JP2008091703A - 半導体記憶装置 - Google Patents
半導体記憶装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008091703A JP2008091703A JP2006272056A JP2006272056A JP2008091703A JP 2008091703 A JP2008091703 A JP 2008091703A JP 2006272056 A JP2006272056 A JP 2006272056A JP 2006272056 A JP2006272056 A JP 2006272056A JP 2008091703 A JP2008091703 A JP 2008091703A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- source
- bit line
- electrically connected
- layer
- wiring portion
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C5/00—Details of stores covered by group G11C11/00
- G11C5/02—Disposition of storage elements, e.g. in the form of a matrix array
- G11C5/025—Geometric lay-out considerations of storage- and peripheral-blocks in a semiconductor storage device
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10B—ELECTRONIC MEMORY DEVICES
- H10B61/00—Magnetic memory devices, e.g. magnetoresistive RAM [MRAM] devices
- H10B61/20—Magnetic memory devices, e.g. magnetoresistive RAM [MRAM] devices comprising components having three or more electrodes, e.g. transistors
- H10B61/22—Magnetic memory devices, e.g. magnetoresistive RAM [MRAM] devices comprising components having three or more electrodes, e.g. transistors of the field-effect transistor [FET] type
Abstract
【解決手段】半導体記憶装置は、第1の方向に延在するビット線と、第1の方向に延在するソース線と、半導体基板21に設けられ、かつ第1の方向に延在する活性領域AAと、活性領域AAに設けられ、かつソース領域25を共有する第1および第2の選択トランジスタ12と、一端が第1の選択トランジスタ12のドレイン領域26に電気的に接続され、他端がビット線に電気的に接続された第1の記憶素子11と、一端が第2の選択トランジスタ12のドレイン領域26に電気的に接続され、他端がビット線に電気的に接続された第2の記憶素子11とを含む。ソース線は、ビット線に隣接する第1および第2の配線部分41、42と、第1の配線部分41と第2の配線部分42とを接続し、かつソース領域に電気的に接続された第3の配線部分43とを含む。
【選択図】 図1
Description
図1は、本発明の第1の実施形態に係る半導体記憶装置の構成を示す平面図である。図2は、図1に示したII−II線に沿った半導体記憶装置の断面図である。なお、図2では、構成の理解を容易にするために、基板と配線層との間に設けられた層間絶縁層の図示(ハッチング)を省略している。
第2の実施形態は、ソース線SLの他の構成例について示している。すなわち、ソース線の形状を上記第1の実施形態で示したソース線SLと異なる形状にして、MRAMの面積を縮小するようにしている。
第3の実施形態は、ソース線SLおよびビット線BLを活性領域AAの延在方向(あるいは、ワード線WLの延在方向)に対して斜め方向に延在するように配置することで、MRAMの面積を縮小するようにしている。
第4の実施形態は、ビット線を活性領域AAの延在方向(あるいは、ワード線WLの延在方向)に対して斜め方向に延在するように配置する場合におけるMRAMの他の構成例である。
Claims (5)
- 半導体基板と、
前記半導体基板の上方に設けられ、かつ第1の方向に延在するビット線と、
前記半導体基板の上方に設けられ、かつ前記第1の方向に延在するソース線と、
前記半導体基板に設けられ、かつ前記第1の方向に延在する活性領域と、
前記活性領域に設けられ、かつソース領域を共有する第1および第2の選択トランジスタと、
一端が前記第1の選択トランジスタのドレイン領域に電気的に接続され、他端が前記ビット線に電気的に接続された第1の記憶素子と、
一端が前記第2の選択トランジスタのドレイン領域に電気的に接続され、他端が前記ビット線に電気的に接続された第2の記憶素子と
を具備し、
前記ソース線は、前記ビット線に対して前記第1の方向に直交する第2の方向に隣接する第1および第2の配線部分と、前記第1の配線部分と前記第2の配線部分とを接続し、かつ前記ソース領域に電気的に接続された第3の配線部分とを含むことを特徴とする半導体記憶装置。 - 前記第1および第2の配線部分は、前記ビット線に対して同じ側に隣接し、
前記第3の配線部分は、V字形であることを特徴とする請求項1に記載の半導体記憶装置。 - 前記第3の配線部分と前記ソース領域とを電気的に接続するコンタクト層をさらに具備することを特徴とする請求項1又は2に記載の半導体記憶装置。
- 半導体基板と、
前記半導体基板に設けられ、かつ第1の方向に延在する活性領域と、
前記活性領域に設けられ、かつソース領域を共有する第1および第2の選択トランジスタと、
一端が前記第1の選択トランジスタのドレイン領域に電気的に接続された第1の記憶素子と、
一端が前記第2の選択トランジスタのドレイン領域に電気的に接続された第2の記憶素子と、
前記半導体基板の上方に設けられ、かつ前記第1および第2の記憶素子の他端にそれぞれ電気的に接続され、かつ前記第1の方向に対して斜め方向に延在する第1および第2のビット線と、
前記半導体基板の上方に設けられ、かつ前記ソース領域に電気的に接続され、かつ前記斜め方向に延在するソース線と
を具備することを特徴とする半導体記憶装置。 - 前記ソース線と前記ソース領域とを電気的に接続するコンタクト層をさらに具備することを特徴とする請求項4に記載の半導体記憶装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006272056A JP2008091703A (ja) | 2006-10-03 | 2006-10-03 | 半導体記憶装置 |
