CN108417509A - 片材刻蚀装置 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及显示设备制造领域,公开的一种片材刻蚀装置包括输送组件和喷淋组件;所述片材设置于输送组件上,所述片材所在的平面垂直于水平面;喷淋组件设置于所述片材的至少一侧,其中所述喷淋组件内设置有处理液。本发明提供的片材刻蚀装置,由于输送组件输送片材时,片材所在的平面是垂直于水平面的,因此,片材侧面的喷淋组件向片材表面喷洒处理液时,处理液喷洒至指定位置后便会在重力的作用下自动排出,片材表面刻蚀较为均匀,且片材边缘较为光滑,刻蚀效果优异。片材不会出现因传统的浸渍模式而导致的表面不均匀,图案边缘多锯齿形、不光滑的情况,也不会因传统的喷淋模式而导致片材表面的“水池效应”的出现。

Description

片材刻蚀装置
技术领域
本发明涉及显示设备制造领域,具体涉及一种片材刻蚀装置。
背景技术
随着信息技术的发展,有机电致发光器件因其具有高对比度、广视角、低功耗、体积薄等优点,已成为目前平板显示技术中最受关注的技术之一。
研究表明,空气中的水汽和氧气等成分对有机电致发光器件的寿命影响很大,其主要原因是从以下方面进行考虑:有机电致发光器件工作时要从阴极注入电子,这就要求阴极功函数越低越好,但制作阴极的金属如铝、镁、钙等,一般较活泼,易与渗透进来的水汽发生反应。并且,水汽还会与空穴传输层以及电子传输层发生化学反应,容易引起器件失效。因此,对有机电致发光器件进行有效封装显得尤为重要。
现有的有机电致发光器件的封装片大多是采用湿法刻蚀工艺制备而成,典型的湿法刻蚀工艺包括喷淋模式和浸渍模式。浸渍模式是将封装片整个沉浸在酸性药剂中进行刻蚀,此方法刻蚀效果差,制备出的封装片表面不均匀,图案边缘多为锯齿形,不光滑,进而影响有机发光器件的封装效果。喷淋模式通常是向下喷淋药剂,药剂与下方水平移动的封装片进行化学反应,此方法中,药剂容易因重力作用在水平移动的封装片上面形成水膜,继而阻碍新的药剂与封装片接触,造成封装片上表面的“水池效应”,影响封装片的刻蚀效果以及封装效果。
类似于上述有机电致发光器件的封装片这种需要经湿法刻蚀工艺制备而成的片材还有很多,如何优化其刻蚀效果是急需解决的问题之一。
发明内容
为此,本发明所要解决的技术问题是如何优化片材的刻蚀效果。
为解决上述技术问题,本发明采用的技术方案如下:
本发明提供了一种片材刻蚀装置,包括:
输送组件,所述片材设置于输送组件上,其中所述片材所在的平面垂直于水平面;
喷淋组件,设置于所述片材的至少一侧,其中所述喷淋组件内设置有处理液。
可选地,所述输送组件包括:
第一输送导轨,安装于所述片材的第一侧边;
第二输送导轨,安装于所述片材的第二侧边,所述第二侧边与所述第一侧边相对设置。
可选地,所述第一输送导轨和所述第二输送导轨连接设置。
可选地,所述输送组件还包括:
驱动电机,分别与所述第一输送导轨和所述第二输送导轨连接。
可选地,所述喷淋组件的喷洒方向与所述片材所在平面垂直,喷液口与所述片材最接近的表面的垂直间距为5-10cm。
可选地,所述喷淋组件包括:
若干喷嘴;
储液件,与所述喷嘴连接,所述储液件内设置有处理液;
泵送件,分别与所述喷嘴和所述储液件连接。
可选地,所述喷嘴为锥形或扇形。
可选地,还包括:
过滤件,设置于所述片材的垂直下方,同时与所述储液件连接。
可选地,还包括依次设置在输送组件输送方向上的风帘风切单元、酸洗风切单元、蚀刻单元、水洗单元以及风刀吹干单元。
可选地,所述风帘风切单元、所述酸洗风切单元、所述蚀刻单元以及所述水洗单元均设置于密封空间内。
本发明的技术方案,具有如下优点:
本发明提供的片材刻蚀装置,工作时,片材所在的平面垂直于水平面,设置在片材侧面的喷淋组件向片材表面喷洒处理液时,处理液喷洒至指定位置后便会在重力的作用下自动排出,片材表面刻蚀较为均匀,且片材边缘较为光滑,刻蚀效果优异。片材不会出现因传统的浸渍模式而导致的表面不均匀,图案边缘多锯齿形、不光滑的情况,也不会因传统的喷淋模式而导致片材表面的“水池效应”的出现,所述片材刻蚀装置显著提高了片材良率。
本发明提供的片材刻蚀装置,通过在片材相对设置的第一侧边和第二侧边分别安装第一输送导轨和第二输送导轨,通过导轨实现片材在第一方向上的移动,提高了输送组件的自动化程度,进而提高了该片材刻蚀装置的刻蚀效率。并且,由于片材的两侧边均设置有输送导轨,因此为片材的输送提供了安全保障,提高了输送组件的安全可靠性。
本发明提供的片材刻蚀装置,由于第一输送导轨和第二输送导轨是连接设置,因此,提高了第一输送导轨和第二输送导轨之间的协同作用,片材在输送过程中具有多个支撑点,保证了片材输送的稳定性。
