JP2005211718A - 基板処理装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】 気体の供給を工夫することにより、全ての基板に均一に処理を行うことができる。
【解決手段】 バブラ本体13が基板Wの整列方向に長軸を有する棒状体であるので、基板Wの整列方向に沿って隙間なく連続的に気泡を発生させることができる。また、バブラ本体13の全体が多孔質部材であるので、細かい気泡を発生させることができる。よって、基板Wの整列方向の位置にかかわらず、全ての基板Wに細かい気泡を触れさせることができるので、全ての基板Wに対して均一に処理を行うことができる。しかも、バブラ本体13が整列方向と直交する方向にも複数設けられているので、基板W面が細かい気泡によって覆われるように気泡を発生させることができる。したがって、基板Wの面方向の位置にかかわらず、気泡を触れさせることができ基板Wの全面においても均一に処理できる。
【選択図】 図1
【解決手段】 バブラ本体13が基板Wの整列方向に長軸を有する棒状体であるので、基板Wの整列方向に沿って隙間なく連続的に気泡を発生させることができる。また、バブラ本体13の全体が多孔質部材であるので、細かい気泡を発生させることができる。よって、基板Wの整列方向の位置にかかわらず、全ての基板Wに細かい気泡を触れさせることができるので、全ての基板Wに対して均一に処理を行うことができる。しかも、バブラ本体13が整列方向と直交する方向にも複数設けられているので、基板W面が細かい気泡によって覆われるように気泡を発生させることができる。したがって、基板Wの面方向の位置にかかわらず、気泡を触れさせることができ基板Wの全面においても均一に処理できる。
【選択図】 図1
Description
本発明は、半導体ウエハや液晶表示装置用のガラス基板(以下、単に基板と称する)等の基板に対して処理液を貯留している処理槽に浸漬することにより基板に所定の処理を行う基板処理装置に関する。
従来、この種の装置として、処理液を貯留している処理槽の底部に、複数枚の基板の整列方向に沿って配設された、球状を呈する複数個のバブラ本体を備えたものがある(例えば、特許文献1参照)。
ここで図6を参照する。なお、この図6は、従来装置の概略構成を示す側面図である。
この装置における複数個のバブラ本体101は、処理槽102の底部に設けられ、基板Wの整列方向(図6中の左右方向)にて互いに一定間隔を隔てて配備されている。複数枚の基板Wは、昇降自在の背板103と、この背板103の下部から水平に延出された支持部材105によって起立姿勢で保持される。これらの位置関係は、複数個のバブラ本体101から放出され、上方に向かって拡がる気泡によって全ての基板Wが包み込まれるように決められている。
このような装置による具体的な処理としては、エッチング処理、剥離処理、パーティクル除去、金属除去等が挙げられる。より詳細には、例えば、処理液として硫酸を用い、120〜130℃以上の高温に熱する。そして、気体としてオゾンガスを注入し、そこへ基板を浸漬する。このとき硫酸とオゾンにより合成されたペルオキソ2硫酸等の酸化性の強い物質により、基板Wの表面の不要な薄膜、具体的にはレジスト膜が溶解または剥離される。
特公平8−2419号公報(第1図及び第2図)
しかしながら、このような構成を有する従来例の場合には、次のような問題がある。
すなわち、従来の装置は、バブラ本体101が基板Wの整列方向にて離間して配設されている関係上、バブラ本体101の真上に位置している基板Wと、バブラ本体101間の真上に位置している基板Wとで気泡の触れ具合が異なる。したがって、全ての基板Wに対して対して均一に処理を行うことが困難であるという問題がある。
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、基板への気泡の供給を工夫することにより、全ての基板に均一に処理を行うことができる基板処理装置を提供することを目的とする。
この発明は、このような目的を達成するために、次のような構成をとる。
