JP2007533153A - 距離調整用非接触支持台 - Google Patents
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Abstract
【選択図】図1
Description
Claims (72)
- 流体クッション上の実質的に平坦な静止か移動対象物を物理的接触なしに支える装置で、この対象物は流体クッションギャップで浮動し、この装置はギャップを全域か局所で調整すること目的にし、この装置が
非接触で対象物を支える第一土台からなり、この土台が一個以上の区域からなる実質的に平坦な活性表面を有し、各区域が複数基本セルの内少なくとも一つを含み、各基本セルが圧力調整流量絞り弁により基本セルの位置する区域に関する高圧マニフォールドと流体的に連結した複数圧力出口の内少なくとも一つを有し、高圧マニフォールドが主供給パイプラインにより加圧流体供給と主排気パイプラインを有する基本セルが位置する区域に関する低圧マニフォールドと流体的に連結した複数流体排気チャネルの内の少なくとも一つと流体的に連結する装置で、
流量絞り弁が流体的伸縮バネ挙動を特徴的に示し、少なくとも一個の圧力調整弁を区域の二個のマニフォールドの内の少なくとも一つの圧力レベルを制御するため、少なくとも一区域の二個の主パイプラインの内の少なくとも一つの間に配置することからなる装置。 - 少なくとも一個の該圧力調整弁を高圧マニフォールドの圧力レベルを制御するため、少なくとも
一区域の高圧マニフォールドと加圧流体供給間の主供給パイプラインの間に配置する請求項1に記載の装置。 - 少なくとも一個の該圧力調整弁を低圧マニフォールドの少なくとも一区域の圧力レベルを制御するため、主排気パイプラインの間に配置する請求項1に記載の装置。
- 少なくとも一区域で差動ギャップ制御が可能なように、一個の圧力調整弁を主供給パイプラインの間に配置し、第二圧力調整弁を主排気パイプラインの間に配置する請求項1に記載の装置。
- ギャップが100乃至500ミクロン範囲の請求項1に記載の装置。
- 少なくとも一個の該圧力調整弁を用いてギャップを50乃至250ミクロンの範囲に調整してギャップを増減する請求項5に記載の装置。
- 各区域の低圧マニフォールドが主排気パイプラインにより減圧容器と流体的に連結し、その結果圧力出口と流体排気チャネルにより支持対象物と土台活性表面間で予圧真空型流体クッションを維持する請求項1に記載の装置。
- ギャップが10乃至100ミクロンの範囲の請求項7に記載の装置。
- 少なくとも一個の該圧力調整弁を用いてギャップを5乃至50ミクロン間範囲に変化してギャップを増減する請求項8に記載の装置。
- 少なくとも一つ以上の該区域がギャップ全域でギャップを調整する一区域のみからなる請求項1に記載の装置。
- 圧力調整流量絞り弁が自己対応分岐オリフィス(SASO)流量絞り弁からなる請求項1に記載の装置。
- 流量絞り弁を複数流体排出チャネルの内の少なくとも一つの該チャネルと低圧マニフォールド間に配置するように備えた請求項1に記載の装置。
- 真空流量絞り弁が自己対応分岐オリフィス(SASO)流量絞り弁からなる請求項12の装置。
- 活性表面が円形の請求項1に記載の装置。
- 区域が環形状で、環状で同心的に配置する請求項14の装置。
- 活性表面が長方形の請求項1に記載の装置。
- 区域が実質的に長方形形状で、実質的に平行に配置する請求項16に記載の装置。
- 更に装置活性表面と実質的に同一面上の活性表面を有する少なくとも一個の隣接非接触支持台を備えた請求項1に記載の装置。
- 区域が中間受動領域により分離した請求項1に記載の装置。
- 中間受動領域表面が活性領域表面より低い請求項19に記載の装置。
- 更に対象物、土台或いはこの両者を移動させる運動装置を備えた請求項1に記載の装置。
- 運動装置が対象物か土台を回転させる回転装置を含む請求項21に記載の装置。
- 運動装置が対象物か土台を直線的に移動させる直線運動装置を含む請求項21に記載の装置。