US11/861,878 US7529114B2 (en) | 2006-10-03 | 2007-09-26 | Semiconductor memory device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006272056A JP2008091703A (ja) | 2006-10-03 | 2006-10-03 | 半導体記憶装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008091703A true JP2008091703A (ja) | 2008-04-17 |
Family
ID=39375536
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006272056A Pending JP2008091703A (ja) | 2006-10-03 | 2006-10-03 | 半導体記憶装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7529114B2 (ja) |
JP (1) | JP2008091703A (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009218318A (ja) * | 2008-03-10 | 2009-09-24 | Fujitsu Ltd | 半導体記憶装置及びその製造方法 |
JP2011023476A (ja) * | 2009-07-14 | 2011-02-03 | Toshiba Corp | 磁気記憶装置 |
JP2011258829A (ja) * | 2010-06-10 | 2011-12-22 | Sony Corp | 抵抗変化型メモリデバイス |
JP2012203964A (ja) * | 2011-03-25 | 2012-10-22 | Toshiba Corp | 半導体記憶装置 |
JP2012204399A (ja) * | 2011-03-23 | 2012-10-22 | Toshiba Corp | 抵抗変化メモリ |
CN102983148A (zh) * | 2011-09-07 | 2013-03-20 | 株式会社东芝 | 存储装置及其制造方法 |
US8513751B2 (en) | 2011-05-09 | 2013-08-20 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Semiconductor storage device |
Families Citing this family (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4726292B2 (ja) * | 2000-11-14 | 2011-07-20 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 薄膜磁性体記憶装置 |
JP5100514B2 (ja) * | 2008-06-02 | 2012-12-19 | 株式会社東芝 | 半導体メモリ |
US9030867B2 (en) * | 2008-10-20 | 2015-05-12 | Seagate Technology Llc | Bipolar CMOS select device for resistive sense memory |
US7936583B2 (en) * | 2008-10-30 | 2011-05-03 | Seagate Technology Llc | Variable resistive memory punchthrough access method |
US7933136B2 (en) * | 2008-11-07 | 2011-04-26 | Seagate Technology Llc | Non-volatile memory cell with multiple resistive sense elements sharing a common switching device |
US8203869B2 (en) * | 2008-12-02 | 2012-06-19 | Seagate Technology Llc | Bit line charge accumulation sensing for resistive changing memory |
JP4846817B2 (ja) * | 2009-03-23 | 2011-12-28 | 株式会社東芝 | 抵抗変化型メモリ |
US7957183B2 (en) * | 2009-05-04 | 2011-06-07 | Magic Technologies, Inc. | Single bit line SMT MRAM array architecture and the programming method |
US8159856B2 (en) | 2009-07-07 | 2012-04-17 | Seagate Technology Llc | Bipolar select device for resistive sense memory |
US8233309B2 (en) * | 2009-10-26 | 2012-07-31 | Sandisk 3D Llc | Non-volatile memory array architecture incorporating 1T-1R near 4F2 memory cell |
JP2012129470A (ja) * | 2010-12-17 | 2012-07-05 | Toshiba Corp | 半導体記憶装置 |
US8593848B2 (en) * | 2011-03-25 | 2013-11-26 | Peking University | Programming method for programming flash memory array structure |
CN102270503B (zh) * | 2011-03-25 | 2014-01-08 | 北京大学 | 一种半导体存储器阵列及其编程方法 |
TWI488288B (zh) | 2012-11-07 | 2015-06-11 | Inotera Memories Inc | 半導體佈局結構 |
US9406720B2 (en) * | 2014-08-11 | 2016-08-02 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Semiconductor storage device |
US10727271B2 (en) | 2017-01-05 | 2020-07-28 | Micron Trechnology, Inc. | Memory device having source contacts located at intersections of linear portions of a common source, electronic systems, and associated methods |
US10453895B2 (en) * | 2017-01-05 | 2019-10-22 | Micron Technology, Inc. | Magnetic memory device with a common source having an array of openings, system, and method of fabrication |
US10014345B1 (en) * | 2017-01-05 | 2018-07-03 | Micron Technology, Inc. | Magnetic memory device with grid-shaped common source plate, system, and method of fabrication |
CN116206640B (zh) * | 2022-08-18 | 2024-03-15 | 北京超弦存储器研究院 | 存储器及其制造方法、读写控制方法 |
CN116234322B (zh) * | 2022-08-18 | 2024-02-23 | 北京超弦存储器研究院 | 存储器及其制造方法、读写控制方法 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02226763A (ja) * | 1989-02-28 | 1990-09-10 | Hitachi Ltd | 半導体記憶装置 |
JPH0817942A (ja) * | 1994-06-30 | 1996-01-19 | Nec Corp | 半導体記憶装置 |
JP2004289029A (ja) * | 2003-03-25 | 2004-10-14 | Hitachi Ltd | 記憶装置 |
JP2005191523A (ja) * | 2003-12-24 | 2005-07-14 | Hynix Semiconductor Inc | マグネチックラム |
JP2007300079A (ja) * | 2006-05-04 | 2007-11-15 | Hitachi Ltd | 磁気メモリ素子 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002230965A (ja) * | 2001-01-24 | 2002-08-16 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 不揮発性メモリ装置 |
JP2002246567A (ja) * | 2001-02-14 | 2002-08-30 | Toshiba Corp | 磁気ランダムアクセスメモリ |
JP2004153181A (ja) * | 2002-10-31 | 2004-05-27 | Toshiba Corp | 磁気抵抗効果素子および磁気メモリ |
JP2004185755A (ja) * | 2002-12-05 | 2004-07-02 | Sharp Corp | 不揮発性半導体記憶装置 |
JP4192060B2 (ja) * | 2003-09-12 | 2008-12-03 | シャープ株式会社 | 不揮発性半導体記憶装置 |
US7145795B2 (en) * | 2004-04-13 | 2006-12-05 | Micron Technology, Inc. | Multi-cell resistive memory array architecture with select transistor |
US7411208B2 (en) * | 2004-05-27 | 2008-08-12 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Phase-change memory device having a barrier layer and manufacturing method |
US7453716B2 (en) * | 2004-10-26 | 2008-11-18 | Samsung Electronics Co., Ltd | Semiconductor memory device with stacked control transistors |
JP2007115956A (ja) * | 2005-10-21 | 2007-05-10 | Toshiba Corp | 半導体記憶装置 |
US7286395B2 (en) * | 2005-10-27 | 2007-10-23 | Grandis, Inc. | Current driven switched magnetic storage cells having improved read and write margins and magnetic memories using such cells |
KR100714475B1 (ko) * | 2006-01-11 | 2007-05-04 | 삼성전자주식회사 | 상변화 메모리 장치 |
JP4129274B2 (ja) * | 2006-05-18 | 2008-08-06 | シャープ株式会社 | 半導体記憶装置 |
-
2006
- 2006-10-03 JP JP2006272056A patent/JP2008091703A/ja active Pending
-
2007
- 2007-09-26 US US11/861,878 patent/US7529114B2/en active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02226763A (ja) * | 1989-02-28 | 1990-09-10 | Hitachi Ltd | 半導体記憶装置 |
JPH0817942A (ja) * | 1994-06-30 | 1996-01-19 | Nec Corp | 半導体記憶装置 |
JP2004289029A (ja) * | 2003-03-25 | 2004-10-14 | Hitachi Ltd | 記憶装置 |
JP2005191523A (ja) * | 2003-12-24 | 2005-07-14 | Hynix Semiconductor Inc | マグネチックラム |
JP2007300079A (ja) * | 2006-05-04 | 2007-11-15 | Hitachi Ltd | 磁気メモリ素子 |
Cited By (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009218318A (ja) * | 2008-03-10 | 2009-09-24 | Fujitsu Ltd | 半導体記憶装置及びその製造方法 |
US8587042B2 (en) | 2009-07-14 | 2013-11-19 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Magnetoresistive random access memory device |
JP2011023476A (ja) * | 2009-07-14 | 2011-02-03 | Toshiba Corp | 磁気記憶装置 |
JP2011258829A (ja) * | 2010-06-10 | 2011-12-22 | Sony Corp | 抵抗変化型メモリデバイス |
CN102332294A (zh) * | 2010-06-10 | 2012-01-25 | 索尼公司 | 电阻变化型随机存取存储器装置 |
US8711602B2 (en) | 2011-03-23 | 2014-04-29 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Semiconductor memory device |
