JPH08195431A - 基板保持具及び洗浄装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 円形状の基板例えばウエハの左右の揺れ及び
傾き（倒れ）を抑えて安定した姿勢でウエハを保持する
ことができる基板保持具、及び液の表面張力によるウエ
ハ同士の吸着現象を防止できる洗浄装置の提供。 【構成】 ウエハＷを３点で支持するように保持棒３１
〜３３に夫々第１〜第３の保持溝４〜６を形成する。第
１の保持溝４はウエハＷの下端より右上近傍を保持する
よう、また第２の保持溝５はウエハＷの左端の右下近傍
を保持するように夫々配置され、これらでウエハＷの左
右揺れを防ぎ、更に第３の保持溝はウエハＷの右端上方
に位置して支持長を稼ぎ、これによりウエハＷの傾きを
防いでいる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、基板保持具および洗浄
装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体デバイスの製造工程では、半導体
ウエハ（以下「ウエハ」という）表面のパーティクル、
有機汚染物、金属不純物等のコンタミネーションを除去
するために洗浄装置が使用されており、その中でもウエ
ット洗浄装置は、前記コンタミネーションを効果的に除
去でき、しかもバッチ処理が可能でスループットが良好
であるため幅広く普及している。

【０００３】この種の洗浄装置では、薬液槽内にてウエ
ハに対してアンモニア、フッ酸、塩酸などの薬液処理を
行った後、リンス槽内にて例えば純水によりリンスを行
っており、その装置構成については、薬液槽及びリンス
槽の組が各薬液毎にシリーズに配列され、例えば５０枚
のウエハを一括してウエハ保持具に載せて各槽に順次搬
送するための搬送系が設けられている。図９は従来の洗
浄装置の主要部を示す図であり、この洗浄装置では、予
め図示しないウエハチャックにより例えば２５枚づつ２
回ウエハを移載して５０枚のウエハＷをウエハ保持具１
１に移し替え、このウエハ保持具を１１を保持具搬送手
段により薬液内に浸漬し、薬液を循環させながら洗浄処
理例えばエッチングし、次いで前記保持具搬送手段によ
り保持具１１上のウエハＷを把持して、図示しないリン
ス槽に移し替えてリンスを行う。

【０００４】前記保持具１１は従来例えば図９及び図１
０に示すようにウエハＷの下端を保持具する保持棒１２
と、ウエハＷの左右両端即ちウエハＷの中心を通る水平
な線上を夫々保持する保持棒１３、１４とを有し、保持
棒１２〜１４には、夫々ウエハＷの周縁部が嵌入される
保持溝１２ａ、１３ａ、１４ａが長さ方向に間隔をおい
て形成されており、ウエハが矢印の如く上から下に取り
入れられ、あるいは下から上に取り出されるように構成
されている。

【０００５】また図１１は従来の保持具の他の例を示
し、この保持具１１は、ウエハＷの下端を保持する保持
棒１５と、ウエハＷ左右斜め下を夫々保持する保持棒１
６、１７とを有し、保持棒１５〜１７には夫々ウエハＷ
の周縁部が嵌入される保持溝１５ａ、１６ａ，１７ａが
形成されている。

【０００６】

【発明が解決しようとしている課題】しかしながら図１
０に示す保持具では、ウエハチャックにより、あるいは
ウエハＷを下方から突き上げる手段を介してウエハＷの
取り入れ、取り出しを行うために左右の保持溝１３ａ、
１４ａにおいてウエハＷとの間に例えば０．５〜１ｍｍ
程度のあそびαを必要とする。このためウエハＷの搬送
時にウエハＷがあそびの大きさに応じて左右に揺れるの
でウエハＷと保持溝１３ａ、１４ａとが擦れてパーティ
クル汚染を起こすおそれがあった。