すなわち、請求項1に記載の発明は、基板に所定の処理を行う基板処理装置において、処理液を貯留する処理槽と、前記処理槽内において一方向に整列された複数の基板を保持する保持手段と、前記処理槽内の処理液に気泡を発生する気泡発生手段とを備え、前記気泡発生手段は前記一方向に長軸の棒状体を有し、前記棒状体の少なくとも一部分は多孔質部材で構成され、かつ前記多孔質部材は前記一方向に沿って配置されているとともに、前記棒状体は前記一方向に直交する方向に複数配設されたことを特徴とするものである。
[作用・効果]請求項1に記載の発明によれば、気泡発生手段が基板の整列方向(一方向)に長軸を有する棒状体であり、しかも棒状体の少なくとも一部分は多孔質部材で構成され、かつ多孔質部材は基板の整列方向(一方向)に沿って配置されているので、基板の整列方向に沿って隙間なく連続的に気泡を発生させることができる。また、気泡発生手段の少なくとも一部分が多孔質部材で構成されているので、その部分から細かい気泡を発生させることができる。したがって、基板の整列方向の位置にかかわらず、全ての基板に細かい気泡を触れさせることができるので、全ての基板に対して均一に処理を行うことができる。しかも、気泡発生手段が整列方向と直交する方向にも複数配設されているので、基板の全面が細かい気泡によって覆われるように気泡を発生させることができる。したがって、基板の面方向の位置にかかわらず、気泡を触れさせることができるので、基板の全面においても均一に処理を行うことができる。
本発明において、棒状体は、中空部材で一体的に構成されていることが好ましい(請求項2)。棒状体の構成を簡単化することができ、装置コストを低減化することができる。
また、本発明において、棒状体は、前記一方向と直交する方向で各々が離間して配設されていることが好ましい(請求項3)。処理槽の下部からは処理液を排出する構成を採用することが多いので、処理中には基板の面方向においても気泡を供給することができつつも、処理液排出時には抵抗が少なく排出時間を短縮することができる。
本発明に係る基板処理装置によれば、基板の整列方向(一方向)に沿って隙間なく連続的に気泡を発生させることができ、細かい気泡を発生させることができる。したがって、基板の整列方向の位置にかかわらず、全ての基板に細かい気泡を触れさせることができるので、全ての基板に対して均一に処理を行うことができる。しかも、基板の全面が細かい気泡によって覆われるように気泡を発生させることができる。したがって、基板の面方向の位置にかかわらず、気泡を触れさせることができるので、基板の全面においても均一に処理を行うことができる。
以下、図面を参照して本発明の一実施例について説明する。
図1は、実施例に係る基板処理装置の概略構成を示す平面図であり、図2は実施例に係る基板処理装置の概略構成を示す側面図である。
この基板処理装置は、処理液を貯留するための処理槽1を備えている。処理液としては、例えば、硫酸が挙げられる。その底部付近には、内部に気体を供給するための気泡発生手段に相当するバブラ3を備えている。ここでいう気体としては、オゾンが例示される。なお、処理槽1は、処理液供給のための注入管4をその底部付近に備えているとともに、処理槽1から溢れた処理液を回収する回収槽(図示省略)とを備えている。
バブラ3は、一対の両端バブラ5と、この両端バブラ5によって間に挟まれ、平面視中央部に配設された一対の中央バブラ7と、両端バブラ5と中央バブラ7に挟まれた位置に一対の副バブラ9とを備えている。これらは、基板Wの整列方向と直交する方向で各々が所定間隔を隔てるように離間して配設されている。また、これらは硫酸等の処理液に耐性を有する材料で構成されている。両端バブラ5及び中央バブラ7並びに副バブラ9は、処理槽1の底部の一端側(図1及び図2の左側)に取り付けられた第1取付部材11と、処理槽1の底部の他端側(図1及び図2の右側)に取り付けられた第2取付部材12と、バブラ本体13と、第2取付部材12に設けられた、気体(例えば、オゾン)を導入するための導入管15とを各々が備えている。バブラ本体13は、その全体が多孔質部材で構成されている。その材料としては、例えば、シリカ多孔体(SiC)や石英ガラスなどが挙げられる。各バブラ本体13は、基板Wが整列される方向(図1及び図2の左右方向)に長軸を有するように配設されている。
なお、上記のバブラ本体13は、その全体が多孔質部材で構成されているが、少なくとも一部分が多孔質部材で構成され、かつ多孔質部材が一方向に沿って配置されている構成を採用してもよい。例えば、上記のバブラ本体13を長軸で二本あるいは4本に分割し、それらを石英管で連通接続する。但し、石英管によるバブラ本体13の継ぎ目が基板の直下に位置しないようにする。
