JP2008039779A - 半導体素子のテスト装置 - Google Patents

半導体素子のテスト装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2008039779A
JP2008039779A JP2007199424A JP2007199424A JP2008039779A JP 2008039779 A JP2008039779 A JP 2008039779A JP 2007199424 A JP2007199424 A JP 2007199424A JP 2007199424 A JP2007199424 A JP 2007199424A JP 2008039779 A JP2008039779 A JP 2008039779A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
test
dut
unit
data
semiconductor device
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2007199424A
Other languages
English (en)
Inventor
Jong Koo Kang
姜種求
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Unitest
UniTest Inc
Original Assignee
Unitest
UniTest Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Unitest, UniTest Inc filed Critical Unitest
Publication of JP2008039779A publication Critical patent/JP2008039779A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L22/00Testing or measuring during manufacture or treatment; Reliability measurements, i.e. testing of parts without further processing to modify the parts as such; Structural arrangements therefor
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C29/00Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
    • G11C29/56External testing equipment for static stores, e.g. automatic test equipment [ATE]; Interfaces therefor
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C29/00Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
    • G11C29/56External testing equipment for static stores, e.g. automatic test equipment [ATE]; Interfaces therefor
    • G11C29/56004Pattern generation
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C29/00Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
    • G11C29/56External testing equipment for static stores, e.g. automatic test equipment [ATE]; Interfaces therefor
    • G11C29/56008Error analysis, representation of errors

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Tests Of Electronic Circuits (AREA)
  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)

Abstract

【課題】従来装置においてタイミング生成のために使用した構成を時間遅延だけで生成し、テスト効率及び製造コストを低減することができる半導体素子のテスト装置を提供する。
【解決手段】半導体素子のテスト装置 は、テストパターンプログラムを基礎にして論理的テストパターンデータを生成するパターン生成部と、テストパターンデータを基礎にしてDUTに伝達する物理的テストパターンデータ及びテスト期待値データに変換するデータ選択部と、物理的テストパターンデータをテスト実行のために設定される時間遅延値を基礎にして所望のテスト波形に変換するフォーマット制御部と、テスト波形をDUTに印加するドライバ部と、DUTからのテスト波形に対応する出力を受信し、テスト実行データを出力する出力比較部と、テスト実行データとテスト期待値データとを比較し、DUTの良否を判断するテスト比較部と、を備える。
【選択図】図3