【０００７】また図１１に示す保持具では、左右の保持
溝１６ａ、１７ａがウエハＷの左右両端より下方側に位
置しているので、これら保持溝１６ａ，１７ａとウエハ
Ｗとの間にはウエハＷの取り入れ、取り出しのためのあ
そびは必要でなく、左右の保持溝１６ａ，１７ａからウ
エハＷが浮かないように、下端の保持溝１５ａとウエハ
Ｗとの間に小さなあそびβを持たせればよいので左右の
揺れはほとんど起こらない。

【０００８】ところで保持具に保持されているウエハＷ
の傾き量（前後の倒れ量）は、保持溝の形状と保持具に
おけるウエハの支持長ｈ（下端の保持溝にウエハＷが接
しているポイントと左右の保持溝にウエハＷが接してい
るポイントとの上下方向の長さ）とで決まり、溝幅が狭
いほどあるいは支持長ｈが大きいほど小さくなる。ここ
で図１１に示す保持具では、支持長ｈ２がそれ程大きく
ないためウエハＷの傾き量が大きくなり、ウエハチャッ
クによりウエハＷを把持するときにウエハＷの周縁部が
ウエハチャックの把持溝あるいは突き上げ手段の保持溝
から外れてしまいウエハＷの受取りを失敗するおそれが
あった。

【０００９】また薬液槽やリンス槽を小型化するために
ウエハＷの配列ピッチを狭くすることが検討されている
が、この場合前記支持長ｈが小さいと、液の表面張力に
よりウエハＷ同士が吸着するというブリッジ現象が起こ
りやすく、このことは、図１０に示す保持具においても
支持長ｈ１がウエハＷの半径程度しかないため、前記配
列ピッチが狭くなると、やはりブリッジ現象を確実に防
ぐことが困難であり、今後の検討課題となっている。

【００１０】本発明は、このような事情の下になされた
ものであり、その目的は、基板を安定した姿勢で保持す
ることができ、しかもパーティクル汚染を抑えることの
できる基板保持具および洗浄装置を提供することにあ
る。

【００１１】

【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、複数
の円形状の基板を各々縦向きで並列に保持するための基
板保持具において、基板の周方向に沿って配列され、夫
々基板の周縁部を保持する第１の保持溝、第２の保持溝
及び第３の保持溝を有し、前記第１の保持溝は、基板の
下端と基板の左右方向の端部との間を保持するように配
置され、前記第２の保持溝は、基板の中心と下端とを結
ぶ線に対して第１の保持溝とは反対側において、基板の
左右方向の端部と前記第１の保持溝との間の高さ位置に
配置され、前記第３の保持溝は、基板の中心と下端とを
結ぶ線に対して第１の保持溝と同じ側において、基板の
左右方向の端部よりも高い位置を保持するように配置さ
れたことを特徴とする。

【００１２】請求項２の発明は、複数の円形状の基板を
各々縦向きで並列に保持するための基板保持具におい
て、基板の周方向に沿って配列され、夫々基板の周縁部
を保持する第１の保持溝、第２の保持溝及び第３の保持
溝を有し、前記第１の保持溝は、基板の下端の近傍であ
って、基板の下端から周縁部に沿って右上に変位した位
置に配置され、前記第２の保持溝は、基板の左端の近傍
であって、基板の左端から周縁部に沿って右下に変位し
た位置に配置され、前記第３の保持溝は、基板の右端よ
りも高い位置を保持するように配置されたことを特徴と
する。

【００１３】請求項３の発明は、請求項１または２の発
明において、第１の保持溝及び第２の保持溝は断面がＶ
字型に形成され、第３の保持溝は、基板の周縁部を保持
するための溝基部と、この溝基部の開口縁に連続して拡
開し、基板の周縁部を前記溝基部に案内するための案内
部とからなることを特徴とする。

【００１４】請求項４の発明は、請求項１、２または３
記載の基板保持具において、第３の保持溝と基板の右端
との間には左右方向のあそびが形成されていることを特
徴とする。

