JP4449881B2 - ワークの乾燥方法 - Google Patents
ワークの乾燥方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4449881B2 JP4449881B2 JP2005299139A JP2005299139A JP4449881B2 JP 4449881 B2 JP4449881 B2 JP 4449881B2 JP 2005299139 A JP2005299139 A JP 2005299139A JP 2005299139 A JP2005299139 A JP 2005299139A JP 4449881 B2 JP4449881 B2 JP 4449881B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- workpiece
- liquid
- hole
- drying
- work
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000001035 drying Methods 0.000 title claims description 37
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 133
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 32
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 29
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 claims description 25
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 6
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 claims description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 39
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 9
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 5
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 2
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 description 1
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 1
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 230000029058 respiratory gaseous exchange Effects 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
Images
Description
磁気記録膜を形成する前に高度の最終洗浄が行なわれるが、洗浄精度は極めて高い水準が要求され、ワーク表面にいかなる不純物も存在しないことが重要となる。
ワークの洗浄方法としては、シャワーや薬液浸漬、スクラブ等のウェット方式が主流であり、洗浄後、ワーク表面の水分を除去して乾燥させる必要がある。
乾燥方法の例としては、高速回転による遠心力を利用してワーク表面の水分を振り切るスピン乾燥がある。しかし、パーティクルの付着やウォーターマーク(水シミ)の制御が難しく、最先端の製品を製造する上では、満足いく乾燥品質が得られていない。
そこで近年では、上記の問題を解決するため、液中に浸漬したワークをその液面上に置換ガスを導入して乾燥させる、いわゆるマランゴニ方式を用いた乾燥方法が提唱されている(例えば特許文献1〜3参照)。
このマランゴニ方式は、例えば、図2に示すように、保持具101に置かれたワーク102を純水などからなるすすぎ液103に浸漬しておき(図2(A))、液体上部のIPA蒸気雰囲気104中に、1mm/sec程度の低速で引き上げる(図2(B),(C))方法である。
一方、最近の磁気ディスク市場は、家庭用情報機器、携帯機器に搭載される径の小さいディスクが急激に成長しつつあり、上記乾燥装置も小径ディスクに対応する必要があるが、図3(A),(B)に対比して示すように、ワーク102を外周で保持する保持具101を用いて液中から引き上げた場合、保持具101とワーク102との接点にパーティクルの集中303や乾燥シミ304が発生しやすく、ワーク102が小径ディスクの場合(図3(B))には、内外周の未使用領域302が大径ディスクの場合(図3(A))と比較して狭くなるため、そのパーティクルの集中303や乾燥シミ304が記録領域301にまで達するようになり、製品の歩留まり低下に直結する。これはワークを内周で保持して液中から引き上げるようにしても同様である。
すなわち、図4(A),(B)に対比して示すように、ワーク中心にくり貫かれている中心穴201も従来の大径ディスク(図4(A))に比べて小さくなっていることから、引き上げ時、ワーク中心部分が液面付近に差し掛かると、穴部に液膜202が張ってしまい(図4(B)(a),(b))、そのまま引き上げると、液の表面張力が釣り合わなくなったところで液膜が破れる。この際、既に液面から上がって乾燥済みのワーク表面に微小な液滴が飛び散るため、全て引き上げた後のワーク表面を観察すると液滴シミ203が散在している(図4(B)(c))。
ワークはこの後成膜工程を経て最終製品になるが、液滴シミ203の部分は磁気記録膜の密着力が低いため時間が経つと微小な膨れになったり、腐食が進んで記録データが欠損したりするなど、製品として問題となる可能性がある。
また、ワークの外周を保持具により液中で保持し、かつワークの貫通穴に液膜形成抑止棒をワークと接することなく挿入した状態で、液中のワークの貫通穴までの部分をその液面上に露出させる第1の段階と、第1の段階により液膜形成抑止棒が液面上に露出して乾燥した時点で、その液膜形成抑止棒によりそれが挿入されている貫通穴を形成するワークの内周を保持し、かつ保持具によるワークの外周の保持を液中で解除した状態で、ワークの保持具により保持されていた外周を含む残りの部分をその液面上に露出させる第2の段階とを含むことを特徴とする。
本発明においては、ワークの貫通穴に液膜形成抑止棒をワークと接することなく挿入した状態で、液中のワークの貫通穴をその液面上に露出させることにより、液中の貫通穴が液面上に露出する際に破れて液滴を飛散させるような大きな液膜の形成を抑止すると共に、液膜形成抑止棒がワークに接することによるワーク内周でのパーティクル集中や乾燥シミの発生を防止する。
また、第1の段階と第2の段階とを含む場合には、液膜破れによる乾燥済みワーク表面への液滴飛散がないのに加え、液膜形成抑止棒や保持具とワークとの接点で発生するパーティクルの集中や乾燥シミもなく、ワーク表面の洗浄品質を維持したまま、面内を均質に乾燥させることができる。