本发明提供的片材刻蚀装置,通过设置驱动电机,为第一输送导轨和第二输送导轨提供动力,进一步提高了输送组件的自动化程度,提高刻蚀效率。
本发明提供的片材刻蚀装置,通过泵送件从储液件内泵取处理液至喷嘴,通过喷嘴喷洒处理液,实现喷淋过程。在该过程中,可以通过调节泵送件的泵送压力,进而对喷嘴喷洒的压力进行调节,满足不同刻蚀效果的需要。另外,根据实际需求可以将喷嘴设置为锥形或扇形,锥形喷嘴有利于集中喷洒,增大喷洒压力,扇形喷嘴有利于扩大喷洒的范围。
本发明提供的片材刻蚀装置,喷洒在片材表面后的处理液在重力作用下排出后,能够被片材垂直下方的过滤件收集并对处理液进行过滤,过滤后的处理液又重新流回储液件内。如此,实现了处理液的循环利用,显著提高了处理液的利用率,为该片材刻蚀装置节约了处理液成本。
附图说明
为了更清楚地说明本发明具体实施方式或现有技术中的技术方案,下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图是本发明的一些实施方式,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例提供的片材刻蚀装置的侧视图;
图2为图1的俯视图;
附图标记:
1-输送组件;11-第一输送导轨;12-第二输送导轨;
2-喷淋组件;21-储液件;22-泵送件;
3-过滤件;4-风帘风切单元;5-酸洗风切单元;6-蚀刻单元;7-水洗单元;71-溢流水洗单元;72-DI水洗单元;8-风刀吹干单元;9-密封空间。
具体实施方式
下面将结合附图对本发明的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
在本发明的描述中,需要说明的是,术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性。
在本发明的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,还可以是两个元件内部的连通,可以是无线连接,也可以是有线连接。对于本领域的普通技术人员而言,可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
此外,下面所描述的本发明不同实施方式中所涉及的技术特征只要彼此之间未构成冲突就可以相互结合。
实施例
本实施例提供了一种片材刻蚀装置,如图1和图2所示,包括输送组件1和喷淋组件2。其中,
输送组件1用于沿第一方向输送片材,且片材所在的平面垂直于水平面。具体地,第一方向是指图1中所示流水线方向或输送组件的输送方向,即片材以垂直于水平面的竖立状态沿流水线方向移动。
喷淋组件2设置于片材的至少一侧,用于向片材表面喷洒处理液。具体地,喷淋组件2可以沿流水线方向仅设置在片材的一侧,也可以沿流水线方向设置在片材的两侧,该设置可根据实际刻蚀需求而定。喷淋组件2通过对片材表面喷洒处理液来实现片材的刻蚀。
本实施例提供的片材刻蚀装置,由于输送组件1输送片材时,片材所在的平面是垂直于水平面的,因此,片材侧面的喷淋组件2向片材表面喷洒处理液时,处理液喷洒至指定位置后便会在重力的作用下自动排出,片材表面刻蚀较为均匀,且片材边缘较为光滑,刻蚀效果优异。片材不会出现因传统的浸渍模式而导致的表面不均匀,图案边缘多锯齿形、不光滑的情况,也不会因传统的喷淋模式而导致片材表面的“水池效应”的出现,本实施例提供的片材刻蚀装置显著提高了片材良率。
作为本发明的一个实施方式,输送组件1包括第一输送导轨11和第二输送导轨12,其中第一输送导轨11安装于片材的第一侧边,第二输送导轨12安装于片材的第二侧边,且第二侧边与第一侧边相对设置。本实施例中,第一侧边和第二侧边分别是片材的上下两个侧边,输送导轨可以采用直线导轨等。
通过在片材相对设置的第一侧边和第二侧边分别安装第一输送导轨11和第二输送导轨12,通过导轨实现片材在第一方向上的移动,提高了输送组件1的自动化程度,进而提高了该片材刻蚀装置的刻蚀效率。并且,由于片材的两侧边均设置有输送导轨,因此为片材的输送提供了安全保障,提高了输送组件1的安全可靠性。
本实施例中,第一输送导轨11和第二输送导轨12连接设置。需要说明的是,连接设置可以为一体成型设置,也可以为通过外界连接件将两者连接在一起。由于第一输送导轨11和第二输送导轨12是连接设置,因此,第一输送导轨11和第二输送导轨12同步运作,提高了第一输送导轨11和第二输送导轨12之间的协同作用,保证了片材输送的稳定性。
作为可替换实施方式,第一输送导轨11和第二输送导轨12也可以是独立设置,均能实现本发明的目的,属于本发明的保护范围。
作为一种优选实施方式,输送组件1还包括驱动电机13,驱动电机13分别与第一输送导轨11和第二输送导轨12连接,用于驱动第一输送导轨11和第二输送导轨12输送片材。通过设置驱动电机13,为第一输送导轨11和第二输送导轨12提供动力,进一步提高了输送组件1的自动化程度,提高刻蚀效率。
其中,驱动电机13可以包括驱动第一输送导轨11的第一驱动电机13和驱动第二输送导轨12的第二驱动电机13;也可以使用同一个驱动电机13同时驱动第一输送导轨11和第二输送导轨12。另外,由于流水线较长,为了避免驱动力不足,不管是采用上述哪种设置方式,驱动电机13的数量都可以为多个,保证刻蚀工艺可以持续进行。
作为一种优选实施方式,喷淋组件2的喷洒方向与片材所在平面垂直,喷液口与片材最接近的表面的垂直间距为5-10cm。在喷淋组件2的喷洒压力一定时,喷洒方向与片材所在平面垂直时,片材表面所受到的力最大,可以保证刻蚀充分。并且,当喷液口与片材最接近的表面的垂直间距为5-10cm时,片材所受刻蚀效果佳。当然,实际操作时,喷洒方向不仅局限于垂直于片材所在平面,喷洒方向是可以自由调节的,以满足片材表面不同位置的刻蚀。
作为可替换实施方式,喷液口与片材最接近的表面的垂直间距为30cm以下,均可实现本发明的目的,属于本发明的保护范围。
作为一种优选实施方式,喷淋组件2包括若干喷嘴、储液件21以及泵送件22。
喷嘴用于喷洒处理液。优选地,喷嘴可以为锥形或扇形。锥形喷嘴有利于集中喷洒,增大喷洒压力,扇形喷嘴有利于扩大喷洒的范围。当然,也可以根据实际需求选择其他形状的喷嘴,均能实现本发明的目的,在这里不做限制。
储液件21与喷嘴连接,用于储存处理液。储液件21可以选用透明箱体,有利于随时监测处理液余量,当余量不足时,及时补充,以便该片材刻蚀装置能够持续工作。
作为一种优选实施方式,储液件21的内壁面设置有液位监测件,用于自动监测储液件21内的液位。其中,液位监测件可以为液位计,也可以为其他任何能够实现监测液位功能的设备。
泵送件22分别与喷嘴和储液件21连接,用于将储液件21内的处理液泵送至喷嘴。其中,泵送件22选用但不局限于水泵。
通过泵送件22从储液件21内泵取处理液至喷嘴,通过喷嘴喷洒处理液,实现喷淋过程。在该过程中,可以通过调节泵送件22的泵送压力,进而对喷嘴喷洒的压力进行调节,满足不同刻蚀效果的需要。
作为一种优选实施方式,喷嘴上设置有角度调节件,角度调节件用于调节喷嘴的喷洒角度,从而实现多角度喷洒,有利于提高片材表面的刻蚀均匀性。
作为一种优选实施方式,喷嘴上设置有流量调节阀,通过调节流量调节阀来控制喷嘴的喷洒量,从而进一步实现对刻蚀效果的掌控。
作为一种优选实施方式,该片材刻蚀装置还包括过滤件3。过滤件3设置于片材的垂直下方,同时与储液件21连接,用于收集流经片材的处理液并对其进行过滤,过滤后的处理液流回储液件21内。如此,实现了处理液的循环利用,显著提高了处理液的利用率,为该片材刻蚀装置节约了处理液成本。
本实施例中,该片材刻蚀装置还包括依次设置在第一方向上的风帘风切单元4、酸洗风切单元5、蚀刻单元6、水洗单元7以及风刀吹干单元8。
其中,风帘风切单元4、酸洗风切单元5以及风刀吹干单元8主要是通过风嘴对输送组件1上的片材表面进行干燥。本实施例中,风帘风切单元4同时设置于酸洗风切单元5之前,以及蚀刻单元6和水洗单元7之间。
上述喷淋组件2主要设置在蚀刻单元6中。在蚀刻单元6中,喷淋组件2喷洒出的处理液为刻蚀药剂。其中,蚀刻单元6可以包括多个,即片材在流水线上经过多次刻蚀工艺,由此,避免了由于单次刻蚀不充分而导致的片材表面不均匀的问题以及单次刻蚀无法达到所需要的刻蚀效果的问题,提高了片材表面的均匀性,同时保证刻蚀充分,提高片材的良率。
上述喷淋组件2还可以设置在水洗单元7中。在水洗单元7中,喷淋组件2喷洒出的处理液为纯水。其中,水洗单元7还包括溢流水洗单元71和DI水洗单元72。
本实施例中,风帘风切单元4、酸洗风切单元5、蚀刻单元6以及水洗单元7均设置于密封空间9内。
需要说明的是,本发明中的片材为有机电致发光器件的封装片,也可以是其他任何需要进行湿法刻蚀工艺制备得到的片材。
显然,上述实施例仅仅是为清楚地说明所作的举例,而并非对实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说,在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。而由此所引伸出的显而易见的变化或变动仍处于本发明创造的保护范围之中。

Claims (10)

1.一种片材刻蚀装置,其特征在于,包括:
输送组件(1),所述片材设置于所述输送组件上,其中所述片材所在的平面垂直于水平面;
喷淋组件(2),设置于所述片材的至少一侧,其中所述喷淋组件(2)内设置有处理液。
2.根据权利要求1所述的片材刻蚀装置,其特征在于,所述输送组件(1)包括:
第一输送导轨(11),安装于所述片材的第一侧边;
第二输送导轨(12),安装于所述片材的第二侧边,所述第二侧边与所述第一侧边相对设置。
3.根据权利要求2所述的片材刻蚀装置,其特征在于,所述第一输送导轨(11)和所述第二输送导轨(12)连接设置。
4.根据权利要求2所述的片材刻蚀装置,其特征在于,所述输送组件(1)还包括:
驱动电机(13),分别与所述第一输送导轨(11)和所述第二输送导轨(12)连接。
5.根据权利要求1所述的片材刻蚀装置,其特征在于,所述喷淋组件(2)的喷洒方向与所述片材所在平面垂直,喷液口与所述片材最接近的表面的垂直间距为5-10cm。
6.根据权利要求1所述的片材刻蚀装置,其特征在于,所述喷淋组件(2)包括:
若干喷嘴;
储液件(21),与所述喷嘴连接,所述储液件(21)内设置有处理液;
泵送件(22),分别与所述喷嘴和所述储液件(21)连接。
7.根据权利要求6所述的片材刻蚀装置,其特征在于,所述喷嘴为锥形或扇形。
8.根据权利要求6所述的片材刻蚀装置,其特征在于,还包括:
过滤件(3),设置于所述片材的垂直下方,同时与所述储液件(21)连接。
9.根据权利要求1所述的片材刻蚀装置,其特征在于,还包括依次设置在输送组件(1)输送方向上的风帘风切单元(4)、酸洗风切单元(5)、蚀刻单元(6)、水洗单元(7)以及风刀吹干单元(8)。
10.根据权利要求9所述的片材刻蚀装置,其特征在于,所述风帘风切单元(4)、所述酸洗风切单元(5)、所述蚀刻单元(6)以及所述水洗单元(7)均设置于密封空间(9)内。
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Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN2615098Y (zh) * 2003-05-07 2004-05-12 郭明宏 垂直式薄板蚀刻机的输送装置
CN101062837A (zh) * 2006-04-27 2007-10-31 三星电子株式会社 基板蚀刻设备和方法
CN201031254Y (zh) * 2007-03-16 2008-03-05 郭明宏 快组修式垂送薄板蚀刻输送装置
KR20090066736A (ko) * 2007-12-20 2009-06-24 삼성전기주식회사 에칭장치
CN202272951U (zh) * 2011-09-02 2012-06-13 天津市德中技术发展有限公司 垂直传动蚀刻机
KR101168701B1 (ko) * 2010-11-15 2012-07-30 (주)에프아이에스 안내 날개를 구비하는 식각 장치
JP2012158807A (ja) * 2011-02-01 2012-08-23 Meiko Kaku 垂直搬送式エッチング装置

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN2615098Y (zh) * 2003-05-07 2004-05-12 郭明宏 垂直式薄板蚀刻机的输送装置
CN101062837A (zh) * 2006-04-27 2007-10-31 三星电子株式会社 基板蚀刻设备和方法
CN201031254Y (zh) * 2007-03-16 2008-03-05 郭明宏 快组修式垂送薄板蚀刻输送装置
KR20090066736A (ko) * 2007-12-20 2009-06-24 삼성전기주식회사 에칭장치
KR101168701B1 (ko) * 2010-11-15 2012-07-30 (주)에프아이에스 안내 날개를 구비하는 식각 장치
JP2012158807A (ja) * 2011-02-01 2012-08-23 Meiko Kaku 垂直搬送式エッチング装置
CN202272951U (zh) * 2011-09-02 2012-06-13 天津市德中技术发展有限公司 垂直传动蚀刻机

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