US9093140B2 (en) | 2011-03-23 | 2015-07-28 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Semiconductor memory device |
US9165628B2 (en) | 2011-03-23 | 2015-10-20 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Semiconductor memory device |
JP2012204399A (ja) * | 2011-03-23 | 2012-10-22 | Toshiba Corp | 抵抗変化メモリ |
US8879310B2 (en) | 2011-03-25 | 2014-11-04 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Semiconductor storage device |
JP2012203964A (ja) * | 2011-03-25 | 2012-10-22 | Toshiba Corp | 半導体記憶装置 |
US9007821B2 (en) | 2011-03-25 | 2015-04-14 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Semiconductor storage device |
US8681538B2 (en) | 2011-03-25 | 2014-03-25 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Semiconductor storage device |
US8791535B2 (en) | 2011-05-09 | 2014-07-29 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Semiconductor storage device |
US9064792B2 (en) | 2011-05-09 | 2015-06-23 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Semiconductor storage device |
US8513751B2 (en) | 2011-05-09 | 2013-08-20 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Semiconductor storage device |
US9224786B2 (en) | 2011-05-09 | 2015-12-29 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Semiconductor storage device |
US9385160B2 (en) | 2011-05-09 | 2016-07-05 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Semiconductor storage device |
CN102983148A (zh) * | 2011-09-07 | 2013-03-20 | 株式会社东芝 | 存储装置及其制造方法 |
US8885396B2 (en) | 2011-09-07 | 2014-11-11 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Memory device and method for manufacturing the same |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20080239782A1 (en) | 2008-10-02 |
US7529114B2 (en) | 2009-05-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2008091703A (ja) | 半導体記憶装置 | |
JP2008130995A (ja) | 半導体記憶装置 | |
JP4538067B2 (ja) | 半導体記憶装置 | |
JP4846817B2 (ja) | 抵抗変化型メモリ | |
US7414879B2 (en) | Semiconductor memory device | |
KR101789837B1 (ko) | 자기저항소자 및 이를 이용한 비휘발성 반도체 기억장치 | |
JP5025702B2 (ja) | 半導体記憶装置 | |
US7545672B2 (en) | Spin injection write type magnetic memory device | |
US9178137B2 (en) | Magnetoresistive element and magnetic memory | |
US7751235B2 (en) | Semiconductor memory device and write and read methods of the same | |
US7969768B2 (en) | Magnetic random access memory | |
JP6861996B2 (ja) | 磁気抵抗効果素子及び磁気メモリ装置 | |
JP7168241B2 (ja) | 集積回路装置 | |
JP2002299575A (ja) | 半導体記憶装置 | |
JP5677186B2 (ja) | 半導体記憶装置 | |
JP2014220376A (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
KR102638584B1 (ko) | 반도체 메모리 장치 | |
US20080310215A1 (en) | Magnetic random access memory and write method of the same | |
JP2010225783A (ja) | 半導体記憶装置 | |
US8861251B2 (en) | Semiconductor storage device | |
JP5723311B2 (ja) | 磁気トンネル接合素子および磁気メモリ | |
US10418414B2 (en) | Variable resistance memory devices | |
US20230165016A1 (en) | Semiconductor memory device |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090312 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120517 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120522 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20120529 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20120925 |