Description

本発明は、半導体素子のテスト装置に関し、より詳細には、従来の半導体素子のテスト装置において多様なタイミングを生成するために使用した構成を時間遅延だけで生成し、テスト効率及び製造コストを低減することができる半導体素子のテスト装置に関する。
半導体素子のテスト装置は、製造された半導体素子の良否をテストする装置である。このような半導体素子のテスト装置は、特にメモリ素子をテストするために使われる場合が多いので、メモリ素子の開発状況、特にメモリ素子の相当部分を占めるDRAMの開発状況によって設計され開発される。
近年、DRAMは、EDO(Extended Data Output)機能を搭載したDRAMや、SDRAM(Synchronous DRAM)、ラムバス(Rambus)DRAMに引き続き、DDR(Double Data Rate)DRAMに発展している。
このようなDRAMをテストするためには、メモリの高速化に対応して半導体素子のテスト装置も高速化及び高精度化が要求される。また、メモリの大容量化に伴ってテスト時間が増加するようになるので、テストの速度もやはり速くならなければならない。また、小型化且つ経済的な半導体素子のテスト装置を具現することによって、テスト費用を節減することができなければならない。
半導体素子のテスト装置、特にそれらの中でもメモリテスト装置は、通常、メモリコンポーネントまたはSIMMまたはDIMM構成からなるメモリモジュールをテストし検証するのに用いられる。このような半導体素子のテスト装置は、メモリモジュールまたはメモリコンポーネントが実際コンピュータシステムなどに装着されて使用される前に、メモリモジュールまたはコンポーネントに機能上の欠陥が存在するか否かを検出するようになる。
半導体素子のテスト装置は、大きく、ハードウェア半導体素子のテスト装置とPC環境で実行されるソフトウェア診断プログラムとに分けられる。しかし、ソフトウェア診断プログラムは、メモリモジュールまたはコンポーネントが実際コンピュータ上に装着されて使用される場合、メモリの状態を診断するので、半導体メモリ生産過程では、ハードウェアメモリのテスト装置を主に使用するようになる。
このようなハードウェア半導体素子のテスト装置は、ATE(automatic test equipment)と呼ばれる高級仕様のテスト装置と、中級(medium range)のメモリテスト装置、低級(low-end)のメモリテスト装置などに分けられる。
メモリ素子のテスト工程を行うために、通常、高級仕様のテスト装置であるATEを使用する。このような従来のATEは、DCパラメータが回路のデジタル的動作に適合するか否かをテストするDCテストや、信号の伝達遅延時間、セットアップ時間及びホールド時間などと関連したACマージンテストを含み、このためにテストパターンの生成とタイミングの生成など多様な機能を有している。しかし、メインフレームなど体積が大きく且つ高価の専用装備を使用して製作されるものであるから、製造コストが高いという短所がある。
図1は、従来技術に係る半導体素子のテスト装置を示す例示的なブロック図である。
図1に示されたように、従来の半導体素子のテスト装置は、パターン生成部110と、タイミング生成部120と、フォーマット制御部130と、ドライバ部140と、比較部150と、テスト結果格納部160とを備える。このような構成要素以外に、例えばDCテストのための電源制御部構成、クロック生成のための構成、制御のための構成、テストされる半導体素子であるDUT(device under test;被テスト素子)180の動作のために電源を供給する構成、DUT180にテストパターンデータを中継し、DUT180からテスト実行結果を受信する構成、外部からテストパターンプログラムを受信する構成、テスト結果を外部に伝送する構成などが備えられることができるが、これらに関する説明は省略する。
パターン生成部110は、テストパターンプログラムを基礎にしてDUT180のテストに必要なテストパターンデータを生成する。テストパターンプログラムは、例えばテストを行うために多様な形態の動作を行うインストラクションを含むように作成される。また、パターン生成部110は、このようなテストパターンプログラムを、例えば外部の格納装置などから受信し、これを解析し、テストパターンデータを生成する。このようなテストパターンデータは、DUT180に入力されるコマンド、アドレス、及びデータ信号などのデータを含み、また、生成されるテストパターンデータに対応してテスト期待値データが生成される。
タイミング生成部120は、パターン生成部110で生成されたテストパターンデータを多様な形態の波形に変換するための基準となるタイミングエッジを生成する。このようなタイミングエッジは、円滑な波形変換のために多数のクロックを用いて生成される。
フォーマット制御部130は、テストパターンデータをタイミングエッジを基礎にして変換し、所望の波形に変換する。
以下では、波形変換についてさらに詳細に説明する。
図2は、従来技術に係る半導体素子のテスト装置においてのテスト波形変換の例を示す図である。図2に示されたように、パターン生成部110では、テストパターンデータを生成する。一方、タイミング生成部120では、図示のように、多数のクロックACLK、BCLK、CCLKを使用して多数のタイミングエッジを生成する。フォーマット制御部130が、テストパターンデータを必要な時点で必要なテスト波形に変換するためには、タイミング基準を必要とします。従って、そのようなタイミング基準を設定するために、タイミング生成部120は多数のクロックを利用、多数のタイミングエッジを生成する。そのような多数のクロックは、特に非同期(asynchronous)半導体素子をテストするためのパターンデータを生成するために使われる。
フォーマット制御部130は、各タイミングエッジを基礎にして所望のテスト波形に変換する。例えばクロックACLKを利用する場合、NRZAまたは/NRZAというテスト波形に変換することができる。ここで、“NRZ”は、テストパターンデータが“1”であるサイクルでは“0”をリターンしない変換を意味し、“A”は、クロックACLKを介して変換されることを意味し、“/”は、反転を意味する。また、クロックBCLKを利用する場合、NRZBまたは/NRZBというテスト波形に変換することができる。また、クロックCCLKを利用する場合、NRZCまたは/NRZCというテスト波形に変換することができる。そして、クロックBCLK及びクロックCCLKを同時に利用する場合、NRZBCまたは/NRZBCというテスト波形に変換することができる。このように多数のクロックを使用することによって、変換されるテスト波形も多様に形成されることができる。
ドライバ部140は、変換されたテスト波形をDUT180に伝送するための構成である。
比較部150は、DUT180に印加されたテスト波形によってDUT180の動作が行われた後に、DUT180から出力されたテスト実行データとパターン生成部110で生成されるテスト期待値データとを比較し、DUT180のテストを行う。
テスト結果格納部160は、比較部150の結果を基礎にしてテスト結果を格納する。例えば不良が発生したメモリ素子に関する情報を格納する。
前述したように、このような従来のATEは、非常に高価の装備であるから、半導体製造社の観点から生産費用を最小化し、競争力を高めるためには、このような高価のATEを効率的に設計することが好ましい。このような半導体素子のテスト装置、特にATEを効率的に設計するためには、テストパターンの生成とタイミングの生成などの機能を最適化することが必要である。
特に、タイミング生成部120のタイミング生成機能は、費用が高価であり、特に高速で動作する半導体素子のテストのための高精度のタイミング生成を具現することが難しいという短所がある。前述した多数のクロックを用いてタイミングを生成する機能は、特に非同期素子の場合、その意義があるが、半導体素子テストの主要部分である同期(synchronous)メモリ素子のテストのためには最適化されていない実情である。
また、変換されたテスト波形をDUT180に伝送する場合、一定のサイクルの間に遅延したり、またはテスト期待値データとDUT180から出力されるデータとを比較するために一定のサイクルの間に遅延する場合があり得る。このような遅延は、変換後に行われるので、変換後にも、各遅延を考慮してさらに実際的な変換が行われることができる。
また、パターン生成部110で生成されるテストパターンデータは、DUT180の各チャネル、例えばDUT180のピンによって変換が行われなければならない。このようなピンに対する変換は、フォーマット制御部130にテストパターンデータが印加される前に行われる。この場合、DUT180のピンに対応して各ピンに印加されるテストパターンデータの多重化を行うようになる。しかし、このような過程もやはり各ピンに対応して行われるので、リソースの浪費をもたらすことができるという短所がある。
本願出願人は、このような従来の半導体素子のテスト装置の短所を改善する場合、さらに効率的な半導体素子のテスト装置の開発が可能であることに注目し、本発明を完成するに至った。
本発明の目的は、従来の半導体素子のテスト装置において多様なタイミング生成のために使用した構成を時間遅延だけで生成し、テスト効率及び製造コストを低減することができる半導体素子のテスト装置を提供することにある。
上記目的を達成するために、本発明に係る半導体素子のテスト装置は、テストパターンプログラムを基礎にしてDUTのテストに必要な論理的テストパターンデータを生成するパターン生成部と、前記パターン生成部から伝達されるテストパターンデータを基礎にして前記DUTに伝達する物理的テストパターンデータ及びテスト期待値データに変換するデータ選択部と、前記物理的テストパターンデータをテスト実行のために設定される時間遅延値を基礎にして所望のテスト波形に変換するフォーマット制御部と、前記テスト波形を前記DUTに印加するドライバ部と、前記DUTからの前記テスト波形に対応した出力を受信し、テスト実行データを出力する出力比較部と、前記テスト実行データと前記テスト期待値データとを比較し、前記DUTの良否を判断するテスト比較部と、を備える。
本発明に係る半導体素子のテスト装置において、前記物理的テストパターンデータを前記DUTに記録したり、または前記テスト期待値データと前記テスト実行データとを比較するために、前記物理的テストパターンデータまたは前記テスト期待値データを一定のサイクルの間に遅延することによって、レイテンシーを制御し、前記フォーマット制御部に印加するレイテンシー制御部をさらに備えることができる。
また、本発明に係る半導体素子のテスト装置において、前記テスト波形を前記DUTの動作速度に適合するように多重化する多重化部と、前記テスト実行データと前記テスト期待値データとの比較に適合した動作速度で逆多重化する逆多重化部と、をさらに備えることができる。
また、本発明に係る半導体素子のテスト装置において、前記テスト波形を前記多重化部に印加する前に、オーバーサンプリングを行うタイミング制御部をさらに備えることができる。
また、本発明に係る半導体素子のテスト装置において、前記オーバーサンプリングを行った後に、前記テスト波形をビット単位で移動し、前記多重化部に印加するビット移動部をさらに備えることができる。
また、本発明に係る半導体素子のテスト装置において、前記テスト波形を前記ドライバ部を介してDUTに伝送する前に、または前記DUTから前記テスト実行データを前記出力比較部を介して受信した後に、前記DUTの各チャネルに発生するタイミングスキューを補償するデスキュー制御部をさらに備えることができる。
また、本発明に係る半導体素子のテスト装置において、前記デスキュー制御部は、前記DUTの各チャネル毎にタイミングスキューを設定し、タイミングスキューを補償することができる。
また、本発明に係る半導体素子のテスト装置において、前記多重化部によって多重化されたテスト波形を前記ドライバ部を介してDUTに伝送する前に、または前記DUTから前記テスト実行データを前記出力比較部を介して受信した後に、前記DUTの各チャネルに発生するタイミングスキューを補償するデスキュー制御部をさらに備え、前記デスキュー制御部は、前記タイミングスキュー値があらかじめ定められた値より大きい場合、前記ビット移動部を用いて前記タイミングスキューを一部補償するように前記ビット移動部と連動することができる。
また、本発明に係る半導体素子のテスト装置において、前記デスキュー制御部は、前記DUTの各チャネル毎にタイミングスキューを設定し、タイミングスキューを補償することができる。
また、本発明に係る半導体素子のテスト装置において、前記ドライバ部は、前記テスト波形を“ハイ(High)”、“ロウ(Low)”、 “ターミネーション(Termination)” の3つのレベルに前記DUTに印加することができる。
また、本発明に係る半導体素子のテスト装置において、前記出力比較部は、前記DUTからの前記テスト波形に対応した出力を受信し、あらかじめ定められた臨界値を基準にして比較し、前記テスト実行データを出力することができる。
また、本発明に係る半導体素子のテスト装置において、前記臨界値は、可変的に設定されることができる。
また、本発明に係る半導体素子のテスト装置において、前記出力比較部は、前記臨界値を基準にして一定のウィンドウを設定した後に、前記ウィンドウを外れる信号だけに対して出力レベルを決定し、前記テスト実行データを生成することができる。
また、本発明に係る半導体素子のテスト装置において、前記テスト比較部は、前記半導体素子のテスト装置と前記DUTとの間のラウンドトリップ遅延を考慮して前記テスト実行データの再同期を行う再同期部と、前記テスト期待値信号を前記ラウンドトリップ遅延によって遅延させるラウンドトリップ遅延補償部と、をさらに備えることができる。
また、本発明に係る半導体素子のテスト装置において、前記パターン生成部は、前記物理的テストパターンデータへの変換のために前記DUTの各チャネルを基礎とする制御フラグを形成し、前記データ選択部に伝達し、前記データ選択部は、あらかじめ定められた多数のデータ選択テーブルを参照して前記制御フラグを基礎にして前記DUTの各チャネル毎に伝送される前記物理的テストパターンデータに変換することができる。
また、本発明に係る半導体素子のテスト装置において、前記テストパターンデータは、コマンド、アドレス、及びデータ信号を含み、前記テスト比較部は、不良として判断された前記DUTのアドレス、データ情報、及び前記不良が発生したテストパターンプログラムのパターンアドレスのうちいずれか1つ以上を格納するテスト結果格納部をさらに備えることができる。
また、本発明に係る半導体素子のテスト装置において、前記テストパターンデータは、コマンド、アドレス、及びデータ信号を含み、前記パターン生成部は、前記テスト比較部で不良と判断された前記DUTのアドレス、データ情報、及び前記不良が発生したテストパターンプログラムのパターンアドレスのうちいずれか1つ以上を格納するテスト結果格納部をさらに備えることができる。
また、本発明に係る半導体素子のテスト装置において、前記テスト比較部の前記DUTの良否を判断した結果を外部の装置に伝送するテスト結果伝送部をさらに備えることができる。
本発明によれば、従来の半導体素子のテスト装置において多様なタイミングを生成するために使用した構成を時間遅延だけで生成し、半導体素子のテスト装置のテスト効率及び製造コストを低減することができる。
以下、本発明の半導体素子のテスト装置を添付の図面を参照してさらに具体的に説明する。
図3は、本発明に係る半導体素子のテスト装置を示す例示的なブロック図である。
図3に示されたように、本発明に係る半導体素子のテスト装置は、パターン生成部210と、データ選択部220と、フォーマット制御部230と、ドライバ部240と、出力比較部250と、テスト比較部260と、を備える。また、レイテンシー制御部270と、多重化部280と、逆多重化部290と、タイミング制御部300と、ビット移動部310と、デスキュー制御部320と、テスト結果伝送部330とをさらに備えることができる。
本発明に係る半導体素子のテスト装置は、特に半導体素子のテスト装置を効率的に構成するために最適化しなければならないテストパターンデータの生成やフォーマット変換などの役目を行う機能を備えることを特徴とする。これにより、フォーマット変換されたテスト波形をDUT380に印加したり、DUT380から受信した結果を比較し、テスト実行データに復元し、これをテスト期待値データと比較し、DUT380の良否を判断する構成を備える。
また、このような構成以外に、実際使用時には、ドライバ部240から多数のDUTにテスト波形を分配するための構成や、多数のDUTからのテスト実行結果を受信するための構成などがさらに備えられることができるが、これらについては説明を省略する。