- 運動装置が対象物か土台を、面を横切って移動させる平面運動装置を含む請求項21に記載の装置。
- 制御ユニットが運動装置を制御する請求項21に記載の装置。
- 活性表面が一個以上の点検開口部を含む請求項1に記載の装置。
- 更に少なくとも一個の補助装置を備えた請求項1に記載の装置。
- 少なくとも一個の該補助装置が着陸装置、リミッター、位置合わせ装置、グリッパー、浮動グリッパーを含む一群の補助装置から選んだ請求項27に記載の装置。
- 少なくとも一個の該補助装置が弯曲部を備えた請求項27に記載の装置。
- 少なくとも一個の該補助装置が流体クッションにより支えられた請求項27に記載の装置。
- 少なくとも一個のピストンを、少なくとも一区域の、少なくとも一つのマニフォールドの容積を変化させるように備えた請求項1に記載の装置。
- 制御ユニットが少なくとも一個のピストンを制御する請求項31に記載の装置。
- 流体クッションの流体が空気で、それにより空気クッション支えを提供する請求項1に記載の装置。
- 更に土台により生じた流体クッションで支えられた中板を含み、中板が対象物を接触支持する請求項1に記載の装置。
- 更に中板と土台活性表面間の流体クッションを分離隔離する可撓性周辺分離要素を備えた請求項34に記載の装置。
- 更に土台により生じた流体クッションで支えられた中板を含み、中板が対象物を非接触で支える請求項1に記載の装置。
- 制御ユニットが一個以上の該区域の、少なくとも一個の圧力調整弁を制御して、ギャップを全域か局所で調整することを備えた請求項1に記載の装置。
- 更に制御ユニットとやり取りする少なくとも一個のセンサーを備えた請求項37に記載の装置。
- 少なくとも一個の該センサーが近位センサー、位置センサー、距離センサー、圧力レベルセンサー、厚みセンサーを含む一群から選んだ請求項38に記載の装置。
- 流体クッションギャップを(a)土台活性表面に面した薄い実質的に平坦な対象物表面と(b)土台活性表面間距離に対して全域か局所で調整する請求項1に記載の装置。
- 流体緩衝体ギャップを(a)土台で支えた薄い実質的に平坦な対象物と(b)土台上で連動した工具か仮想参照間距離に対して全体か局所的に調整する請求項1に記載の装置。
- 請求項1に記載の装置で、更に第二対向土台を備え、第二対向土台が複数基本セルの内少なくとも一個含む実質的に平坦な活性表面を有し、各基本セルが圧力調整流量絞り弁により高圧マニフォールドと流体的に連結した複数圧力出口の内の少なくとも一つを有し、高圧マニフォールドが主供給パイプラインにより加圧流体供給と主排気パイプラインと連結した低圧マニフォールドと流体的に連結した複数流体排出チャネルの内の少なくとも一つと流体的に連結し、対向土台活性表面が第一土台と実質的に同一であり、第一土台に対して実質的に平行で鏡面対称に組み立て、その結果対象物を両面で支える装置。
- 第二対向土台が別々に制御可能な区域に分割した請求項42に記載の装置。
- 二個の対向土台の内の少なくとも一個の少なくとも一区域での低圧マニフォールドが、少なくとも一個の該区域の主排気パイプラインにより減圧容器と流体的に連結し、それにより予圧真空型流体クッションを作る請求項43に記載の装置。
- 二個の対向土台間距離を対象物の予測名目厚みと流体クッションの二つのギャップによりあらかじめ決める請求項42に記載の装置。
- 第一土台に供給した圧力レベルと減圧が第二対向土台に供給した圧力レベルと減圧とを違えて両面配置を操作する請求項42に記載の装置。
- 対向区域を差動ギャップ制御ができるように同時に制御する請求項42に記載の装置。
- 対向区域が同一である請求項47に記載の装置。
- 土台の少なくとも一個が対象物に近づくか目視するのを助ける少なくとも一個の点検開口部を含む請求項42に記載の装置。
- 土台活性表面が実質的に平坦な表面に面しその表面上で浮動し、浮動ギャップを距離と平行性制御が可能な少なくとも一個の圧力調整弁で局所か全域を制御する請求項1に記載の装置。