導入管15には、図示しない気体供給源が連通接続されている。気体供給源から供給された気体は、この導入管15を介して両端バブラ5及び中央バブラ7並びに副バブラ9に送り込まれ、合計六本のバブラ本体13から処理槽1内に放出される。
中央バブラ7は、両端バブラ5よりも低い位置に設けられ、副バブラ9はそれらの中間高さに設けられている(図2参照)。これは円形状の基板Wに好適なように構成されているためであり、外形が円形状でなく角形である場合には全て同一高さに設けてもよい。
また、上述した両端バブラ5及び中央バブラ7並び副バブラ9は、後述するリフター17によって処理位置に基板Wが移動された場合に、全ての基板Wが両端バブラ5及び中央バブラ7並び副バブラ9からの気泡によって覆われる位置に配設されている(図2中に点線で示す)。
図2に示すように、処理槽1には、リフター17によって複数枚の基板Wが搬入出される。なお、図1では、他の構成を見やすくするためにリフター17については省略している。このリフター17は、処理槽1の左側側壁に沿って設けられた背板19と、この背板19の下部から水平方向に延出された支持部材21とを備えている。背板19は、処理槽1の内部にあたる処理位置(図2に示す位置)と、処理槽1の上部にあたる待機位置とにわたって昇降可能である。支持部材21は、例えば、薄板状を呈し、図示省略しているが、その上部に複数の切り込みが形成されている。この切り込みにより、各基板Wの周縁部が当接支持され、基板Wが起立姿勢で支持される。
次に、図3を参照して、バブラ3を構成する両端バブラ5及び中央バブラ7並び副バブラ9の構成について説明する。なお、図3は、バブラの構成を示す縦断面図である。ここでは両端バブラ5を例に採って説明するが、中央バブラ7及び副バブラ9もバブラ本体13の長軸長さが異なるだけで構成は同様である。
バブラ本体13は、外観形状が棒状体、詳細には丸棒状体である中空部材で一体的に構成されており、その両端部が流路断面円形状に開口されている。バブラ本体13の一端側は、第1取付部材11の、凹状の穴で構成されている嵌め付け部23に嵌め付けられている。この嵌め付け部23の内側には、Oリング25が取り付けられており、これがバブラ本体13の外周面に密着する。これにより、バブラ本体13の中空部22のうち一端側が閉塞される。
上記のように、本実施例装置では、バブラ本体13が中空部材で一体的に構成されているので、バブラ本体13の構成を簡単化することができ、装置コストを低減化することができる。
バブラ本体13の他端側は、第2取付部材12の、凹状の穴で構成されている嵌め付け部27に嵌め付けられている。嵌め付け部27の内側には、バブラ本体13の外周面に密着するOリング25が取り付けられている。嵌め付け部27の奥側には、導入孔29が形成されている。この導入孔29は、嵌め付け部27と、上部の接続孔31に連通している。導入孔9の上部に形成されている接続孔31は、導入管15と連通接続されており、気体が接続孔31及び導入孔29を介してバブラ本体13の中空部22に導入される。
上記のように構成された装置では、例えば、次のようにして複数枚の基板Wに対して処理が施される。
すなわち、処理液を処理槽1に貯留し、バブラ3(両端バブラ5及び中央バブラ7並び副バブラ9)の導入管15に所定の流量で気体を供給する。すると、バブラ本体13の中空部22に気体が導入されるが、その一端側が閉塞されているのに加え、バブラ本体13の全体が多孔質部材で構成されているので、バブラ本体13から処理槽1内に気泡が供給される。そして、待機位置にあるリフター17に複数枚の基板Wを移載するとともに、リフター17を処理位置に下降させ、所定時間だけ保持する。これにより複数枚の基板Wに対しては処理液による処理が施されるとともに、両端バブラ5及び中央バブラ7並び副バブラ9からの気泡による相乗効果によって所定の処理が行われる。
