JP2015094885A5 - - Google Patents
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Description
本発明の光学素子は、ｄ線に対して透明な基板と、該基板に形成された反射防止膜と、を有し、前記反射防止膜は、複数の薄膜層を備え、前記複数の薄膜層のうち、前記基板から最も離れた最表層のｄ線に対する屈折率ｎｄは１．２０〜１．３０であり、前記基板から前記最表層に隣接する薄膜層までを下地層とし、該下地層のｄ線に対する光学アドミタンスをＹ（θ、λ）とするとき、０°〜６０°の入射角θおよび４２０ｎｍ〜６８０ｎｍの波長λに対してｎｄ−０．１≦√Ｙ（θ、λ）≦ｎｄなる条件を満たすことを特徴とする。
Claims (18)
- ｄ線に対して透明な基板と、該基板に形成された反射防止膜と、を有し、
前記反射防止膜は、複数の薄膜層を備え、
前記複数の薄膜層のうち、前記基板から最も離れた最表層のｄ線に対する屈折率ｎｄは１．２０〜１．３０であり、
前記基板から前記最表層に隣接する薄膜層までを下地層とし、該下地層のｄ線に対する光学アドミタンスをＹ（θ、λ）とするとき、０°〜６０°の入射角θおよび４２０ｎｍ〜６８０ｎｍの波長λに対して
ｎｄ−０．１≦√Ｙ（θ、λ）≦ｎｄ
なる条件を満たすことを特徴とする光学素子。 - 前記反射防止膜は、９層以上の薄膜層を備えることを特徴とする請求項１に記載の光学素子。
- 前記最表層はシリカを主成分とし、平均粒径が８０ｎｍ以下の中空微粒子を有する層であることを特徴とする請求項１または２に記載の光学素子。
- 前記複数の薄膜層は、ｄ線に対する屈折率が２．００〜２．４０である高屈折率層を含むことを特徴とする請求項１乃至３のうちいずれか１項に記載の光学素子。
- 前記高屈折率層は、チタン、タンタル、ジルコニア、クロム、ニオブ、セリウム、ハフニウム、イットリウムの酸化物の単体または混合物からなることを特徴とする請求項４に記載の光学素子。
- 前記複数の薄膜層は、ｄ線に対する屈折率が１．５５〜１．７０である中屈折率層およびｄ線に対する屈折率が１．４０〜１．５２である低屈折率層の少なくとも一方を含むことを特徴とする請求項１乃至５のうちいずれか１項に記載の光学素子。
- 前記中屈折率層は、酸化アルミナの単体またはそれを含む混合物からなることを特徴とする請求項６に記載の光学素子。
- 前記低屈折率層は、シリコン酸化物の単体またはそれを含む混合物からなることを特徴とする請求項６または７に記載の光学素子。
- 前記最表層は、シリコン酸化物の単体またはそれを含む混合物からなることを特徴とする請求項１乃至８のうちいずれか１項に記載の光学素子。
- 前記複数の薄膜層のうち前記基板に最も近い層は、Ａｌ２Ｏ３の単体またはそれを含む化合物からなることを特徴とする請求項１乃至９のうちいずれか１項に記載の光学素子。
- 前記基板のｄ線に対する屈折率は、１．５０〜２.００であることを特徴とする請求項１乃至１０のうちいずれか１項に記載の光学素子。
- 前記最表層の厚さは、１１０．００ｎｍ〜１３５．００ｎｍであることを特徴とする請求項１乃至１１のうちいずれか１項に記載の光学素子。
- 前記複数の薄膜層は、前記基板の側から順に配置されるｄ線に対する屈折率が１．５５〜１．７０である中屈折率層とｄ線に対する屈折率が２．００〜２．４０である高屈折率層とのペアを一つ以上含み、かつ最も前記最表層に近い前記高屈折率層と前記最表層の間に配置される屈折率が１．４０〜１．５２である低屈折率層を含むことを特徴とする請求項１乃至１２のうちいずれか１項に記載の光学素子。
- 前記複数の薄膜層は、前記ペアを複数含み、かつ隣接する２つの前記中屈折率層のいずれよりも厚い前記高屈折率層を含むことを特徴とする請求項１３に記載の光学素子。
- 前記複数の薄膜層は、前記最表層よりも厚い前記高屈折率層を含むことを特徴とする請求項１３または１４に記載の光学素子。
- 前記最表層は、前記複数の薄膜層の中で最も厚いことを特徴とする請求項１乃至１５のうちいずれか１項に記載の光学素子。
- 請求項１乃至１６のうちいずれか１項に記載の光学素子を有する光学系。
- 請求項１７に記載の光学系を有する光学機器。
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