パターン生成部210は、テストパターンプログラムを基礎にしてテストされる半導体素子、すなわちDUT380のテストに必要な論理的テストパターンデータを生成する。このようなパターン生成部210は、例えばテスト実行者が作成したテストパターンプログラムをコンパイルした後、これを基礎にして論理的テストパターンデータを生成する。テストパターンデータは、コマンド、アドレス、及びデータ信号を含み、また、データ選択部220の円滑な動作のためにDUT380の各チャネル、例えば各ピンを基礎とする制御フラグを形成し、データ選択部220に伝達することもできる。
データ選択部220は、パターン生成部210から伝達されるテストパターンデータを基礎にしてDUT380に伝達する物理的テストパターンデータ及びテスト期待値データに変換する。すなわちパターン生成部210で生成された論理的テストパターンデータが実際DUT380の全てのチャネルに同一に伝達されるものではなく、各チャネルに対して変換されて伝送され、このために、データ選択部220は、DUT380の各チャネルに伝達される物理的テストパターンデータに変換する。
また、パターン生成部210が制御フラグを形成し、データ選択部220に伝送する場合、データ選択部220は、制御フラグを基礎にしてあらかじめ定められた変換ルーチンを用いて変換が可能なので、変換速度が向上することができる。すなわちデータ選択部220は、あらかじめ定められた多数のデータ選択テーブルを有していて、制御フラグを基礎にしてDUT380の各チャネル毎に伝送される物理的テストパターンデータに変換する。この場合、多重化構造やプロトコル構造からなるDUTインタフェースの構成が可能である。
フォーマット制御部230は、データ選択部220の物理的テストパターンデータをテスト実行のために設定される時間遅延値を基礎にして所望のテスト波形に変換する。すなわち物理的テストパターンデータを基礎にして所望のテスト波形を形成する。このような時間遅延値は、例えばテストパターンプログラム作成の際に、テスト実行者が設定することができる。
ドライバ部240は、フォーマット制御部230の出力であるテスト波形をDUT380に印加する。例えば、ドライバ部240は、テスト波形を“ハイ(High)”、“ロウ(Low)”、 “ターミネーション(Termination)” の3つのレベルに変換し、DUT380に印加する。すなわちテスト波形がDUT380から印加される過程においての反射成分を除去しなければならない場合には、“ターミネーション(Termination)” レベルに印加することができ、その他の場合、“ハイ(High)”、“ロウ(Low)” レベルに印加する。
出力比較部250は、DUT380に印加されたテスト波形によってDUT380からテスト波形に対応して出力される信号を受信し、これをテスト実行データとして出力する。
この場合、出力比較部250は、あらかじめ定められた臨界値を基準にして比較し、テスト実行データを出力することができる。また、比較基準となる臨界値は、テスト環境や、チャネル特性、DUT380の特性などによって可変的に設定可能なので、テスト実行データを効率的に生成することができる。また、出力比較部250が臨界値を基準にしてテスト波形に対応して出力される信号をテスト実行データに変換する場合、臨界値近くの信号に対しては変換が不明確であることができる。この場合、臨界値近くに一定のウィンドウを設定した後、このようなウィンドウを外れる信号だけに対して出力レベルを決定し、テスト実行データを生成することができる。
テスト比較部260は、出力比較部250から出力されるテスト実行データをデータ選択部220においてのテスト期待値データと比較し、DUT380の良否を判断する。
図4は、本発明に係る半導体素子のテスト装置においてのテスト波形変換の例を示す図である。
パターンA、パターンBは、パターン生成部210を介して多数のテストパターンデータが生成され、データ選択部220を介して変換された物理的なテストパターンデータを示す。
クロックは、テスト波形変換のための基準クロックであり、時間遅延値は、テスト実行者によってテスト波形変換のために設定された値である。
フォーマット制御部230では、このような基準クロック及び時間遅延値を用いてテスト波形に変換し、例えばパターンAを基礎にして変換されたテスト波形の例がNRZ、NRZI、RZO、RZOIで表示される。また、パターンA及びパターンBを基礎にして変換されたテスト波形の例がDNRZ、DNRZIで表示される。
このような本発明に係る半導体素子のテスト装置は、従来の半導体素子のテスト装置において使用されるタイミング生成部を使用しないことを特徴とする。すなわち図2を参照すれば、従来の場合、多様なタイミングを生成するために多数のクロックを使用してタイミングを生成し、これを基礎にしてテスト波形に変換するが、図4を参照する本願発明の場合、このような多数のクロックの代わりに基準クロックだけを使用し、これを時間遅延値を基礎にして変換することによって単純化し、このような構成のために、具現費用が高価で且つ高速動作が難しいという短所を有するタイミング生成部を使用しない。
一方、本発明に係る半導体素子のテスト装置は、このような前述した構成以外に、半導体素子のテスト装置を効率的に具現するための構成をさらに備えることができる。
レイテンシー制御部270は、データ選択部220の物理的テストパターンデータをDUT380に記録したり、またはテスト比較部260でテスト期待値データとテスト実行データとを比較するために、物理的テストパターンデータまたは前記テスト期待値データを一定のサイクルの間に遅延することによって、レイテンシー(latency)を制御し、フォーマット制御部230に印加する。
従来の半導体素子のテスト装置の場合、テスト波形が形成された後に、このような一定のサイクルの遅延が行われるが、本発明の場合、テスト波形が基準クロック及び時間遅延値だけで変換可能なので、テスト波形の変換前にもこのような記録や比較のための一定のサイクルの間の遅延が実行可能である。また、例えば、FIFO(first-in first-out)素子を利用する場合、DUT380への記録またはDUT380からの読み取りによるレイテンシー設定が自動的に行われるので、テスト実行者がテストパターンプログラムを作成する際に、特別な設定なくても容易に具現可能であるという長所がある。
また、半導体素子の動作速度が高速化するにつれて高速動作が必要である。この場合、テスト波形は、低速動作に対して生成される場合が多い。このために、テスト波形を半導体素子の動作速度に対応して多重化したり、またはテスト実行データとテスト期待値データとを比較するために逆多重化する過程が必要であることができる。
多重化部280は、フォーマット制御部230のテスト波形をDUT380素子の動作速度に適合するように多重化し、逆多重化部290は、出力比較部250のテスト実行データをテスト比較部260でテスト期待値データと比較するのに適合した動作速度で逆多重化する。
また、このような多重化部280を用いた多重化の前に、テスト波形に対するオーバーサンプリングを行うことができる。すなわち低周波のコアパターン信号を高速の多重化部280に印加するためにオーバーサンプリングを行うタイミング制御部300を備えることができる。
オーバーサンプリングの目的は、低い周波数のデータを高い周波数のデータに変換し、さらに小さい単位でビットを分割して、高い周波数だけで動作するように設計された多重化部280に対応させることにある。
また、このようなオーバーサンプリングを行った後に、テスト波形をビット単位で移動し、多重化部280に印加するビット移動部310を備えることができる。すなわちテスト波形をビット単位で移動し、所望の波形を追加的に生成したり、時間遅延を設定する機能を行うこともでき、このような機能のためにビット移動部310を備えることができる。
一方、DUT380のチャネルから発生するタイミングスキュー(skew)は、各チャネル毎に異なることができる。すなわち各チャネルに対する信号伝送環境が同一でないから、このようなタイミングスキューが発生する。したがって、テスト波形をドライバ部240を介してDUT380に伝送する前に、またはDUT380からテスト実行データを出力比較部250を介して受信した後に、各チャネルに対するタイミングスキューを補償する機能が必要であり、このような機能のためにデスキュー制御部320a、320bを備えることができる。
好ましくは、デスキュー制御部320a、320bは、プログラム可能なタイミング遅延素子を用いてDUT380の各チャネル毎にタイミングスキューを設定することができる。
また、このようなタイミングスキューがデスキュー制御部320aを介して補償されない場合があり得る。例えば、デスキュー制御部320aで補償可能な範囲は、プログラム可能なタイミング遅延素子の値によって異なり、広い範囲を補償可能な場合、非常に高価であり、具現された補償特性もやはり良好でないという短所がある。したがって、このようなデスキュー制御部320aが補償可能なタイミングスキューであって、あらかじめ定められた値より大きいタイミングスキューは、前述したビット移動部310と連動してタイミングスキューを補償するように設定することができる。
すなわち大部分のタイミングスキューは、ビット移動部310を介して補償を行い、残りの補償可能な範囲のタイミングスキューは、デスキュー制御部320aを介して補償することによって、タイミングスキュー値が非常に大きい場合にも補償可能である。
また、本発明に係る半導体素子のテスト装置とDUT380との間にテスト波形が伝送され、これを基礎にしてテスト実行データが受信され、テスト比較部260で比較する場合には、ラウンドトリップ(round trip)遅延を考慮することが好ましい。すなわち各々の信号が異なる経路を介して伝送される過程で変わる遅延要素を考慮する。
例えば、前述したDUT380においてテスト実行データを読み取り、テスト期待値データと比較する場合、パターン生成部210で生成されるテスト実行データを読み取る制御コマンドである“READ”コマンドがパターン生成部210を出発してDUT380に到達した後、DUT380からテスト実行データが出力され、テスト比較部260まで到着する時間と、パターン生成部210からテスト期待値データをテスト比較部260に伝送するのに所要される時間との間には、経路の差異があるので、必然的にラウンドトリップ遅延が発生する。
図2を参照する従来の半導体素子のテスト装置においてのラウンドトリップ遅延補償は、DUT180の各チャネルに対して全てのテスト実行データをDUT180によって発生するラウンドトリップ遅延だけ遅延させるデスキュー素子を使用しなければならないので、非効率的である。
しかし、本発明の場合、例えばFIFO素子を用いて効率的にラウンドトリップ遅延補償が可能である。
このために、テスト比較部260は、半導体素子のテスト装置とDUTとの間のラウンドトリップ遅延を考慮してテスト実行データの再同期を行う再同期部(図示せず)と、テスト期待値信号をラウンドトリップ遅延によって遅延させるラウンドトリップ遅延補償部(図示せず)とをさらに備えることができる。この場合、再同期部またはラウンドトリップ遅延補償部は、FIFO素子を使用することができる。
この場合、テスト実行者がテストパターンプログラムを作成する際に、特別な設定なくても容易に具現可能であるという長所がある。
また、前述したように、パターン生成部210で生成されるテストパターンデータは、コマンド、アドレス、及びデータ信号を含む。この場合、テスト比較部260は、不良として判断されたDUT380のアドレス、データ情報、及び不良が発生したテストパターンプログラムのパターンアドレスのうちいずれか1つ以上を格納するテスト結果格納部(図示せず)をさらに備えることができ、その後、不良DUT380を除去したり、テストパターンプログラムのデバッギングを容易に具現するように構成することができる。
または、パターン生成部210がテスト比較部260によって不良として判断されたDUT380のアドレス、データ情報、及び不良が発生したテストパターンプログラムのパターンアドレスのうちいずれか1つ以上を格納するテスト結果格納部(図示せず)をさらに備えることができる。
また、このようなアドレス、データ情報、及び不良が発生したテストパターンプログラムのパターンアドレスは、各々別途に格納されることもできる。
例えば、データ情報は、テスト比較部260で、アドレスは、パターン生成部210で各々別途に格納されることができる。
また、本発明に係る半導体素子のテスト装置は、このようなテスト比較部260のテスト結果、すなわち不良として判断されたDUT280のアドレス、データ情報などを外部の装置に伝送するテスト結果伝送部330をさらに備え、例えば、テスト実行者が簡便にテスト結果を確認できるように構成することができる。
図5は、本発明に係る半導体素子のテスト装置の実際具現例を示す図である。
“ALPG”で表示された部分は、パターン生成部210を示す。このようなパターン生成部210は、テストパターンプログラムをコンパイルし、バイナリに変換し、その後、使用のために格納する“インストラクションメモリ(Instruction Memory)”と、“インストラクションメモリ(Instruction Memory)”の資料を順次に読み取るための“シケースコントローラ(Sequence Controller)”と、これを基礎にしてDUTテストに必要なコマンドやアドレス、データを生成する“コマンド発生部(Command Generator)”と、“アドレス発生部(Address Generator)”と、“データ発生部(Data Generator)”を含み、また、DUTのチャネルに対して制御フラグ“制御フラグ(Control Flag)”を生成する。
“PDS”で表示された部分は、データ選択部220を示す。図示のように、“制御フラグ(Control Flag)”を基礎にしてコマンド、アドレス、及びデータを変換する。
“レイテンシー(Latency)”で表示された部分は、レイテンシー制御部270を示す。レイテンシー制御部は、FIFOを使用して遅延を調節するように構成され、コマンドまたはアドレスの場合、DUTに伝達すればよいので、“DR(drive) FIFO”を使用し、データの場合、DUTに伝達し、また、期待値信号を用いて比較しなければならないので、“DRE(drive enable)FIFO”及び“CPE(compare enable)FIFO”を利用するように構成される。
“FC/TC”で表示された部分は、フォーマット制御部230と、多重化部280と、逆多重化部290と、タイミング制御部300、及びビット移動部310を示す。
“FC”は、フォーマット制御部230を示し、“TC”は、タイミング制御部300及びビット移動部310を示す。また、“MUX”、“DEMUX”は、各々多重化部280及び逆多重化部290に対応する。
“Deskew”は、デスキュー制御部320であり、“ドライバ(Driver)”は、ドライバ部240に対応し、“比較部(Comparator)”は、出力比較部250に対応し、“DCP(digital comparator)”は、テスト比較部260に対応する。
“DFM(data fail memory)”及び”AFM(address fail memory)”は、テスト結果格納部に対応する。
この場合、“DCP”または“AFM”には、本願発明の再同期部に対応する“Resync FIFO”と、ラウンドトリップ遅延補償部に対応する“RTD FIFO”が含まれる。そして“DCP”では、データを比較し、“DFM(data fail memory)”に格納し、この場合、該当アドレスを“AFM”に伝送し、“AFM”に格納する。
以上において説明した本発明は、本発明が属する技術の分野における通常の知識を有する者であれば、本発明の技術的思想を逸脱しない範囲内で、様々な置換、変形及び変更が可能であるので、上述した実施形態及び添付された図面に限定されるものではない。
従来技術に係る半導体素子のテスト装置の例示的なブロック図である。 従来技術に係る半導体素子のテスト装置においてのテスト波形変換の例を示す図である。 本発明に係る半導体素子のテスト装置の例示的なブロック図である。 本発明に係る半導体素子のテスト装置においてのテスト波形変換の例を示す図である。 本発明に係る半導体素子のテスト装置の実際具現例を示す図である。
符号の説明
100 半導体素子のテスト装置
110 パターン生成部
120 タイミング生成部
130 フォーマット制御部
140 ドライバ部
150 比較部
160 テスト結果格納部
180 DUT
210 パターン生成部
220 データ選択部
230 フォーマット制御部
240 ドライバ部
250 出力比較部
260 テスト比較部
270 レイテンシー制御部
280 多重化部
290 逆多重化部
300 タイミング制御部
310 ビット移動部
320 デスキュー制御部
330 テスト結果伝送部
380 DUT

Claims (18)

  1. テストパターンプログラムを基礎にしてDUTのテストに必要な論理的テストパターンデータを生成するパターン生成部と、
    前記パターン生成部から伝達されるテストパターンデータを基礎にして前記DUTに伝達する物理的テストパターンデータ及びテスト期待値データに変換するデータ選択部と、
    前記物理的テストパターンデータをテスト実行のために設定される時間遅延値を基礎にして所望のテスト波形に変換するフォーマット制御部と、
    前記テスト波形を前記DUTに印加するドライバ部と、
    前記DUTからの前記テスト波形に対応した出力を受信し、テスト実行データを出力する出力比較部と、
    前記テスト実行データと前記テスト期待値データとを比較し、前記DUTの良否を判断するテスト比較部と、を備えることを特徴とする半導体素子のテスト装置。
  2. 前記物理的テストパターンデータを前記DUTに記録したり、または前記テスト期待値データと前記テスト実行データとを比較するために、前記物理的テストパターンデータまたは前記テスト期待値データを一定のサイクルの間に遅延することによって、レイテンシーを制御し、前記フォーマット制御部に印加するレイテンシー制御部をさらに備えることを特徴とする請求項1に記載の半導体素子のテスト装置。
  3. 前記テスト波形を前記DUTの動作速度に適合するように多重化する多重化部と、
    前記テスト実行データと前記テスト期待値データとの比較に適合した動作速度で逆多重化する逆多重化部と、をさらに備えることを特徴とする請求項1に記載の半導体素子のテスト装置。
  4. 前記テスト波形を前記多重化部に印加する前に、オーバーサンプリングを行うタイミング制御部をさらに備えることを特徴とする請求項3に記載の半導体素子のテスト装置。
  5. 前記オーバーサンプリングを行った後に、前記テスト波形をビット単位で移動し、前記多重化部に印加するビット移動部をさらに備えることを特徴とする請求項4に記載の半導体素子のテスト装置。
  6. 前記テスト波形を前記ドライバ部を介してDUTに伝送する前に、または前記DUTから前記テスト実行データを前記出力比較部を介して受信した後に、前記DUTの各チャネルに発生するタイミングスキューを補償するデスキュー制御部をさらに備えることを特徴とする請求項1に記載の半導体素子のテスト装置。
  7. 前記デスキュー制御部は、前記DUTの各チャネル毎にタイミングスキューを設定し、タイミングスキューを補償することを特徴とする請求項6に記載の半導体素子のテスト装置。
  8. 前記多重化部によって多重化されたテスト波形を前記ドライバ部を介してDUTに伝送する前に、または前記DUTから前記テスト実行データを前記出力比較部を介して受信した後に、前記DUTの各チャネルに発生するタイミングスキューを補償するデスキュー制御部をさらに備え、
    前記デスキュー制御部は、前記タイミングスキュー値があらかじめ定められた値より大きい場合、前記ビット移動部を用いて前記タイミングスキューを一部補償するように前記ビット移動部と連動することを特徴とする請求項5に記載の半導体素子のテスト装置。
  9. 前記デスキュー制御部は、前記DUTの各チャネル毎にタイミングスキューを設定し、タイミングスキューを補償することを特徴とする請求項8に記載の半導体素子のテスト装置。
  10. 前記ドライバ部は、前記テスト波形を“ハイ(High)”、“ロウ(Low)”、 “ターミネーション(Termination)”の3つのレベルに前記DUTに印加することを特徴とする請求項1に記載の半導体素子のテスト装置。
  11. 前記出力比較部は、前記DUTからの前記テスト波形に対応した出力を受信し、あらかじめ定められた臨界値を基準にして比較し、前記テスト実行データを出力することを特徴とする請求項1に記載の半導体素子のテスト装置。
  12. 前記臨界値は、可変的に設定されることを特徴とする請求項11に記載の半導体素子のテスト装置。
  13. 前記出力比較部は、前記臨界値を基準にして一定のウィンドウを設定した後に、前記ウィンドウを外れる信号だけに対して出力レベルを決定し、前記テスト実行データを生成することを特徴とする請求項11に記載の半導体素子のテスト装置。
  14. 前記テスト比較部は、前記半導体素子のテスト装置と前記DUTとの間のラウンドトリップ遅延を考慮して前記テスト実行データの再同期を行う再同期部と、
    前記テスト期待値信号を前記ラウンドトリップ遅延によって遅延させるラウンドトリップ遅延補償部と、をさらに備えることを特徴とする請求項1に記載の半導体素子のテスト装置。
  15. 前記パターン生成部は、前記物理的テストパターンデータへの変換のために前記DUTの各チャネルを基礎とする制御フラグを形成し、前記データ選択部に伝達し、
    前記データ選択部は、あらかじめ定められた多数のデータ選択テーブルを参照して前記制御フラグを基礎にして前記DUTの各チャネル毎に伝送される前記物理的テストパターンデータに変換することを特徴とする請求項1に記載の半導体素子のテスト装置。
  16. 前記テストパターンデータは、コマンド、アドレス、及びデータ信号を含み、
    前記テスト比較部は、不良として判断された前記DUTのアドレス、データ情報、及び前記不良が発生したテストパターンプログラムのパターンアドレスのうちいずれか1つ以上を格納するテスト結果格納部をさらに備えることを特徴とする請求項1に記載の半導体素子のテスト装置。
  17. 前記テストパターンデータは、コマンド、アドレス、及びデータ信号を含み、
    前記パターン生成部は、前記テスト比較部で不良と判断された前記DUTのアドレス、データ情報、及び前記不良が発生したテストパターンプログラムのパターンアドレスのうちいずれか1つ以上を格納するテスト結果格納部をさらに備えることを特徴とする請求項1に記載の半導体素子のテスト装置。
  18. 前記テスト比較部の前記DUTの良否を判断した結果を外部の装置に伝送するテスト結果伝送部をさらに備えることを特徴とする請求項1に記載の半導体素子のテスト装置。
JP2007199424A 2006-08-01 2007-07-31 半導体素子のテスト装置 Pending JP2008039779A (ja)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020060072743A KR100736673B1 (ko) 2006-08-01 2006-08-01 반도체 소자 테스트 장치

