JP2008159863A - 半導体装置及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】チャネル長方向においてNMOS領域105と隣接する素子分離領域102に空洞領域103が配置されている。チャネル幅方向においてNMOS領域105と隣接する素子分離領域104には空洞領域は配置されていない。
【選択図】図1
Description
以下、本発明の第1の実施形態に係る半導体装置及びその製造方法について、半導体装置の一例としてCMOSFETを対象として、図面を参照しながら説明する。尚、本実施形態においては、NMOSFET及びPMOSFETのいずれについても、ゲート長方向(チャネル長方向)を<100>の面方位(<100>の面方位からのずれの許容範囲は±10°程度)に設定しているものとする。
以下、本発明の第1の実施形態の第1変形例に係る半導体装置の製造方法について説明する。図5(a)及び(b)は本変形例に係る半導体装置の製造方法の一工程における断面状態を示している。尚、図5(a)は図1に示すA−A’線の断面状態を示しており、図5(b)は図1に示すB−B’線の断面状態を示している。
以下、本発明の第1の実施形態の第2変形例に係る半導体装置の製造方法について説明する。
以下、本発明の第2の実施形態に係る半導体装置及びその製造方法について、半導体装置の一例としてCMOSFETを対象として、図面を参照しながら説明する。尚、本実施形態においては、NMOSFET及びPMOSFETのいずれについても、ゲート長方向(チャネル長方向)を<100>の面方位(<100>の面方位からのずれの許容範囲は±10°程度)に設定しているものとする。
以下、本発明の第3の実施形態に係る半導体装置及びその製造方法について、半導体装置の一例としてCMOSFETを対象として、図面を参照しながら説明する。尚、本実施形態においては、NMOSFET及びPMOSFETのいずれについても、ゲート長方向(チャネル長方向)を<100>の面方位(<100>の面方位からのずれの許容範囲は±10°程度)に設定しているものとする。
以下、本発明の第3の実施形態の第1変形例に係る半導体装置の製造方法について説明する。
以下、本発明の第3の実施形態の第2変形例に係る半導体装置の製造方法について説明する。
以下、本発明の第3の実施形態の第3変形例に係る半導体装置の製造方法について説明する。
以下、本発明の第4の実施形態に係る半導体装置及びその製造方法について、半導体装置の一例としてCMOSFETを対象として、図面を参照しながら説明する。尚、本実施形態においては、NMOSFET及びPMOSFETのいずれについても、ゲート長方向(チャネル長方向)を<100>の面方位(<100>の面方位からのずれの許容範囲は±10°程度)に設定しているものとする。
以下、本発明の第5の実施形態に係る半導体装置及びその製造方法について、半導体装置の一例としてCMOSFETを対象として、図面を参照しながら説明する。尚、本実施形態においては、NMOSFET及びPMOSFETのいずれについても、ゲート長方向(チャネル長方向)を<110>の面方位(<110>の面方位からのずれの許容範囲は±10°程度)に設定しているものとする。
以下、本発明の第6の実施形態に係る半導体装置及びその製造方法について、半導体装置の一例としてCMOSFETを対象として、図面を参照しながら説明する。尚、本実施形態においては、NMOSFET及びPMOSFETのいずれについても、ゲート長方向(チャネル長方向)を<110>の面方位(<110>の面方位からのずれの許容範囲は±10°程度)に設定しているものとする。
以下、本発明の第7の実施形態に係る半導体装置及びその製造方法について、半導体装置の一例としてCMOSFETを対象として、図面を参照しながら説明する。尚、本実施形態においては、NMOSFET及びPMOSFETのいずれについても、ゲート長方向(チャネル長方向)を<100>の面方位(<100>の面方位からのずれの許容範囲は±10°程度)に設定しているものとする。
以下、本発明の第8の実施形態に係る半導体装置及びその製造方法について、半導体装置の一例としてCMOSFETを対象として、図面を参照しながら説明する。尚、本実施形態においては、NMOSFET及びPMOSFETのいずれについても、ゲート長方向(チャネル長方向)を<110>の面方位(<110>の面方位からのずれの許容範囲は±10°程度)に設定しているものとする。
以下、本発明の第9の実施形態に係る半導体装置及びその製造方法について、半導体装置の一例としてCMOSFETを対象として、図面を参照しながら説明する。尚、本実施形態においては、NMOSFET及びPMOSFETのいずれについても、ゲート長方向(チャネル長方向)を<110>の面方位(<110>の面方位からのずれの許容範囲は±10°程度)に設定しているものとする。
半導体基板
102、104、202、204、302、304、402、404、502、504、602、602A、604、702、704、802、804、902、904
素子分離領域
103、333、503、603、630、703、803、903、930
空洞領域
105、205、305、405、505、605、705、805、905
NMOS領域
106、206、306、406、506、606、706、806、906
n型エクステンション拡散層
107、207、307、407、507、607、707、807、907
n型ソース・ドレイン拡散層
108、208、308、408、508、608、708、808、908
PMOS領域
109、209、309、409、509、609、709、809、909
p型エクステンション拡散層
110、210、310、410、510、610、710、810、910
p型ソース・ドレイン拡散層
111、121、211、221、311、321、411、421、511、521、611、621、711、721、811、821、911、921
ゲート絶縁膜
112、122、212、222、312、322、412、422、512、522、612、622、712、722、812、822、912、922
ゲート電極
113、123、213、223、313、323、413、423、513、523、613、623、713、723、813、823、913、923
ゲート部
114、124、214、224、314、324、414、424、514、524、614、624、714、724、814、824、914、924
I字状のオフセットスペーサ
115、125、215、225、315、325、415、425、515、525、615、625、715、725、815、825、915、925
L字状の酸化膜
116、126、216、226、316、326、416、426、516、526、616、626、716、726、816、826、916、926
SiN膜
117、127、217、227、317、327、417、427、517、527、617、627、717、727、817、827、917、927
サイドウォールスペーサ
131、132、231、232、331、332、335、338
シリコン酸化膜
203、303 低ヤング率物質領域
334 シリコン酸化膜(低ヤング率物質)
337 シリコン酸化膜(低ヤング率物質)
403 高収縮物質領域
619 基板領域
T1、T2、T3、T4、133、336 トレンチ
Claims (25)
- 半導体基板上に形成された活性領域と、
前記活性領域を囲むように前記半導体基板上に形成された素子分離領域と、
前記活性領域上に形成されたゲート電極とを備え、
前記素子分離領域には、前記活性領域におけるキャリア移動度が向上するように引っ張り応力を生じる領域が設けられていることを特徴とする半導体装置。 - 請求項1に記載の半導体装置において、
前記引っ張り応力を生じる領域に空洞が配置されていることを特徴とする半導体装置。 - 請求項1に記載の半導体装置において、
前記引っ張り応力を生じる領域には、前記素子分離領域の他の部分と比べてヤング率が低い物質が配置されていることを特徴とする半導体装置。 - 請求項1に記載の半導体装置において、
前記引っ張り応力を生じる領域には、収縮特性を持つ物質が配置されていることを特徴とする半導体装置。 - 請求項1〜4のいずれか1項に記載の半導体装置において、
前記活性領域はN型MISFET領域であり、
前記引っ張り応力を生じる領域は、前記素子分離領域のうちゲート長方向において前記活性領域と隣接する部分に配置されていることを特徴とする半導体装置。 - 請求項5に記載の半導体装置において、
前記ゲート長方向において前記活性領域と並列され且つ前記素子分離領域に囲まれるように前記半導体基板上に形成されたP型MISFET領域となる他の活性領域をさらに備え、
前記他の活性領域のゲート長方向は<100>方向であることを特徴とする半導体装置。 - 請求項5に記載の半導体装置において、
前記ゲート幅方向において前記活性領域と並列され且つ前記素子分離領域に囲まれるように前記半導体基板上に形成されたP型MISFET領域となる他の活性領域をさらに備え、
前記他の活性領域のゲート長方向は<100>方向であることを特徴とする半導体装置。 - 請求項1〜4のいずれか1項に記載の半導体装置において、
前記活性領域はP型MISFET領域であり、
前記引っ張り応力を生じる領域は、前記素子分離領域のうちゲート幅方向において前記活性領域と隣接する部分に配置されていることを特徴とする半導体装置。 - 請求項8に記載の半導体装置において、
前記ゲート長方向において前記活性領域と並列され且つ前記素子分離領域に囲まれるように前記半導体基板上に形成されたN型MISFET領域となる他の活性領域をさらに備え、
前記他の活性領域のゲート長方向は<110>方向であることを特徴とする半導体装置。 - 請求項9に記載の半導体装置において、
前記素子分離領域のうち前記活性領域と前記他の活性領域との間の部分は、ゲート幅方向に延びる基板領域によって分割されており、当該分割された部分のうち前記他の活性領域と隣接する部分にも、前記引っ張り応力を生じる領域が配置されていることを特徴とする半導体装置。 - 請求項8に記載の半導体装置において、
前記ゲート幅方向において前記活性領域と並列され且つ前記素子分離領域に囲まれるように前記半導体基板上に形成されたN型MISFET領域となる他の活性領域をさらに備え、
前記他の活性領域のゲート長方向は<110>方向であることを特徴とする半導体装置。 - 請求項11に記載の半導体装置において、