- 土台を用いて運動装置により土台表面を横に横切るように移動し、対象物を支える請求項50に記載の装置。
- 土台を用いて予定参照に対して工具距離を局所か全域で調整するためにプロセス工具を保持する請求項50に記載の装置。
- 土台を用いて空力学的焦点合わせのために光学機器を維持する請求項50に記載の装置。
- 更に対象物を保持か移動するための十分に剛直で比較的薄い広幅の浮動処理要素を備え、その要素がAM的剛直流体クッションで支えられるようにし、有効な複合的剛直性を生ずるようにする請求項1に記載の装置。
- 浮動ギャップや実質的に平坦な対象物の平坦性を全域か局所で制御する方法で、その方法が
非接触で対象物を支える第一土台を提供し、この土台が一個以上の区域からなる実質的に平坦な活性表面を有し、各区域が複数基本セルの内の少なくとも一つを含み、各基本セルが圧力調整流量絞り弁により、基本セルの位置する区域に関する高圧マニフォールドと流体的に連結した複数圧力出口の内の少なくとも一つを有し、高圧マニフォールドが主供給パイプラインにより加圧流体供給と主排気パイプラインを有する基本セルが位置する区域に関する低圧マニフォールドと流体的に連結した複数流体排気チャネルの少なくとも一つと流体的に連結するものからなり、流量絞り弁が流体的伸縮バネ挙動を特徴的に示し、少なくとも一個の圧力調整弁を区域の二個のマニフォールドの内の少なくとも一つの圧力レベルを制御するため、少なくとも一区域の二個の主パイプラインの内の少なくとも一つの間に配置することからなり、
流体クッションを維持し、
流体クッション上に対象物位置決めし、且つ
浮動ギャップを少なくとも一個の圧力調整弁で、対象物の浮動ギャップか対象物の平坦性を区域制御で局所か全域で制御する方法。 - 対象物の対向面と参照要素間距離を調整するのに用いる請求項55に記載の方法。
- 対象物表面を光学機器に対して焦点合わせに用いる請求項55に記載の方法。
- 品目表面上の光学機器に対して焦点を合わすのに用いる請求項55に記載の方法。
- 対象物表面の平行性を参照面に対して調整するのに用いる請求項55に記載の方法。
- 対象物に力をかけて対象物表面の平行性を調整するのに用いる請求項58の方法。
- 更に閉じ制御ループか開き制御ループ用のフィードバック情報を受信することを含む請求項55に記載の方法。
- 全域か局所自動焦点合わせするのに使用する請求項61に記載の方法。
- 対象物表面の曲率を操作するのに用いする請求項55に記載の方法。
- 対象物に力をかけて対象物表面の曲率を操作するのに用いる請求項55に記載の方法。
- 曲率操作を対象物への均一な力をかけるのを助けるように行う請求項64に記載の方法。
- 土台活性表面の平坦性を予備較正するのに用いる請求項55に記載の方法。
- 請求項55に記載の方法で、更に第二対向土台の提供を含み、第二対向土台が複数基本セルの内少なくとも一個含む実質的に平坦な活性表面を有し、各基本セルが圧力調整流量絞り弁により高圧マニフォールドと流体的に連結した複数圧力出口の内の少なくとも一つを有し、高圧マニフォールドが主供給パイプラインにより加圧流体供給と主排気パイプラインと連結した低圧マニフォールドと流体的に連結した複数流体排出チャネルの少なくとも一つと流体的に連結し、対向土台活性表面が第一土台と実施的に同一であり、第一土台に対して実質的に平行で鏡面対称に組み立て、その結果対象物の両面支持を生ずる方法。
- 対象物を静止位置で支える請求項55に記載の方法。
- 対象物とプロセス工具間で制御した相対的走査運動を提供する請求項55に記載の方法。
- 対象物とプロセス工具間で制御した相対的な点から点への運動を提供する請求項55に記載の方法。
- 流体クッションギャップ調整特性以外に、装置がプロセスを助けることが可能な請求項55に記載の方法。
- 流体クッションギャップ調整特性以外に、装置がプロセスを実施できる請求項55に記載の方法。
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