JP2007300118A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2007300118A5
JP2007300118A5 JP2007119098A JP2007119098A JP2007300118A5 JP 2007300118 A5 JP2007300118 A5 JP 2007300118A5 JP 2007119098 A JP2007119098 A JP 2007119098A JP 2007119098 A JP2007119098 A JP 2007119098A JP 2007300118 A5 JP2007300118 A5 JP 2007300118A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
bubble
etching
glass substrate
injection
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2007119098A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP4980783B2 (ja
JP2007300118A (ja
Filing date
Publication date
Priority claimed from KR1020060038222A external-priority patent/KR20070105699A/ko
Application filed filed Critical
Publication of JP2007300118A publication Critical patent/JP2007300118A/ja
Publication of JP2007300118A5 publication Critical patent/JP2007300118A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4980783B2 publication Critical patent/JP4980783B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2007119098A 2006-04-27 2007-04-27 基板エッチング装置及びそれを用いた基板エッチング方法 Expired - Fee Related JP4980783B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR10-2006-0038222 2006-04-27
KR1020060038222A KR20070105699A (ko) 2006-04-27 2006-04-27 기판 식각 장치 및 이를 이용한 기판 식각 방법

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2007300118A JP2007300118A (ja) 2007-11-15
JP2007300118A5 true JP2007300118A5 (https=) 2010-05-27
JP4980783B2 JP4980783B2 (ja) 2012-07-18

Family

ID=38769293

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007119098A Expired - Fee Related JP4980783B2 (ja) 2006-04-27 2007-04-27 基板エッチング装置及びそれを用いた基板エッチング方法

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP4980783B2 (https=)
KR (1) KR20070105699A (https=)
CN (1) CN101062837B (https=)
TW (1) TWI397120B (https=)

Families Citing this family (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101375848B1 (ko) 2006-12-08 2014-03-18 (주)스마트에이스 기판식각장치 및 이를 이용한 액정표시소자 제조라인
KR100860294B1 (ko) * 2008-01-09 2008-09-25 주식회사 이코니 유리기판 에칭 장치와 상기 에칭 장치에 의하여 제조된유리박판
KR100911598B1 (ko) * 2008-01-09 2009-08-07 주식회사 실트론 버블 발생유닛 및 이를 포함하는 웨이퍼 에칭 장치
KR101304103B1 (ko) * 2011-10-17 2013-09-05 호서대학교 산학협력단 초박형 글래스판 제조 방법
KR101151296B1 (ko) * 2012-02-03 2012-06-08 주식회사 엠엠테크 기판 에칭 장치
CN103508675B (zh) * 2012-06-28 2016-09-14 Sti有限公司 用于玻璃蚀刻装置的气泡生成器
KR101404236B1 (ko) * 2013-03-13 2014-06-05 박경용 글라스 기판 식각장치 및 방법
CN104445975A (zh) * 2014-12-01 2015-03-25 欧浦登（顺昌）光学有限公司 一种玻璃局部防眩加工工艺及其产品
CN104891817B (zh) * 2015-06-09 2017-05-03 武汉华星光电技术有限公司 浸泡式玻璃基板蚀刻机
CN106356322A (zh) * 2016-10-20 2017-01-25 北方电子研究院安徽有限公司 一种晶圆腐蚀装置以及腐蚀方法
CN107357094B (zh) * 2017-08-16 2020-06-05 武汉华星光电技术有限公司 液晶滴下装置及液晶喷洒装置
JP6971124B2 (ja) * 2017-10-24 2021-11-24 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置
CN108417509A (zh) * 2018-01-29 2018-08-17 九江维信诺科技有限公司 片材刻蚀装置
JP7176904B2 (ja) * 2018-09-21 2022-11-22 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 基板処理装置および基板処理方法
KR101999548B1 (ko) * 2019-02-28 2019-07-12 제일유리 주식회사 유리표면 처리장치
KR101976069B1 (ko) * 2019-03-06 2019-05-07 주식회사 삼성플랜텍 공기공급부를 가지는 판유리 적재용 지그
KR101994320B1 (ko) * 2019-03-11 2019-09-30 주식회사 삼성플랜텍 생산수율이 대폭 향상되는 화학강화 유리 제조장치
KR101995324B1 (ko) * 2019-03-12 2019-10-02 정창수 공기공급부를 가지는 원형 배치타입의 화학강화 유리 제조장치
JP7467233B2 (ja) * 2020-05-26 2024-04-15 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置
JP7461269B2 (ja) * 2020-10-09 2024-04-03 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 基板処理装置
JP7716349B2 (ja) * 2022-01-28 2025-07-31 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 基板処理装置
CN114899131A (zh) * 2022-06-09 2022-08-12 扬州赛诺高德电子科技有限公司 一种微小气泡辅助蚀刻加工装置以及方法
CN117945663B (zh) * 2024-02-04 2025-07-18 赛德半导体有限公司 一种湿法蚀刻设备

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62119543A (ja) * 1985-11-20 1987-05-30 Mitsubishi Electric Corp 半導体製造装置
JP2522805B2 (ja) * 1987-11-20 1996-08-07 三井石油化学工業株式会社 洗浄方法
US6630052B1 (en) * 1996-06-26 2003-10-07 Lg. Philips Lcd Co., Ltd. Apparatus for etching glass substrate
JP3183214B2 (ja) * 1997-05-26 2001-07-09 日本電気株式会社 洗浄方法および洗浄装置
US6911097B1 (en) * 2000-07-31 2005-06-28 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Photoresist stripper using nitrogen bubbler
AU2002950934A0 (en) * 2002-08-21 2002-09-12 U. S. Filter Wastewater Group, Inc. Aeration method
TW543113B (en) * 2002-09-20 2003-07-21 Sti Co Ltd Auto-etching unit and method for TFT-LCD glass substrate
KR20040110391A (ko) * 2003-06-19 2004-12-31 삼성전자주식회사 기판 처리 장치
KR20050064377A (ko) * 2003-12-23 2005-06-29 엘지.필립스 엘시디 주식회사 버블판을 포함하는 식각장치 및 이를 이용한 식각 방법
JP2005211718A (ja) * 2004-01-27 2005-08-11 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理装置
JP4071220B2 (ja) * 2004-03-17 2008-04-02 西山ステンレスケミカル株式会社 ガラス基板の製造方法
JP2006216742A (ja) * 2005-02-03 2006-08-17 Renesas Technology Corp 洗浄装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2007300118A5 (https=)
JP4980783B2 (ja) 基板エッチング装置及びそれを用いた基板エッチング方法
EP2418022A4 (en) DEVICE AND METHOD FOR CLEANING A THIN-LAYER SOLAR CELL PLATE BY MEANS OF A HIGH-PRESSURE LIQUID BEAM
TW200624280A (en) Liquid droplet ejection device, liquid droplet ejection method, manufacturing method of electro-optical device, electro-optical device and electronic equipment
KR101068113B1 (ko) 유리기판 에칭장치
JP4702287B2 (ja) 液滴吐出装置、機能膜形成方法、液晶配向膜形成装置及び液晶表示装置の液晶配向膜形成方法
CN102219387A (zh) 一种液晶玻璃面板的蚀刻方法
CN101632991B (zh) 流体喷射装置
KR101212508B1 (ko) 기판 웨팅성 테스트 장치
KR100925472B1 (ko) 에어나이프 장치
KR20140134378A (ko) 유체 분사 장치 및 이를 구비하는 기판 세정 장치
JP2007052435A5 (https=)
EP3235643B1 (en) Inkjet head, inkjet recording device, and method of manufacturing inkjet head
KR101240959B1 (ko) 에칭액 분사를 위한 노즐을 포함하는 에칭액 공급장치 및 유리기판 에칭 장치
KR101741806B1 (ko) 리니어 분사체 및 이를 포함하는 증착장치
KR101267464B1 (ko) 유체 분사 장치
KR101224904B1 (ko) 마스크 세정장치
KR20100059235A (ko) 유체 분사 장치
KR101195374B1 (ko) 직교형 상부 하향 분사식 기판 에칭 장치
KR101313655B1 (ko) 기판식각장치
CN223199731U (zh) 喷墨印刷装置
KR101519969B1 (ko) 이류체 노즐을 포함하는 프리웨팅 장치
CN202293660U (zh) 喷墨单元及喷墨设备
KR100700293B1 (ko) 기판 건조 장치
KR20140111436A (ko) 실린더 헤드의 워터자켓 세척시스템