本装置は、バブラ本体13が基板Wの整列方向に長軸を有する棒状体であるので、基板Wの整列方向に沿って隙間なく連続的に気泡を発生させることができる。また、バブラ本体13全体が多孔質部材で構成されているので、細かい気泡を発生させることができる。したがって、基板Wの整列方向の位置にかかわらず、全ての基板Wに細かい気泡を触れさせることができるので、全ての基板Wに対して均一に処理を施すことができる。しかも、バブラ本体13が整列方向と直交する方向にも複数設けられているので、基板Wの全面が細かい気泡によって覆われるように気泡を発生させることができる。したがって、基板Wの面方向の位置にかかわらず、気泡を触れさせることができるので、基板Wの全面においても均一に処理を行うことができる。
なお、所定時間の処理が終了した場合、処理槽1の底部に設けた図示しない排出口から処理液を排出するが、本実施例に係る装置では六本のバブラ本体13の各々が、基板Wの面方向で離間して配設されているので、処理液排出時における抵抗が少なく排出時間を短縮することができる。
本発明は、上述した実施形態に限られることはなく、下記のように変形実施することができる。
(1)上述したバブラ本体13は、流路断面円形状に開口しているが、図4に示すバブラ本体13Aのように流路断面が楕円形状であったり、図5に示すバブラ本体13Bのように流路断面が矩形状であったりしてもよい。このような流路断面形状を採用することにより、上方に位置する基板Wに面した面積を増加させることができるので、バブラ本体13から発生した気泡を効率的に基板Wに向かわせることが可能となる。
(2)また、上述したバブラ3は、六本のバブラ本体13を備えてなるが、例えば、四本のバブラ本体13を備える構成であってもよい。また、小径の基板Wである場合には、二本のバブラ本体13であってもよく、さらに大径である場合には八本のバブラ本体13としてもよい。なお、バブラ本体13は偶数である必要はなく、基板Wの直下に一本のバブラ本体13を備えた一本の構成でもよく、さらにその両側に偶数本のバブラ本体13を配置し、合計で奇数本となるようにバブラ3を構成してもよい。
(3)上述した実施例では、処理液として硫酸、気体としてオゾンガスを例示しているが、これらの処理液・気体以外のものを使用する基板処理装置であっても本発明を適用することが可能である。
W … 基板
3 … バブラ
5 … 両端バブラ
7 … 中央バブラ
9 … 副バブラ
11 … 第1取付部材
12 … 第2取付部材
13 … バブラ本体
15 … 導入管
17 … リフター
19 … 背板
21 … 支持部材
22 … 中空部
23,27 … 嵌め付け部
29 … 導入孔
31 … 接続孔
3 … バブラ
5 … 両端バブラ
7 … 中央バブラ
9 … 副バブラ
11 … 第1取付部材
12 … 第2取付部材
13 … バブラ本体
15 … 導入管
17 … リフター
19 … 背板
21 … 支持部材
22 … 中空部
23,27 … 嵌め付け部
29 … 導入孔
31 … 接続孔
Claims (3)
- 基板に所定の処理を行う基板処理装置において、
処理液を貯留する処理槽と、
前記処理槽内において一方向に整列された複数の基板を保持する保持手段と、
前記処理槽内の処理液に気泡を発生する気泡発生手段とを備え、
前記気泡発生手段は前記一方向に長軸の棒状体を有し、前記棒状体の少なくとも一部分は多孔質部材で構成され、かつ前記多孔質部材は前記一方向に沿って配置されているとともに、前記棒状体は前記一方向に直交する方向に複数配設されたことを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1に記載の基板処理装置において、
前記棒状体は、中空部材で一体的に構成されていることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1または2に記載の基板処理装置において、
前記棒状体は、前記一方向と直交する方向で各々が離間して配設されていることを特徴とする基板処理装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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2004
- 2004-01-27 JP JP2004018567A patent/JP2005211718A/ja not_active Abandoned
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