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2008039779A true JP2008039779A (ja) 2008-02-21

Family

ID=38503507

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007199424A Pending JP2008039779A (ja) 2006-08-01 2007-07-31 半導体素子のテスト装置

Country Status (4)

Country Link
US (1) US7739572B2 (ja)
JP (1) JP2008039779A (ja)
KR (1) KR100736673B1 (ja)
DE (1) DE102007034279B4 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20180121838A (ko) * 2017-05-01 2018-11-09 주식회사 아도반테스토 테스트 시스템 및 방법

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101002102B1 (ko) * 2008-11-17 2010-12-16 한양대학교 산학협력단 반도체 소자의 테스트 방법
DE102009010886B4 (de) * 2009-02-27 2013-06-20 Advanced Micro Devices, Inc. Erkennung der Verzögerungszeit in einem eingebauten Speicherselbsttest unter Anwendung eines Ping-Signals
US9032129B2 (en) * 2009-10-14 2015-05-12 Silicon Laboratories Norway As Advanced energy profiler
KR100974669B1 (ko) 2009-11-26 2010-08-09 주식회사 아이티엔티 룩업 테이블을 내장한 보스트 회로 장치 또는 패턴 생성 장치, 및 이를 이용한 테스트 대상 디바이스에 대한 테스트 데이터 출력 방법
KR101406834B1 (ko) * 2011-10-21 2014-06-18 (주)블루이엔지 스큐를 조절할 수 있는 번인 테스트 장치 및 그 제어 방법
US10164808B2 (en) * 2016-09-29 2018-12-25 Viavi Solutions Deutschland Gmbh Test instrument for testing devices internally performing signal conversions
WO2022017590A1 (en) * 2020-07-21 2022-01-27 Advantest Corporation Automated test equipment and method using device specific data

Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61175580A (ja) * 1985-01-31 1986-08-07 Hitachi Ltd アルゴリズミツクパタ−ン発生装置
JPS6212880A (ja) * 1985-07-10 1987-01-21 Advantest Corp タイミング発生装置
JPS6433083U (ja) * 1987-08-21 1989-03-01
JPH045584A (ja) * 1990-04-23 1992-01-09 Advantest Corp Ic試験装置
JPH08179012A (ja) * 1994-12-22 1996-07-12 Advantest Corp 半導体試験装置の波形整形回路
JPH097392A (ja) * 1995-06-19 1997-01-10 Advantest Corp 半導体試験装置
JPH11287844A (ja) * 1998-04-03 1999-10-19 Advantest Corp Ic試験装置におけるスキュー調整方法及びこれに用いる疑似デバイス
JP2000011693A (ja) * 1998-06-26 2000-01-14 Advantest Corp データ転送装置、メモリデバイス試験装置、データ転送方法及びメモリデバイス試験方法
JP2001124836A (ja) * 1999-09-25 2001-05-11 Advantest Corp イベント型半導体テストシステム
JP2002116241A (ja) * 2000-10-05 2002-04-19 Advantest Corp Ic試験装置
JP2003156528A (ja) * 2001-11-20 2003-05-30 Advantest Corp 半導体試験装置