【００１５】請求項５の発明は、複数の基板を処理槽内
の保持具に並列に保持させて、洗浄処理液により洗浄処
理する洗浄装置において、前記保持具は、基板の周方向
に沿って配列され、夫々基板の周縁部を保持する第１の
保持溝、第２の保持溝及び第３の保持溝を有し、前記第
１の保持溝は、基板の下端の近傍であって、基板の下端
から周縁部に沿って右上に変位した位置に配置され、前
記第２の保持溝は、基板の左端の近傍であって、基板の
左端から周縁部に沿って右下に変位した位置に配置さ
れ、前記第３の保持溝は、基板の右端よりも高い位置を
保持するように配置されたことを特徴とする。

【００１６】請求項６の発明は、請求項４の発明におい
て、第１の保持溝及び第２の保持溝は断面がＶ字型に形
成され、第３の保持溝は、基板の周縁部を保持するため
の溝基部と、この溝基部の開口縁に連続して拡開し、基
板の周縁部を前記溝基部に案内するための案内部とから
なることを特徴とする記載の洗浄装置。

【００１７】請求項７の発明は、請求項４または５記載
の洗浄装置において、第３の保持溝と基板の右端との間
には左右方向のあそびが形成されていることを特徴とす
る。

【００１８】

【作用】基板の中心と下端とを結ぶ線の両側に配置され
た第１の保持溝および第２の保持溝は、基板の左右方向
の端部よりも下方側に位置するため、基板との間にあそ
びを持たせなくてよいので、これら保持溝により基板の
左右方向の揺れが抑えられる。そして最も下方側に位置
する第１の保持溝と最も上方側に位置する第３の保持溝
との高さの差に応じて基板の倒れ量が決まるが、第３の
保持溝は、基板の左右方向の端部よりも上方側に位置す
ると共に、第１の保持溝は基板の下端部の近くに寄せて
おくことができるので前記高さの差を大きくとることが
でき、従って基板の傾きを抑えることができる。

【００１９】例えば第１の保持溝を基板の下端の近傍
に、また第２の保持溝を基板の左右方向の端部の近傍に
夫々位置させておくことにより、第１の保持溝と第２の
保持溝との間の基板の周縁の長さを大きくとることがで
きるため、基板の左右方向の揺れが起こりにくくなり、
またこうすることで第１の保持溝と第３の保持溝との高
さの差を、より大きくとることができ、こうして保持溝
の姿勢が安定する。

【００２０】

【実施例】本発明の実施例に係る基板保持具を洗浄装置
に適用した例について述べる。先ず搬送系なども含めた
洗浄装置全体について図１を参照しながら簡単に説明す
ると、装置全体は、洗浄処理前の基板例えばウエハをカ
セット単位で収容する搬入部Ａと、ウエハの洗浄処理が
行われる洗浄処理部Ｂと、洗浄処理後のウエハをカセッ
ト単位で取り出すための搬出部Ｃとの３つのゾーンによ
って構成されている。

【００２１】搬入部Ａでは、例えば２５枚のウエハが収
納されたカセットＣが外部からカセット搬送手段２０に
より待機部２１に一旦搬入された後、ローダ部２２に搬
送され、ここで図では見えないウエハチャックによりカ
セットＣ内のウエハが専用のウエハ保持具に移し替えら
れる。洗浄処理部Ｂでは、搬入部Ａと搬出部Ｃとを結ぶ
ラインに沿って例えば３台のウエハ搬送機構Ｒ１〜Ｒ３
が設けられ、ウエハ搬送機構Ｒ１〜Ｒ３は、ウエハを保
持したウエハ保持具を処理槽内に搬送する保持具搬送手
段を備えている。また前記搬入部Ａ側から順に、ウエハ
搬送機構Ｒ１の保持具搬送手段２３を洗浄、乾燥する洗
浄・乾燥槽Ｔ１、３つの処理槽Ｔ２〜Ｔ４、ウエハ搬送
機構Ｒ３の保持具搬送手段２４を洗浄、乾燥する洗浄・
乾燥槽Ｔ５、ウエハを蒸気乾燥させるウエハ乾燥槽Ｔ６
が設けられている。