前記素子分離領域のうちゲート長方向において前記他の活性領域と隣接する部分にも、前記引っ張り応力を生じる領域が配置されていることを特徴とする半導体装置。 - 半導体基板上に形成された活性領域と、前記活性領域を囲むように前記半導体基板上に形成された素子分離領域と、前記活性領域上に形成されたゲート電極とを備えた半導体装置の製造方法であって、
前記素子分離領域と対応するトレンチを形成する工程(a)と、
前記トレンチに絶縁膜を埋め込む工程(b)とを備え、
前記工程(a)において、前記トレンチの所定部分の幅又は側壁テーパ角を他の部分の幅又は側壁テーパ角よりも小さくすることを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 請求項13に記載の半導体装置の製造方法において、
前記工程(b)において、前記絶縁膜の埋め込み途中に前記トレンチの前記所定部分の上部を塞ぐことにより、当該所定部分に空洞を形成することを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 請求項14に記載の半導体装置の製造方法において、
前記工程(b)よりも後に、前記空洞を開口して、当該開口部に前記絶縁膜と比べてヤング率が低い物質又は収縮特性を持つ物質を埋め込む工程(c)をさらに備えていることを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 請求項15に記載の半導体装置の製造方法において、
前記工程(c)よりも後に、前記開口部に埋め込まれた前記物質を他の絶縁膜により覆う工程をさらに備えていることを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 請求項13に記載の半導体装置の製造方法において、
前記工程(b)において、前記絶縁膜の埋め込み途中に前記トレンチの前記所定部分の上部を前記他の部分の上部よりも狭くすることにより、前記所定部分への堆積種の入り込みを抑制し、前記他の部分に埋め込まれる前記絶縁膜と比べてヤング率が低い物質を前記所定部分に埋め込むことを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 請求項13〜17に記載の半導体装置の製造方法において、
前記工程(b)よりも後に、前記トレンチに埋め込まれた前記絶縁膜に対して熱処理を行う工程をさらに備えていることを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 請求項13〜18に記載の半導体装置の製造方法において、
前記工程(a)と前記工程(b)との間に、前記トレンチの側壁を酸化する工程をさらに備え、
前記工程(b)よりも後に、前記半導体基板の表面を平坦化する工程をさらに備えていることを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 半導体基板上に形成された活性領域と、前記活性領域を囲むように前記半導体基板上に形成された素子分離領域と、前記活性領域上に形成されたゲート電極とを備えた半導体装置の製造方法であって、
前記素子分離領域と対応する第1のトレンチを形成する工程(a)と、
前記第1のトレンチに絶縁膜を埋め込む工程(b)と、
前記第1のトレンチの所定部分に埋め込まれた前記絶縁膜に第2のトレンチを形成する工程(c)と、
前記第2のトレンチの少なくとも上部を塞ぐ工程(d)とを備えていることを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 請求項20に記載の半導体装置の製造方法において、
前記工程(d)において、前記第2のトレンチの上部を塞ぐことにより、前記第2のトレンチに空洞を形成することを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 請求項20に記載の半導体装置の製造方法において、
前記工程(d)において、前記第2のトレンチに前記絶縁膜と比べてヤング率が低い物質又は収縮特性を持つ物質を埋め込む工程(e)をさらに備えていることを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 請求項22に記載の半導体装置の製造方法において、
前記工程(e)よりも後に、前記第2のトレンチに埋め込まれた前記物質を他の絶縁膜により覆う工程をさらに備えていることを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 請求項20〜23に記載の半導体装置の製造方法において、
前記工程(d)よりも後に、前記トレンチに埋め込まれた前記絶縁膜に対して熱処理を行う工程をさらに備えていることを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 請求項20〜24に記載の半導体装置の製造方法において、
前記工程(a)と前記工程(b)との間に、前記第1のトレンチの側壁を酸化する工程をさらに備え、
前記工程(d)よりも後に、前記半導体基板の表面を平坦化する工程をさらに備えていることを特徴とする半導体装置の製造方法。
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