図1に示すように、本発明の実施形態のワークの乾燥方法は、ワーク102の貫通穴201より下方の外周を保持具101により純水などからなるすすぎ液103中で保持し、かつワーク102の貫通穴201に液膜形成抑止棒105をワーク102と接することなく挿入した状態で、保持具101を上昇させてワーク102を引き上げることにより、液103中のワーク102の貫通穴201までの部分をその液面106上に露出させる第1の段階(図1(A)→(B))と、第1の段階により液膜形成抑止棒105が液面106上に露出して乾燥した時点で、その液膜形成抑止棒105により貫通穴201を形成するワーク102の内周を保持し、かつ保持具101によるワーク102の外周の保持を液103中で解除した状態で、液膜形成抑止棒105を上昇させてワーク102を引き上げることにより、ワーク102の保持具101により保持されていた外周を含む残りの部分をその液面上に露出させる第2の段階(図1(B)→(C)とを含む。
また、ワーク102としては、貫通穴201として中心穴を有するディスク形状のハードディスク用基板とすることができ、液面106上にはノズル107からIPAなどからなる置換ガス104を導入し、そのマランゴニ力をワーク102の乾燥に利用することが好ましい。
具体的には、マランゴニ方式を利用した円環型ワークの乾燥方法において、ワークが液中から引き上げられる際、まず第1の段階として、ワーク外周を保持する冶具に置かれたワークについて、ワーク中心にくり貫かれている穴に液膜形成抑止棒を通し、その棒がワークと接することのない状態で、ワーク外周を保持する冶具と連動してワークを液中から引き上げる。
さらに第2の段階として、上記棒が液から出て乾燥した時点で、棒がワーク内周と接してワークを保持し、外周保持冶具は液に入ったままで、ワークを引き上げる。
これにより、冶具とワークとの接点にパーティクルの集中や乾燥シミを発生させずにワークを乾燥させることができる。
このように、ワーク中心穴に棒が通っていることから、液滴が飛散するような大きな液膜が張ることがなく、かつ、棒とワーク内周の間のわずかな液も、引き上げ中に乾燥させることができるので、液膜破れによる乾燥済みワーク表面への液滴飛散がないのに加え、冶具とワークとの接点で発生するパーティクルの集中や乾燥シミもなく、ワーク表面の洗浄品質を維持したまま、面内を均質に乾燥させることができる。
図5は、図示しない洗浄槽により洗浄を終えた複数のワーク401が、乾燥装置402へ、図示しない搬送系によって搬送されてきたところを示している。ワーク401は外周保持具403によって外周を保持されており、保持具403ごと、乾燥装置402のステージ404に載せられる。
図6は、ステージ404に載せられたワーク401の中心穴に液膜形成抑止棒405を通すところを示している。棒405はワーク401が並べられている間隔と一致するように、太い部分と細い部分が交互に繰り返された形になっており、この時点では、図6(B)に示すように、棒405の太い部分がワーク401の内径部位置に合うように位置決めされる。
図8は、ワーク401の乾燥が行なわれている途中を示している。乾燥装置402は液上部の空間がドーム406で覆われ、ノズル407からIPA蒸気が噴霧される。同時にステージ404と棒405は連動して(棒405はワーク401に接することなく)上昇し、ワーク401はIPA蒸気雰囲気408中に引き上げられる。
図8(B)に示すように、ワーク401の中心穴には棒405が通っており、かつ棒405の太い部分がワーク401内径部に位置していることから、ワーク401の中心穴は棒405によってほぼ塞がった状態となり、従来、中心穴に発生していた液膜ができることはない。また、棒405の細い部分は隣り合うワークの間に位置するので、IPA蒸気雰囲気408中でワーク401表面が乾燥するのと同じに、棒405も乾燥する。
その後、図9に示すように、棒405が上昇してワーク401内径部と接することでワーク401が保持され(図9(B))、そのままワーク401は全体が液面上に引き上げられる(図9(C))。この時、外周保持具403は液中に残ったままとなり、外周保持具403とワークとの接点部がIPA蒸気雰囲気408中にさらされることはない。
乾燥されたワーク401は、図示しない搬送系により、図示しない収納カセットに収納される。また、ステージ404が上昇して外周保持具403が液中から取り出され、図示しない搬送系により新たな被洗浄ワークを待ち受ける位置へ搬送される。以降、上記の一連の流れを繰り返し、連続的に多数のワークの洗浄・乾燥が行なわれる。
その際、ワークはハードディスク用の公称直径1インチのガラス基板(外径27.4mm、内径7mm、厚さ0.381mm)を用い、引き上げ速度は1.0mm/sec(本発明の液膜形成抑止棒を用いない場合に、中心穴の液膜が破れて液滴シミが観察される速度)とし、液滴シミ有無の判定は呼気試験法(乾燥後のワークに息をかけ、ワーク表面の曇りが引く際に、局所的なムラが見られないかどうか)にて行なった。
〔実施例1〕
図10(A)に示すように、断面が円形で、太い部分の径が5mm、細い部分の径が2.5mm、太い部分が6.35mm毎に繰り返される棒を液膜形成抑止棒として用いた。
〔実施例2〕
図10(B)に示すように、断面が正方形で、基板内周保持用の溝が6.35mm毎に設けられた棒を液膜形成抑止棒として用いた。
102 ワーク(ディスク)
103 液
104 置換ガス
105 液膜形成抑止棒
106 液面
201 貫通穴(中心穴)
Claims (6)
- 液中に浸漬した貫通穴を有するワークをその液面上に露出して乾燥させるワークの乾燥方法において、
前記ワークの貫通穴に液膜形成抑止棒をワークと接することなく挿入した状態で、液中のワークの貫通穴をその液面上に露出させる段階を含むことを特徴とするワークの乾燥方法。 - 液中に浸漬した貫通穴を有するワークをその液面上に露出して乾燥させるワークの乾燥方法において、
前記ワークの外周を保持具により液中で保持し、かつ当該ワークの貫通穴に液膜形成抑止棒をワークと接することなく挿入した状態で、液中のワークの貫通穴までの部分をその液面上に露出させる第1の段階と、
前記第1の段階により前記液膜形成抑止棒が液面上に露出して乾燥した時点で、その液膜形成抑止棒により前記貫通穴を形成するワークの内周を保持し、かつ前記保持具によるワークの外周の保持を液中で解除した状態で、ワークの前記保持具により保持されていた外周を含む残りの部分をその液面上に露出させる第2の段階とを含むことを特徴とするワークの乾燥方法。 - 前記液膜形成抑止棒は、少なくとも2種類の太さあるいは形状の異なる部分を備え、前記第1の段階と第2の段階で、当該太さあるいは形状の異なる部分を使い分けることを特徴とする請求項2に記載のワークの乾燥方法。
- 前記ワークは円環型ワークからなることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のワークの乾燥方法。
- 前記ワークは貫通穴として中心穴を有する磁気ディスク用の基板からなることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のワークの乾燥方法。