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62207978A (ja) 1986-03-10 1987-09-12 Yokogawa Electric Corp テストシステム自己診断装置
US4876685A (en) * 1987-06-08 1989-10-24 Teradyne, Inc. Failure information processing in automatic memory tester
US5062109A (en) * 1988-09-02 1991-10-29 Advantest Corporation Memory tester
JP2831780B2 (ja) * 1990-02-02 1998-12-02 株式会社アドバンテスト Ic試験装置
JPH04218785A (ja) * 1990-12-19 1992-08-10 Advantest Corp Ic試験装置
US5566188A (en) * 1995-03-29 1996-10-15 Teradyne, Inc. Low cost timing generator for automatic test equipment operating at high data rates
JPH10142298A (ja) * 1996-11-15 1998-05-29 Advantest Corp 集積回路デバイス試験装置
US5919270A (en) * 1997-08-29 1999-07-06 Credence Systems Corporation Programmable formatter circuit for integrated circuit tester
US6521215B2 (en) * 1999-05-28 2003-02-18 Devin Okay Compositions and methods for tooth treatment
US6678643B1 (en) * 1999-06-28 2004-01-13 Advantest Corp. Event based semiconductor test system
US6553529B1 (en) * 1999-07-23 2003-04-22 Teradyne, Inc. Low cost timing system for highly accurate multi-modal semiconductor testing
JP3453133B2 (ja) * 1999-08-16 2003-10-06 株式会社アドバンテスト Ic試験装置のタイミング校正方法及びその校正方法を用いた校正機能を有するic試験装置
US6557128B1 (en) * 1999-11-12 2003-04-29 Advantest Corp. Semiconductor test system supporting multiple virtual logic testers
JP2002071762A (ja) * 2000-06-13 2002-03-12 Advantest Corp 半導体試験装置及びそのモニタ装置
US6392404B1 (en) * 2000-07-31 2002-05-21 Credence Systems Corporation Triggered integrated circuit tester
JP4430801B2 (ja) * 2000-08-03 2010-03-10 株式会社アドバンテスト 半導体メモリ試験装置
US6772382B2 (en) * 2001-05-02 2004-08-03 Teradyne, Inc. Driver for integrated circuit chip tester
US6779140B2 (en) * 2001-06-29 2004-08-17 Agilent Technologies, Inc. Algorithmically programmable memory tester with test sites operating in a slave mode
US6865704B2 (en) * 2001-11-09 2005-03-08 Agilent Technologies, Inc. Scan multiplexing for increasing the effective scan data exchange rate
JP2003156543A (ja) * 2001-11-20 2003-05-30 Advantest Corp 半導体試験装置
US7089135B2 (en) * 2002-05-20 2006-08-08 Advantest Corp. Event based IC test system
US7243278B2 (en) * 2005-09-14 2007-07-10 Credence Systems Corporation Integrated circuit tester with software-scaleable channels

Patent Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61175580A (ja) * 1985-01-31 1986-08-07 Hitachi Ltd アルゴリズミツクパタ−ン発生装置
JPS6212880A (ja) * 1985-07-10 1987-01-21 Advantest Corp タイミング発生装置
JPS6433083U (ja) * 1987-08-21 1989-03-01
JPH045584A (ja) * 1990-04-23 1992-01-09 Advantest Corp Ic試験装置
JPH08179012A (ja) * 1994-12-22 1996-07-12 Advantest Corp 半導体試験装置の波形整形回路
JPH097392A (ja) * 1995-06-19 1997-01-10 Advantest Corp 半導体試験装置
JPH11287844A (ja) * 1998-04-03 1999-10-19 Advantest Corp Ic試験装置におけるスキュー調整方法及びこれに用いる疑似デバイス
JP2000011693A (ja) * 1998-06-26 2000-01-14 Advantest Corp データ転送装置、メモリデバイス試験装置、データ転送方法及びメモリデバイス試験方法
JP2001124836A (ja) * 1999-09-25 2001-05-11 Advantest Corp イベント型半導体テストシステム
JP2002116241A (ja) * 2000-10-05 2002-04-19 Advantest Corp Ic試験装置
JP2003156528A (ja) * 2001-11-20 2003-05-30 Advantest Corp 半導体試験装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20180121838A (ko) * 2017-05-01 2018-11-09 주식회사 아도반테스토 테스트 시스템 및 방법
KR102477909B1 (ko) 2017-05-01 2022-12-14 주식회사 아도반테스토 테스트 시스템 및 방법

Also Published As

Publication number Publication date
DE102007034279B4 (de) 2015-11-19
US20080034266A1 (en) 2008-02-07
KR100736673B1 (ko) 2007-07-06
DE102007034279A1 (de) 2008-02-07
US7739572B2 (en) 2010-06-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2008039779A (ja) 半導体素子のテスト装置
US7688099B2 (en) Sequential semiconductor device tester
TWI352996B (en) Tester for testing semiconductor device
JP5181499B2 (ja) Scanテスト回路及び半導体集積回路
KR100736675B1 (ko) 반도체 소자 테스트 장치
TWI453445B (zh) 被測試元件的測試裝置以及測試方法
JP5124019B2 (ja) 試験装置
JP4098264B2 (ja) 試験装置及び試験方法
US7802154B2 (en) Method and apparatus for generating high-frequency command and address signals for high-speed semiconductor memory device testing
JP4607041B2 (ja) 半導体メモリ装置の内部クロック生成方法及びこれを利用した半導体メモリ装置
US7652497B2 (en) Sequential semiconductor device tester
JPH11312400A (ja) 半導体集積回路
JP2010079520A (ja) メモリモジュールのコントローラ及びメモリモジュールのコントローラの制御方法
JP2012247317A (ja) 試験装置および試験方法
JP4263810B2 (ja) 半導体メモリ試験装置及び試験方法
KR101086874B1 (ko) 반도체 집적회로
JP2009301612A (ja) 半導体記憶装置
KR100295250B1 (ko) 반도체 메모리 시험장치 및 시험방법
KR20100122212A (ko) 반도체 메모리 테스트 보드, 이를 포함하는 반도체 메모리 테스트 시스템 및 반도체 메모리 테스트 방법
KR100999201B1 (ko) 고속 클록 주파수 테스트를 위한 디큐 체배 방법 및 테스트 시스템
JP2006294111A (ja) 半導体装置
JP2007139474A (ja) 試験装置、プログラム、及び記録媒体
JPWO2009025227A1 (ja) 試験装置、試験方法、および、製造方法
JP2012043516A (ja) 半導体記憶装置及びそのテスト方法
JP2012021820A (ja) 試験装置および試験方法

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20091116

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20091124

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20100420