【００２２】処理槽Ｔ２〜Ｔ４は、薬液により洗浄さ
れ、かつ夫々例えば純水でリンスされるように構成さ
れ、ウエハは例えば５０枚一括して後述の専用の保持具
で保持されてウエハ搬送機構Ｒ１〜Ｒ３により、順次処
理槽Ｔ２〜Ｔ４内にて洗浄処理が行われる。洗浄処理部
Ｂの上方には、前記ウエハチャックによってウエハが取
り出された後の空のカセットＣを洗浄、乾燥するための
洗浄・乾燥ライン２５が設けられており、この洗浄乾燥
ラインへのカセットＣの供給は、前記ローダ部２２及び
昇降機構２６によって行われる。

【００２３】ここで上述のウエハ保持具及び処理槽の概
観を図２に示すと、ウエハ保持具３は、一対の端板３０
ａ、３０ｂ間に渡された第１の保持棒３１、第２の保持
棒３２及び第３の保持棒３３を有しており、端板３０
ａ、３０ｂの上端部には夫々水平に折曲された被支持部
３４ａ、３４ｂが形成されている。前記保持具搬送手段
は例えば図２に示すように一対のアーム２７ａ、２７ｂ
を有し、前記ウエハ保持具３の被支持部３４ａ、３４ｂ
の下面を夫々支持して既述の装置Ｔ２〜Ｔ４内へ搬送す
るように構成されている。

【００２４】ここに示すウエハ保持具は本発明の基板保
持具の一実施例に相当するものである。なおウエハＷは
完全な円形状ではなくオリエンテーションフラットと呼
ばれる直線部分Ｆが形成されているが、本発明は完全な
円形状の基板のみならず、ウエハのように一部欠けてい
る基板をも含むものである。前記保持棒３１〜３３は各
々例えばフッ素樹脂や石英などからなり、例えば直径１
５ｍｍの円柱状に成形されている。ただし保持棒３１〜
３３は必ずしも断面が円形状でなくても良く、かつこれ
らが全て同一形状でなくても良い。そして前記保持棒３
１〜３３は図２及び図３に示すように夫々ウエハＷの真
下より若干右上、ウエハＷの右斜め上及びウエハＷの左
斜め下に位置するように配置されており、各保持棒３１
〜３３の表面には、夫々ウエハＷの周縁部を保持するた
めの第１の保持溝４、第２の保持溝５及び第３の保持溝
６が夫々保持棒３１〜３３の長さ方向に沿って一定の間
隔で例えば５０本形成されている。

【００２５】前記各保持溝４〜６の位置関係について図
３を参照しながら述べると、第１の保持溝４は、ウエハ
Ｗの下端ａから周縁に沿って図中右上に変位した位置で
あって下端ａの近傍に位置し、下端ａと保持溝４との中
心となす円周角θ１が例えば約５度とされる。また第２
の保持溝５は、ウエハＷの図中左端ｂ（ウエハＷの受け
渡し方向と直交しかつ中心０を通るラインＨがウエハＷ
の左半円の周縁と交わる点）から周縁に沿って図中右下
に変位した位置であって左端ｂの近傍に位置し、左端ｂ
と保持溝５の中心とのなす円周角θ２が例えば約５度と
される。第３の保持溝６は、ウエハＷの図中右端ｃ（ラ
インＨがウエハＷの右半円の周縁と交わる点）の上方側
に例えば８インチウエハＷの場合保持溝６の中心が前記
ラインＨよりも例えば１５〜１８ｍｍ上方となるように
位置している。

【００２６】前記第１の保持溝４及び第２の保持溝５
は、保持溝の伸びる方向から即ち図３の点線矢印方向か
らみると、図４に示すように例えば開き角θ４が６０度
のＶ字状に形成されており、ウエハＷの周縁部がこの断
面Ｖ字状の保持溝４、５の傾斜面により前後両側から相
対的に挟まれた状態となって保持されることとなる。な
おこのＶ字状の保持溝４、５の底縁は、例えばウエハＷ
の略接線方向に伸びている。

【００２７】前記第３の保持溝６は、図３の点線矢印方
向から見ると、図５に示すようにＹ字状に形成されてお
り、ウエハＷの周縁部付近の面を前後両側から保持する
と共にウエハＷの周縁部に対してウエハＷの左右方向に
若干の遊びγをもつように形成された断面コ字状の溝基
部６１と、この溝基部６１の開口縁に連続して拡開し、
ウエハＷの周縁部を溝基部６１内に案内するための案内
部６２とから構成されている。ただし前記第３の保持溝
６は、図６（ａ）に示すように溝基部６１がＶ字状に形
成されている形状や図６（ｂ）に示すように案内部６２
の一方側の面のみが傾斜している形状であってもよい。
なお第３の保持溝６の溝基部６１の底縁は、例えばウエ
ハＷの取り入れ、、取り出し方向と同じ方向に伸びてい
る。

【００２８】ウエハＷの取り入れ、取り出しが行われる
ウエハ保持具３の載置位置の下方側には、図７に示すよ
うにウエハ保持具３内のウエハＷを一括して突き上げる
突き上げ手段７０が設けられている。この突き上げ手段
７０は、ウエハＷの左斜め下及び右斜め下の周縁部を夫
々保持する突き上げ部材７１、７２とこれら突き上げ部
材７１、７２を昇降させる昇降部７３とを備えている。
突き上げ部材７１、７２は、保持具３の収容枚数に応じ
て例えば５０枚のウエハＷを一括して突き上げるように
５０本の溝が形成されている。

【００２９】そしてカセットＣから前記ウエハ保持具３
にウエハを移し替えるためのウエハチャック７４は、図
７に示すようにウエハＷの側周縁部を把持するための把
持溝７５が形成されると共に左右に開閉する把持部７
６、７６を備え、突き上げ部材７１、７２を介してウエ
ハ保持具３に対してウエハＷの取り入れ、取り出しを行
う。

【００３０】一方前記３つの処理槽Ｔ２〜Ｔ４はほぼ同
一構造であり、各処理槽８（Ｔ２〜Ｔ４）及びそれに関
する装置構成について図２及び図８を参照しながら説明
する。処理槽８は、例えば矩形状に成形されると共に上
縁部に越流用の三角形状の切欠部８１が形成されてお
り、処理槽８の上縁部の外側には越流した液を受容する
受容槽８２が設けられている。

【００３１】前記処理槽８の底部には、リンス液例えば
純水を供給するためのリンス液供給管８３が接続される
と共に、処理槽８の底部とウエハ保持具３との間には整
流板８４が設けられている。リンス液供給管８３は薬液
の循環路８５の一部を兼用しており、バルブＶ１を介し
て図示しない例えば純水供給源に接続されている。前記
循環路８５は、受容槽８２の底部と処理槽８の底部との
間に設けられ、バルブＶ２、ポンプＰ、フィルタＦ及び
バルブＶ３が介設されている。また前記受容槽８２に
は、リンス処理時に純水を排出し、バルブＶ４を備えた
排出管８６が接続されている。

【００３２】前記整流板８４は、例えばウエハ保持具３
の保持棒３１〜３３よりも若干長い板状体に、前後に平
行に伸びるスリット８４ａや前後に配列された孔部８４
ｂ（図２参照）を形成して構成される。リンス液供給管
８３の供給口に対向する位置には、供給口と略同径の拡
散板８７が設けられている。また処理槽８の上部には、
ウエハチャック７４と干渉しない位置に薬液供給部８８
が設けられている。

【００３３】次に上述実施例の作用について述べる。先
ず図１に示すローダ部２２においてウエハチャック７４
がカセットＣから２５枚のウエハを取り出し、ウエハ保
持具３の保持棒３１〜３３の間から上昇した突き上げ部
材７１、７２に一旦受け渡す。続いて突き上げ部材７
１、７２が降下することにより各ウエハＷは第１〜第３
の保持溝４〜６により３点で保持されこうして２５枚の
ウエハＷがウエハチャック７４からウエハ保持具３に移
し替えられる。そして他のカセットＣ内の２５枚のウエ
ハＷが同様にして前記ウエハ保持具３に移し替えられ、
前記ウエハ保持具３に５０枚のウエハＷが保持される。

【００３４】一方薬液供給部８８から薬液例えばフッ酸
溶液を処理槽８内に供給しておき、バルブＶ２、Ｖ３を
開いてポンプＰにより薬液を循環しておく。そして前記
保持具搬送手段のアーム２７ａ、２７ｂによりウエハ保
持具３を処理槽８内に搬送して、図８に示すように例え
ば５０枚のウエハＷを薬液内に浸漬し、例えば前記フッ
酸溶液によりウエハＷ表面の酸化膜をエッチングする。
次いで薬液の循環を止め、リンス液供給管８３より処理
槽８の底部から純水を供給する。リンス液供給口から供
給された純水は、先ず拡散板８７により拡散され、整流
板８４により整流されてウエハＷの下方側から上昇し、
この結果薬液が追い出されて処理槽８内が純水に置き換
わる。その後純水をリンス液供給管８３より比抵抗が回
復するまでリンスを続けてリンス処理を終了する。

【００３５】上述実施例によれば、第１の保持溝４及び
第２の保持溝５はウエハＷの左右両端よりも下方側に位
置するためウエハＷの周縁部との間にあそびを持たせな
くてよく、そして第２の保持溝５はウエハＷの図中左端
より右下に寄っているが、第１の保持溝４はウエハＷの
下端寄りも右上に寄っているので第１の保持溝４及び第
２の保持溝５間のウエハＷの周縁部の長さを大きくとる
ことができ、この結果ウエハＷの左右方向（回転方向）
の揺れを抑えることができる。

【００３６】また第１の保持溝４及び第２の保持溝５に
よりウエハＷの左右方向の揺れを防止するようにしてい
ることから、第３の保持溝６をウエハＷの図中右端より
も高い位置に配置することができ、こうすることで第１
の保持溝４及び第３の保持溝６の高さの差を大きくとる
ことができ、この結果ウエハＷの支持長ｈ３が大きくな
る（図１０、図１１に示す従来例と比べると、ｈ３＞ｈ
１、ｈ３＞ｈ２となる）のでウエハＷの前後の倒れ（傾
き）を抑えることができる。従ってウエハＷの姿勢が安
定するので、ウエハと保持溝とが擦れてパーティクル汚
染を引きおこすというおそれがないし、ウエハチャック
によるウエハＷの把持動作が安定し高い信頼性でウエハ
を搬送することができる。

【００３７】そしてウエハの傾き量が小さくなったこと
から、その分ウエハの配列ピッチ（保持溝の配列ピッ
チ）を狭めても、液中に浸漬したときに液の表面張力に
よるウエハＷ同士の吸着現象を防ぐことができる。この
ように処理槽内におけるウエハＷの配列ピッチを狭くす
ることができることにより処理槽の小型化を図ることが
でき、この結果装置の小型化及びコストダウンを図るこ
とができると共に、薬液及び純水の消費量を低減でき、
薬液から純水への置換に要する時間が短くなるのでリン
ス効率が高くなる。