- 前記液面上に置換ガスを導入し、そのマランゴニ力を前記ワークの乾燥に利用することを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載のワークの乾燥方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005299139A JP4449881B2 (ja) | 2005-10-13 | 2005-10-13 | ワークの乾燥方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005299139A JP4449881B2 (ja) | 2005-10-13 | 2005-10-13 | ワークの乾燥方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007109312A JP2007109312A (ja) | 2007-04-26 |
JP4449881B2 true JP4449881B2 (ja) | 2010-04-14 |
Family
ID=38035067
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005299139A Expired - Fee Related JP4449881B2 (ja) | 2005-10-13 | 2005-10-13 | ワークの乾燥方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4449881B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5019226B2 (ja) * | 2008-02-22 | 2012-09-05 | 株式会社ネツレンタクト | ワーク整列集積装置 |
JP6410440B2 (ja) * | 2014-03-10 | 2018-10-24 | セイコーインスツル株式会社 | ピボット用軸受の製造方法およびピボットの製造方法 |
-
2005
- 2005-10-13 JP JP2005299139A patent/JP4449881B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2007109312A (ja) | 2007-04-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6334026B2 (ja) | スクラバー | |
JP6118758B2 (ja) | 基板処理装置及び基板処理方法並びに基板処理プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 | |
US6273100B1 (en) | Surface cleaning apparatus and method | |
JP4755519B2 (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
JP6568975B2 (ja) | テープカートリッジ、スクラバー、および基板処理装置 | |
US20080052947A1 (en) | Substrate processing method and substrate processing apparatus | |
JP2007158161A (ja) | ウエハ洗浄装置及びウエハ洗浄方法 | |
JP4449881B2 (ja) | ワークの乾燥方法 | |
KR20010049878A (ko) | 습식처리장치 | |
KR20070074398A (ko) | 오염 물질 제거부를 포함하는 반도체 웨이퍼 | |
JP5302781B2 (ja) | 基板液処理装置及び基板液処理方法並びに基板液処理プログラムを格納した記憶媒体 | |
JP2000252252A (ja) | スピン処理用支持ピン及びスピン処理装置 | |
JP2009021617A (ja) | 基板処理方法 | |
JP2006073753A (ja) | 基板洗浄装置 | |
JP2010239026A (ja) | 基板保持部材及び液処理装置 | |
JP4936878B2 (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
JP6411571B2 (ja) | 基板処理装置及び基板処理方法並びに基板処理プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 | |
JP3035450B2 (ja) | 基板の洗浄処理方法 | |
JP2003309097A (ja) | スクラブブラシの洗浄方法およびこれに用いられる洗浄用ダミーウェーハ | |
JP2008060102A (ja) | 基板の洗浄乾燥方法 | |
JP3453022B2 (ja) | 現像装置 | |
KR100591777B1 (ko) | 스핀 세정 장치 | |
JPH07171515A (ja) | 洗浄装置 | |
JP2006070349A (ja) | 半導体製造装置 | |
JP2011089209A (ja) | 半導体製造装置の動作方法及び半導体装置の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080715 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20081216 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20090219 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20091225 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100105 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100118 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4449881 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130205 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130205 Year of fee payment: 3 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130205 Year of fee payment: 3 |
|
R360 | Written notification for declining of transfer of rights |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R360 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130205 Year of fee payment: 3 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |