JP3753000B2 - 基板洗浄装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は基板洗浄装置に係り、特に円盤状の基板を洗浄槽内に配置した固定受け台に載置し、洗浄槽内の洗浄液に浸漬した状態で、前記基板を洗浄するようにしたキャリアレス式の基板洗浄装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
半導体用のシリコン基板やハードディスクに用いられるアルミニウム基板、ガラス基板などは、製造工程で基板に付着した有機物、微粒子などを除去するために、薬液、洗剤、超純水を用いた浸漬洗浄が行われる。浸漬洗浄の方法としてはキャリア式とキャリアレス式とがある。キャリア式は基板をキャリア(カセット)に保持し、このキャリアごと洗浄槽内の洗浄液に浸漬して洗浄する方法であり、洗浄終了後にキャリアごと洗浄槽から引き上げて次の工程に移る。キャリアレス式はキャリアを使用せずに、専用の基板搬送機を用いて、基板を洗浄槽内に配置した固定受け台に移載し洗浄する方法であり、洗浄終了後に再び前記基板搬送機を用いて基板のみを洗浄槽から引き上げて次の工程に移る。
【0003】
キャリア式、キャリアレス式ともそれぞれ利点、欠点があるが、近年ではキャリアレス式が主流になっている。このキャリアレス式を図面に基づいて具体的に説明する。図7は基板を固定受け台に載置した状態を示す側面図である。すなわち、複数枚の円盤状の基板10、10、…が洗浄槽内に配置した固定受け台12に垂直かつ並列に載置され、洗浄槽内の洗浄液14に浸漬される。固定受け台12は基板10を支持するためのV字状の支持溝16を等間隔に複数本具備している。基板10はその外周部が前記V字状の支持溝16の傾斜部に当接することによって固定受け台12の溝ピッチに合わせて等間隔にされることになる。
【0004】
図8は基板洗浄装置の概略構成を示す正断面図である。洗浄槽20には洗浄液14が張り込まれており、その底部には固定受け台12が配置されている。洗浄槽20の上方には基板搬送機22が移動自在に配設されており、図8(イ)は基板搬送機22によって基板10を固定受け台12に移載する状況を示す。すなわち、基板搬送機22には搬送アーム24が垂下しており、この搬送アーム24の先端に装備した基板チャック26によって複数枚の基板10が支持されている。すなわち、基板搬送機22は複数枚の基板10を一括して搬送できる機能を持つ。このため、前記搬送アーム24の先端に装備した基板チャック26は長手方向(本図においては紙面に対して垂直な方向)に、複数の基板10をチャックするための複数本の支持溝が設けられている。この複数本の支持溝の溝ピッチを、前記固定受け台12に設けられたV字状の支持溝16の溝ピッチと一致させることは当然である。図示の状態から、基板搬送機22を降下させ、基板10の外周部が前記固定受け台12の溝16に当接した時点で搬送アーム24を開いて、基板チャック26を基板10から引き離し、複数枚の基板10が一括して固定受け台12に移載される。その後、基板搬送機22を洗浄槽20の上方に引上げて、基板搬送機22は他の操作のために移動する。図8(ロ)は洗浄槽20内の固定受け台12に基板10が載置された状況を示し、固定受け台12には図7に示したように複数枚の基板10が等間隔に並列し、洗浄液14に浸漬された状態にある。この状態で洗浄液14に流れを起こし、また超音波を照射することによって、基板10の洗浄が行われる。洗浄が終了すると、基板搬送機22を前記とは逆に動作させることによって複数枚の基板10を一括して洗浄槽20外に出し、次の工程に搬送する。
【0005】
図8(ロ)に示したように、基板10は固定受け台12の凹形状両側の肩部2個所に比較的不安定な状態で支持される。このため、洗浄時に洗浄液14の流れや超音波の衝撃によって、基板10が図9に示すように左右に傾き、隣接の基板と接触するなどの不都合が生じる場合がある。このような不都合を回避し、基板10の支持に安定度を増すためには、基板10の外周部と支持溝16とが当接する部分が点接触ではなく、線接触とすることか好ましい。したがって、従来の固定受け台12の支持溝16は、図10に示すように取扱う基板10の曲率半径Rに対応した曲率を持つように形成されていた。換言すれば支持溝16の曲率半径は、取扱う基板10の曲率半径Rと同一となるように形成されている。
【0006】
また、前記基板搬送機22の基板チャック26に設けられる複数本の支持溝についても、搬送時の支持の安定を図るために前記固定受け台12の支持溝16と同様、取扱う基板10の曲率半径Rに対応した曲率を持つように形成されていた。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
一方、半導体用のシリコン基板は扱う口径が年々大きくなっており、また、アルミニウム基板やガラス基板はパソコンのハードディスク用だけではなく、民生機器のハードディスク用としても需要が伸長しており、電子部品の基板は口径の多様化が顕著である。このため、この種の基板の製造工程では一つの基板洗浄装置で異なる口径の基板を洗浄できることが求められている。しかしながら、従来のキャリアレス式の基板洗浄装置は通常1種類の口径の基板を対象としている。このため、口径の異なる基板を強いて洗浄しようとすると前記固定受け台や基板チャックの支持溝の曲率が基板の曲率半径と適合しないので、支持やチャックが不安定となり、基板の洗浄や搬送に支障ををきたす。口径の異なる基板の製造ロッド毎に支持溝が適合するよう前記固定受け台や基板チャックを交換することも考えられるが、部品点数が多くなって不経済であり、交換に手間を要するので製造効率が低下する。
【0008】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであり、口径の異なる複数種類の基板を一つの装置で容易に、かつ安定して洗浄することができるキャリアレス式の基板洗浄装置を提供することを目的とする。なお、本明細書において洗浄という用語はなるべく広い意味で解釈し得るものとし、例えば薬液による基板表面のエッチングをも含むものとする。
【課題を解決するための手段】
【0009】
上記の目的を達成するために、本発明は洗浄槽内に配置した固定受け台に円盤状の基板を載置し、洗浄液に浸漬した状態の前記基板を洗浄するようにしたキャリアレス式の基板洗浄装置において、前記固定受け台は基板の支持溝を具備しており、支持溝は口径の異なる複数種類の基板の曲率半径に対応した複数種類の曲率を持つ溝によって形成されていることを特徴とする。
また、本発明の前記複数種類の曲率を持つ溝は外側に大口径の基板の曲率半径に対応した曲率を、内側に小口径の基板の曲率半径に対応した曲率を持つことを特徴とする。
また、本発明は前記固定受け台に基板を移載するための基板搬送機に装備した基板チャックが基板の支持溝を具備しており、支持溝は口径の異なる複数種類の基板の曲率半径に対応した複数種類の曲率を持つ溝によって形成されていることを特徴とする。
【0010】
【発明の実施の形態】
図1は本発明に係る基板洗浄装置の第1実施形態の要部を示す正断面図である。本実施形態の全体構成は前掲した図7、図8と同一であり、本実施形態においては固定受け台30の支持溝に工夫がある。すなわち、洗浄槽12の底面には洗浄液14に没した状態で固定受け台30が配置されている。固定受け台30は従来のものと同様、両側に面壁32、32を有する断面凹形状とされ、各面壁32の頂部には基板を支持するためのV字状の支持溝34が設けられている。この支持溝34は固定受け台30の長手方向(図1においては紙面に対して垂直な方向)に等間隔で複数本設けられており、その要部を図2に斜視図で示す。
【0011】
支持溝34は2種類の曲率を持っており、内側の溝部34Aは小口径の基板10Aの曲率半径に対応した曲率で形成され、外側の溝部34Bは大口径の基板10Bの曲率半径に対応した曲率で形成されている。換言すれば内側の溝部34A、外側の溝部34Bの曲率半径は、それぞれ小口径の基板10A、大口径の基板10Bの曲率半径と同一となるように形成されている。また、対向して設けられた左右の内側の溝部34A、34Aの曲率の中心が一致するようにされている。同様に対向して設けられた左右の外側の溝部34B、34Bの曲率の中心が一致するようにされている。したがって、円形の小口径の基板10Aを固定受け台30に載置すると、基板10Aは必然的に内側の溝部34Aの中腹部に支持されることになり、基板10Aの外周部と内側の溝部34Aとが当接する部分が線接触となる。このため、基板10Aの支持に安定度が増し、図9に示すように傾いて隣接の基板と接触するなどの不都合を回避することができる。また、大口径の基板10Bを固定受け台30に載置した時は、基板10Bは必然的に外側の溝部34Bの中腹部に支持されることになり、基板10Bの外周部と外側の溝部34Bとが当接する部分が線接触となり、前記基板10Aの場合と同様に基板10Bの支持に安定度が増す。この実施の形態に係るキャリアレス式の基板洗浄装置によれば、口径の異なる2種類の基板を一つの装置で容易に、かつ安定して洗浄することができる。
【0012】
図3は本発明の第2実施形態を示す要部説明図である。本実施形態の全体構成は前掲した図7、図8と同一であり、固定受け台の面壁42の頂部には基板を支持するためのV字状の支持溝44が設けられている。この支持溝44は3種類の曲率を持っており、内側の溝部44Aは小口径の基板10Aの曲率半径に対応した曲率で形成され、中間の溝部44Bは中口径の基板10Bの曲率半径に対応した曲率で形成され、外側の溝部44Cは大口径の基板10Cの曲率半径に対応した曲率で形成されている。このため、口径の異なる小中大の円形の基板10A、10B、10Cを固定受け台30に載置すると、これらの基板10A、10B、10Cはそれぞれの口径に対応した曲率の溝部44A、44B、44Cの中腹部に線接触で安定して支持される。この実施の形態に係るキャリアレス式の基板洗浄装置によれば、口径の異なる3種類の基板を一つの装置で容易に、かつ安定して洗浄することができる。
【0013】
図4は本発明に係る基板洗浄装置の第3実施形態の要部を示す正断面図である。固定受け台45は両側に面壁46、46と、中央部に高さが低く設定された面壁47を有し、各面壁の頂部には基板を支持するためのV字状の支持溝48B、48Aが設けられている。これらの支持溝は固定受け台45の長手方向(図4においては紙面に対して垂直な方向)に等間隔で複数本設けられている。
中央部の面壁47の支持溝48Aは小口径の基板10Aの曲率半径に対応した曲率で形成され、両側の面壁46、46の支持溝48Bは大口径の基板10Bの曲率半径に対応した曲率で形成されている。
【0014】
このため、円形の小口径の基板10Aを固定受け台45に載置すると、基板10Aは支持溝48Bの内側の点bで点接触によって2個所支持され、かつ、中央の支持溝48Aで線接触によって支持されことになる。したがって、基板10Aを安定に支持することができる。また、大口径の基板10Bを固定受け台45に載置した時は、基板10Bは中央の支持溝48Aには接触せずに、支持溝48Bによる2個所の線接触によって安定に支持される。この実施の形態に係るキャリアレス式の基板洗浄装置によっても、口径の異なる2種類の基板を一つの装置で容易に、かつ安定して洗浄することができる。
【0015】
図5は本発明に係る基板洗浄装置の第4実施形態の要部を示す正断面図である。本実施形態の全体構成は前掲した図7、図8と同一であり、本実施形態においては基板搬送機の搬送アーム50先端に設けられた基板チャック52支持溝に工夫がある。基板チャック52には基板をチャックするためのV字状の支持溝54が設けられている。この支持溝54は基板チャック52の長手方向(図5においては紙面に対して垂直な方向)に等間隔で複数本設けられており、その要部を図6に斜視図で示す。
支持溝54は2種類の曲率を持っており、内側の溝部54Aは小口径の基板10Aの曲率半径に対応した曲率で形成され、外側の溝部54Bは大口径の基板10Bの曲率半径に対応した曲率で形成されている。また、基板10Aをチャックした際には対向して設けられた左右の内側の溝部54A、54Aの曲率の中心が一致するようにされている。同様に基板10Bをチャックした際には対向して設けられた左右の外側の溝部54B、54Bの曲率の中心が一致するようにされている。このため、円形の小口径の基板10Aを基板チャック52でチャックすると、基板10Aは必然的に内側の溝部54Aの中腹部に支持されることになり、基板10Aの外周部と内側の溝部54Aとが当接する部分が線接触となる。したがって、基板10Aを安定に支持して搬送することができる。また、大口径の基板10Bを基板チャック52でチャックする時は、基板10Bは必然的に外側の溝部54Bの中腹部に支持されることになり、基板10Bの外周部と外側の溝部54Bとが当接する部分が線接触となり、前記基板10Aの場合と同様に基板10Bを安定に支持して搬送することができる。この実施の形態に係るキャリアレス式の基板洗浄装置によれば、口径の異なる2種類の基板を一つの装置で容易に、かつ安定して搬送することができる。
【0016】
この第4実施形態に、前記した第1実施形態又は第3実施形態を組み合せることが好ましい。すなわち、固定受け台30又は固定受け台45と、基板チャック52のそれぞれに設けた支持溝を口径の異なる2種類の基板の曲率半径に対応した2種類の曲率を持つ溝によって形成すれば、これらの口径の異なる2種類の基板を一つの装置で洗浄と搬送の両方を容易に、かつ安定して行うことができる。
【0017】
前記各実施形態では固定受け台と基板チャックのそれぞれに設けた支持溝がV字状であったが、V字状に限らず、例えばU字状であってもよい。また、前記各実施形態では主に複数枚の基板を一括して処理するものについて説明したが、本発明はこれに限らず、1枚毎に処理する枚葉式の基板洗浄装置にも応用することができる。
【0018】
【発明の効果】
上述のとおり、本発明に係るキャリアレス式の基板洗浄装置によれば、口径の異なる複数種類の基板のそれぞれを線接触で支持するので、口径の異なる複数種類の基板を一つの装置で容易に、かつ安定して洗浄、搬送することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る基板洗浄装置の第1実施形態の要部を示す正断面図である。
【図2】第1実施形態の要部を示す斜視図である。
【図3】本発明の第2実施形態を示す要部説明図である。
【図4】本発明に係る基板洗浄装置の第3実施形態の要部を示す正断面図である。
【図5】本発明に係る基板洗浄装置の第4実施形態の要部を示す正断面図である。
【図6】第4実施形態の要部を示す斜視図である。
【図7】キャリアレス式基板洗浄装置において基板を固定受け台に載置した状態を示す側面図である。
【図8】キャリアレス式基板洗浄装置の概略構成を示す正断面図である。
【図9】従来の固定受け台で基板が傾いて不都合が生じる場合の説明図である。
【図10】従来の固定受け台における支持溝の詳細を示す正断面図である。
【符号の説明】
10、10A,10B、10C……基板
12、30、45……固定受け台
14……洗浄液
16、34、44、,48A,48B……支持溝
20……洗浄槽
22……基板搬送機
24、50……搬送アーム
26、52……基板チャック
54……支持溝
Claims (4)
- 円盤状の基板を洗浄槽内に配置した固定受け台に載置し、洗浄槽内の洗浄液に浸漬した状態で、前記基板を洗浄するようにしたキャリアレス式の基板洗浄装置において、前記固定受け台は前記基板を支持するための支持溝を具備しており、支持溝は口径の異なる複数種類の基板の曲率半径に対応した複数種類の曲率を持つ溝によって形成されていることを特徴とする基板洗浄装置。
- 前記複数種類の曲率を持つ溝は外側に大口径の基板の曲率半径に対応した曲率を、内側に小口径の基板の曲率半径に対応した曲率を持つことを特徴とする請求項1に記載の基板洗浄装置。
- 基板搬送機によって円盤状の基板を洗浄槽内に配置した固定受け台に移載し、洗浄槽内の洗浄液に浸漬した状態の前記基板を洗浄するようにしたキャリアレス式の基板洗浄装置において、前記基板搬送機に装備された基板チャックは前記基板をチャックするための支持溝を具備しており、支持溝は口径の異なる複数種類の基板の曲率半径に対応した複数種類の曲率を持つ溝によって形成されていることを特徴とする基板洗浄装置。
- 前記固定受け台は前記基板を支持するための支持溝を具備しており、支持溝は口径の異なる複数種類の基板の曲率半径に対応した複数種類の曲率を持つ溝によって形成されていることを特徴とする請求項3に記載の基板洗浄装置。
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