射角度θおよび波長420nm〜680nmの波長λに対し、nd−0.1≦√Y(θ、λ)≦ndなる条件を満たす。
【選択図】図1
Description
任意の入射角度θ、各波長λで数式(1)なる条件を満たすことにより、広い入射角度範囲で低反射な反射防止膜を実現することができる。
S偏光:ηis=ni/cosθi ・・・(5)
自然光は無偏光光とみなしてよく、斜入射での光学アドミタンスYはP偏光、S偏光の平均値として扱えばよい。但し、射入射では入射角度による光学アドミタンスηip、ηisの変化が異なり、特に、S偏光ではブリュースター角の寄与がなく、入射角度の増大に従って光学アドミタンスが一様に増大する。このため、一般に垂直入射と斜入射、特に高入射角度における反射を同時に抑制することが難しくなる。
Claims (18)
- d線に対して透明な基板と、該基板に形成された反射防止膜と、を有し、
前記反射防止膜は、複数の薄膜層を備え、
前記複数の薄膜層は、前記基板から最も離れたd線に対する屈折率ndが1.20〜1.30である最表層と、前記基板と前記最表層との間の、d線に対する屈折率が2.00〜2.40である高屈折率層と、d線に対する屈折率が1.55〜1.70の中屈折率層およびd線に対する屈折率が1.40〜1.52の低屈折率層の少なくとも一方と、を含み、
前記基板から前記最表層に隣接する薄膜層までを下地層とし、該下地層のd線に対する屈折率および膜厚から求まる光学アドミタンスをY(θ、λ)とすると、0°〜60°の入射角度θおよび420nm〜680nmの波長λに対し、
nd−0.1≦√Y(θ、λ)≦nd
なる条件を満たすことを特徴とする光学素子。 - 前記反射防止膜は、9層以上の薄膜層を備えることを特徴とする請求項1に記載の光学素子。
- 前記最表層はシリカを主成分とし、平均粒径が80nm以下の中空微粒子を有する層であることを特徴とする請求項1または2に記載の光学素子。
- 前記高屈折率層は、チタン、タンタル、ジルコニア、クロム、ニオブ、セリウム、ハフニウム、イットリウムの酸化物の単体または混合物からなることを特徴とする請求項1乃至3のうちいずれか1項に記載の光学素子。
- 前記中屈折率層は、酸化アルミナの単体またはそれを含む混合物からなることを特徴とする請求項1乃至4のうちいずれか1項に記載の光学素子。
- 前記最表層は、シリコン酸化物の単体またはそれを含む混合物からなることを特徴とする請求項1乃至5のうちいずれか1項に記載の光学素子。
- 前記複数の薄膜層のうち、前記基板に最も近い層はAl2O3の単体またはそれを含む化合物からなることを特徴とする請求項1乃至6のうちいずれか1項に記載の光学素子。
- 前記最表層はゾルゲル法で作製され、前記複数の薄膜層のうち最表層以外は真空蒸着法またはスパッタリング法により作製されることを特徴とする請求項1乃至7のうちいずれか1項に記載の光学素子。
- 前記基板のd線に対する屈折率は1.50〜2.00であることを特徴とする請求項1乃至8のうちいずれか1項に記載の光学素子。
- 前記最表層の厚さは、110.00nm〜135.00nmであることを特徴とする請求項1乃至9のうちいずれか1項に記載の光学素子。
- 前記最表層を除く前記複数の薄膜層は、前記基板から前記最表層にむかって順に、前記中屈折率層と前記高屈折率層とのペアを一つ以上含み、最も前記最表層に近い前記高屈折率層と前記最表層の間には屈折率が屈折率が1.40〜1.52の低屈折率層が設けられていることを特徴とする請求項1に記載の光学素子。
- 前記低屈折率層は、シリコン酸化物の単体またはそれを含む混合物からなることを特徴とする請求項11に記載の光学素子。
- 複数の前記ペアが設けられ、複数の高屈折率層の一つは上下の中屈折率層のいずれよりも厚いことを特徴とする請求項11に記載の光学素子。
- 前記複数の高屈折率層の一つは、前記最表層よりも厚いことを特徴とする請求項11乃至13のうちいずれか1項に記載の光学素子。
- 前記最表層は、前記複数の薄膜層の中で最も厚いことを特徴とする請求項11に記載の光学素子。
- 前記最表層を除く前記複数の薄膜層は、前記基板から前記最表層にむかって順に、前記中屈折率層と前記高屈折率層とのペアを一つ以上含み、最も前記最表層に近い前記高屈折率層が前記最表層に接触していることを特徴とする請求項1に記載の光学素子。
- 請求項1乃至16のうちいずれか1項に記載の光学素子を有する光学系。
- 請求項1乃至16のうちいずれか1項に記載の光学素子を有する光学機器。
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