【００３８】この結果リンス時間を短縮できるためスル
ープットが向上し、タクトタイム（一のウエハが処理さ
れた後次のウエハが処理されるまでの時間）を短縮化で
きる。更にまたウエハ保持具自体も、保持溝のピッチを
狭くすることにより小さくなるので保持具搬送手段も小
型化できる。そして第１、第２の保持溝４、５をＶ字状
に形成することによりウエハＷの周縁部が確実に保持溝
４、５の内面により衝止されるので左右の揺れが起こり
にくいし、またウエハＷがスムーズに保持溝４、５内に
挿入されると共に液が保持溝の奥まで入り込みやすい。
更に第３の保持溝をＹ字状にするなど案内部の奥にテー
パの大きいあるいは保持棒と直交する溝基部６１により
ウエハの周縁部付近の両面を保持しているためウエハＷ
の傾きの抑止効果が大きい。

【００３９】なお本明細書の特許請求の範囲で「右」あ
るいは「左」という記載をしてあるが、見る側を逆にす
れば左右の関係は逆転するので、基板の一面側から見た
ときに、右あるいは左の一方側に第１、第３の保持溝が
配置され、他方側に第２の保持溝が配置されていること
と同じ意味である。

【００４０】ここでウエハＷの中心０及び下端を結ぶ線
と第１の保持溝４とのなす円周角θ１（図３参照）は、
あまり小さいとウエハＷの左右の揺れの防止効果が小さ
くなり、逆に大き過ぎると支持長ｈ３を十分大きくとれ
なくなることから５度から３０度が好ましい。またライ
ンＨと第２の保持溝５とのなす円周角θ２は、あまり小
さいとウエハＷとの間にあそびが必要になり、逆に大き
過ぎるとウエハＷの左右の揺れの防止効果が小さくなる
ので、５度から３０度が好ましい。

【００４１】以上において本発明は、薬液による洗浄と
リンス液によるリンスとを別個の装置で行う洗浄装置に
対して適用することができ、更にフッ酸溶液により酸化
膜をエッチングする場合に限らず、例えばリン酸溶液に
よって窒化膜をエッチングする場合やリン酸、酢酸、硝
酸の混合液によってアルミニウムをエッチングする場合
にも適用できる。またその他洗浄処理としては、ＡＰＭ
溶液（アンモニア＋過酸化水素水＋純水）によりパーテ
ィクルの除去を行う場合、ＨＰＭ溶液（塩酸＋過酸化水
素水＋純水）により金属汚染を清浄する場合、あるいは
ＳＰＭ溶液（硫酸＋過酸化水素水）によりレジスト膜の
有機物を除去する場合などあってもよい。

【００４２】なお本発明は、ウエハ保持具が処理槽内に
設けられていて、ウエハチャックにより処理槽内のウエ
ハ保持具にウエハを受け渡すようにしてもよく、この場
合例えばウエハチャックについては、第１及び第３の保
持棒と干渉しないようにウエハＷの中心からみて右斜め
上と左斜め下を把持するように構成しても良い。そして
本発明の基板保持具はウエハを保持することに限らない
し、洗浄装置に用いることに限定されず、例えばバッチ
式熱処理装置に用いるようにしてもよい。

【００４３】

【発明の効果】本発明の基板保持具によれば、基板の左
右方向の揺れと傾き（倒れ）とを抑えることができ、基
板の姿勢を安定させることができるため、パーティクル
汚染を防止し、基板の搬送の信頼性を向上できる。また
本発明の洗浄装置によれば、このような基板保持具によ
り基板を保持して処理槽内に浸漬するので、液の表面張
力による基板同士の吸着現象を抑えることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例に係る洗浄装置の全体構成の概
略を示す斜視図である。

【図２】本発明の実施例に係るウエハ保持具及び処理槽
を示す斜視図である。

【図３】本発明の実施例に係るウエハ保持具の要部を示
す断面図である。

【図４】第１の保持溝及び第２の保持溝の一例を示す断
面図である。

【図５】第３の保持溝の一例を示す断面図である。

【図６】第３の保持溝の他の例を示す断面図である。

【図７】ウエハ保持具、ウエハチャック及び突き上げ手
段を示す縦断正面図である。

【図８】処理槽をウエハ保持具と共に示す断面図であ
る。

【図９】従来の洗浄装置の処理槽を示す縦断側面図であ
る。

【図１０】従来の基板保持具の一例を示す縦断正面図で
ある。

【図１１】従来の基板保持具の他の例を示す縦断正面図
である。

【符号の説明】 ２７ａ、２７ｂ 保持具搬送手段のアーム ３ ウエハ保持具 ３１〜３３ 保持棒 ４ 第１の保持溝 ５ 第２の保持溝 ６ 第３の保持溝 ６１ 溝基部 ６２ 案内部 ７０ 突き上げ手段 ７１、７２ 突き上げ部材 ７４ ウエハチャック ８ 処理槽 ８３ リンス液供給管 ８４ 整流板 ８５ 薬液の循環路

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 複数の円形状の基板を各々縦向きで並列
   に保持するための基板保持具において、 基板の周方向に沿って配列され、夫々基板の周縁部を保
   持する第１の保持溝、第２の保持溝及び第３の保持溝を
   有し、 前記第１の保持溝は、基板の下端と基板の左右方向の端
   部との間を保持するように配置され、 前記第２の保持溝は、基板の中心と下端とを結ぶ線に対
   して第１の保持溝とは反対側において、基板の左右方向
   の端部と前記第１の保持溝との間の高さ位置に配置さ
   れ、 前記第３の保持溝は、基板の中心と下端とを結ぶ線に対
   して第１の保持溝と同じ側において、基板の左右方向の
   端部よりも高い位置を保持するように配置されたことを
   特徴とする基板保持具。
2. 【請求項２】 複数の円形状の基板を各々縦向きで並列
   に保持するための基板保持具において、 基板の周方向に沿って配列され、夫々基板の周縁部を保
   持する第１の保持溝、第２の保持溝及び第３の保持溝を
   有し、 前記第１の保持溝は、基板の下端の近傍であって、基板
   の下端から周縁部に沿って右上に変位した位置に配置さ
   れ、 前記第２の保持溝は、基板の左端の近傍であって、基板
   の左端から周縁部に沿って右下に変位した位置に配置さ
   れ、 前記第３の保持溝は、基板の右端よりも高い位置を保持
   するように配置されたことを特徴とする基板保持具。
3. 【請求項３】 第１の保持溝及び第２の保持溝は断面が
   Ｖ字型に形成され、 第３の保持溝は、基板の周縁部を保持するための溝基部
   と、この溝基部の開口縁に連続して拡開し、基板の周縁
   部を前記溝基部に案内するための案内部とからなること
   を特徴とする請求項１または２記載の基板保持具。
4. 【請求項４】 第３の保持溝と基板の右端との間には左
   右方向のあそびが形成されていることを特徴とする請求
   項１、２または３記載の基板保持具。
5. 【請求項５】 複数の基板を処理槽内の保持具に並列に
   保持させて、洗浄処理液により洗浄処理する洗浄装置に
   おいて、 前記保持具は、基板の周方向に沿って配列され、夫々基
   板の周縁部を保持する第１の保持溝、第２の保持溝及び
   第３の保持溝を有し、 前記第１の保持溝は、基板の下端の近傍であって、基板
   の下端から周縁部に沿って右上に変位した位置に配置さ
   れ、 前記第２の保持溝は、基板の左端の近傍であって、基板
   の左端から周縁部に沿って右下に変位した位置に配置さ
   れ、 前記第３の保持溝は、基板の右端よりも高い位置を保持
   するように配置されたことを特徴とする洗浄装置。
6. 【請求項６】 第１の保持溝及び第２の保持溝は断面が
   Ｖ字型に形成され、 第３の保持溝は、基板の周縁部を保持するための溝基部
   と、この溝基部の開口縁に連続して拡開し、基板の周縁
   部を前記溝基部に案内するための案内部とからなること
   を特徴とする請求項４記載の洗浄装置。
7. 【請求項７】 第３の保持溝と基板の右端との間には左
   右方向のあそびが形成されていることを特徴とする請求
   項５または６記載の洗浄装置。